JPH08225965A - 艶消しアルミニウム材料及びその製造方法 - Google Patents
艶消しアルミニウム材料及びその製造方法Info
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- JPH08225965A JPH08225965A JP5320695A JP5320695A JPH08225965A JP H08225965 A JPH08225965 A JP H08225965A JP 5320695 A JP5320695 A JP 5320695A JP 5320695 A JP5320695 A JP 5320695A JP H08225965 A JPH08225965 A JP H08225965A
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- dimples
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 入射角が６０度のときの反射率が３０％以下
である艶消しアルミニウム材を提供する。 【構成】 この艶消しアルミニウム材料は、粒径が５μ
ｍ以下で体積率が１．４〜５％に調製された第２相粒子
を含み、アルカリエッチングによって直径が０．１〜１
００μｍの範囲にあるディンプルが形成された表面をも
ち、ディンプルの平均半径ｒ（μｍ）に対する平均深さ
ｄ（μｍ）のアスペクト比ｒ／ｄが０．６以上、平坦部
の残存面積率αが０〜３０％であり、入射角６０度での
反射率Ｒが３０％以下である。 【効果】 少ないエッチング減量でも、優れた所望の艶
消し面が得られる。
である艶消しアルミニウム材を提供する。 【構成】 この艶消しアルミニウム材料は、粒径が５μ
ｍ以下で体積率が１．４〜５％に調製された第２相粒子
を含み、アルカリエッチングによって直径が０．１〜１
００μｍの範囲にあるディンプルが形成された表面をも
ち、ディンプルの平均半径ｒ（μｍ）に対する平均深さ
ｄ（μｍ）のアスペクト比ｒ／ｄが０．６以上、平坦部
の残存面積率αが０〜３０％であり、入射角６０度での
反射率Ｒが３０％以下である。 【効果】 少ないエッチング減量でも、優れた所望の艶
消し面が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、建材パネル，化粧品容
器，装飾品，日用品等に使用される艶消しアルミニウム
材料及びその製造方法に関する。
器，装飾品，日用品等に使用される艶消しアルミニウム
材料及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】アルミニウム材料は、バレル研磨，液体
ホーニング，電解研磨，ベルトサンダー等によって粗面
化され、金属光沢が望ましくない用途に艶消し材料とし
て使用される。粗面化されたアルミ表面は、塗料や皮膜
に対しても優れた密着性を付与する要因となる。なかで
も、アルカリエッチング液を使用したエッチングは、生
産コスト上で有利であり、脱脂処理の延長線上で可能で
あることから、多用されている艶消し法である。なお、
艶消し材といわれるものは、通常、入射角６０度での反
射率が３０％以下になっている。
ホーニング，電解研磨，ベルトサンダー等によって粗面
化され、金属光沢が望ましくない用途に艶消し材料とし
て使用される。粗面化されたアルミ表面は、塗料や皮膜
に対しても優れた密着性を付与する要因となる。なかで
も、アルカリエッチング液を使用したエッチングは、生
産コスト上で有利であり、脱脂処理の延長線上で可能で
あることから、多用されている艶消し法である。なお、
艶消し材といわれるものは、通常、入射角６０度での反
射率が３０％以下になっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のアルカ
