JPH08259476A - 改良されたエチルベンゼン製造方法 - Google Patents
改良されたエチルベンゼン製造方法Info
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- JPH08259476A JPH08259476A JP8040293A JP4029396A JPH08259476A JP H08259476 A JPH08259476 A JP H08259476A JP 8040293 A JP8040293 A JP 8040293A JP 4029396 A JP4029396 A JP 4029396A JP H08259476 A JPH08259476 A JP H08259476A
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- C07C2/02—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by addition between unsaturated hydrocarbons
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- C07C2/66—Catalytic processes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＥＢ変換率を高めることができると共にキシ
レン副生成物の生成量を低くできる改良されたエチルベ
ンゼン製造方法の提供。 【解決手段】 多床反応槽内でベンゼンの触媒アルキル
化を行ってエチルベンゼンを製造する。通常の頭頂ポリ
エチルベンゼン再利用流れの軽溜分を蒸留カラム内で取
り出して廃棄する。
レン副生成物の生成量を低くできる改良されたエチルベ
ンゼン製造方法の提供。 【解決手段】 多床反応槽内でベンゼンの触媒アルキル
化を行ってエチルベンゼンを製造する。通常の頭頂ポリ
エチルベンゼン再利用流れの軽溜分を蒸留カラム内で取
り出して廃棄する。
Description
【０００１】
【発明の分野】本発明は、適当な触媒の存在下で適切な
反応体を特定の変換条件下で接触させることでエチルベ
ンゼンを製造する方法に関する。別の面において、本発
明は、ＰＥＢ再利用流れを反応槽に戻すに先立って蒸留
カラムを利用してその流れ内の望まれない軽溜分をその
流れから除去することで満足される変換率と所望エチル
ベンゼン生成物に対する選択率を維持しながら望まれな
い副生成物、特にオルト−キシレンの量を抑制するエチ
ルベンゼン製造に関する。
反応体を特定の変換条件下で接触させることでエチルベ
ンゼンを製造する方法に関する。別の面において、本発
明は、ＰＥＢ再利用流れを反応槽に戻すに先立って蒸留
カラムを利用してその流れ内の望まれない軽溜分をその
流れから除去することで満足される変換率と所望エチル
ベンゼン生成物に対する選択率を維持しながら望まれな
い副生成物、特にオルト−キシレンの量を抑制するエチ
ルベンゼン製造に関する。
【０００２】
【発明の背景】エチルベンゼン（ＥＢ）は主にスチレン
モノマーの製造で用いられており、このスチレンモノマ
ーはＥＢの脱水素反応で得られている。現在製造されて
いるＥＢの多くは、種々のアルキル化条件下でベンゼン
（Ｂｚ）をエチレン（Ｅｔ）でアルキル化することで得
られている。通常に行われている１つの種類のアルキル
化方法は、気相反応条件を与える比較的高い圧力と温度
を用いた方法であり、ここでは、触媒材料の存在下でエ
チレンとベンゼンの変換が行われる。本技術分野では単
一触媒床方法と複数触媒床方法の両方がよく知られてい
る。
モノマーの製造で用いられており、このスチレンモノマ
ーはＥＢの脱水素反応で得られている。現在製造されて
いるＥＢの多くは、種々のアルキル化条件下でベンゼン
（Ｂｚ）をエチレン（Ｅｔ）でアルキル化することで得
られている。通常に行われている１つの種類のアルキル
化方法は、気相反応条件を与える比較的高い圧力と温度
を用いた方法であり、ここでは、触媒材料の存在下でエ
チレンとベンゼンの変換が行われる。本技術分野では単
一触媒床方法と複数触媒床方法の両方がよく知られてい
る。
【０００３】例えばＢｕｔｌｅｒ他の米国特許第４，４
００，５７０号には、スチレン中で用いるためのエチル
ベンゼンを製造する方法が開示されており、ここでは、
ＴＥＡ−シリケート触媒を用いてエチレンとベンゼンを
蒸気で反応させている。このような方法でＥＢを製造す
る時の１つの問題は、非常に有害であり得る望まれない
副生成物が生じる点である、と言うのは、この副生成物
の数種はその望まれているＥＢ生成物から分離するのが
