JPH0823156A - Method for sealing electronic component and surface grinder for grinding sealing resin - Google Patents

Method for sealing electronic component and surface grinder for grinding sealing resin

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JPH0823156A
JPH0823156A JP15500194A JP15500194A JPH0823156A JP H0823156 A JPH0823156 A JP H0823156A JP 15500194 A JP15500194 A JP 15500194A JP 15500194 A JP15500194 A JP 15500194A JP H0823156 A JPH0823156 A JP H0823156A
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sealing resin
sealing
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Abstract

PURPOSE:To provide a method which allows excellent cost performance, productivity and dimension accuracy for sealing an electronic component. CONSTITUTION:An IC chip 7, which is an electronic component, is mounted on a substrate 1 for mounting electronic component. Sealing resin 26 is printed on the substrate 1 using a metal mask, and whole plane of the IC chip 7 is covered. Then, the printed sealing resin 26 is heat-cured. The top plane of the cured sealing resin 26 is ground by a surface grinder 8, and the sealing resin 26 is permitted to have a prescribed thickness.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子部品の封止方法及
び封止用樹脂を研削するための平面研削装置に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for sealing electronic parts and a surface grinding machine for grinding a sealing resin.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、総厚の制限が厳しい半導体パッケ
ージを製造するプロセスにおいては、電子部品搭載用基
板上に搭載されたICチップやLSIチップ等の電子部
品を外部の湿気から保護するために、樹脂による封止が
行われることがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the process of manufacturing a semiconductor package in which the total thickness is severely limited, in order to protect electronic components such as IC chips and LSI chips mounted on an electronic component mounting substrate from external moisture. In some cases, resin sealing is performed.

【0003】樹脂による封止の方法としては、例えば、
ICチップが搭載された基板を金型内にセットした状態
でその中に封止用樹脂を注入し、樹脂を所定形状に成形
する方法(トランスファ・モールド法)が知られてい
る。
As a method of sealing with resin, for example,
A method (transfer molding method) is known in which a substrate on which an IC chip is mounted is set in a mold and a sealing resin is injected into the mold to mold the resin into a predetermined shape.

【0004】また、ICチップが搭載された基板上に一
定厚みの封止枠を設け、その枠内にディスペンサ等によ
り封止用樹脂を流し込む方法(ポッティング法)も知ら
れている。 さらに、封止枠を使用しないポッティング
法により形成された樹脂の上面を金属製の切削刃を持つ
平削り盤等を用いて切削することによって、封止厚みを
制御するという封止方法も行われている。
There is also known a method (potting method) in which a sealing frame having a certain thickness is provided on a substrate on which an IC chip is mounted and a sealing resin is poured into the frame by a dispenser or the like. Furthermore, a sealing method is also performed in which the sealing thickness is controlled by cutting the upper surface of the resin formed by the potting method without using a sealing frame with a planing machine having a metal cutting blade. ing.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
トランスファ・モールド法には、専用の金型や成形を行
うための大型の装置等が必要であることから、設備コス
トが高くなるという欠点がある。
However, the above-mentioned transfer molding method has a drawback that the equipment cost is increased because a dedicated mold and a large-sized apparatus for molding are required. .

【0006】ポッティング法には、封止枠が必要である
ため基板の材料コストが高くなるという欠点がある。ま
た、ディスペンサによる塗布であるため、一度に処理で
きる枚数が少なく、生産効率が悪いという欠点もある。
The potting method has a drawback in that the cost of material for the substrate is high because a sealing frame is required. Further, since the application is performed by a dispenser, the number of sheets that can be processed at one time is small, and the production efficiency is poor.

【0007】ポッティング後に切削を行う方法には、デ
ィスペンサに起因する生産効率の悪さに加えて、封止枠
を使用しないことから封止用樹脂の厚み制御や範囲制御
が充分にできず、製品の寸法精度が悪くなるという欠点
がある。また、封止枠を用いないポッティング法である
と樹脂がダレてしまい、どうしても樹脂の厚さばらつき
が大きく(通常、±400μm〜±600μm程度)な
ってしまう。従って、多数個どり基板等の場合には切削
すべき量が個々に異なり、充分な切削精度が得られな
い。その結果として、樹脂を所定の厚さに揃えることが
できないという欠点がある。
In the method of cutting after potting, in addition to the poor production efficiency caused by the dispenser, since the sealing frame is not used, the thickness control and range control of the sealing resin cannot be sufficiently performed, and There is a drawback that the dimensional accuracy becomes poor. In addition, if the potting method does not use a sealing frame, the resin will sag, and the thickness variation of the resin will inevitably become large (usually about ± 400 μm to ± 600 μm). Therefore, in the case of a multi-piece substrate or the like, the amount to be cut is different and sufficient cutting accuracy cannot be obtained. As a result, there is a drawback in that the resin cannot be made uniform in thickness.

【0008】本発明は上記の課題を解決するためになさ
れたものであり、その第1の目的は、コスト性、生産性
及び寸法精度に優れた電子部品の封止方法を提供するこ
とにある。本発明の第2の目的は、前記封止方法を実施
するうえで好適な封止用樹脂を研削するための平面研削
装置を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above problems, and a first object thereof is to provide a method for sealing an electronic component excellent in cost efficiency, productivity and dimensional accuracy. . A second object of the present invention is to provide a surface grinding apparatus for grinding a sealing resin, which is suitable for carrying out the sealing method.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項1に記載の発明では、基板上に搭載された
電子部品が被覆されるように同基板に対して封止用樹脂
を印刷し、かつ封止用樹脂を硬化した後、硬化した封止
用樹脂の上面を研削する電子部品の封止方法をその要旨
としている。
In order to solve the above-mentioned problems, in the invention according to claim 1, a sealing resin is applied to the substrate so that the electronic components mounted on the substrate are covered. The gist is a method of sealing an electronic component, in which after printing and curing the sealing resin, the upper surface of the cured sealing resin is ground.

【0010】特に請求項1において、封止されるべき電
子部品の投影面積よりも大きな供給口が形成されたメタ
ルマスクを基板上に配置し、スキージの移動によって封
止用樹脂を電子部品搭載領域に印刷することもできる。
さらに、研削については硬化した封止用樹脂の上面を平
面研削装置を用いて研削することもできる。
Particularly, in claim 1, a metal mask having a supply port larger than a projected area of the electronic component to be sealed is arranged on the substrate, and the sealing resin is moved to move the electronic resin mounting region by moving the squeegee. It can also be printed on.
Further, regarding grinding, the upper surface of the cured sealing resin can be ground using a surface grinding machine.

【0011】180番手〜240番手の研磨材が表面に
固着された研磨部材を用いて研削を行った後、320番
手〜500番手の研磨材が表面に固着されたものを用い
て研削を行うこともできる。また、電子部品搭載用基板
上に電子部品を搭載した後、その電子部品を請求項1に
記載の封止方法によって樹脂封止しかつ平面研削する半
導体パッケージの製造方法もある。
Grinding using a polishing member having a 180th to 240th abrasive adhered to the surface, and then performing grinding using a 320th to 500th abrasive adhered to the surface. You can also There is also a method of manufacturing a semiconductor package in which an electronic component is mounted on a substrate for mounting an electronic component, and then the electronic component is resin-sealed by the sealing method according to claim 1 and surface-ground.