リエッチングでは、安定的に艶消し面を得るために多量
のエッチングをする必要があるものと考えられている。
そのため、エッチング浴の寿命が短く、多量の廃液処理
が必要とされる。また、被処理材の履歴等によってエッ
チング条件を調整する必要もあった。本発明は、このよ
うな問題を解消すべく案出されたものであり、エッチン
グによってアルミ表面に形成されるディンプルを定量的
にコントロールすることにより、アルカリエッチングの
エッチング量を少なくしても十分に艶消し去れたアルミ
ニウム表面を得ることを目的とする。
リエッチングでは、安定的に艶消し面を得るために多量
のエッチングをする必要があるものと考えられている。
そのため、エッチング浴の寿命が短く、多量の廃液処理
が必要とされる。また、被処理材の履歴等によってエッ
チング条件を調整する必要もあった。本発明は、このよ
うな問題を解消すべく案出されたものであり、エッチン
グによってアルミ表面に形成されるディンプルを定量的
にコントロールすることにより、アルカリエッチングの
エッチング量を少なくしても十分に艶消し去れたアルミ
ニウム表面を得ることを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の艶消しアルミニ
ウム材料は、その目的を達成するため、粒径が５μｍ以
下で体積率が１．４〜５％に調製された第２相粒子を含
み、アルカリエッチングによって直径が０．１〜１００
μｍの範囲にあるディンプルが形成された表面をもち、
ディンプルの平均深さｄ（μｍ）に対する平均半径ｒ
（μｍ）のアスペクト比ｄ／ｒが０．６以上、平坦部の
残存面積率αが０〜３０％であり、入射角６０度での反
射率Ｒが３０％以下であることを特徴とする（図２参
照）。エッチング処理されるアルミニウム材料として
は、材質的には、たとえばＪＩＳ Ｈ４０００規格にお
けるＡ１０７０，Ａ１０８０，Ａ１１００，Ａ１２００
等の純アルミ系，Ａ５０５１，Ａ５１５４，Ａ５Ｎ０１
等のＡｌ−Ｍｇ系合金，Ａ６０６３等のＡｌ−Ｍｇ−Ｓ
ｉ系合金，Ａ３００３，Ａ３００５等のＡｌ−Ｍｎ系合
金，Ａ４０４３等のＡｌ−Ｓｉ系合金がある。或いは、
これらのアルミニウム材を表面層とする合せ材も同様に
適用される。
ウム材料は、その目的を達成するため、粒径が５μｍ以
下で体積率が１．４〜５％に調製された第２相粒子を含
み、アルカリエッチングによって直径が０．１〜１００
μｍの範囲にあるディンプルが形成された表面をもち、
ディンプルの平均深さｄ（μｍ）に対する平均半径ｒ
（μｍ）のアスペクト比ｄ／ｒが０．６以上、平坦部の
残存面積率αが０〜３０％であり、入射角６０度での反
射率Ｒが３０％以下であることを特徴とする（図２参
照）。エッチング処理されるアルミニウム材料として
は、材質的には、たとえばＪＩＳ Ｈ４０００規格にお
けるＡ１０７０，Ａ１０８０，Ａ１１００，Ａ１２００
等の純アルミ系，Ａ５０５１，Ａ５１５４，Ａ５Ｎ０１
等のＡｌ−Ｍｇ系合金，Ａ６０６３等のＡｌ−Ｍｇ−Ｓ
ｉ系合金，Ａ３００３，Ａ３００５等のＡｌ−Ｍｎ系合
金，Ａ４０４３等のＡｌ−Ｓｉ系合金がある。或いは、
これらのアルミニウム材を表面層とする合せ材も同様に
適用される。
【０００５】
【作用】本発明者等は、アルカリエッチング量と反射率
との関係を、種々の材料を使用して研究した。その結
果、特定されたアルミニウム材では、あるエッチング量
以上でアルカリエッチングしても、被処理材の艶消し状
態が変化しないことを見い出した。艶消し状態、換言す
れば反射率が変化しない原因は、エッチングされたアル
ミニウム材料の表面状態にあるものと推察される。すな
わち、ディンプルが形成されたアルミニウム材料表面に
入射した光は、残存平坦部及びディンプル底面で反射さ
れる。アルミニウム材料の表面から一定の角度で反射さ