非常に困難であるか或は不可能であり得るからである。
このように、１つの例として、この種類の方法でキシレ
ンが生成するのは非常に望ましくない、と言うのは、Ｅ
Ｂ生成物からキシレン類を分離するのはそれらの沸点が
近いことから工程の観点で非常に困難であるからであ
る。エチルベンゼン内に残存するキシレン類、より詳細
にはオルト−キシレンは、最終生成物であるスチレン中
の不純物として終わり、従ってこれはＥＢ生成物流れ中
の非常に望ましくない成分である。
００，５７０号には、スチレン中で用いるためのエチル
ベンゼンを製造する方法が開示されており、ここでは、
ＴＥＡ−シリケート触媒を用いてエチレンとベンゼンを
蒸気で反応させている。このような方法でＥＢを製造す
る時の１つの問題は、非常に有害であり得る望まれない
副生成物が生じる点である、と言うのは、この副生成物
の数種はその望まれているＥＢ生成物から分離するのが
非常に困難であるか或は不可能であり得るからである。
このように、１つの例として、この種類の方法でキシレ
ンが生成するのは非常に望ましくない、と言うのは、Ｅ
Ｂ生成物からキシレン類を分離するのはそれらの沸点が
近いことから工程の観点で非常に困難であるからであ
る。エチルベンゼン内に残存するキシレン類、より詳細
にはオルト−キシレンは、最終生成物であるスチレン中
の不純物として終わり、従ってこれはＥＢ生成物流れ中
の非常に望ましくない成分である。
【０００４】Ｗａｇｕｅｓｐａｃｋ他の最近の米国特許
第４，９２２，０５３号では、ＰＥＢ頭頂再利用流れの
一部をクエンチ（ｑｕｅｎｃｈ）として反応槽の中間部
分に向けることでキシレンの生成量を下げた。この方法
でも変換率が改良された。Ｗａｇｕｅｓｐａｃｋの’０
５３特許および上述した米国特許第４，４００，５７０
号は引用することによって全体が本出願に組み入れられ
る。
第４，９２２，０５３号では、ＰＥＢ頭頂再利用流れの
一部をクエンチ（ｑｕｅｎｃｈ）として反応槽の中間部
分に向けることでキシレンの生成量を下げた。この方法
でも変換率が改良された。Ｗａｇｕｅｓｐａｃｋの’０
５３特許および上述した米国特許第４，４００，５７０
号は引用することによって全体が本出願に組み入れられ
る。
【０００５】上記方法で使用される触媒は、所望のＥＢ
生成物に選択性を示す必要があることに加えてまた、反
応体からアルキル化生成物への変換率を満足される度合
で与えるのが望ましい。いろいろな触媒材料が供給原料
を生成物に変化させる能力を、時には、それの「活性」
と呼ぶ。通常、反応中に生成物に変化する供給材料の量
のパーセントとして「変換率」を測定する。この触媒が
高い変換率を維持する能力（即ち反応活性）を有するこ
とが非常に重要である。
生成物に選択性を示す必要があることに加えてまた、反
応体からアルキル化生成物への変換率を満足される度合
で与えるのが望ましい。いろいろな触媒材料が供給原料
を生成物に変化させる能力を、時には、それの「活性」
と呼ぶ。通常、反応中に生成物に変化する供給材料の量
のパーセントとして「変換率」を測定する。この触媒が
高い変換率を維持する能力（即ち反応活性）を有するこ
とが非常に重要である。
【０００６】触媒アルキル化方法では触媒の失活が１つ
の主要な問題である、と言うのは、高い変換率が最初得
られたとしても長期に渡って良好な変換率を維持するこ
とができないと高価な触媒交換および／または再生処置
を行う必要があるからである。
の主要な問題である、と言うのは、高い変換率が最初得
られたとしても長期に渡って良好な変換率を維持するこ
とができないと高価な触媒交換および／または再生処置
を行う必要があるからである。
【０００７】ＥＢ製造形態における別の重要な領域は供
給物／生成物比である。活性も変換率も低下させずかつ
キシレンの生成量を高めることなく供給物／生成物比を
有意に下げることができる如何なる要素も非常に望まし
い。
給物／生成物比である。活性も変換率も低下させずかつ
キシレンの生成量を高めることなく供給物／生成物比を
有意に下げることができる如何なる要素も非常に望まし
い。
【０００８】従って、望まれないキシレン副生成物を生
じさせずかつ使用する触媒材料の再生も交換も頻繁に行
う必要なく反応体からＥＢへの変換を得ることができる
方法が得られたならば、これは望ましい。
じさせずかつ使用する触媒材料の再生も交換も頻繁に行
う必要なく反応体からＥＢへの変換を得ることができる
方法が得られたならば、これは望ましい。
【０００９】
【発明の要約】ポリエチルベンゼン頭頂（ＰＥＢ／Ｏ
Ｈ）再利用流れをアルキル化反応槽の中に注入するに先
立ってこの再利用流れを蒸留カラムに通すことにより、
