JPH08233826A - 免疫反応測定装置用恒温槽 - Google Patents
免疫反応測定装置用恒温槽Info
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- JPH08233826A JPH08233826A JP6474895A JP6474895A JPH08233826A JP H08233826 A JPH08233826 A JP H08233826A JP 6474895 A JP6474895 A JP 6474895A JP 6474895 A JP6474895 A JP 6474895A JP H08233826 A JPH08233826 A JP H08233826A
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- Japan
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- microplate
- plate
- heat block
- shaped heat
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 酵素免疫反応の測定に際しての温調工程にあ
って、マイクロプレートの各ウエル部の温調を均一に設
定し得る免疫反応測定装置用恒温槽を提供すること。 【構成】 マイクロプレート12の下面側に配置された
板状ヒートブロック14と、この板状ヒートブロック1
4の外側に位置して前記板状ヒートブロック14を保持
するプレートホルダ16と、これら各部を収納する恒温
槽本体10とを備えた免疫反応測定装置用恒温槽におい
て、板状ヒートブロック14のマイクロプレート12の
対向面側に、中央部側を周囲よりも相対的に徐々に深く
形成し且つ全体的にゆるやかに変化して成る凹状ヒート
面18を設けたこと。
って、マイクロプレートの各ウエル部の温調を均一に設
定し得る免疫反応測定装置用恒温槽を提供すること。 【構成】 マイクロプレート12の下面側に配置された
板状ヒートブロック14と、この板状ヒートブロック1
4の外側に位置して前記板状ヒートブロック14を保持
するプレートホルダ16と、これら各部を収納する恒温
槽本体10とを備えた免疫反応測定装置用恒温槽におい
て、板状ヒートブロック14のマイクロプレート12の
対向面側に、中央部側を周囲よりも相対的に徐々に深く
形成し且つ全体的にゆるやかに変化して成る凹状ヒート
面18を設けたこと。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、免疫反応測定装置用恒
温槽に係り、とくに、酵素免疫反応測定の前処理であ
る,検体および薬液の分注,加振,温調,洗浄等を行っ
た後に反応状況を測定する酵素免疫反応測定装置にあっ
て、その温調工程に好適な免疫反応測定装置用恒温槽に
関する。
温槽に係り、とくに、酵素免疫反応測定の前処理であ
る,検体および薬液の分注,加振,温調,洗浄等を行っ
た後に反応状況を測定する酵素免疫反応測定装置にあっ
て、その温調工程に好適な免疫反応測定装置用恒温槽に
関する。
【0002】
【従来の技術】臨床検査における酵素免疫反応について
は、従来より当該免疫反応を的確に把握するための手法
として、試薬メーカにより種々の手法が開発され、また
それに使用される各種試薬についての開発も進められて
いる。
は、従来より当該免疫反応を的確に把握するための手法
として、試薬メーカにより種々の手法が開発され、また
それに使用される各種試薬についての開発も進められて
いる。
【0003】この酵素免疫反応の測定に際しては、従来
よりその前工程として、マイクロプレート上の複数の凹
部(ウエル部)に対する検体及び試薬の分注,反応促進
のために実行されるマイクロプレート全体の加振及び温
調、そして、次の試薬の分注工程に入るための洗浄等
が、試薬を種々変化させて繰り返し行われるようになっ
ている。
よりその前工程として、マイクロプレート上の複数の凹
部(ウエル部)に対する検体及び試薬の分注,反応促進
のために実行されるマイクロプレート全体の加振及び温
調、そして、次の試薬の分注工程に入るための洗浄等
が、試薬を種々変化させて繰り返し行われるようになっ
ている。
【0004】この場合、検体および試薬の反応促進のた
めの温調としては、恒温槽が使用されている。そして、
かかる恒温槽内では、例えば厚さ約10〔mm〕のアル