れる光量の入射光量に対する比率が反射率であることか
ら、反射光の光量を少なくするためには、残存平坦部及
びディンプル底面での相関的な反射が問題となる。
との関係を、種々の材料を使用して研究した。その結
果、特定されたアルミニウム材では、あるエッチング量
以上でアルカリエッチングしても、被処理材の艶消し状
態が変化しないことを見い出した。艶消し状態、換言す
れば反射率が変化しない原因は、エッチングされたアル
ミニウム材料の表面状態にあるものと推察される。すな
わち、ディンプルが形成されたアルミニウム材料表面に
入射した光は、残存平坦部及びディンプル底面で反射さ
れる。アルミニウム材料の表面から一定の角度で反射さ
れる光量の入射光量に対する比率が反射率であることか
ら、反射光の光量を少なくするためには、残存平坦部及
びディンプル底面での相関的な反射が問題となる。
【０００６】このような前提で、アルカリエッチングさ
れたアルミニウム材料の材料組成ごとの表面解析をする
と共に、表面状態と反射率との関係を調査した。処理材
料として、第２相粒子の粒径が５μｍ以下であり、その
体積率が１．４〜５％に調製されているアルミニウム材
を使用するとき、アルカリエッチングによって艶消し面
が安定的に得られることが判った。更に、アルカリエッ
チングによって形成されたディンプルの直径が０．１〜
１００μｍの範囲にあり、ディンプルの平均深さｄ（μ
ｍ）に対する平均半径ｒ（μｍ）のアスペクト比ｄ／ｒ
が０．６以上、平坦部の残存面積率αが０〜３０％であ
るとき、入射角６０度での反射率Ｒが３０％以下となる
艶消し面が得られることを解明した。なかでも、アスペ
クト比は、反射率に大きな影響を与えるファクターであ
り、これによってエッチングされた表面での乱反射が促
される。このアスペクト比の規制と平坦部の残存面積率
αを３０％以下に抑えることが相俟つて、たとえば１０
μｍ程度の比較的少ないエッチング量でも、反射率が３
０％以下の艶消し面が安定して得られる。そのため、被
処理材の品質から製造容易な関係にある形状のディンプ
ル及び平坦部残存面積率を選定することにより、目標と
する艶消しアルミニウム材料が得られるため、処理時間
の短縮が図られ、生産管理も容易になる。更に、たとえ
ば後加工で不良品化したものに前述の範囲内に止まるレ
ベルで再度のエッチングを施しても艶消し状態に変化が
なく、歩留まりが向上する。この点、従来のエッチング
による艶消しでは、艶消しの程度が定量的に把握されて
いないため、得てして過剰なエッチング量でアルミニウ
ム表面をエッチングしており、多量のエッチング液が必
要とされると共に生産性の低いものであった。
れたアルミニウム材料の材料組成ごとの表面解析をする
と共に、表面状態と反射率との関係を調査した。処理材
料として、第２相粒子の粒径が５μｍ以下であり、その
体積率が１．４〜５％に調製されているアルミニウム材
を使用するとき、アルカリエッチングによって艶消し面
が安定的に得られることが判った。更に、アルカリエッ
チングによって形成されたディンプルの直径が０．１〜
１００μｍの範囲にあり、ディンプルの平均深さｄ（μ
ｍ）に対する平均半径ｒ（μｍ）のアスペクト比ｄ／ｒ
が０．６以上、平坦部の残存面積率αが０〜３０％であ
るとき、入射角６０度での反射率Ｒが３０％以下となる
艶消し面が得られることを解明した。なかでも、アスペ
クト比は、反射率に大きな影響を与えるファクターであ
り、これによってエッチングされた表面での乱反射が促
される。このアスペクト比の規制と平坦部の残存面積率
αを３０％以下に抑えることが相俟つて、たとえば１０
μｍ程度の比較的少ないエッチング量でも、反射率が３
０％以下の艶消し面が安定して得られる。そのため、被
処理材の品質から製造容易な関係にある形状のディンプ
ル及び平坦部残存面積率を選定することにより、目標と