気相反応条件下でエチレンを用いたベンゼンのアルキル
化を優れたＥＢ選択率および低いキシレン生成量を示す
と共に高い変換率と低い失活率を示す方法で行うことが
できることをここに見い出した。より具体的には、該再
利用流れを反応槽に戻す前にオルト−キシレンを含有す
る上記ＰＥＢ／ＯＨ再利用流れの軽溜分を取り出して廃
棄すると優れたＥＢ変換率が達成されると共にキシレン
量の実質的低下が得られることを見い出した。
Ｈ）再利用流れをアルキル化反応槽の中に注入するに先
立ってこの再利用流れを蒸留カラムに通すことにより、
気相反応条件下でエチレンを用いたベンゼンのアルキル
化を優れたＥＢ選択率および低いキシレン生成量を示す
と共に高い変換率と低い失活率を示す方法で行うことが
できることをここに見い出した。より具体的には、該再
利用流れを反応槽に戻す前にオルト−キシレンを含有す
る上記ＰＥＢ／ＯＨ再利用流れの軽溜分を取り出して廃
棄すると優れたＥＢ変換率が達成されると共にキシレン
量の実質的低下が得られることを見い出した。
【００１０】従って、本発明は、一般に、マルチゾーン
反応槽内で適当な触媒の存在下ベンゼンとエチル化剤と
を反応させそしてＰＥＢ／ＯＨ再利用流れの望まれない
部分を個別の蒸留カラムで除去した後この再利用流れを
反応槽に戻すことによるエチルベンゼンの製造方法を提
供する。一般的には、約３７０℃から約４７０℃の範囲
の温度を用い、ベンゼン対エチレンのモル比を約２：１
から約２０：１の範囲にし、圧力をおおよそ大気圧から
約２５気圧の範囲にし、そしてベンゼンのＷＨＳＶを約
２０から約２００の範囲にする。このアルキル化反応槽
内で適当な触媒、例えばゼオライト材料様シリカライト
またはＭｏｂｉｌ ＺＳＭ−５（Ｍｏｂｉｌ Ｏｉｌ
Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、ニューヨ
ーク州が製造）などを用いる。このような触媒を用いる
と適度なキシレン抑制と満足される変換率および活性率
が達成されることを見い出した。
反応槽内で適当な触媒の存在下ベンゼンとエチル化剤と
を反応させそしてＰＥＢ／ＯＨ再利用流れの望まれない
部分を個別の蒸留カラムで除去した後この再利用流れを
反応槽に戻すことによるエチルベンゼンの製造方法を提
供する。一般的には、約３７０℃から約４７０℃の範囲
の温度を用い、ベンゼン対エチレンのモル比を約２：１
から約２０：１の範囲にし、圧力をおおよそ大気圧から
約２５気圧の範囲にし、そしてベンゼンのＷＨＳＶを約
２０から約２００の範囲にする。このアルキル化反応槽
内で適当な触媒、例えばゼオライト材料様シリカライト
またはＭｏｂｉｌ ＺＳＭ−５（Ｍｏｂｉｌ Ｏｉｌ
Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、ニューヨ
ーク州が製造）などを用いる。このような触媒を用いる
と適度なキシレン抑制と満足される変換率および活性率
が達成されることを見い出した。
【００１１】
【好適な態様の説明】この主題発明の方法は、一般に、
複数のアルキル化反応ゾーンにエチレンとベンゼンを供
給し、この反応体をその中で触媒に約３７０℃（７００
度Ｆ）から約４７０℃（８８０度Ｆ）の範囲の温度で接
触させる段階を含み、この触媒材料は、好適にはかなり
安定でありそしてエチルベンゼンおよびジエチルベンゼ
ンの生成に高い選択性を示す。ＰＥＢ／ＯＨ再利用流れ
を更に蒸留して軽溜分と重溜分に分離させる。この軽溜
分はＣ9およびＣ10炭化水素、例えばスチレン、オルト
−キシレン、Ｎ−プロピルベンゼンおよびブチルベンゼ
ンなどを含有し、重溜分は重質材料、例えばジエチルベ
ンゼン（ＤＥＢ）およびトリエチルベンゼン（ＴＥＢ）
などを含有し、これらを適当なモル比でベンゼンと接触
させるとこれらは反応して所望生成物であるエチルベン
ゼンを生じる。軽溜分の炭化水素は廃棄するか或は燃料
の価値がある場合使用し、そして重質材料は再利用して
主要反応槽に戻して更に生成物を得る。更に、キシレン
の混入を劇的に低くすることができ、そして触媒の再生
を有意に遅らせることができる。
複数のアルキル化反応ゾーンにエチレンとベンゼンを供
給し、この反応体をその中で触媒に約３７０℃（７００
度Ｆ）から約４７０℃（８８０度Ｆ）の範囲の温度で接
触させる段階を含み、この触媒材料は、好適にはかなり
安定でありそしてエチルベンゼンおよびジエチルベンゼ
ンの生成に高い選択性を示す。ＰＥＢ／ＯＨ再利用流れ
を更に蒸留して軽溜分と重溜分に分離させる。この軽溜
分はＣ9およびＣ10炭化水素、例えばスチレン、オルト
−キシレン、Ｎ−プロピルベンゼンおよびブチルベンゼ
ンなどを含有し、重溜分は重質材料、例えばジエチルベ