ミニウム板の底面にシリコンラバーヒータを取り付け
て、PID(比例・積分・微分)温度制御により前記マ
イクロプレートの各ウエル部の温調が行われていた。
めの温調としては、恒温槽が使用されている。そして、
かかる恒温槽内では、例えば厚さ約10〔mm〕のアル
ミニウム板の底面にシリコンラバーヒータを取り付け
て、PID(比例・積分・微分)温度制御により前記マ
イクロプレートの各ウエル部の温調が行われていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例にあっては、恒温槽内であっても前述したマイクロ
プレートの中央部と周囲とでは温度に微妙な差が生じ
る。
来例にあっては、恒温槽内であっても前述したマイクロ
プレートの中央部と周囲とでは温度に微妙な差が生じ
る。
【0006】具体的には、上記従来例にあってはマイク
ロプレートの下面に一様にシリコンラバーヒータが配設
されていることから、マイクロプレートの各ウエル部に
あっては、放熱環境の相違から該マイクロプレートの中
央部に位置するウエル部の温度が外側に位置するウエル
部の温度よりも高くなるという事態が生じ、複数のウエ
ル部を同一条件で一様に温調を成すことができない、と
いう不都合が生じていた。
ロプレートの下面に一様にシリコンラバーヒータが配設
されていることから、マイクロプレートの各ウエル部に
あっては、放熱環境の相違から該マイクロプレートの中
央部に位置するウエル部の温度が外側に位置するウエル
部の温度よりも高くなるという事態が生じ、複数のウエ
ル部を同一条件で一様に温調を成すことができない、と
いう不都合が生じていた。
【0007】
【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、とくに酵素免疫反応の測定に際しての温調工
程にあって、マイクロプレートの各ウエル部の加熱条件
をほぼ同一にし、これによって各ウエル部の温調を均一
に設定し得る免疫反応測定装置用恒温槽を提供すること
を、その目的とする。
を改善し、とくに酵素免疫反応の測定に際しての温調工
程にあって、マイクロプレートの各ウエル部の加熱条件
をほぼ同一にし、これによって各ウエル部の温調を均一
に設定し得る免疫反応測定装置用恒温槽を提供すること
を、その目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明で
は、マイクロプレートの下面側に配置された板状ヒート
ブロックと、この板状ヒートブロックの外側に位置して
前記マイクロプレートを保持するプレートホルダと、こ
れら各部を収納する恒温槽本体とを備えている。そし
て、前記板状ヒートブロックの前記マイクロプレートの
対向面側に、中央部側を周囲よりも相対的に徐々に深く
形成し且つ全体的にゆるやかに変化して成る凹状ヒート
面を設ける、という構成を採っている。
は、マイクロプレートの下面側に配置された板状ヒート
ブロックと、この板状ヒートブロックの外側に位置して
前記マイクロプレートを保持するプレートホルダと、こ
れら各部を収納する恒温槽本体とを備えている。そし
て、前記板状ヒートブロックの前記マイクロプレートの
対向面側に、中央部側を周囲よりも相対的に徐々に深く
形成し且つ全体的にゆるやかに変化して成る凹状ヒート
面を設ける、という構成を採っている。
【0009】また、請求項2記載の発明では、前述した
板状ヒートブロックの凹状ヒート面を、その深さが段階
的に変化する構造とする、という構成を採っている。
板状ヒートブロックの凹状ヒート面を、その深さが段階
的に変化する構造とする、という構成を採っている。
【0010】これによって前述した目的を達成しようと
するものである。
するものである。
【0011】
【作 用】まず、マイクロプレート12を載置したプレ
ートホルダ16を恒温槽本体10内に配置する。この場
合、プレートホルダ16は板状ヒートブロック14との
関係では、前述したように当該板状ヒートブロック14
を跨ぐようにして配置されこれによって外部からの出し
入れが可能な構造となっている。
ートホルダ16を恒温槽本体10内に配置する。この場
合、プレートホルダ16は板状ヒートブロック14との
関係では、前述したように当該板状ヒートブロック14
を跨ぐようにして配置されこれによって外部からの出し
入れが可能な構造となっている。
【0012】板状ヒートブロック14に電源が投入され
ると、該板状ヒートブロック14は一様に温度が上昇