する艶消しアルミニウム材料が得られるため、処理時間
の短縮が図られ、生産管理も容易になる。更に、たとえ
ば後加工で不良品化したものに前述の範囲内に止まるレ
ベルで再度のエッチングを施しても艶消し状態に変化が
なく、歩留まりが向上する。この点、従来のエッチング
による艶消しでは、艶消しの程度が定量的に把握されて
いないため、得てして過剰なエッチング量でアルミニウ
ム表面をエッチングしており、多量のエッチング液が必
要とされると共に生産性の低いものであった。
【０００７】使用可能なアルカリエッチング水溶液は、
特にその種類が拘束されるものではないが、ＮａＯＨ，
Ｎａ3 ＰＯ4 ，ＫＯＨ等があり、必要に応じてグルコン
酸ナトリウム，硝酸ナトリウム等の助剤が添加される。
たとえば、ＮａＯＨ系のエッチング液を使用する場合、
濃度を１〜１００ｇ／ｌ（好ましくは３〜１０ｇ／ｌ）
に調整し、室温〜９０℃（好ましくは４０〜６０℃）の
浴温で２０分以下（好ましくは２〜１５分）の時間浸漬
する。また、スケールの発生を防止するために０．５〜
５ｇ／ｌのグルコン酸ナトリウム，エッチング速度を上
げるために５〜５０ｇ／ｌの硝酸ナトリウムや１〜１０
ｇ／ｌのフッ化ナトリウム等を必要に応じて添加する。
エッチングにより形成されるディンプルは、種々の大き
さのものが混在するにしても、直径が０．１〜１００μ
ｍの範囲にあり、好ましくは平均値で１〜５０μｍの範
囲にある。直径が０．１μｍに満たないディンプルは、
艶消しに与える影響が小さく、無視される。しかし、１
００μｍを超える大きな直径のディンプルでは、肉眼で
判別され、表面欠陥のあるものとして扱われる。
特にその種類が拘束されるものではないが、ＮａＯＨ，
Ｎａ3 ＰＯ4 ，ＫＯＨ等があり、必要に応じてグルコン
酸ナトリウム，硝酸ナトリウム等の助剤が添加される。
たとえば、ＮａＯＨ系のエッチング液を使用する場合、
濃度を１〜１００ｇ／ｌ（好ましくは３〜１０ｇ／ｌ）
に調整し、室温〜９０℃（好ましくは４０〜６０℃）の
浴温で２０分以下（好ましくは２〜１５分）の時間浸漬
する。また、スケールの発生を防止するために０．５〜
５ｇ／ｌのグルコン酸ナトリウム，エッチング速度を上
げるために５〜５０ｇ／ｌの硝酸ナトリウムや１〜１０
ｇ／ｌのフッ化ナトリウム等を必要に応じて添加する。
エッチングにより形成されるディンプルは、種々の大き
さのものが混在するにしても、直径が０．１〜１００μ
ｍの範囲にあり、好ましくは平均値で１〜５０μｍの範
囲にある。直径が０．１μｍに満たないディンプルは、
艶消しに与える影響が小さく、無視される。しかし、１
００μｍを超える大きな直径のディンプルでは、肉眼で
判別され、表面欠陥のあるものとして扱われる。
【０００８】ディンプルの深さｄは、１〜３０μｍの範
囲が好ましい。深さが３０μｍを超えるディンプルで
は、表面欠陥のあるものとして扱われる。他方、１μｍ
に達しない浅いディンプルでは、艶消しに与える影響が
少ない。更に、ディンプルのアスペクト比ｄ／ｒが０．
６以上の関係が成立することが必要であり、アスペクト
比ｄ／ｒの上限は２程度である。アスペクト比ｄ／ｒが
０．６に満たないディンプルでは、ディンプル底面での
反射に起因した反射率の上昇がみられ、ディンプルによ
る艶消し効果が小さくなる。平坦部の残存面積率αは、
大きいほど高い反射率を示すことから、所定の艶消し面
を得るためには３０％以下に抑える必要がある。第２相
粒子の体積率，ディンプル，残存平坦部等は、光学顕微
鏡，ＳＥＭ，レーザ顕微鏡等によって観察され、観察結
果を画像処理することによりディンプルの深さｄ，半径
ｒ，残存平坦部の面積率α等が求められる。特に、三次
元方向の情報を得る手段としては、レーザ顕微鏡が好ま
しい。
囲が好ましい。深さが３０μｍを超えるディンプルで
は、表面欠陥のあるものとして扱われる。他方、１μｍ