ンゼン（ＤＥＢ）およびトリエチルベンゼン（ＴＥＢ）
などを含有し、これらを適当なモル比でベンゼンと接触
させるとこれらは反応して所望生成物であるエチルベン
ゼンを生じる。軽溜分の炭化水素は廃棄するか或は燃料
の価値がある場合使用し、そして重質材料は再利用して
主要反応槽に戻して更に生成物を得る。更に、キシレン
の混入を劇的に低くすることができ、そして触媒の再生
を有意に遅らせることができる。
【００１２】ここでＥＢ変換過程の図式的図１を参照し
て、１０で表示する４床のアルキル化反応槽（ＡＲ）に
は触媒反応床Ａ、Ｂ、ＣおよびＤが備わっている。エチ
レン（Ｅｔ）供給ライン１１により、新しいエチレン原
料を反応槽１０に供給する。反応槽１０のいろいろな部
分へのエチレン供給をコントロールバルブ１２−１５で
調節することができる。反応槽内で生じるベンゼン、Ｅ
Ｂ、ＰＥＢおよび残渣を底からライン１６に通して排出
させる。
て、１０で表示する４床のアルキル化反応槽（ＡＲ）に
は触媒反応床Ａ、Ｂ、ＣおよびＤが備わっている。エチ
レン（Ｅｔ）供給ライン１１により、新しいエチレン原
料を反応槽１０に供給する。反応槽１０のいろいろな部
分へのエチレン供給をコントロールバルブ１２−１５で
調節することができる。反応槽内で生じるベンゼン、Ｅ
Ｂ、ＰＥＢおよび残渣を底からライン１６に通して排出
させる。
【００１３】反応槽１０のいろいろな部分にベンゼンを
供給し、これをエチレンと反応させて生成物を生じさ
せ、この生成物をライン１６で取り出す。この反応槽へ
の供給で好適には２つのベンゼン源を用いる。新しいベ
ンゼン原料をベンゼンライン２８で供給し、このライン
は、２６と表示する蒸留カラムＣ3から導かれる第二ベ
ンゼン供給ライン２７と連結している。この一緒にした
ベンゼン供給物はライン２９の中を通って輸送された
後、分割されて第二供給ライン３０の中に入る。ライン
３０の中を通るベンゼンはバルブ３３で調節された後、
分割されて３つのベンゼンクエンチライン３４−３６の
中に入り、これらはフローバルブ３７−３９で調節され
る。ライン３４−３６により反応槽床Ｂ、ＣおよびＤに
ベンゼンクエンチを供給する。
供給し、これをエチレンと反応させて生成物を生じさ
せ、この生成物をライン１６で取り出す。この反応槽へ
の供給で好適には２つのベンゼン源を用いる。新しいベ
ンゼン原料をベンゼンライン２８で供給し、このライン
は、２６と表示する蒸留カラムＣ3から導かれる第二ベ
ンゼン供給ライン２７と連結している。この一緒にした
ベンゼン供給物はライン２９の中を通って輸送された
後、分割されて第二供給ライン３０の中に入る。ライン
３０の中を通るベンゼンはバルブ３３で調節された後、
分割されて３つのベンゼンクエンチライン３４−３６の
中に入り、これらはフローバルブ３７−３９で調節され
る。ライン３４−３６により反応槽床Ｂ、ＣおよびＤに
ベンゼンクエンチを供給する。
【００１４】バルブ３２の中を通るベンゼン供給物はヒ
ーター１８で約４５０℃に加熱され、コントロールバル
ブ３１の中を通った後、ライン１７の中で蒸留カラムＤ
Ｃ由来の重溜分と混ざり合う。次に、これはライン１９
の中を通って輸送され、ヒーター１８の煙道の中を通っ
てライン１７に入る。
ーター１８で約４５０℃に加熱され、コントロールバル
ブ３１の中を通った後、ライン１７の中で蒸留カラムＤ
Ｃ由来の重溜分と混ざり合う。次に、これはライン１９
の中を通って輸送され、ヒーター１８の煙道の中を通っ
てライン１７に入る。
【００１５】ライン１６の中を流れる、アルキル化反応
槽の生成物（Ｂｚ、ＰＥＢ、ＥＢおよび残渣）は、蒸留
カラムＣ3中で分離され、ベンゼンは上部からライン２
７の中を通って出て行き、そしてその残りは底からライ
ン２４を通って出て２３で表示する蒸留カラムＣ2に入
る。最終ＥＢ生成物をＣ2中で蒸留して取り出し、ライ
ン２５を通して生成物ターミナルまたはスチレンモノマ
ー施設に送り込む。ＰＥＢおよび他の炭化水素溜分およ
び残渣は、ライン２２によりＣ2の底から流出して２０
で表示する蒸留カラムＣ1の中に入る。ＰＥＢおよび他
の炭化水素が蒸留で取り出されてＰＥＢ／ＯＨライン１
９の中を通って流れる。次に、この流れは蒸留カラムＤ
Ｃの中を通って軽溜分と重溜分に分離される。残渣はＣ
1の底からライン２１を通って流出する。
槽の生成物（Ｂｚ、ＰＥＢ、ＥＢおよび残渣）は、蒸留
カラムＣ3中で分離され、ベンゼンは上部からライン２
７の中を通って出て行き、そしてその残りは底からライ
ン２４を通って出て２３で表示する蒸留カラムＣ2に入
る。最終ＥＢ生成物をＣ2中で蒸留して取り出し、ライ
ン２５を通して生成物ターミナルまたはスチレンモノマ