【0012】請求項2に記載の発明では、駆動ローラと
コンタクトローラとの間に巻き掛けられるとともに、そ
の表面に研磨材が固着された無端状の研磨ベルトと、封
止用樹脂が印刷された基板を固定するためのテーブル
と、前記研磨ベルトと前記テーブルとを相対的に移動さ
せるための駆動手段と、前記テーブルの上面において開
口する吸引孔を介して真空引きを行う真空引き手段と、
前記基板と前記テーブルとの間に配置されるとともに、
少なくとも電子部品搭載領域の下部と前記吸引孔との間
を連通させる連通孔を有する板状治具とを備えた封止用
樹脂を研削するための平面研削装置をその要旨としてい
る。
According to the second aspect of the invention, the endless polishing belt is wound between the driving roller and the contact roller and has an abrasive material fixed on the surface thereof, and the sealing resin is printed. A table for fixing the substrate, a driving means for relatively moving the polishing belt and the table, and a vacuuming means for performing vacuuming via a suction hole opened on the upper surface of the table,
While being arranged between the substrate and the table,
The gist of the invention is a surface grinding device for grinding a sealing resin, which is provided with at least a lower portion of an electronic component mounting area and a plate-shaped jig having a communication hole that communicates between the suction hole.

【0013】請求項3に記載の発明では、請求項2にお
いて、少なくとも前記テーブルの上面を鉄製とし、前記
板状治具を可撓性を有するマグネットシートとしてい
る。
According to a third aspect of the present invention, in the second aspect, at least the upper surface of the table is made of iron, and the plate jig is a flexible magnet sheet.

【0014】[0014]

【作用】請求項1に記載の発明によると、厚さ方向及び
平面方向の形成精度に優れた印刷法によって封止用樹脂
の形成を行っていることから、封止用樹脂の厚さばらつ
きが小さくなる。よって、後工程において平面研削を容
易にかつ高精度に行うことができる。
According to the invention described in claim 1, since the sealing resin is formed by the printing method which is excellent in the forming accuracy in the thickness direction and the plane direction, the thickness variation of the sealing resin can be prevented. Get smaller. Therefore, the surface grinding can be performed easily and highly accurately in the post process.

【0015】印刷法では、スキージの移動により供給口
から封止用樹脂が押し出されることにより、基板上の電
子部品搭載領域に所定量の封止用樹脂が転写されるよう
改良しうる。このとき、メタルマスクの厚さや供給口の
大きさをあらかじめ設定しておくことにより、封止用樹
脂の印刷厚さや印刷範囲が制御されるようになる。
In the printing method, the sealing resin is pushed out from the supply port by the movement of the squeegee so that a predetermined amount of the sealing resin is transferred to the electronic component mounting area on the substrate. At this time, by setting the thickness of the metal mask and the size of the supply port in advance, the printing thickness and printing range of the sealing resin can be controlled.

【0016】また、研削については、回転する研磨ベル
トを基板に接触させると、研磨ベルトの表面に固着され
ている研磨材によって、封止用樹脂の上面が平らに削り
取られるような改良も可能である。その結果、封止用樹
脂が所定厚さに制御される。また、研削液を使用しない
乾式の研削であるため、研削液を供給・循環する設備等
が不要であり、かつ研削液による基板の汚れ等もない。
Further, regarding the grinding, it is possible to improve such that when the rotating polishing belt is brought into contact with the substrate, the upper surface of the sealing resin is scraped off flat by the abrasive adhered to the surface of the polishing belt. is there. As a result, the sealing resin is controlled to have a predetermined thickness. Further, since it is dry grinding that does not use a grinding liquid, there is no need for equipment for supplying and circulating the grinding liquid, and there is no contamination of the substrate by the grinding liquid.

【0017】また、まず番手の小さな粗い研磨材によっ
て荒研削を行った後、それより番手の大きな細かい研磨
材によって仕上げ研削が行われるような改良もできる。
このような研削であると、研削精度が向上するばかりで
なく研削能率も向上する。
Further, an improvement can be made in which rough grinding is first performed with a coarse abrasive having a small count, and then final grinding is performed with a fine abrasive having a larger count.
Such grinding not only improves the grinding accuracy but also improves the grinding efficiency.

【0018】請求項2,3に記載の発明によると、吸引
孔及び連通孔を介して真空引きがなされることによって
基板が板状治具に密着し、その結果として基板がテーブ
ルの上面に確実に固定される。従って、回転する研磨ベ
ルトによる研削を行う際に、高い研削精度が確保され
る。また、基板とテーブルとの間に板状治具を配置して
いるため、テーブルの上面に基板が直接的に触れること
がない。
According to the second and third aspects of the present invention, the substrate is brought into close contact with the plate-like jig by evacuation through the suction hole and the communication hole, and as a result, the substrate is securely placed on the upper surface of the table. Fixed to. Therefore, when performing grinding with the rotating polishing belt, high grinding accuracy is ensured. Further, since the plate-shaped jig is arranged between the substrate and the table, the substrate does not come into direct contact with the upper surface of the table.

【0019】請求項3に記載の発明によると、磁力によ
ってマグネットシートがテーブルの上面に確実に吸着さ
れる。また、この固定方式であると、マグネットシート
の着脱が比較的容易である。さらに、可撓性を有するマ
グネットシートであると、平面研削加工時における衝撃
が吸収されるため、基板に傷がつきにくい。
According to the third aspect of the invention, the magnet sheet is surely attracted to the upper surface of the table by the magnetic force. Also, with this fixing method, the attachment and detachment of the magnet sheet is relatively easy. Further, the flexible magnet sheet absorbs the impact during the surface grinding process, so that the substrate is not easily scratched.

【0020】[0020]

【実施例】【Example】

〔実施例1〕以下、本発明をICカード用の半導体パッ
ケージの製造方法に具体化した一実施例を図1〜図8に
基づき詳細に説明する。
[Embodiment 1] An embodiment in which the present invention is embodied in a method of manufacturing a semiconductor package for an IC card will be described in detail below with reference to FIGS.

【0021】本実施例では、電子部品搭載用基板1に対
するダイボンディング工程、ワイヤボンディング工程及
び樹脂封止工程(樹脂印刷工程、樹脂硬化工程及び平面
研削工程)を行うことによって、半導体パッケージ2を
製造している。各工程について詳しく説明する前に、ま
ず樹脂封止工程において使用される器具・装置等の構成
について述べる。
In this embodiment, the semiconductor package 2 is manufactured by performing a die bonding process, a wire bonding process and a resin sealing process (a resin printing process, a resin curing process and a surface grinding process) on the electronic component mounting substrate 1. are doing. Before describing each step in detail, first, the configurations of instruments and devices used in the resin sealing step will be described.