に達しない浅いディンプルでは、艶消しに与える影響が
少ない。更に、ディンプルのアスペクト比ｄ／ｒが０．
６以上の関係が成立することが必要であり、アスペクト
比ｄ／ｒの上限は２程度である。アスペクト比ｄ／ｒが
０．６に満たないディンプルでは、ディンプル底面での
反射に起因した反射率の上昇がみられ、ディンプルによ
る艶消し効果が小さくなる。平坦部の残存面積率αは、
大きいほど高い反射率を示すことから、所定の艶消し面
を得るためには３０％以下に抑える必要がある。第２相
粒子の体積率，ディンプル，残存平坦部等は、光学顕微
鏡，ＳＥＭ，レーザ顕微鏡等によって観察され、観察結
果を画像処理することによりディンプルの深さｄ，半径
ｒ，残存平坦部の面積率α等が求められる。特に、三次
元方向の情報を得る手段としては、レーザ顕微鏡が好ま
しい。
【０００９】また、エッチング時に、ディンプルは、第
２相粒子を起点として形成される。この点、第２相粒子
の分散状態は、エッチングにより形成されるディンプル
の分布，大きさ等に重要な影響を及ぼす。本発明者等の
研究によるとき、粒径５μｍ以下の第２相粒子が体積率
１．４〜５％以下で分散しているとき、良好な艶消し面
が安定的に得られることが判った。第２相粒子として
は、Ａｌ3 Ｆｅ，Ａｌ6Ｆｅ，α−ＡｌＦｅＳｉ，β−
ＡｌＦｅＳｉ，α−ＡｌＦｅＭＳｉ（Ｍ＝Ｃｕ，Ｍｎ，
Ｃｒ），Ａｌ2 Ｃｕ，Ｍｇ2 Ｓｉ，Ａｌn Ｍｎ，ＴｉＡ
ｌ，Ｓｉ等があり、マトリックスよりも貴又は卑の何れ
であっても良く、マトリックス中に均一に分散している
ことが好ましい。このような組織状態は、通常のもので
あればマトリックス全体が均一な組織として製造される
ので問題ないが、製法によって第２相粒子の肉厚方向に
関する分布がみられるような場合には、エッチング前の
表面から少なくとも５０〜１００μｍ程度の深さまで保
持されたものであることが好ましい。上記条件を満足す
るアルミニウム材料は、常法に従った成分調整，圧延加
工条件，熱処理条件等を調整することによって得られ
る。
２相粒子を起点として形成される。この点、第２相粒子
の分散状態は、エッチングにより形成されるディンプル
の分布，大きさ等に重要な影響を及ぼす。本発明者等の
研究によるとき、粒径５μｍ以下の第２相粒子が体積率
１．４〜５％以下で分散しているとき、良好な艶消し面
が安定的に得られることが判った。第２相粒子として
は、Ａｌ3 Ｆｅ，Ａｌ6Ｆｅ，α−ＡｌＦｅＳｉ，β−
ＡｌＦｅＳｉ，α−ＡｌＦｅＭＳｉ（Ｍ＝Ｃｕ，Ｍｎ，
Ｃｒ），Ａｌ2 Ｃｕ，Ｍｇ2 Ｓｉ，Ａｌn Ｍｎ，ＴｉＡ
ｌ，Ｓｉ等があり、マトリックスよりも貴又は卑の何れ
であっても良く、マトリックス中に均一に分散している
ことが好ましい。このような組織状態は、通常のもので
あればマトリックス全体が均一な組織として製造される
ので問題ないが、製法によって第２相粒子の肉厚方向に
関する分布がみられるような場合には、エッチング前の
表面から少なくとも５０〜１００μｍ程度の深さまで保
持されたものであることが好ましい。上記条件を満足す
るアルミニウム材料は、常法に従った成分調整，圧延加
工条件，熱処理条件等を調整することによって得られ
る。
【００１０】第２相粒子の粒径が５μｍを超えると、第
２相粒子又は第２相粒子近傍が優先的にエッチングされ
る結果、浅く大きなディンプルが発生する。そのため、
均一な艶消し面が得られ難く、ディンプル底面からの反
射光量が多くなり、反射率の低下が進行しない。好まし
くは、０．５〜３μｍ程度の粒径が実用的である。ま
た、第２相粒子の体積率が１．４％に満たないと、平坦
部の残存面積率αが大きくなる傾向を示し、第２相粒子
の分散による艶消し状態の改善に及ぼす第２相粒子の影
響が小さい。逆に、５％を超える体積率では、艶消しに
有効な均一分散し且つ均一大きさのディンプル形状が得