ー施設に送り込む。ＰＥＢおよび他の炭化水素溜分およ
び残渣は、ライン２２によりＣ2の底から流出して２０
で表示する蒸留カラムＣ1の中に入る。ＰＥＢおよび他
の炭化水素が蒸留で取り出されてＰＥＢ／ＯＨライン１
９の中を通って流れる。次に、この流れは蒸留カラムＤ
Ｃの中を通って軽溜分と重溜分に分離される。残渣はＣ
1の底からライン２１を通って流出する。
【００１６】通常のＥＢ方法では、カラムＣ1で生じる
ＰＥＢ／ＯＨは全部、ライン１９、ヒーターの煙道そし
てライン１７の中を通ってアルキル化反応槽の上部に流
れ込んでいた。しかしながら、我々は、このＰＥＢ／Ｏ
Ｈ流れには望ましくないＣ9−Ｃ10溜分、例えばオルト
−キシレンなどが含まれており、これがこの反応槽の生
産流出ラインに上記溜分が高いパーセントで現れる原因
であることを見い出した。このように反応槽から望まし
くないものが高濃度で出て来ると、これを無用な生成物
としてこのシステム全体の中を連続的に再循環させる必
要があることから、エネルギーコストに関してこのシス
テム全体に負担が加わる。また、Ｃ2の上部から出て来
るＥＢ生成物からオルト−キシレンを実質的に全部除去
することを確保するには反応槽Ｃ2の流出物が含有する
ＥＢ量を１０％の如き多い量にする必要があることか
ら、それによってＥＢ生産効率も低下する。この改良さ
れた方法では触媒再生間の時間が改良され、エチレンの
変換率が上昇し、供給物／生成物比が低くなり、かつ
ｏ、ｍおよびｐ−キシレン類の量が低下する。この改良
された方法では原料コストが若干のみであるが上昇する
が、この上昇は、このような変更を行うことで向上する
効率および生産量増加に比較すると無視できるほどであ
った。
ＰＥＢ／ＯＨは全部、ライン１９、ヒーターの煙道そし
てライン１７の中を通ってアルキル化反応槽の上部に流
れ込んでいた。しかしながら、我々は、このＰＥＢ／Ｏ
Ｈ流れには望ましくないＣ9−Ｃ10溜分、例えばオルト
−キシレンなどが含まれており、これがこの反応槽の生
産流出ラインに上記溜分が高いパーセントで現れる原因
であることを見い出した。このように反応槽から望まし
くないものが高濃度で出て来ると、これを無用な生成物
としてこのシステム全体の中を連続的に再循環させる必
要があることから、エネルギーコストに関してこのシス
テム全体に負担が加わる。また、Ｃ2の上部から出て来
るＥＢ生成物からオルト−キシレンを実質的に全部除去
することを確保するには反応槽Ｃ2の流出物が含有する
ＥＢ量を１０％の如き多い量にする必要があることか
ら、それによってＥＢ生産効率も低下する。この改良さ
れた方法では触媒再生間の時間が改良され、エチレンの
変換率が上昇し、供給物／生成物比が低くなり、かつ
ｏ、ｍおよびｐ−キシレン類の量が低下する。この改良
された方法では原料コストが若干のみであるが上昇する
が、この上昇は、このような変更を行うことで向上する
効率および生産量増加に比較すると無視できるほどであ
った。
【００１７】この方法は多様な工程装置を用いて実施可
能であり、これには、各々に適当な触媒材料が入ってい
る複数のアルキル化ゾーンを限定している反応槽容器が
含まれる。この反応ゾーンの中にベンゼンとエチレン反
応体を入れるに先立ってこれらを混合して予め加熱して
もよく、上記反応ゾーンの中でこれらと触媒床を本明細
書の以下に更に詳述する反応条件下で接触させる。この
反応ゾーン内に調節した滞留時間置いた後、その変換さ
れた炭化水素仕込み物を上記反応槽から出させ、ここ
で、冷却を行うか或は他の標準的回収技術を用いてエチ
ルベンゼン生成物を集める。この反応槽から出て来る過
剰量のベンゼンを通常様式で通常通り再利用する。
能であり、これには、各々に適当な触媒材料が入ってい
る複数のアルキル化ゾーンを限定している反応槽容器が
含まれる。この反応ゾーンの中にベンゼンとエチレン反
応体を入れるに先立ってこれらを混合して予め加熱して
もよく、上記反応ゾーンの中でこれらと触媒床を本明細
書の以下に更に詳述する反応条件下で接触させる。この
反応ゾーン内に調節した滞留時間置いた後、その変換さ
れた炭化水素仕込み物を上記反応槽から出させ、ここ
で、冷却を行うか或は他の標準的回収技術を用いてエチ
ルベンゼン生成物を集める。この反応槽から出て来る過
剰量のベンゼンを通常様式で通常通り再利用する。
【００１８】この主題発明の方法で有利に用いることが
できる１つの特別な族の触媒材料は結晶性ゼオライト材
料として特徴づけ可能であり、これらは、酸素原子を共
有して結合しているＳｉＯ4とＡｌＯ4四面体の三次元網
目構造を構成するアルミノシリケート類である。２種類
のゼオライト型触媒、即ちシリカライト類およびＭｏｂ
ｉｌのＺＳＭ−５が好適であることを見い出した。