【0022】この実施例の樹脂封止工程は、主に樹脂印
刷工程、樹脂硬化工程及び平面研削工程といった3つの
工程からなる。図3に示されるように、樹脂印刷工程で
は、樹脂を印刷するための手段として、一般的なスクリ
ーン印刷機3が使用される。スクリーン印刷機3は、印
刷時に電子部品搭載用基板1を固定するためのテーブル
4、メタルマスク5及びスキージ6等を備えている。メ
タルマスク5の所定の箇所(即ち、基板1の電子部品搭
載領域Rに対応する箇所)には、複数個の供給口5aが
形成されている。各供給口5aは、いずれも封止される
べき電子部品であるICチップ7の投影面積(5mm×5
mm=25mm2 )よりも大きくなっている。メタルマスク
5の厚さは、ICチップ7をワイヤボンディングしたと
きのワイヤループの高さよりも幾分大きくなるように設
定される。この実施例では、メタルマスク5の厚さは5
00μmに設定されている。ここでは、メタルマスク5
の厚さや供給口5aの大きさをあらかじめ設定しておく
ことにより、樹脂の印刷厚さや印刷範囲が制御されるよ
うになっている。
The resin encapsulation process of this embodiment is mainly composed of three processes including a resin printing process, a resin curing process and a surface grinding process. As shown in FIG. 3, in the resin printing process, a general screen printer 3 is used as a means for printing the resin. The screen printer 3 includes a table 4 for fixing the electronic component mounting substrate 1 during printing, a metal mask 5, a squeegee 6, and the like. A plurality of supply ports 5a are formed at predetermined locations of the metal mask 5 (that is, locations corresponding to the electronic component mounting area R of the substrate 1). Each of the supply ports 5a has a projected area (5 mm × 5) of the IC chip 7 which is an electronic component to be sealed.
mm = 25 mm 2 ). The thickness of the metal mask 5 is set to be slightly larger than the height of the wire loop when the IC chip 7 is wire-bonded. In this embodiment, the metal mask 5 has a thickness of 5
It is set to 00 μm. Here, the metal mask 5
By previously setting the thickness of the resin and the size of the supply port 5a, the printing thickness and the printing range of the resin are controlled.

【0023】図7には、平面研削工程において使用され
る湿式かつ砥石車式の平面研削装置8が概略的に示され
ている。この平面研削装置8は、砥石車9を備える砥石
ヘッド10、ベルトコンベア11、砥石ヘッド駆動手段
(図示略)、鉄板12を上面に有するテーブル13、真
空ポンプ(図示略)、研削液循環パイプ14、板状治具
としてのマグネットシート15等を備えている。
FIG. 7 schematically shows a wet and grinding wheel type surface grinding device 8 used in the surface grinding process. The surface grinding apparatus 8 includes a grinding wheel head 10 including a grinding wheel 9, a belt conveyor 11, a grinding wheel head driving means (not shown), a table 13 having an iron plate 12 on its upper surface, a vacuum pump (not shown), and a grinding fluid circulation pipe 14. A magnet sheet 15 as a plate-shaped jig is provided.

【0024】ベルトコンベア11上には、テーブル13
が水平移動可能に載置されている。テーブル13の内部
には、テーブル13の外部に設けられた真空ポンプに連
通する真空引き用の通路13aが形成されている。テー
ブル13の上面には、平坦性に優れた鉄板12が固定さ
れている。図6に示されるように、鉄板12には、断面
略円形状をした複数の吸引孔16が規則的に形成されて
いる。鉄板12の上面には、板状治具としての可撓性を
有するマグネットシート(厚さ約1mm)15が磁力によ
って吸着されている。マグネットシート15は、例えば
磁性粉を含む樹脂ペーストを樹脂やゴム製のベースの表
面に塗布すること等によって作製される。このマグネッ
トシート15も鉄板12と同様に平坦性に優れている。
マグネットシート15は、その磁性面を下側に向けた状
態で鉄板12上に配置される。
A table 13 is provided on the belt conveyor 11.
Is mounted so that it can be moved horizontally. Inside the table 13, a passage 13a for vacuuming is formed which communicates with a vacuum pump provided outside the table 13. An iron plate 12 having excellent flatness is fixed to the upper surface of the table 13. As shown in FIG. 6, the iron plate 12 is regularly formed with a plurality of suction holes 16 having a substantially circular cross section. On the upper surface of the iron plate 12, a flexible magnet sheet (thickness: about 1 mm) 15 as a plate jig is attracted by magnetic force. The magnet sheet 15 is produced, for example, by applying a resin paste containing magnetic powder onto the surface of a resin or rubber base. Like the iron plate 12, the magnet sheet 15 also has excellent flatness.
The magnet sheet 15 is arranged on the iron plate 12 with its magnetic surface facing downward.

【0025】マグネットシート15には、電子部品搭載
領域Rの下部と吸引孔16との間を連通させる複数の連
通孔17が形成されている。従って、テーブル13上に
鉄板12及びマグネットシート15を配置して真空引き
を行うと、連通孔17、吸引孔16及び通路13aを介
して空気が排出される。すると、基板1がマグネットシ
ート15に密着し、その結果として基板1がテーブル1
3の上面に確実に固定されるようになっている。
The magnet sheet 15 is formed with a plurality of communication holes 17 for communicating the lower part of the electronic component mounting area R and the suction holes 16. Therefore, when the iron plate 12 and the magnet sheet 15 are arranged on the table 13 to perform vacuuming, air is discharged through the communication hole 17, the suction hole 16 and the passage 13a. Then, the substrate 1 is brought into close contact with the magnet sheet 15, and as a result, the substrate 1 is attached to the table 1.
It is securely fixed to the upper surface of No. 3.

【0026】図5,図7に示されるように、ベルトコン
ベア11の上方には、所定の距離を隔てて、砥石車9を
備える砥石ヘッド10が配置されている。砥石ヘッド1
0は、図示しない高さ調整機構によって、数μmオーダ
ーで位置調整することが可能になっている。砥石ヘッド
10には、研磨液循環パイプ14から研削液が供給され
るようになっている。また、供給された研削液は、図示
しない回収手段、フィルタ及びポンプ等を経て、研削液
循環パイプ14内を循環するようになっている。研削液
は、回転する砥石車9の摺動抵抗を下げることによっ
て、研削部分の温度上昇を回避するためのものである。
As shown in FIGS. 5 and 7, above the belt conveyor 11, a grinding wheel head 10 having a grinding wheel 9 is arranged at a predetermined distance. Whetstone head 1
The position of 0 can be adjusted on the order of several μm by a height adjusting mechanism (not shown). The grinding fluid is supplied to the grindstone head 10 from the polishing fluid circulation pipe 14. Further, the supplied grinding fluid is circulated in the grinding fluid circulation pipe 14 via a recovery means, a filter, a pump and the like which are not shown. The grinding liquid is for avoiding the temperature rise of the grinding portion by reducing the sliding resistance of the rotating grinding wheel 9.

【0027】図5に示されるように、砥石車9は、結合
剤18によって台金19の外周面に研磨材20を固着し
てなるものである。この実施例では、240番手のCB
N(Cubic boron nitride )製の研磨材20を用いた砥
石車9、及び400番手のCBN製の研磨材20を用い
た砥石車9の2つが使用される。
As shown in FIG. 5, the grinding wheel 9 comprises an abrasive 20 fixed to the outer peripheral surface of a base metal 19 with a binder 18. In this example, 240th CB
Two wheels, a grinding wheel 9 using an abrasive 20 made of N (Cubic boron nitride) and a grinding wheel 9 using an abrasive 20 made of CBN of 400 count are used.