し、上方に位置するマイクロプレート12を加温する。
ると、該板状ヒートブロック14は一様に温度が上昇
し、上方に位置するマイクロプレート12を加温する。
【0013】そして、このマイクロプレート12に対す
る加温に際しては、ヒートブロック本体14Aのマイク
ロプレート12側の面が逆ピラミッド状に形成されてい
るので、マイクロプレート12の中央部がヒートブロッ
ク本体14Aから幾分引き離され且つマイクロプレート
12の周囲部分がヒートブロック本体14Aに近接させ
るようになっているで、マイクロプレート12の周囲部
分にヒートブロック本体14Aの温度が有効に伝熱され
ることとなり、このため、マイクロプレート12の周囲
部分をその中央部と同等に一様に加温することができ
る。
る加温に際しては、ヒートブロック本体14Aのマイク
ロプレート12側の面が逆ピラミッド状に形成されてい
るので、マイクロプレート12の中央部がヒートブロッ
ク本体14Aから幾分引き離され且つマイクロプレート
12の周囲部分がヒートブロック本体14Aに近接させ
るようになっているで、マイクロプレート12の周囲部
分にヒートブロック本体14Aの温度が有効に伝熱され
ることとなり、このため、マイクロプレート12の周囲
部分をその中央部と同等に一様に加温することができ
る。
【0014】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1乃至図8に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【0015】まず、図1において、符号10は恒温槽本
体を示し、符号12はマイクロプレートを示す。マイク
ロプレート12には、試薬及び検体を分注するための複
数のウエル部(凹部)12a,12a,・・・を備えて
いる。本実施例では96個のウエル部(凹部)12aを
備えたマイクロプレート12が使用されている。このマ
イクロプレート12は、当該マイクロプレート12の各
ウエル部(凹部)12aに分注された試薬及び検体を所
定の温調工程に付すため、恒温槽本体10内に外部から
搬入されるようになっている。
体を示し、符号12はマイクロプレートを示す。マイク
ロプレート12には、試薬及び検体を分注するための複
数のウエル部(凹部)12a,12a,・・・を備えて
いる。本実施例では96個のウエル部(凹部)12aを
備えたマイクロプレート12が使用されている。このマ
イクロプレート12は、当該マイクロプレート12の各
ウエル部(凹部)12aに分注された試薬及び検体を所
定の温調工程に付すため、恒温槽本体10内に外部から
搬入されるようになっている。
【0016】この恒温槽本体10内に配設されるマイク
ロプレート12の下面側には、板状ヒートブロック14
が配置され、また、この板状ヒートブロック14の外側
に位置して、前述したマイクロプレート12を保持する
プレートホルダ16が装備されている。このプレートホ
ルダ16は、マイクロプレート12を載置した状態で恒
温槽本体10に対して出し入れ可能に構成されている。
ロプレート12の下面側には、板状ヒートブロック14
が配置され、また、この板状ヒートブロック14の外側
に位置して、前述したマイクロプレート12を保持する
プレートホルダ16が装備されている。このプレートホ
ルダ16は、マイクロプレート12を載置した状態で恒
温槽本体10に対して出し入れ可能に構成されている。
【0017】板状ヒートブロック14の図1における上
面(前述したマイクロプレート12の対向面側の面)に
は、中央部側を周囲よりも相対的に徐々に深く形成し且
つ全体的にゆるやかに変化して成る凹状ヒート面18が
設けられている。この板状ヒートブロック14の凹状ヒ
ート面18は、その深さが段階的に変化する構造となっ
ている。
面(前述したマイクロプレート12の対向面側の面)に
は、中央部側を周囲よりも相対的に徐々に深く形成し且
つ全体的にゆるやかに変化して成る凹状ヒート面18が
設けられている。この板状ヒートブロック14の凹状ヒ
ート面18は、その深さが段階的に変化する構造となっ
ている。
【0018】これを更に詳述すると、前述した恒温槽本
体10は、本実施例では、アルミニウム製で箱型状に形
成され、その床面および内壁周囲には断熱材20が装備
されている。この恒温槽本体10は、その上面にアクリ
ル製の透明部材からなる蓋10Aが装備されている。こ
れにより、恒温槽本体10は、その内部が、上方向から