できる１つの特別な族の触媒材料は結晶性ゼオライト材
料として特徴づけ可能であり、これらは、酸素原子を共
有して結合しているＳｉＯ4とＡｌＯ4四面体の三次元網
目構造を構成するアルミノシリケート類である。２種類
のゼオライト型触媒、即ちシリカライト類およびＭｏｂ
ｉｌのＺＳＭ−５が好適であることを見い出した。
【００１９】この主題発明の方法に適したアルキル化ゾ
ーンの反応条件には、一般に、約３００℃から４７０℃
の範囲の温度が含まれる。ゼオライト型の触媒は水分に
敏感で、水分（蒸気）が存在していると分解する傾向が
あり、従って、この反応中に水分を存在させないように
注意する。
ーンの反応条件には、一般に、約３００℃から４７０℃
の範囲の温度が含まれる。ゼオライト型の触媒は水分に
敏感で、水分（蒸気）が存在していると分解する傾向が
あり、従って、この反応中に水分を存在させないように
注意する。
【００２０】通常、エチレンに対してベンゼンを過剰量
で用い、一般的には、ベンゼン：エチレンの範囲を約
２：１から約２０：１のモル比にする。ベンゼン：エチ
レン比を低くすればするほど結果として生じるエチルベ
ンゼンのパーセントが高くなることから、上記モル比範
囲の下方が好適である。この主題発明の方法で用いるベ
ンゼンの時間当たりの重量空間速度（ｗｅｉｇｈｔ ｈ
ｏｕｒｌｙ ｓｐａｃｅｖｅｌｏｃｉｔｉｅｓ）（ＷＨ
ＳＶ）は約２０から約２００の範囲であってもよく、約
４０から約１５０の範囲のＷＨＳＶが好適である。おお
よそ大気圧から２５気圧の範囲の運転圧力を用いること
ができ、約１０から１５気圧の範囲が好適である。
で用い、一般的には、ベンゼン：エチレンの範囲を約
２：１から約２０：１のモル比にする。ベンゼン：エチ
レン比を低くすればするほど結果として生じるエチルベ
ンゼンのパーセントが高くなることから、上記モル比範
囲の下方が好適である。この主題発明の方法で用いるベ
ンゼンの時間当たりの重量空間速度（ｗｅｉｇｈｔ ｈ
ｏｕｒｌｙ ｓｐａｃｅｖｅｌｏｃｉｔｉｅｓ）（ＷＨ
ＳＶ）は約２０から約２００の範囲であってもよく、約
４０から約１５０の範囲のＷＨＳＶが好適である。おお
よそ大気圧から２５気圧の範囲の運転圧力を用いること
ができ、約１０から１５気圧の範囲が好適である。
【００２１】上述した蒸留カラムＤＣを該ＰＥＢ／ＯＨ
再利用ラインの中に挿入することで現存のエチルベンゼ
ン生産施設で本発明を利用すると、向上した触媒寿命が
得られ、そして更に、該反応槽から出て来る望ましくな
いキシレン量が低下し、その含有量が半分になる。この
ＰＥＢ／ＯＨラインの中に上記蒸留カラムを利用しない
でＰＥＢを該反応槽の再循環させると、ＰＥＢを再循環
させない時に比較して触媒寿命が大きく短くなる。しか
しながら、このＰＥＢ再利用ラインの中に上記蒸留カラ
ムＤＣを利用すると、触媒寿命は、ＰＥＢ再利用流れを
該反応槽の中に供給しない時と同じレベルにまで回復し
た。ＥＢ生成物中のオルト−キシレン量は半分になり、
そしてカラムＣ2の底から流出する損失ＥＢ量は１０パ
ーセントから１パーセントにまで下がった、即ち通常失
われていたＥＢが９０パーセント再捕捉された。
再利用ラインの中に挿入することで現存のエチルベンゼ
ン生産施設で本発明を利用すると、向上した触媒寿命が
得られ、そして更に、該反応槽から出て来る望ましくな
いキシレン量が低下し、その含有量が半分になる。この
ＰＥＢ／ＯＨラインの中に上記蒸留カラムを利用しない
でＰＥＢを該反応槽の再循環させると、ＰＥＢを再循環
させない時に比較して触媒寿命が大きく短くなる。しか
しながら、このＰＥＢ再利用ラインの中に上記蒸留カラ
ムＤＣを利用すると、触媒寿命は、ＰＥＢ再利用流れを
該反応槽の中に供給しない時と同じレベルにまで回復し
た。ＥＢ生成物中のオルト−キシレン量は半分になり、
そしてカラムＣ2の底から流出する損失ＥＢ量は１０パ
ーセントから１パーセントにまで下がった、即ち通常失
われていたＥＢが９０パーセント再捕捉された。
【００２２】本発明の好適な特定態様を上の詳細な説明
で記述して来たがこれらは制限としてではなく例示とし
て認識されるべきであることからこの記述は本発明に開
示する特別な形態の態様に本発明を限定することを意図
するものでなくそして本発明がそのように限定されない
ことは本分野の技術者に明らかであろう。従って、本発
明は本発明の精神および範囲からの逸脱を構成しないと
ころの例示の目的で本明細書に開示した本発明の特定実
施例の変形および修飾形全部を包含することを宣言す
る。
で記述して来たがこれらは制限としてではなく例示とし
て認識されるべきであることからこの記述は本発明に開
示する特別な形態の態様に本発明を限定することを意図
