JPH08217789A - 5,7−ジエンステロイド化合物の効率的製造法 - Google Patents

5,7−ジエンステロイド化合物の効率的製造法

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JPH08217789A
JPH08217789A JP7127135A JP12713595A JPH08217789A JP H08217789 A JPH08217789 A JP H08217789A JP 7127135 A JP7127135 A JP 7127135A JP 12713595 A JP12713595 A JP 12713595A JP H08217789 A JPH08217789 A JP H08217789A
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範隆 半間
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 活性型ビタミンD化合物の重要中間体である
1,5,7−トリエン−3−オン化合物の効率的な製造
法を提供する。 【構成】 例えば下式に示すように式(1b)で表され
る化合物をジメチスルホキシド/メタノール混合溶媒中
ナトリウムメトキシド存在下で反応させて式(2b)で
表される化合物を製造する方法。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ビタミンD3 誘導体の
製造における重要中間体である1,5,7−トリエン−
3−オン化合物を製造する方法に関する。本発明の最終
目的化合物である活性型ビタミンD3 誘導体は優れた薬
理作用、すなわち有用なビタミンD様の生理作用を有
し、カルシウムの吸収、輸送あるいは代謝異常に起因す
る種々の疾患、例えばくる病、骨軟化症、骨粗しょう症
などの骨の疾患に対する治療もしくは予防薬として有用
であるばかりでなく、腫瘍細胞、たとえば骨髄性白血病
細胞に対してその増殖を抑制し、かつ正常細胞への分化
誘導能を有し、抗腫瘍剤として有用である(公開特許公
報昭和63年第45249号)。
【0002】
【従来の技術】ビタミンD3 誘導体の合成法は数多くあ
るが、例えば下式のようなステロイド誘導体を光開環反
応で導く方法などがある。(J.Chem.Soc.,
Perkin I,1979年,1695頁.、Tet
rahedron,30巻,2701頁)
【化3】
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この合
成ルート中、1,4,6−トリエン−3−オン化合物か
ら1,5,7−トリエン−3−オン化合物に異性化する
工程は収率が低いことが知られており(40〜50
%)、その改善が望まれている。
【化4】 また、後処理時に反応液を0〜5℃に冷却した酢酸水溶
液に注入することにより収率を向上することに成功して
いるが40〜50%の収率を越えるものではない(J.
Chem.Soc.Perkin I,1695頁(1
979))。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するため、1,4,6−トリエン−3−オン化
合物から1,5,7−トリエン−3−オン化合物に異性
化する反応について種々条件検討を重ねた。その結果、
非プロトン性溶媒とアルコールの混合溶媒中、金属アル
コキシドと反応させることにより、1,4,6−トリエ
ン−3−オン化合物を収率よく異性化できることを見い
出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は一般式
(1)
【化5】 (式中、R1 は、メチル基またはトリフルオロメチル基
を表し、R2 は、R1 がメチル基のときは水素原子また
は保護されていてもよい水酸基を表し、R1 がトリフル
オロメチル基のときは保護されていてもよい水酸基を表
す)で表される化合物を非プロトン性溶媒とアルコール
の混合溶媒中、金属アルコキシド存在下で処理して、一
般式(2)
【化6】 (式中、R1 およびR2 は前記と同じ意味を表す)で表
される化合物を製造する方法に関する。
【0005】本発明に於ける官能基を説明する。水酸基
の保護基としては、本方法の反応条件に使用しうるもの
であればいかなるものでも使用できる。またその導入、
除去方法は当業者に周知の方法でおこなえる(例えば、
Protective Groups in Orga
nicSynthesis、John−Wiley S
ons、New York、10−86頁(1981)