【0028】次に、半導体パッケージ2を製造する手順
について説明する。図1,図6には、ダイボンディング
工程に供される電子部品搭載用基板1が概略的に示され
ている。この基板(長さ250mm,幅33mm,厚さ15
0μm)1は、電子部品搭載領域Rを36箇所に備え
た、いわゆる多数個どり用のフレキシブル基板である。
基板1の下面には導体パターン21が形成されている。
導体パターン21には、薄い金めっき(図示略)が施さ
れている。前記導体パターン21の一部は、電子部品搭
載領域Rのすぐ周囲に設けられた5つの貫通孔22によ
って露出されている。即ち、この基板1においては、当
該露出部分がボンディングパッド23となっている。
Next, a procedure for manufacturing the semiconductor package 2 will be described. 1 and 6 schematically show an electronic component mounting substrate 1 used in a die bonding process. This board (length 250mm, width 33mm, thickness 15
0 μm) 1 is a so-called multi-piece flexible substrate having electronic component mounting regions R at 36 places.
A conductor pattern 21 is formed on the lower surface of the substrate 1.
A thin gold plating (not shown) is applied to the conductor pattern 21. A part of the conductor pattern 21 is exposed by the five through holes 22 provided immediately around the electronic component mounting region R. That is, in this substrate 1, the exposed portion is the bonding pad 23.

【0029】ダイボンディング工程では、まず従来公知
のダイボンディング装置の印刷手段を用いて、基板1の
電子部品搭載領域Rにダイボンディング用樹脂24を印
刷する。この実施例では、一般的に使用される絶縁性エ
ポキシ樹脂が選択されている。次に、同じくダイボンデ
ィング装置のマウンタを用いて、ICチップ7をダイボ
ンディング用樹脂24上に搭載する。この後、所定温度
でのキュアによってダイボンディング用樹脂24を硬化
させる。
In the die bonding step, first, the die bonding resin 24 is printed on the electronic component mounting region R of the substrate 1 by using the printing means of a conventionally known die bonding apparatus. In this embodiment, a commonly used insulating epoxy resin is selected. Next, the IC chip 7 is mounted on the die bonding resin 24 using the mounter of the die bonding apparatus. Then, the die bonding resin 24 is cured by curing at a predetermined temperature.

【0030】ダイボンディング工程を経た基板1は、次
にワイヤボンディング工程を行うためのワイヤボンダに
搬送される。ワイヤボンダでは、図2に示されるよう
に、ICチップ7側の図示しない電極と、基板1側のボ
ンディングパッド23とが金ワイヤ25を介して接合さ
れる。
The substrate 1 that has undergone the die bonding process is conveyed to a wire bonder for performing the wire bonding process next. In the wire bonder, as shown in FIG. 2, an electrode (not shown) on the IC chip 7 side and a bonding pad 23 on the substrate 1 side are joined via a gold wire 25.

【0031】ワイヤボンディング工程を経た基板1は、
次いで上述したスクリーン印刷機3に搬送される。スク
リーン印刷機3による樹脂印刷工程では、まずテーブル
4上に固定された基板1の上面に、メタルマスク5が密
着するように配置される。そして、メタルマスク5の上
面に封止用樹脂26を供給した状態で、スキージ6を所
定方向に移動させる。すると、移動するスキージ6によ
り供給口5aから封止用樹脂26が押し出され、基板1
上の電子部品搭載領域Rに所定量の封止用樹脂26が転
写される。その結果、図3に示されるように、ICチッ
プ7、金ワイヤ25及びボンディングパッド23が全体
的に樹脂封止される。なお、この実施例では、封止用樹
脂26として絶縁性エポキシ樹脂が選択されている。
The substrate 1 that has undergone the wire bonding process is
Then, it is conveyed to the screen printing machine 3 described above. In the resin printing process by the screen printing machine 3, first, the metal mask 5 is arranged so as to be in close contact with the upper surface of the substrate 1 fixed on the table 4. Then, the squeegee 6 is moved in a predetermined direction while the sealing resin 26 is supplied to the upper surface of the metal mask 5. Then, the moving squeegee 6 pushes out the sealing resin 26 from the supply port 5a, and the substrate 1
A predetermined amount of the sealing resin 26 is transferred to the upper electronic component mounting area R. As a result, as shown in FIG. 3, the IC chip 7, the gold wire 25, and the bonding pad 23 are entirely resin-sealed. In this embodiment, an insulating epoxy resin is selected as the sealing resin 26.

【0032】この後、メタルマスク5を取り外し、樹脂
硬化工程を行うためのキュア装置において基板1を所定
温度で加熱処理する。すると、図4に示されるように、
未硬化状態であった封止用樹脂26が、印刷されたとき
の形状をある程度維持した状態で硬化する。この実施例
では、キュア後における封止用樹脂26の設定厚さは6
00μmであり、設定厚さに対するばらつきは±120
μm程度になる。
After that, the metal mask 5 is removed, and the substrate 1 is heat-treated at a predetermined temperature in a curing device for carrying out a resin curing step. Then, as shown in FIG.
The uncured encapsulating resin 26 cures while maintaining the shape when printed to some extent. In this embodiment, the set thickness of the sealing resin 26 after curing is 6
It is 00 μm, and the variation with respect to the set thickness is ± 120
It becomes about μm.

【0033】樹脂硬化工程を経た基板1は、次に上述し
た平面研削装置8に搬送される。平面研削装置8におけ
る平面研削工程では、まず鉄板12を備えたテーブル1
3の上面に、マグネットシート15を介して基板1が固
定される。次に、砥石ヘッド10の高さを調整した後、
ベルトコンベア11によってテーブル13を水平方向に
往復動させる。すると、基板1が砥石ヘッド10の下側
を通過するとき、図5に示されるように、回転する砥石
車9が基板1の上面に接触する。その結果、突出部分で
ある封止用樹脂26の上面が研磨材20により平らに削
り取られる。
The substrate 1 that has undergone the resin curing step is then conveyed to the above-described surface grinding device 8. In the surface grinding process in the surface grinding device 8, first, the table 1 having the iron plate 12 is provided.
The substrate 1 is fixed to the upper surface of the substrate 3 via the magnet sheet 15. Next, after adjusting the height of the grindstone head 10,
The table 13 is horizontally reciprocated by the belt conveyor 11. Then, when the substrate 1 passes under the grindstone head 10, the rotating grinding wheel 9 contacts the upper surface of the substrate 1 as shown in FIG. As a result, the upper surface of the sealing resin 26, which is the protruding portion, is scraped off flat by the abrasive material 20.

【0034】この実施例では、まず240番手という粗
い研磨材20を固着した砥石車9によって荒研削を行っ
た後、400番手という細かい研磨材20を固着した砥
石車9によって仕上げ研削が行われる。荒研削では約1
50μm〜200μm程研削され、仕上げ研削では30
μm〜40μm程研削される。その結果、図8に示され
るように、封止用樹脂26の最終設定厚さが580μm
である半導体パッケージ2が製造される。このとき、最
終設定厚さに対する封止用樹脂26のばらつきは±20
μm程度になる。また、平面研削された封止用樹脂26
の上面の表面粗さは、Ra=0.5μm〜2.5μm,
Rmax=5μm〜20μmとなる。
In this embodiment, first, rough grinding is carried out by a grinding wheel 9 having a coarse abrasive material 20 of 240 count, and then finish grinding is carried out by a grinding wheel 9 having a fine abrasive material of 400 count. 1 for rough grinding
50 μm to 200 μm is ground, and 30 is used for finish grinding.
It is ground to about 40 μm to 40 μm. As a result, as shown in FIG. 8, the final set thickness of the sealing resin 26 is 580 μm.
The semiconductor package 2 is manufactured. At this time, the variation of the sealing resin 26 with respect to the final set thickness is ± 20.
It becomes about μm. In addition, the surface-ground sealing resin 26
The surface roughness of the upper surface of Ra is 0.5 μm to 2.5 μm.
Rmax = 5 μm to 20 μm.