するものでなくそして本発明がそのように限定されない
ことは本分野の技術者に明らかであろう。従って、本発
明は本発明の精神および範囲からの逸脱を構成しないと
ころの例示の目的で本明細書に開示した本発明の特定実
施例の変形および修飾形全部を包含することを宣言す
る。
【００２３】本発明の特徴および態様は以下のとうりで
ある。
ある。
【００２４】１． 多床反応槽内の適当な触媒にベンゼ
ンとエチレンをアルキル化反応条件下で接触させてポリ
エチルベンゼン類およびエチルベンゼン類を含む反応生
成物を生じさせ、該ポリエチルベンゼン類を上記反応生
成物から留出させ、そして上記ポリエチルベンゼン類を
上記反応槽に戻して再利用する、エチルベンゼンの製造
方法であって、上記再利用するポリエチルベンゼン類を
上記反応槽に入れる前に蒸留カラムに通し、上記カラム
内でそれらからＣ9およびＣ10炭化水素、オルト−キシ
レン類、Ｎ−プロピルベンゼンおよびブチルベンゼンを
含む軽溜分を留出させ、そして上記留出させた溜分をこ
の工程から取り出し、そしてジエチルベンゼン類および
トリエチルベンゼン類を含む残りの重溜分を上記反応槽
に輸送して戻すことを含むことを特徴とする方法。
ンとエチレンをアルキル化反応条件下で接触させてポリ
エチルベンゼン類およびエチルベンゼン類を含む反応生
成物を生じさせ、該ポリエチルベンゼン類を上記反応生
成物から留出させ、そして上記ポリエチルベンゼン類を
上記反応槽に戻して再利用する、エチルベンゼンの製造
方法であって、上記再利用するポリエチルベンゼン類を
上記反応槽に入れる前に蒸留カラムに通し、上記カラム
内でそれらからＣ9およびＣ10炭化水素、オルト−キシ
レン類、Ｎ−プロピルベンゼンおよびブチルベンゼンを
含む軽溜分を留出させ、そして上記留出させた溜分をこ
の工程から取り出し、そしてジエチルベンゼン類および
トリエチルベンゼン類を含む残りの重溜分を上記反応槽
に輸送して戻すことを含むことを特徴とする方法。
【００２５】２． 上記適当な触媒がペナシル触媒であ
りそして上記多床反応槽が反応槽床を少なくとも３つ有
する第１項の方法。
りそして上記多床反応槽が反応槽床を少なくとも３つ有
する第１項の方法。
【図１】ベンゼンとエチレンからエチルベンゼンを製造
するに適したアルキル化過程を図式的に示す図。
するに適したアルキル化過程を図式的に示す図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジム・ワゲスパツク アメリカ合衆国ルイジアナ州70817バトン ルージユ・オールドトレイス18514 (72)発明者 ケン・ホール アメリカ合衆国ルイジアナ州70810バトン ルージユ・ガムウイツチ1844
Claims (1)
- 【請求項１】 多床反応槽内の適当な触媒にベンゼンと
エチレンをアルキル化反応条件下で接触させてポリエチ
ルベンゼン類およびエチルベンゼン類を含む反応生成物
を生じさせ、該ポリエチルベンゼン類を上記反応生成物
から留出させ、そして上記ポリエチルベンゼン類を上記
反応槽に戻して再利用する、エチルベンゼンの製造方法
であって、上記再利用するポリエチルベンゼン類を上記
反応槽に入れる前に蒸留カラムに通し、上記カラム内で
それらからＣ9およびＣ10炭化水素、オルト−キシレン
類、Ｎ−プロピルベンゼンおよびブチルベンゼンを含む
軽溜分を留出させ、そして上記留出させた溜分をこの工
程から取り出し、そしてジエチルベンゼン類およびトリ
エチルベンゼン類を含む残りの重溜分を上記反応槽に輸
送して戻すことを含むことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US38526295A | 1995-02-08 | 1995-02-08 | |
| US385262 | 2006-03-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08259476A true JPH08259476A (ja) | 1996-10-08 |
| JP3786998B2 JP3786998B2 (ja) | 2006-06-21 |
Family
ID=23520686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04029396A Expired - Fee Related JP3786998B2 (ja) | 1995-02-08 | 1996-02-05 | 改良されたエチルベンゼン製造方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0726242B1 (ja) |