に記載)が、酸またはアルカリ加水分解により除去され
る保護基、なかでも置換シリル基、メチル基、置換メチ
ル基、2−テトラヒドロピラニル基、アシル基等を挙げ
ることができる。置換シリル基としては、低級アルキル
基やアリール基で三置換されたシリル基が挙げられ、低
級アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、t−ブチル等の炭素原子数6個以下のアルキ
ル基が、アリール基としてはフェニル等の炭素原子数1
0個以下のアリール基が挙げられる。置換シリル基の具
体的な例としてはトリメチルシリル基、トリエチルシリ
ル基、トリイソプロピルシリル基、ジメチルイソプロピ
ルシリル基、ジエチルイソプロピルシリル基、t−ブチ
ルジメチルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、t−
ブチルジフェニルシリル基などを挙げることができ、こ
れらは公知の方法で導入できる。置換メチル基における
置換基としてはアルコキシ基、アルキルチオ基、アラル
キルオキシ基、アルコキシアルコキシ基等が挙げられ、
これら置換基のアルキル部分としてはメチル、エチル等
の炭素原子数4個以下のアルキル基が、アリール部分と
してはフェニル等の炭素数10個以下のアリール基が挙
げられる。置換メチル基の具体的な例としては、メトキ
シメチル基、メチルチオメチル基、ベンジルオキシメチ
ル基、メトキシエトキシメチル基などを挙げることがで
きる。アシル基としては低級アルカノイル基やアロイル
基が挙げられ、低級アルカノイル基としてはモノクロロ
アセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、ト
リフルオロアセチル等の1〜3個のハロゲン原子(フッ
素、塩素、臭素、沃素など)で置換された炭素数が3個
以下のアルカノイル基や、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、ピバロイル等のアルキル部分の
炭素原子数が6個以下のアルカノイル基が、アロイル基
としてはベンゾイル等のアリール部分の炭素原子数が1
0個以下のアロイル基が挙げられる。好適な保護基とし
て例えばトリイソプロピルシリル基、t−ブチルジメチ
ルシリル基あるいはジフェニルメチルシリル基などの置
換シリル基を挙げることができる。
【0006】次に、本発明の製造方法を以下詳細に説明
する。溶媒としては、非プロトン性溶媒、好ましくはジ
メチルスルホキシドと、メタノール、エタノール、n−
プロパノール、イソプロパノール、tert−ブタノー
ル等の炭素原子数4個以下のアルコール、好ましくはメ
タノールの、非プロトン性溶媒/アルコール体積比で9
9/1〜50/50、好ましくは95/5〜60/4
0、さらに好ましくは91/9〜89/11の混合溶媒
が挙げられる。この溶媒中にアルコールの金属塩、好ま
しくは溶媒として用いたアルコールの金属塩を、化合物
(1)に対し5〜30当量、好ましくは10〜20当量
加える方法等により金属アルコキシドの懸濁液を調製す
る。金属としてはナトリウム、カリウム等のアルカリ金
属が挙げられ、ナトリウムが好ましい。上記のようにし
て得られた金属アルコキシドの懸濁液に40℃〜沸点好
ましくは50〜60℃下化合物(1)のジメチルスルホ
キシド等の非プロトン溶媒に溶かした溶液を加える。化
合物(1)の溶液は長時間かけて加えると金属アルコキ
シドが分解していくので1度に注入するのが好ましい。
通常は10分〜20分同じ温度で攪拌した後、好ましく
は放冷等により室温に戻し、酸性の水溶液で反応をクエ
ンチすることにより実施できる。クエンチの方法として
は、1℃〜10℃、好ましくは3℃〜10℃、より好ま
しくは3℃〜5℃の酸性の水溶液に反応液を注入する方
法が好ましく、酸性の水溶液としては5〜30%、好ま
しくは10〜20%の酢酸水溶液が挙げられる。
【0007】本発明の製法の原料である化合物(1)の
うち、R1 がメチル基であり、R2が水酸基である化合
物(1a)は文献公知の方法を用いて合成することがで
きる(Chem.Pharm.Bull.,21,25
68頁(1973))。
【化7】 また、R1 がメチル基であり、R2 が水素原子である化
合物(1b)も文献公知の方法を用いて合成することが
できる(J.Chem.Soc.Chem.Com
n.,2568頁(1968))。
【化8】 また、R1 がトリフルオロメチル基であり、R2 が水酸
基である化合物(1c)も文献公知の方法を用いて合成
することができる(J.Chem.Soc.Chem.