【0035】以上詳述した半導体パッケージ2の製造方
法では、厚さ方向及び平面方向の形成精度に優れたスク
リーン印刷法によって、封止用樹脂26の転写を行って
いる。このため、従来のポッティング法による形成方法
に比較して、封止用樹脂26の厚さばらつきが小さくな
る。従って、切削すべき量が個々の封止用樹脂26にお
いてほぼ等しくなる。ゆえに、封止用樹脂26の上面を
容易にかつ高精度に平面研削することができる。特に、
本実施例では2種の砥石車9を用いて荒研削と仕上げ研
削とを行っているため、研削精度ばかりでなく研削能率
にも優れている。そして、このような高精度の研削であ
ると、封止用樹脂26の上面が部分的に肉薄になった
り、金ワイヤ25等が部分的に露出するなどの不具合も
極めて起こりにくくなる。ゆえに、半導体パッケージ2
の耐湿性や信頼性が向上する。
In the method of manufacturing the semiconductor package 2 described above in detail, the sealing resin 26 is transferred by the screen printing method which is excellent in the forming accuracy in the thickness direction and the plane direction. Therefore, the thickness variation of the sealing resin 26 is smaller than that of the conventional potting method. Therefore, the amount to be cut is substantially equal in each sealing resin 26. Therefore, the upper surface of the sealing resin 26 can be surface-ground easily and with high accuracy. In particular,
In this embodiment, since two types of grinding wheels 9 are used for rough grinding and finish grinding, not only grinding accuracy but also grinding efficiency is excellent. Further, such highly accurate grinding makes it extremely unlikely that problems such as the upper surface of the sealing resin 26 being partially thinned or the gold wire 25 or the like being partially exposed occur. Therefore, the semiconductor package 2
Moisture resistance and reliability are improved.

【0036】この実施例ではメタルマスク5を用いたス
クリーン印刷法を採用しているため、トランスファ・モ
ールド法に比して設備コストが安くなる。また、スクリ
ーン印刷法であると、一枚の基板1の複数箇所に電子部
品搭載領域Rがあるときでも一度に処理することができ
る。このため、ディスペンサ等を用いるポッティング法
に比して、生産効率に優れている。
Since the screen printing method using the metal mask 5 is adopted in this embodiment, the equipment cost is lower than that of the transfer molding method. Further, with the screen printing method, even when there are electronic component mounting regions R at a plurality of locations on a single substrate 1, the processing can be performed at once. Therefore, the production efficiency is superior to the potting method using a dispenser or the like.

【0037】本実施例の砥石車式の平面研削装置8によ
ると、真空引きによって基板1がテーブル13の上面に
確実に固定されることから、平面研削を行う際に高い研
削精度を確保することができる。従って、本実施例のよ
うにフレキシブルな基板1を選択したときに有効であ
る。また、可撓性を有するマグネットシート15を使用
しているため、平面研削加工時に基板1に加わる衝撃を
確実に吸収することができる。よって、基板1を構成す
る軟質な材料(例えば、裏面側の導体パターン21の金
めっき等)に傷がつきにくく、不良品発生率も低下す
る。
According to the grinding wheel type surface grinding device 8 of this embodiment, the substrate 1 is securely fixed to the upper surface of the table 13 by vacuuming, so that a high grinding accuracy is ensured when the surface grinding is performed. You can Therefore, it is effective when the flexible substrate 1 is selected as in this embodiment. Further, since the flexible magnet sheet 15 is used, it is possible to reliably absorb the impact applied to the substrate 1 during the surface grinding process. Therefore, the soft material forming the substrate 1 (for example, gold plating of the conductor pattern 21 on the back surface) is not easily scratched, and the defective product generation rate is also reduced.

【0038】また、連通孔17の形状の異なるマグネッ
トシート15を複数作製しておけば、基板1の寸法が変
わっても鉄板12における吸引孔16の位置を変更しな
くてもよいというメリットがある。従って、平面研削装
置8の汎用性を向上させることができる。加えて、マグ
ネットシート15は着脱が容易であるというメリットも
ある。 〔実施例2〕次に、実施例2の半導体パッケージの製造
方法を図1〜図4,図6,図8〜図10に基づき詳細に
説明する。
Further, if a plurality of magnet sheets 15 having different shapes of the communication holes 17 are produced, there is an advantage that the position of the suction holes 16 in the iron plate 12 does not have to be changed even if the dimensions of the substrate 1 are changed. . Therefore, the versatility of the surface grinding device 8 can be improved. In addition, the magnet sheet 15 has an advantage that it can be easily attached and detached. [Second Embodiment] Next, a method of manufacturing a semiconductor package according to a second embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 4, 6, and 8 to 10.

【0039】本実施例でも、実施例1と同じく電子部品
搭載用基板1に対するダイボンディング工程、ワイヤボ
ンディング工程及び樹脂封止工程(樹脂印刷工程、樹脂
硬化工程及び平面研削工程)によって半導体パッケージ
2を製造している。ただし、実施例2では実施例1とは
異なる構成の平面研削装置30によって平面研削が行わ
れる。
Also in this embodiment, as in the first embodiment, the semiconductor package 2 is formed by the die bonding process, the wire bonding process and the resin sealing process (the resin printing process, the resin curing process and the surface grinding process) for the electronic component mounting substrate 1. Manufacturing. However, in the second embodiment, the surface grinding is performed by the surface grinding device 30 having a configuration different from that of the first embodiment.

【0040】図10には、実施例2において使用される
平面研削装置30が概略的に示されている。この平面研
削装置30は乾式かつベルト式であり、いわゆるベルト
サンダと呼ばれるものである。
FIG. 10 schematically shows a surface grinding device 30 used in the second embodiment. The surface grinding device 30 is a dry type and a belt type, and is a so-called belt sander.

【0041】平面研削装置30は、駆動ローラ31、コ
ンタクトローラ32、研磨ベルト33、モータ(図示
略)を内蔵した支持ヘッド34、ベルトコンベア11、
鉄板12を上面に有するテーブル13、真空ポンプ(図
示略)、板状治具としてのマグネットシート15等を備
えている。なお、乾式であるこの平面研削装置30に
は、実施例1のような研削液循環パイプ14は設けられ
ていない。ベルトコンベア11、鉄板12、テーブル1
3及びマグネットシート15等の構成・機能については
実施例1と基本的に差異がないため、ここでは詳細な説
明を省略する。
The surface grinding device 30 includes a driving roller 31, a contact roller 32, a polishing belt 33, a support head 34 containing a motor (not shown), a belt conveyor 11,
A table 13 having an iron plate 12 on its upper surface, a vacuum pump (not shown), a magnet sheet 15 as a plate jig, and the like are provided. The dry surface grinding apparatus 30 is not provided with the grinding fluid circulation pipe 14 as in the first embodiment. Belt conveyor 11, iron plate 12, table 1
Since the configurations and functions of the magnetic sheet 3 and the magnet sheet 15 are basically the same as those in the first embodiment, detailed description thereof will be omitted here.