られ難くなる。実用的には、体積率１．５〜３％で分布
していることが好ましい。艶消しされたアルミニウム材
料は、エッチング後、中和及び脱スマット処理される。
中和及び脱スマット処理には、１０〜４０重量％硝酸
液，１００〜２００ｇ／ｌ硫酸液等を使用した通常の方
法が採用される。その後、必要に応じて硫酸，蓚酸，硼
酸等の陽極酸化電解浴を使用した陽極酸化処理或いはク
リアー塗装等により、目的に応じた皮膜が形成される。
なお、後処理加工で艶消し状態、すなわち反射率が変化
する場合、予めその分を加味したエッチング条件を選定
することが必要である。
２相粒子又は第２相粒子近傍が優先的にエッチングされ
る結果、浅く大きなディンプルが発生する。そのため、
均一な艶消し面が得られ難く、ディンプル底面からの反
射光量が多くなり、反射率の低下が進行しない。好まし
くは、０．５〜３μｍ程度の粒径が実用的である。ま
た、第２相粒子の体積率が１．４％に満たないと、平坦
部の残存面積率αが大きくなる傾向を示し、第２相粒子
の分散による艶消し状態の改善に及ぼす第２相粒子の影
響が小さい。逆に、５％を超える体積率では、艶消しに
有効な均一分散し且つ均一大きさのディンプル形状が得
られ難くなる。実用的には、体積率１．５〜３％で分布
していることが好ましい。艶消しされたアルミニウム材
料は、エッチング後、中和及び脱スマット処理される。
中和及び脱スマット処理には、１０〜４０重量％硝酸
液，１００〜２００ｇ／ｌ硫酸液等を使用した通常の方
法が採用される。その後、必要に応じて硫酸，蓚酸，硼
酸等の陽極酸化電解浴を使用した陽極酸化処理或いはク
リアー塗装等により、目的に応じた皮膜が形成される。
なお、後処理加工で艶消し状態、すなわち反射率が変化
する場合、予めその分を加味したエッチング条件を選定
することが必要である。
【００１１】
実施例１：表１に示した組成を持つアルミニウム合金を
１６０ｍｍ×１５０ｍｍ×３０ｍｍの鋳塊に鋳造し、片
面当り５ｍｍの面削を両面に施して２０ｍｍの厚みにし
た。面削後の鋳塊に、６００℃×１時間の均質化処理を
施し、厚さ１ｍｍに冷間圧延した。得られた冷延板を６
４０℃で８０時間焼鈍し、焼鈍材を得た。焼鈍材の第２
相粒子を測定したところ、平均粒子径が０．５μｍ，体
積率が２％であった。
１６０ｍｍ×１５０ｍｍ×３０ｍｍの鋳塊に鋳造し、片
面当り５ｍｍの面削を両面に施して２０ｍｍの厚みにし
た。面削後の鋳塊に、６００℃×１時間の均質化処理を
施し、厚さ１ｍｍに冷間圧延した。得られた冷延板を６
４０℃で８０時間焼鈍し、焼鈍材を得た。焼鈍材の第２
相粒子を測定したところ、平均粒子径が０．５μｍ，体
積率が２％であった。
【００１２】
【表１】
【００１３】浴温５０℃の５重量％ＮａＯＨ水溶液に焼
鈍材を浸漬し、ディンプル形状が平均半径１μｍ，深さ
０．６μｍでアスペクト比ｄ／ｒ＝０．６、平坦部の残
存面積率αが１．５％になるまでエッチングした。この
ときのエッチング減量は、５μｍであった。エッチング
後の処理材は、反射率が１５％であった。また、これ以
上エッチングを継続しても、図１に示すように反射率は
ほぼ同じレベルに止まっていた。
鈍材を浸漬し、ディンプル形状が平均半径１μｍ，深さ
０．６μｍでアスペクト比ｄ／ｒ＝０．６、平坦部の残
存面積率αが１．５％になるまでエッチングした。この
ときのエッチング減量は、５μｍであった。エッチング
後の処理材は、反射率が１５％であった。また、これ以
上エッチングを継続しても、図１に示すように反射率は
ほぼ同じレベルに止まっていた。
【００１４】比較例１：実施例１と同じアルミニウム材
料を使用し、熱処理条件を調整することにより、第２相
粒子の平均粒子径を０．８μｍ及び体積率を０．７％に
調整した。この熱処理材を実施例１と同じエッチング液
を使用してエッチング減量が５μｍとなるまでエッチン