Comn.,459頁(1980)、公開特許公報平成
3年第48903号)。
【化9】 (式中、Tsはパラトルエンスルホニル基を表す) 化合物(1c)を合成する別法として、次のような方法
もある。
【化10】 文献(例えばJ.Chem.Soc.Chem.Com
n.,459頁(1980))に記載されている化合物
(A)を炭素数が4つ以下のアルコールに溶解し、そこ
へp−トルエンスルホン酸等の有機酸または濃塩酸、濃
硫酸等の酸を加え反応させることにより化合物(B)を
合成することができる。例えば化合物(A)をメタノー
ルに溶解し、つぎに反応液中の濃度が1〜20%好まし
くは3〜5%の濃度になるように35%塩酸を加え、2
0℃〜沸点、好ましくは沸点まで加熱し1時間以上同じ
温度で反応させることにより化合物(B)を合成でき
る。つぎに、化合物(B)を例えばテトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒に溶解し、−
80℃〜−30℃望ましくは−60℃〜−50℃で液体
アンモニア溶液に加え、1〜10当量、好ましくは4〜
6当量の金属リチウムを加えて1時間以上同じ温度で反
応させることにより化合物(C)を合成することができ
る。さらに、化合物(C)を例えばジオキサンに溶解し
3〜6当量、好ましくは4〜5当量の2,3−ジクロロ
−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン(DDQ)
を加え90℃〜沸点、好ましくは100℃で反応させる
ことにより化合物(1c)を合成できる。
【0008】化合物(1)のうち、R2 が保護された水
酸基である化合物は、R2 が水酸基である化合物を水酸
基の保護において通常行われる一般的方法(例えば、P
rotective Groups in Organ
ic Synthesis,John−Wiley&S
ons,New York,14−137頁(199
1)に記載)に従って保護することにより合成できる。
例えば、置換シリル基で保護する方法としては、化合物
(1)のうちR2 が水酸基である化合物をDMF、ジメ
チルスルホキシド等の非プロトン性溶媒に溶解し、1〜
3当量のイミダゾール、トリエチルアミン等の塩基およ
び1〜2当量のR3aX(式中、R3aは置換シリル基を、
Xは塩素、臭素などのハロゲン原子を表す)を加え、反
応温度0℃〜沸点好ましくは20〜30℃で反応させる
方法が挙げられる。本反応においては、反応原料、生成
物共に酸に弱いので加える塩基の当量はR3aXの当量よ
りも大きくするのが好ましい。また、置換メチル基で保
護する方法としては、化合物(1)のうちR2 が水酸基
である化合物をジクロロメタン、ジメチルホルムアミド
等の非プロトン性溶媒中、1〜3当量のピリジン、トリ
エチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の塩基
と、1〜2当量のR3bX(式中、R3bは置換メチル基
を、Xは塩素、臭素などのハロゲン原子を表す)を加
え、反応温度0℃〜沸点好ましくは20〜30℃で反応
させる方法が挙げられる。本反応においては、反応原
料、生成物共に酸に弱いので加える塩基の当量はR3b
の当量よりも大きくするのが好ましい。2−テトラヒド
ロピラニル基で保護する方法として、化合物(1)のう
ちR2が水酸基である化合物をジクロロメタン、クロロ
ホルム等の塩素系の溶媒中、ジヒドロピランを1〜10
当量好ましくは2〜3当量加え、さらにp−トルエンス
ルホン酸を0.01〜0.5当量、好ましくは0.05
〜0.1当量加え、反応温度0℃〜沸点好ましくは20
〜30℃で反応させる方法が挙げられる。
【0009】本発明の製法で得られる、一般式(2)で
表わされる化合物から、例えば以下の方法で(+)−
(5Z,7E)−26,26,26,27,27,27
−ヘキサフルオロ−9,10−セココレスタ−5,7,
10(19)−トリエン−1α,3β,25−トリオー
ルを合成することができる(J.Chem.Soc.P
erkin I,1695頁(1979)参照)。
【化11】 (式中、R3 は水酸基の保護基を表し、Wは2価の芳香
族炭素環式基例えば1,2−フェニレン基または基=N
−R9 (式中、R9 は例えばフェニル基のようなアリー
ル基を表す)を表す。) 工程1 化合物(2c)の還元 化合物(2c)を例えば1〜3当量好ましくは1.5〜
2当量の水素化ホウ素カルシウム等の還元剤をメタノー
ル、エタノール等のアルコール溶媒中で調製し、そこへ
化合物(2c)を加えて反応温度−15〜15℃好まし
くは0〜5℃で反応させることにより、化合物(3)を
合成できる。 工程2 化合物(3)の5,7−ジエンの保護 化合物(3)のジクロロメタン、クロロホルムなどのハ
ロゲン系溶媒の溶液に、1〜2当量好ましくは1.2〜
1.6当量の式(10)で表される化合物、例えば4−
フェニル−1,2,4−トリアゾリン−3,5−ジオン
や、Pb(OAc)4 と2,3−ジヒドロ−1,4−フ
タラジンジオンから生成する1,4−フタラジンジオン