【0042】支持ヘッド34に内蔵されたモータの回転
軸には、駆動ローラ31が一体回転可能に固定されてい
る。駆動ローラ31の下方には、所定の距離を隔ててコ
ンタクトローラ32が回転可能に配設されている。駆動
ローラ31とコンタクトローラ32との間には、研削工
具としての無端状の研磨ベルト33が巻き掛けられてい
る。よって、モータによって駆動ローラ31を回転させ
ると、研磨ベルト33を介して駆動力が伝達され、コン
タクトローラ32が追従して回転するようになってい
る。駆動ローラ31及びコンタクトローラ32は、図示
しない高さ調整機構によって、数μmオーダーで位置調
整することが可能となっている。
The drive roller 31 is integrally rotatably fixed to the rotary shaft of the motor built in the support head 34. Below the drive roller 31, a contact roller 32 is rotatably arranged at a predetermined distance. An endless polishing belt 33 as a grinding tool is wound around the drive roller 31 and the contact roller 32. Therefore, when the driving roller 31 is rotated by the motor, the driving force is transmitted through the polishing belt 33, and the contact roller 32 follows and rotates. The drive roller 31 and the contact roller 32 can be position-adjusted on the order of several μm by a height adjusting mechanism (not shown).

【0043】ここで研磨ベルト33とは、研磨布紙の形
状による種類のなかでベルト状をなすものの総称であっ
て、アブレシッブベルト(Abrasive belt )等と呼ばれ
るものを指す。周長を長く確保することができる研磨ベ
ルト33は、比較的広い研磨面を有し、単位時間あたり
に特定の研磨材20が受け持つ研削仕事量が小さい、と
いう特徴がある。また、研削時に自動的に研磨ベルト3
3が空冷されるため、研削部分の温度上昇が起こりにく
い、という特徴もある。
Here, the polishing belt 33 is a general term for belt-shaped types among the types of polishing cloth paper, and refers to what is called an abrasive belt or the like. The polishing belt 33, which can secure a long circumference, is characterized in that it has a relatively wide polishing surface and the amount of grinding work that a specific polishing material 20 handles per unit time is small. Also, the polishing belt 3 is automatically used during grinding.
Since 3 is air-cooled, there is also a feature that the temperature rise of the grinding portion hardly occurs.

【0044】図9に示されるように、研磨ベルト33
は、結合剤18によって基材35の外周面に研磨材20
を固着してなるものである。この実施例では、180番
手の炭化珪素製の研磨材20を用いた研磨ベルト33、
及び400番手の炭化珪素製の研磨材20を用いた研磨
ベルト33の2つが使用される。
As shown in FIG. 9, the polishing belt 33.
Is bonded to the outer peripheral surface of the base material 35 by the binder 18
It is made by fixing. In this embodiment, a polishing belt 33 using the abrasive material 20 made of 180th silicon carbide,
And a polishing belt 33 using the abrasive material 20 made of silicon carbide of 400 count.

【0045】実施例2の半導体パッケージ2の製造方法
では、実施例1の手順に従って、まずダイボンディング
工程、ワイヤボンディング工程、樹脂印刷工程及び樹脂
硬化工程が行われる。
In the method of manufacturing the semiconductor package 2 of the second embodiment, the die bonding process, the wire bonding process, the resin printing process and the resin curing process are first performed according to the procedure of the first embodiment.

【0046】樹脂硬化工程を経た基板1は、上述した平
面研削装置30に搬送される。平面研削装置30におけ
る平面研削工程では、まず鉄板12を備えたテーブル1
3の上面に、マグネットシート15を介して基板1が固
定される。次に、コンタクトローラ32の高さを調整し
た後、ベルトコンベア11によってテーブル13を水平
方向に往復動させる。すると、基板1がコンタクトロー
ラ32の下側を通過するとき、図9に示されるように、
回転する研磨ベルト33が基板1の上面に接触する。そ
の結果、突出部分である封止用樹脂26の上面が研磨材
20によって平らに削り取られる。
The substrate 1 which has undergone the resin curing step is conveyed to the above-mentioned surface grinding apparatus 30. In the surface grinding process in the surface grinding device 30, first, the table 1 having the iron plate 12 is provided.
The substrate 1 is fixed to the upper surface of the substrate 3 via the magnet sheet 15. Next, after adjusting the height of the contact roller 32, the table 13 is horizontally reciprocated by the belt conveyor 11. Then, when the substrate 1 passes under the contact roller 32, as shown in FIG.
The rotating polishing belt 33 contacts the upper surface of the substrate 1. As a result, the upper surface of the sealing resin 26, which is the protruding portion, is scraped off flat by the abrasive material 20.

【0047】この実施例では、まず180番手という粗
い研磨材20を固着した研磨ベルト33によって荒研削
を行った後、400番手という細かい研磨材20を固着
した研磨ベルト33によって仕上げ研削が行われる。荒
研削では約150μm〜200μm程研削され、仕上げ
研削では30μm〜40μm程研削される。その結果、
図8に示されるように、封止用樹脂26の最終設定厚さ
が580μmである半導体パッケージ2が製造される。
このとき、最終設定厚さに対する封止用樹脂26のばら
つきは±20μm程度になる。また、表面研削された封
止用樹脂26の上面の表面粗さは、Ra=0.5μm〜
2.5μm,Rmax=5μm〜20μmとなる。
In this embodiment, first, rough grinding is performed by the polishing belt 33 having the coarse abrasive 20 fixed to the 180th count, and then finish grinding is performed using the polishing belt 33 having the fine abrasive 20 fixed to the 400th count. The rough grinding is about 150 μm to 200 μm, and the finish grinding is about 30 μm to 40 μm. as a result,
As shown in FIG. 8, the semiconductor package 2 in which the final setting thickness of the sealing resin 26 is 580 μm is manufactured.
At this time, the variation of the sealing resin 26 with respect to the final set thickness is about ± 20 μm. The surface roughness of the upper surface of the sealing resin 26 whose surface has been ground is Ra = 0.5 μm.
2.5 μm, Rmax = 5 μm to 20 μm.

【0048】以上のような実施例2の半導体パッケージ
2の製造方法であっても実施例1と同様の作用効果を奏
することは明らかである。特に、この実施例では研削液
を使用しない乾式の研削であるため、研削液を供給・循
環するための設備等も不要である。このため、平面研削
装置30の構成も簡単になり、全体的に低コスト化が図
られる。また、基板1が研削液に晒されることがないた
め、例えば導体パターン21に施された金めっきに水垢
等が付かないというメリットがある。ゆえに、後工程に
おける洗浄等がおのずと不要になり、生産性の向上が図
られる。
It is obvious that even the method of manufacturing the semiconductor package 2 of the second embodiment as described above has the same effects as the first embodiment. Particularly, in this embodiment, since the grinding is a dry grinding method that does not use a grinding liquid, a facility for supplying and circulating the grinding liquid is not necessary. Therefore, the structure of the surface grinding device 30 is also simplified, and the cost can be reduced as a whole. Further, since the substrate 1 is not exposed to the grinding liquid, there is an advantage that, for example, the gold plating applied to the conductor pattern 21 does not have water stains. Therefore, the cleaning in the subsequent process is naturally unnecessary and the productivity is improved.

【0049】さらに、研削部分の温度上昇が小さいこの
研磨ベルト33であれば、基板1を構成する樹脂部分、
特に封止用樹脂26が熱によって劣化するという事態を
避けることができる。従って、不良品発生率を低減する
ことができる。
Further, in the case of the polishing belt 33 in which the temperature rise in the grinding portion is small, the resin portion constituting the substrate 1
In particular, it is possible to avoid the situation where the sealing resin 26 is deteriorated by heat. Therefore, the defective product generation rate can be reduced.