| JP (1) | JP3786998B2 (ja) |
| KR (1) | KR100415499B1 (ja) |
| CN (1) | CN1064339C (ja) |
| CA (1) | CA2168418C (ja) |
| DE (1) | DE69609364T2 (ja) |
| ES (1) | ES2150027T3 (ja) |
| TW (1) | TW336219B (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2110368A1 (en) | 2008-04-18 | 2009-10-21 | Total Petrochemicals France | Alkylation of aromatic substrates and transalkylation process |
| KR102397644B1 (ko) | 2017-06-16 | 2022-05-13 | 에스케이이노베이션 주식회사 | 유동층접촉분해 오프-가스와 벤젠의 알킬화 생성물로부터 에틸벤젠을 회수하는 방법 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4922053A (en) * | 1989-05-24 | 1990-05-01 | Fina Technology, Inc. | Process for ethylbenzene production |
-
1996
- 1996-01-30 CA CA002168418A patent/CA2168418C/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-05 JP JP04029396A patent/JP3786998B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-07 KR KR1019960002860A patent/KR100415499B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-02-07 DE DE69609364T patent/DE69609364T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-07 ES ES96101741T patent/ES2150027T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-07 EP EP96101741A patent/EP0726242B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-08 CN CN96103587A patent/CN1064339C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-18 TW TW085103218A patent/TW336219B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR960031407A (ko) | 1996-09-17 |
| CN1134928A (zh) | 1996-11-06 |
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| DE69609364D1 (de) | 2000-08-24 |
| TW336219B (en) | 1998-07-11 |
| CN1064339C (zh) | 2001-04-11 |
| CA2168418C (en) | 2007-04-17 |
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| ES2150027T3 (es) | 2000-11-16 |
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| CA2168418A1 (en) | 1996-08-09 |
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Legal Events
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| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060221 |
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