等のデイールス−アルダージエノフィル化合物を加え、
反応温度0℃〜沸点好ましくは20〜30℃で反応させ
ることにより5,7−ジエンの保護された化合物(4)
を得ることができる。
【0010】工程3 化合物(4)の水酸基の保護 化合物(4)の3位の水酸基を、水酸基の保護において
通常行われる一般的方法(例えば、Protectiv
e Groups in Organic Synth
esis,John−Wiley&Sons,New
York,14−137頁(1991))に従って保護
することにより化合物(5)を合成できる。例えば、置
換シリル基で保護する方法として、化合物(4)をDM
F、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性溶媒に溶解
し、1〜3当量のイミダゾール、トリエチルアミン等の
塩基および1〜2当量のR3aX(式中、R3aは置換シリ
ル基を、Xは塩素、臭素などのハロゲン原子を表す)を
加え、反応温度0℃〜沸点好ましくは20〜30℃で反
応させる方法が挙げられる。本反応においては、反応原
料、生成物共に酸に弱いので加える塩基の当量はR3a
の当量よりも大きくするのが好ましい。また、置換メチ
ル基で保護する方法として、化合物(4)をジクロロメ
タン、ジメチルホルムアミド等の非プロトン性溶媒中、
1〜3当量のピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン等の塩基と、1〜2当量のR3bX(式
中、R3bは置換メチル基を、Xは塩素、臭素などのハロ
ゲン原子を表す)を加え、反応温度0℃〜沸点好ましく
は20〜30℃で反応させる方法が挙げられる。本反応
においては、反応原料、生成物共に酸に弱いので加える
塩基の当量はR3bXの当量よりも大きくするのが好まし
い。テトラヒドロピラニル基で保護する方法として、化
合物(4)をジクロロメタン、クロロホルム等の塩素系
の溶媒中、ジヒドロピランを1〜10当量好ましくは2
〜3当量加え、さらにp−トルエンスルホン酸を0.0
1〜0.5当量、好ましくは0.05〜0.1当量加
え、反応温度0℃〜沸点好ましくは20〜30℃で反応
させる方法が挙げられる。
【0011】工程4 化合物(5)のエポキシ化 化合物(5)を、例えばクロロホルム、ジクロロメタン
等の非プロトン性の溶媒に溶解し、1〜10当量好まし
くは4〜6当量のp−クロロ過安息香酸を加えて反応温
度0℃〜沸点好ましくは20〜30℃で反応させること
により化合物(6)を合成できる。 工程5 化合物(6)の水酸基の脱保護 化合物(6)を、水酸基の脱保護において通常行われる
一般的方法(例えば、Protective Grou
ps in Organic Synthesis,J
ohn−Wiley&Sons,New York,1
4〜137頁(1991))に従って処理して化合物
(7)を合成できる。例えば、R3 が置換シリル基、置
換メチル基またはテトラヒドロピラニル基である場合に
は、化合物(6)をメタノールやエタノール等のアルコ
ール系溶媒に溶解し、反応温度0〜100℃好ましくは
20〜30℃で0.5〜10規定好ましくは4〜6規定
の濃塩酸や濃硫酸等の酸を反応液中の濃度が1〜20
%、好ましくは3〜5%になるように加え反応させるこ
とにより化合物(7)を合成できる。 工程6 化合物(8)の合成 化合物(8)は例えば、1〜3当量好ましくは1.5〜
2当量の水素化リチウムアルミニウムのテトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテル等のエーテル系の溶媒の懸濁液
に化合物(7)を加え、反応温度0℃〜沸点好ましくは
沸点で反応させることにより合成できる。
【0012】工程7 化合物(8)のアセチル化 化合物(8)をアセチル化に於いて通常行われる一般的
方法(例えば、Protective Groups
in Organic Synthesis,John
−Wiley&Sons,New York,14−1
37頁(1991))に従って処理することにより化合
物(9)を合成できる。例えば、化合物(8)をピリジ
ンに溶解し、1当量以上好ましくは2〜4当量の無水酢
酸を加え反応温度0〜100℃好ましくは20〜30℃
で反応させることにより化合物(9)を合成できる。各
工程で得られた化合物は、通常の方法、例えばカラムク
ロマトグラフィー等で精製することができる。以上のよ
うにして得られた化合物(9)は文献(特許公報平成3
年第48903号)に記載されている方法と同様にして
(+)−(5Z,7E)−26,26,26,27,2
7,27−ヘキサフルオロ−9,10−セココレスタ−
5,7,10(19)−トリエン−1α,3β,25−
トリオールに誘導できる。
【0013】
【発明の効果】本発明の製法により、ビタミンD3 誘導
体の製造における重要中間体である1,5,7−トリエ
ン−3−オン化合物を1,4,6−トリエン−3オン−
化合物から高収率で容易に得ることができる。
【0014】
【実施例】
実施例1
【化12】 ナトリウムメトキシド(7.5g)をメタノール(7.