【0050】なお、本発明は上記実施例のみに限定され
ることはなく、例えば次のように変更することが可能で
ある。 (1) 実施例1の砥石車式の平面研削装置8を乾式と
して用いたり、実施例2のベルト式の平面研削装置30
を湿式として用いてもよい。勿論、これらの実施例にお
いて例示した平面研削装置8,30と異なるタイプの平
面研削装置を使用することも可能である。即ち、一般的
な平面研削装置であれば、平削り盤等といった切削装置
よりも高精度に平面研削を行うことができるからであ
る。
The present invention is not limited to the above embodiment, but can be modified as follows. (1) The grinding wheel type surface grinding device 8 of the first embodiment is used as a dry type, or the belt type surface grinding device 30 of the second embodiment is used.
May be used as a wet type. Of course, it is also possible to use a surface grinding machine of a type different from the surface grinding machines 8 and 30 illustrated in these embodiments. That is, a general surface grinding device can perform surface grinding with higher accuracy than a cutting device such as a planing machine.

【0051】(2) 封止用樹脂26は絶縁性エポキシ
樹脂に限定されることはなく、例えば絶縁性ポリイミド
樹脂等といった他の熱硬化性樹脂であってもよい。 (3) 実施例1,2の平面研削装置8,30におい
て、ベルトコンベア11以外の駆動手段を使用していも
よい。また、ベルトコンベア11等によってテーブル1
3側を移動させるばかりでなく、砥石車9や研磨ベルト
33という研削工具側を移動させてもよい。勿論、研削
工具及びテーブル13の双方を移動させてもよい。
(2) The sealing resin 26 is not limited to the insulating epoxy resin, but may be another thermosetting resin such as an insulating polyimide resin. (3) In the surface grinding devices 8 and 30 of Embodiments 1 and 2, driving means other than the belt conveyor 11 may be used. In addition, the table 1 is provided by the belt conveyor 11 and the like.
Not only the 3 side may be moved, but the grinding tool side such as the grinding wheel 9 and the polishing belt 33 may be moved. Of course, both the grinding tool and the table 13 may be moved.

【0052】(4) 研磨材20は実施例1,2におい
て使用したCBN,炭化珪素に限定されることない。例
えば、溶融アルミナ、ガーネット、エメリー、ケイ石、
酸化鉄、炭化ジルコニウム、ケイ石、酸化鉄、ムライ
ト、窒化チタン、窒化珪素、炭化チタン、ダイヤモン
ド、炭化ほう素等を研磨材20として選択してもよい。
また、研磨材20の番手の変更も自由であり、必ずしも
実施例1,2の組合せに限られない。
(4) The abrasive 20 is not limited to the CBN and silicon carbide used in Examples 1 and 2. For example, fused alumina, garnet, emery, silica stone,
The abrasive 20 may be selected from iron oxide, zirconium carbide, silica stone, iron oxide, mullite, titanium nitride, silicon nitride, titanium carbide, diamond, boron carbide, and the like.
Further, the count of the abrasive material 20 can be freely changed and is not necessarily limited to the combination of the first and second embodiments.

【0053】(5) 半導体パッケージ2の製造に使用
される基板1はフレキシブルなものでなくてもよく、例
えばリジッドな樹脂基板であってもよい。また、樹脂基
板のみならずセラミックス基板等でもよい。
(5) The substrate 1 used for manufacturing the semiconductor package 2 does not have to be flexible, and may be, for example, a rigid resin substrate. Further, not only a resin substrate but also a ceramic substrate or the like may be used.

【0054】(6) 裏面に導体パターン21がない場
合など、基板1の種類・材料によっては、例えば板状治
具15を可撓性を有しないマグネットシートに代えた
り、可撓性を有しかつ磁石粉を含まないシートに代えて
もよい。
(6) Depending on the type and material of the substrate 1 such as when there is no conductor pattern 21 on the back surface, for example, the plate jig 15 may be replaced with a non-flexible magnet sheet or may be flexible. In addition, a sheet containing no magnet powder may be used instead.

【0055】(7) スクリーン印刷機3のテーブル4
にも平面研削装置8,30と同様に真空引きのための構
造を設け、さらにその上面にマグネットシート15を配
置してもよい。このようにすると、スクリーン印刷時に
基板1がテーブル4に確実に固定されるため、封止用樹
脂26の印刷精度がより向上し、平面研削工程における
切削精度がよりいっそう高くなる。
(7) Table 4 of the screen printing machine 3
A structure for vacuuming may be provided similarly to the surface grinding devices 8 and 30, and the magnet sheet 15 may be arranged on the upper surface thereof. In this way, the substrate 1 is reliably fixed to the table 4 during screen printing, so that the printing accuracy of the sealing resin 26 is further improved and the cutting accuracy in the surface grinding step is further increased.

【0056】(8) 封止されるべき電子部品は実施例
1,2に示したICチップ7に限られず、例えば各種チ
ップ部品等であってもよい。勿論、ICチップ7とチッ
プ部品とが搭載されている領域を、封止用樹脂26で全
体的に封止することも可能である。
(8) The electronic component to be sealed is not limited to the IC chip 7 shown in Embodiments 1 and 2, but may be various chip components or the like. Of course, the region where the IC chip 7 and the chip components are mounted can be entirely sealed with the sealing resin 26.

【0057】ここで、特許請求の範囲等に記載された技
術的思想のほかに、前述した実施例及び別例によって把
握される技術的思想をその効果とともに以下に列挙す
る。 (1) テーブル上面の鉄製板材と被加工物との間に配
置されるマグネットシートであって、前記被加工物の所
定領域の下部と前記鉄製板材の吸引孔とを連通させる連
通孔を備えたマグネットシート。このマグネットシート
であると、平面研磨装置等の汎用性を向上させることが
できる。
Here, in addition to the technical ideas described in the claims and the like, the technical ideas grasped by the above-described embodiments and other examples will be listed below together with their effects. (1) A magnet sheet arranged between an iron plate material on the upper surface of a table and a workpiece, comprising a communication hole that connects a lower portion of a predetermined region of the workpiece and a suction hole of the iron plate material. Magnet sheet. This magnet sheet can improve the versatility of a flat polishing apparatus and the like.

【0058】(2) 被印刷物の固定のために真空引き
手段を備えるスクリーン印刷機であって、技術的思想1
のマグネットシートを有するスクリーン印刷機。この構
成であると、平面研削工程における切削精度がよりいっ
そう高くなる。
(2) A screen printing machine provided with a vacuuming means for fixing an object to be printed, the technical concept 1
Screen printing machine with a magnet sheet. With this configuration, the cutting accuracy in the surface grinding process is further increased.

【0059】(3) 研磨面を有する砥石車と、前記砥
石車を回転させるための回転駆動手段と、封止用樹脂が
印刷された基板を固定するためのテーブルと、前記砥石
車と前記テーブルとを相対的に移動させるための駆動手
段と、前記テーブルの上面において開口する吸引孔を介
して真空引きを行う真空引き手段と、前記基板と前記テ
ーブルとの間に配置されるとともに、少なくとも電子部
品搭載領域の下部と前記吸引孔との間を連通させる連通
孔を有する板状治具とを備えた封止用樹脂を研削するた
めの砥石車式の平面研削装置。この装置であると、不良
品発生率の低下、研削精度の確保、生産性及び汎用性の
向上を図ることができる。
(3) A grinding wheel having a polishing surface, a rotation driving means for rotating the grinding wheel, a table for fixing a substrate on which a sealing resin is printed, the grinding wheel and the table Is arranged between the substrate and the table, and a driving means for relatively moving the table and a vacuum drawing means for drawing a vacuum through a suction hole opened on the upper surface of the table. A grinding wheel type surface grinding device for grinding a sealing resin, which includes a plate-shaped jig having a communication hole that communicates between a lower portion of a component mounting area and the suction hole. With this device, it is possible to reduce the defective product generation rate, secure grinding accuracy, and improve productivity and versatility.