グした。得られた処理材の反射率は５０％で、このとき
のディンプル形状は平均半径ｒが０．４μｍ，深さｄが
１μｍ、アスペクト比ｄ／ｒが０．４で、平坦部の残存
面積率αが５０％であった。反射率を下げるためには、
図１に示すように更に長時間のエッチングが必要とされ
た。 比較例２：比較例１と同じアルミニウム材料を用い、エ
ッチング処理時間を変えることによりディンプル形状が
アスペクト比ｄ／ｒ＝０．６になるまでエッチングし
た。得られた処理材の反射率は３７％で、このときのデ
ィンプル形状は平均半径ｒが１．７μｍ，深さｄが１μ
ｍ，平坦部の残存面積率αが４０％であった。
料を使用し、熱処理条件を調整することにより、第２相
粒子の平均粒子径を０．８μｍ及び体積率を０．７％に
調整した。この熱処理材を実施例１と同じエッチング液
を使用してエッチング減量が５μｍとなるまでエッチン
グした。得られた処理材の反射率は５０％で、このとき
のディンプル形状は平均半径ｒが０．４μｍ，深さｄが
１μｍ、アスペクト比ｄ／ｒが０．４で、平坦部の残存
面積率αが５０％であった。反射率を下げるためには、
図１に示すように更に長時間のエッチングが必要とされ
た。 比較例２：比較例１と同じアルミニウム材料を用い、エ
ッチング処理時間を変えることによりディンプル形状が
アスペクト比ｄ／ｒ＝０．６になるまでエッチングし
た。得られた処理材の反射率は３７％で、このときのデ
ィンプル形状は平均半径ｒが１．７μｍ，深さｄが１μ
ｍ，平坦部の残存面積率αが４０％であった。
【００１５】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明において
は、第２相粒子が特定条件下にあるアルミニウム材のア
ルカリエッチングによって材料表面に形成されるディン
プルの深さや半径を平坦部の残存面積率との関係で規定
することにより、比較的短時間の処理で反射率の低い艶
消し材が安定して得られる。また、ディンプルの深さや
半径を平坦部の残存面積率との関係は、過剰にエッチン
グする必要を無くし、被処理材の必要厚さの軽減やエッ
チング液単位使用量当りの処理量の増加が達成され、生
産性及び再現性良く艶消し材を得るために必要なエッチ
ング条件の設定に使用される。更に、前述したディンプ
ル条件が満足される範囲内であれば、エッチング処理を
複数回繰り返しても、所期の艶消し状態を持つ処理材が
得られる。そのため、後処理加工で不良品化したもので
あっても、再エッチングによって後処理による皮膜の脱
膜処理をして再度後処理加工に供することができるよう
になるので、プロセス全体における歩留りが向上する。
このようにして、艶消し処理されたアルミニウム材は、
建材パネル，化粧品容器，装飾品，日用品等の用途に使
用される。
は、第２相粒子が特定条件下にあるアルミニウム材のア
ルカリエッチングによって材料表面に形成されるディン
プルの深さや半径を平坦部の残存面積率との関係で規定
することにより、比較的短時間の処理で反射率の低い艶
消し材が安定して得られる。また、ディンプルの深さや
半径を平坦部の残存面積率との関係は、過剰にエッチン
グする必要を無くし、被処理材の必要厚さの軽減やエッ
チング液単位使用量当りの処理量の増加が達成され、生
産性及び再現性良く艶消し材を得るために必要なエッチ
ング条件の設定に使用される。更に、前述したディンプ
ル条件が満足される範囲内であれば、エッチング処理を
複数回繰り返しても、所期の艶消し状態を持つ処理材が
得られる。そのため、後処理加工で不良品化したもので
あっても、再エッチングによって後処理による皮膜の脱
膜処理をして再度後処理加工に供することができるよう
になるので、プロセス全体における歩留りが向上する。
このようにして、艶消し処理されたアルミニウム材は、
建材パネル，化粧品容器，装飾品，日用品等の用途に使