直視することができ、且つ全体的な軽量化が図られてい
る。
体10は、本実施例では、アルミニウム製で箱型状に形
成され、その床面および内壁周囲には断熱材20が装備
されている。この恒温槽本体10は、その上面にアクリ
ル製の透明部材からなる蓋10Aが装備されている。こ
れにより、恒温槽本体10は、その内部が、上方向から
直視することができ、且つ全体的な軽量化が図られてい
る。
【0019】マイクロプレート12は、プラスチック製
の透明部材からなり、その上面には、前述したように9
6個のウエル部(凹部)12aが設けられている(図
2,図3参照)。
の透明部材からなり、その上面には、前述したように9
6個のウエル部(凹部)12aが設けられている(図
2,図3参照)。
【0020】このマイクロプレート12の下方に装備さ
れた板状ヒートブロック14は、板状のヒートブロック
本体14Aと、このヒートブロック本体14Aの下側に
積層されたヒートブロック保持板14Bと、該ヒートブ
ロック保持板14Bとヒートブロック本体14Aとの間
に装備された面状ヒータ14Cとを備えている。
れた板状ヒートブロック14は、板状のヒートブロック
本体14Aと、このヒートブロック本体14Aの下側に
積層されたヒートブロック保持板14Bと、該ヒートブ
ロック保持板14Bとヒートブロック本体14Aとの間
に装備された面状ヒータ14Cとを備えている。
【0021】この面状ヒータ14Cは、本実施例ではシ
リコンラバーヒータが用いられている。そして、この面
状ヒータ14Cは、図示しないPID 温度調節器によって
所定の任意の温度に設定制御されるようになっている。
符号14a,14a,・・・は、ヒートブロック保持板
14Bの四隅に装備されたヒートブロック用支柱を示
す。このヒートブロック用支柱14aは、前述したヒー
トブロック保持板14Bに固定されている。
リコンラバーヒータが用いられている。そして、この面
状ヒータ14Cは、図示しないPID 温度調節器によって
所定の任意の温度に設定制御されるようになっている。
符号14a,14a,・・・は、ヒートブロック保持板
14Bの四隅に装備されたヒートブロック用支柱を示
す。このヒートブロック用支柱14aは、前述したヒー
トブロック保持板14Bに固定されている。
【0022】ヒートブロック本体14Aに形成された凹
状ヒート面18は、図4乃至図7に示すように、全体的
には深部に中央部を通る十字状の平坦面18Aを有し、
これによって区画された4隅部分が縦横方向とも階段状
段差18Bをもって徐々に切除されて緩やかな逆ピラミ
ッド状を成している。この階段状段差18Bは、図面上
では寸法1.0mmに設定して開示したが、実際には
0.1mm程度の寸法で形成されている。そして、階段
状段差18Bによって形成されている一つのブロックが
一つのウエル部(凹部)12aに対応するように構成さ
れている。図8はヒートブロック本体14Aの裏面図を
示す。この図8において、符号14Aaは前述した面状
ヒータ14Cを収納装備するための凹部を示す。
状ヒート面18は、図4乃至図7に示すように、全体的
には深部に中央部を通る十字状の平坦面18Aを有し、
これによって区画された4隅部分が縦横方向とも階段状
段差18Bをもって徐々に切除されて緩やかな逆ピラミ
ッド状を成している。この階段状段差18Bは、図面上
では寸法1.0mmに設定して開示したが、実際には
0.1mm程度の寸法で形成されている。そして、階段
状段差18Bによって形成されている一つのブロックが
一つのウエル部(凹部)12aに対応するように構成さ
れている。図8はヒートブロック本体14Aの裏面図を
示す。この図8において、符号14Aaは前述した面状
ヒータ14Cを収納装備するための凹部を示す。
【0023】次に、上記実施例の作用を説明する。
【0024】まず、マイクロプレート12を載置したプ
レートホルダ16を恒温槽本体10内に配置する。この
場合、プレートホルダ16は板状ヒートブロック14と
の関係では、前述したように当該板状ヒートブロック1
4を跨ぐようにして配置され(図3参照)、これによっ
て外部からの出し入れが可能な構造となっている。
レートホルダ16を恒温槽本体10内に配置する。この
場合、プレートホルダ16は板状ヒートブロック14と
の関係では、前述したように当該板状ヒートブロック1
4を跨ぐようにして配置され(図3参照)、これによっ
て外部からの出し入れが可能な構造となっている。
【0025】このマイクロプレート12が挿入された後