【0060】なお、本明細書中において使用した技術用
語を次のように定義する。 「電子部品: シリコンやガリウム砒素等からなるIC
チップやLSIチップなどといった半導体部品をいうほ
か、例えばチップトランジスタ、チップダイオード、チ
ップ抵抗、チップコンデンサ、チップインダクタ等とい
ったチップ部品もいう。」
The technical terms used in this specification are defined as follows. "Electronic parts: ICs made of silicon, gallium arsenide, etc.
In addition to semiconductor components such as chips and LSI chips, chip components such as chip transistors, chip diodes, chip resistors, chip capacitors, and chip inductors are also referred to. "

【0061】[0061]

【発明の効果】以上詳述したように、請求項1に記載の
電子部品の封止方法によれば、印刷法により形成された
封止用樹脂に対して平面研削が行われること等から、コ
スト性、生産性及び寸法精度を向上することができる。
特に改良案として記載した(実施例2)の発明による
と、基板が研削液に晒されないことから、平面研削工程
において基板の構成材料に及ぼす影響を少なくすること
ができる。また、請求項2,3に記載の発明によると、
前記封止方法を実施するときの不良品発生率の低下、研
削精度の確保、生産性及び汎用性の向上を図ることがで
きる。
As described in detail above, according to the electronic component sealing method of the first aspect, since the sealing resin formed by the printing method is subjected to surface grinding, Cost efficiency, productivity, and dimensional accuracy can be improved.
In particular, according to the invention of the second embodiment described as an improvement plan, since the substrate is not exposed to the grinding liquid, it is possible to reduce the influence on the constituent material of the substrate in the surface grinding process. Moreover, according to the invention described in claims 2 and 3,
It is possible to reduce the defective product generation rate when performing the sealing method, secure grinding accuracy, and improve productivity and versatility.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 実施例1の半導体パッケージの製造方法にお
いて、ICチップが搭載される前の電子部品搭載用基板
を示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an electronic component mounting substrate before an IC chip is mounted in a method for manufacturing a semiconductor package according to a first embodiment.

【図2】 同じく、基板上に搭載されたICチップに対
してワイヤボンディングを行った状態を示す概略断面図
である。
FIG. 2 is likewise a schematic cross-sectional view showing a state in which wire bonding is performed on an IC chip mounted on a substrate.

【図3】 同じく、封止用樹脂を印刷した状態を示す概
略断面図である。
FIG. 3 is likewise a schematic cross-sectional view showing a state in which a sealing resin is printed.

【図4】 同じく、印刷された封止用樹脂を硬化させた
状態を示す概略断面図である。
FIG. 4 is likewise a schematic cross-sectional view showing a state where the printed sealing resin is cured.

【図5】 同じく、封止用樹脂の研削状態を示す概略断
面図である。
FIG. 5 is likewise a schematic cross-sectional view showing a ground state of the sealing resin.

【図6】 同じく、基板、マグネットシート及び鉄板を
示す部分概略分解斜視図である。
FIG. 6 is likewise a partial schematic exploded perspective view showing a substrate, a magnet sheet and an iron plate.

【図7】 同じく、封止用樹脂を研削するための湿式か
つ砥石車式の平面研削装置を示す部分概略正面図であ
る。
FIG. 7 is likewise a partial schematic front view showing a wet and grinding wheel type surface grinding device for grinding a sealing resin.

【図8】 同じく、封止用樹脂の研削終了状態を示す概
略断面図である。
FIG. 8 is likewise a schematic cross-sectional view showing a state in which the sealing resin has been ground.

【図9】 実施例2の半導体パッケージの製造方法にお
いて、封止用樹脂を研削している状態を示す概略断面図
である。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing a state in which the sealing resin is ground in the method for manufacturing a semiconductor package according to the second embodiment.

【図10】 同じく、封止用樹脂を研磨するための乾式
かつベルト式の平面研削装置を示す部分概略正面図であ
る。
FIG. 10 is also a partial schematic front view showing a dry and belt type surface grinding device for polishing the sealing resin.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…(電子部品搭載用)基板、2…半導体パッケージ、
13…テーブル、5a…供給口、5…メタルマスク、6
…スキージ、7…電子部品としてのICチップ、8,3
0…平面研削装置、11…駆動手段としてのベルトコン
ベア、15…板状治具としてのマグネットシート、16
…吸引孔、17…連通孔、20…研磨材、26…封止用
樹脂、31…駆動ローラ、32…コンタクトローラ、3
3…研磨ベルト、R…電子部品搭載領域。
1 ... (Electronic component mounting) substrate, 2 ... Semiconductor package,
13 ... Table, 5a ... Supply port, 5 ... Metal mask, 6
... Squeegee, 7 ... IC chip as an electronic component, 8, 3
0 ... Surface grinder, 11 ... Belt conveyor as driving means, 15 ... Magnet sheet as plate jig, 16
... Suction hole, 17 ... Communication hole, 20 ... Abrasive material, 26 ... Sealing resin, 31 ... Driving roller, 32 ... Contact roller, 3
3 ... Polishing belt, R ... Electronic component mounting area.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に搭載された電子部品が被覆される
ように同基板に対して封止用樹脂を印刷し、かつ封止用
樹脂を硬化した後、硬化した封止用樹脂の上面を研削す
る電子部品の封止方法。
1. An encapsulation resin is printed on the substrate so that the electronic components mounted on the substrate are covered with the encapsulation resin, and the encapsulation resin is cured. A method for sealing electronic components by grinding.
【請求項2】駆動ローラとコンタクトローラとの間に巻
き掛けられるとともに、その表面に研磨材が固着された
無端状の研磨ベルトと、 封止用樹脂が印刷された基板を固定するためのテーブル
と、 前記研磨ベルトと前記テーブルとを相対的に移動させる
ための駆動手段と、 前記テーブルの上面において開口する吸引孔を介して真
空引きを行う真空引き手段と、 前記基板と前記テーブルとの間に配置されるとともに、
少なくとも電子部品搭載領域の下部と前記吸引孔との間
を連通させる連通孔を有する板状治具とを備えた封止用
樹脂を研削するための平面研削装置。
2. An endless polishing belt which is wound between a driving roller and a contact roller and has an abrasive adhered to its surface, and a table for fixing a substrate on which a sealing resin is printed. A driving means for moving the polishing belt and the table relative to each other, a vacuuming means for performing a vacuuming via a suction hole opened on the upper surface of the table, and a space between the substrate and the table. Is located at
A surface grinding device for grinding a sealing resin, which is provided with at least a lower portion of an electronic component mounting area and a plate-shaped jig having a communication hole for communicating the suction hole.
【請求項3】少なくとも前記テーブルの上面を鉄製と
し、前記板状治具を可撓性を有するマグネットシートと
した請求項2に記載の封止用樹脂を研削するための平面
研削装置。
3. A surface grinding apparatus for grinding a sealing resin according to claim 2, wherein at least an upper surface of the table is made of iron and the plate-shaped jig is a magnet sheet having flexibility.
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