用される。
【図１】 各試験片のエッチング減量に応じた反射率の
変化を示すグラフ
変化を示すグラフ
【図２】 アルミニウム材の表面にアルカリエッチング
によって形成されたディンプルの模式図
によって形成されたディンプルの模式図
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年４月５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西川 泰久 静岡県庵原郡蒲原町蒲原１丁目34番１号 株式会社日軽技研内
Claims (2)
- 【請求項１】 粒径が５μｍ以下で体積率が１．４〜５
％に調製された第２相粒子を含み、アルカリエッチング
によって直径が０．１〜１００μｍの範囲にあるディン
プルが形成された表面をもち、該ディンプルの平均深さ
ｄ（μｍ）に対する平均半径ｒ（μｍ）のアスペクト比
ｄ／ｒが０．６以上、平坦部の残存面積率αが０〜３０
％であり、入射角６０度での反射率Ｒが３０％以下であ
る艶消しアルミニウム材料。 - 【請求項２】 粒径が５μｍ以下で体積率が１．４〜５
％に調製された第２相粒子を含むアルミニウム材料をア
ルカリエッチングで粗面化する際、エッチングによって
形成されるディンプルを直径０．１〜１００μｍとし、
ディンプルの平均深さｄ（μｍ）に対する平均半径ｒ
（μｍ）のアスペクト比ｄ／ｒが０．６以上、平坦部の
残存面積率αが０〜３０％となるようにエッチング条件
を定めることを特徴とする艶消しアルミニウム材料の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5320695A JPH08225965A (ja) | 1995-02-17 | 1995-02-17 | 艶消しアルミニウム材料及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5320695A JPH08225965A (ja) | 1995-02-17 | 1995-02-17 | 艶消しアルミニウム材料及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08225965A true JPH08225965A (ja) | 1996-09-03 |
Family
ID=12936399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5320695A Pending JPH08225965A (ja) | 1995-02-17 | 1995-02-17 | 艶消しアルミニウム材料及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08225965A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005213647A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Kokyo Kagi Kofun Yugenkoshi | 光反射パターンの形成方法及び光反射パターン付き製品 |
-
1995
- 1995-02-17 JP JP5320695A patent/JPH08225965A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005213647A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Kokyo Kagi Kofun Yugenkoshi | 光反射パターンの形成方法及び光反射パターン付き製品 |
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