(或いはそれ以前に)に板状ヒートブロック14に電源
が投入されると、当該板状ヒートブロック14は一様に
温度が上昇し、上方に位置するマイクロプレート12を
加温する。
(或いはそれ以前に)に板状ヒートブロック14に電源
が投入されると、当該板状ヒートブロック14は一様に
温度が上昇し、上方に位置するマイクロプレート12を
加温する。
【0026】このマイクロプレート12に対する加温に
際しては、熱の放散の関係から、前述した従来ではマイ
クロプレート12の中央部の温度が比較的高くなり、一
方,当該マイクロプレート12の周囲部分の温度が比較
的低くなる現象が見られたが、本実施例では、ヒートブ
ロック本体14Aのマイクロプレート12側の面を逆ピ
ラミッド状の凹状ヒート面18としたので、マイクロプ
レート12の中央部をヒートブロック本体14Aから幾
分引き離すと共に,マイクロプレート12の周囲部分を
ヒートブロック本体14Aに近接させるようにしたの
で、マイクロプレート12の周囲部分にヒートブロック
本体14Aの温度が有効に伝熱されることとなり、この
ため、マイクロプレート12の周囲部分をその中央部と
同等に加温することができる。
際しては、熱の放散の関係から、前述した従来ではマイ
クロプレート12の中央部の温度が比較的高くなり、一
方,当該マイクロプレート12の周囲部分の温度が比較
的低くなる現象が見られたが、本実施例では、ヒートブ
ロック本体14Aのマイクロプレート12側の面を逆ピ
ラミッド状の凹状ヒート面18としたので、マイクロプ
レート12の中央部をヒートブロック本体14Aから幾
分引き離すと共に,マイクロプレート12の周囲部分を
ヒートブロック本体14Aに近接させるようにしたの
で、マイクロプレート12の周囲部分にヒートブロック
本体14Aの温度が有効に伝熱されることとなり、この
ため、マイクロプレート12の周囲部分をその中央部と
同等に加温することができる。
【0027】即ち、中央部のウエル部(凹部)12aの
検体温度を相対的に低くすることにより、該検体温度が
定常状態に落ち着いたときに、各ウエル部(凹部)12
a相互間の温度分布が均一化に向けて有効に進行する。
このため、幅が幾分狭い板状ヒートブロック14であっ
ても、階段状段差16Bの前述したウエル部12aに対
する近接距離を小さく設定することにより、その対応が
可能となっている。
検体温度を相対的に低くすることにより、該検体温度が
定常状態に落ち着いたときに、各ウエル部(凹部)12
a相互間の温度分布が均一化に向けて有効に進行する。
このため、幅が幾分狭い板状ヒートブロック14であっ
ても、階段状段差16Bの前述したウエル部12aに対
する近接距離を小さく設定することにより、その対応が
可能となっている。
【0028】
【発明の効果】本発明は以上のように構成され機能する
ので、これによると、ヒートブロック本体のマイクロプ
レート側の凹状ヒート面の作用によって中央部のウエル
部の検体温度を相対的に低くするができ、これにより、
当該検体温度が定常状態に落ち着いたときに、各ウエル
部相互間の温度分布の均一化が可能となり、これがため
各ウエル部の温調を均一に設定し得るという従来にない
優れた免疫反応測定装置用恒温槽を提供することができ
る。
ので、これによると、ヒートブロック本体のマイクロプ
レート側の凹状ヒート面の作用によって中央部のウエル
部の検体温度を相対的に低くするができ、これにより、
当該検体温度が定常状態に落ち着いたときに、各ウエル
部相互間の温度分布の均一化が可能となり、これがため
各ウエル部の温調を均一に設定し得るという従来にない
優れた免疫反応測定装置用恒温槽を提供することができ
る。
【図1】本発明の一実施例を示す一部省略した断面図で
ある。
ある。
【図2】図1内に開示したマイクロプレートの一部省略
した斜視図である。
した斜視図である。
【図3】図1内に開示したマイクロプレートとプレート
ホルダと板状ヒートブロックとの関係を示す斜視図であ
る。
ホルダと板状ヒートブロックとの関係を示す斜視図であ
る。
【図4】図1内に開示したヒートブロック本体を示す正
面図である。
面図である。
【図5】図4の平面図である。
【図6】図4のA−A線に沿った断面図である。
【図7】図4の左側面図である。
【図8】図4の底面図である。
10 恒温槽本体 12 マイクロプレート 12a ウエル部(凹部) 14 板状ヒートブロック 14A ヒートブロック本体 18 凹状ヒート面 18A 平坦面 18B 階段状段差
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹腰 史彦 神奈川県横浜市都筑区桜並木2番1号 ス ズキ株式会社技術研究所内
Claims (2)
- 【請求項1】 マイクロプレートの下面側に配置された
板状ヒートブロックと、この板状ヒートブロックの外側
に位置して前記マイクロプレートを保持するプレートホ
ルダと、これら各部を収納する恒温槽本体とを備えた免
疫反応測定装置用恒温槽において、 前記板状ヒートブロックの前記マイクロプレートの対向
面側に、中央部側を周囲よりも相対的に徐々に深く形成
し且つ全体的にゆるやかに変化して成る凹状ヒート面を
設けたことを特徴とする免疫反応測定装置用恒温槽。 - 【請求項2】 前記板状ヒートブロックの凹状ヒート面
を、その深さが段階的に変化する構造としたことを特徴
とする請求項1記載の免疫反応測定装置用恒温槽。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6474895A JPH08233826A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 免疫反応測定装置用恒温槽 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6474895A JPH08233826A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 免疫反応測定装置用恒温槽 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08233826A true JPH08233826A (ja) | 1996-09-13 |
Family
ID=13267101
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6474895A Withdrawn JPH08233826A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 免疫反応測定装置用恒温槽 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08233826A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001074750A (ja) * | 1999-09-07 | 2001-03-23 | Kyowa Medex Co Ltd | 恒温装置及びこれを用いた恒温ユニット |
JP2003504195A (ja) * | 1999-07-19 | 2003-02-04 | オルガノン・テクニカ・ベー・ヴエー | 磁性粒子を流体と混合するための装置および方法 |
JP2006030144A (ja) * | 2004-07-21 | 2006-02-02 | Kajikkusu Trading:Kk | 試料管保温トレー及びマルチウエルプレート用保温箱 |
JP2007017403A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Shimadzu Corp | 試料恒温装置 |
JP2009112934A (ja) * | 2007-11-06 | 2009-05-28 | Shimadzu Corp | 反応容器の温度制御装置 |
JP2011021918A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Terametsukusu Kk | 試薬反応部材載置装置またはその方法 |
CN106922567A (zh) * | 2017-04-06 | 2017-07-07 | 深圳市宇诺生物技术有限公司 | 一种自动均匀加热微板的孵育装置 |
-
1995
- 1995-02-28 JP JP6474895A patent/JPH08233826A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP4856831B2 (ja) * | 1999-07-19 | 2012-01-18 | オルガノン・テクニカ・ベー・ヴエー | 磁性粒子を流体と混合するための装置および方法 |
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