5ml)とジメチルスルホキシド(75ml)の混合溶
媒に懸濁させ、60℃まで加熱する。次に窒素を通気し
て溶存酸素を除いた後、化合物(1c)(5.0g)の
ジメチルスルホキシド(1.0ml)溶液を仕込み、さ
らに60℃で15分加熱した後放冷する。反応液を4℃
の2M(120g/L)酢酸水溶液に注入した後、酢酸
エチルで抽出し、有機層を飽和重曹水と飽和食塩水で順
次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧濃縮
した後、油状残渣(化合物(2c)、5.1g)を得
る。 NMR(CDCl3 ,δ);6.86(1H,d,J=
10.2Hz),5.95(1H,d,J=10.2H
z),5.66(1H,m),5.48(1H,m),
3.43(1H,br.s),3.39(1H,br.
d,J=15.8Hz),1.17(3H,s),0.
98(3H,d,J=6.6Hz),0.66(3H,
s) 実施例2
【化13】 実施例1と同様にして化合物(1b)、ナトリウムメト
キシドおよびジメチルスルホキシド/メタノール混合溶
媒を用いた反応、0〜5℃の2M酢酸水溶液に注入する
反応の停止および後処理を同一の条件下ジメチルスルホ
キシド/メタノール比のみ変えて行った。結果を図1に
示す。図1中、縦軸はジメチルスルホキシド/メタノー
ル体積比を示し、横軸は後処理後の残渣量とNMR測定
データから求めた純度より算出した収率を示す。図1よ
り、溶媒中のメタノール含量が増えるにつれ収率が急激
に向上し、ジメチルスルホキシド/メタノール比が90
/10前後にピークがあり、ジメチルスルホキシド/メ
タノール比50/50程度まではメタノール無添加の場
合に比べ収率が高いことがわかる。
【0015】参考例1
【化14】 (1)化合物(A)(7.0g)をメタノール(10m
l)に溶解する。そこへ35%塩酸(1.0ml)を加
え、2時間加熱還流する。放冷後、反応液に水を加え、
続いてトルエンで抽出する。有機層を水で2回洗浄した
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して残渣を得
る。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
ジクロロエタンで溶出される分画を集め油状残渣(化合
物(B)、2.9g)を得る。 NMR(CDCl3 ,δ);7.99〜7.62(5
H,m),6.72(1H,dd,J=11.9,1.
5Hz),5.33(1H,d,J=5.3Hz),
3.47(2H,m),0.99(3H,s),0.7
7(3H,m),0.59,0.57(合計3H,s) (2)液体アンモニア(11ml)に−60℃でテトラ
ヒドロフラン(5.0ml)を加え、10分攪拌する。
そこへ化合物(B)(2.4g)のテトラヒドロフラン
(5.0ml)溶液を滴下する。つぎに金属リチウム
(0.16g)を5回に分けて加え、1時間攪拌する。
反応終了後、エタノール、水を順次滴下し、窒素を反応
液に通して溶解しているアンモニアを除去したのち、室
温まで昇温する。反応液に水を加えた後にトルエンで抽
出し、有機層を水で2回洗浄する。硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮し、残渣を得る。これをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル:トルエン
(1:3)で溶出される分画を集め、油状残渣(化合物
(C)、1.6g)を得る。 NMR(CDCl3 −CD3 OD,δ);5.13(1
H,br.d,J=5.3Hz),3.23(1H,
m),0.80(3H,s),0.74(3H,d,J
=6.6Hz),0.48(3H,s) (3)化合物(C)(7.1g)のジオキサン(50m
l)溶液に2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,
4−ベンゾキノン(DDQ、14.0g)を加え、10
0℃まで加熱し、15時間攪拌する。放冷後、反応液を
ろ過し、水、トルエンで分配した後、有機層を水で3回
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮して残渣を
得る。この残渣をトルエンから結晶化して白色結晶(化
合物(1c)、4.5g)を得る。 NMR(CDCl3 ,δ);7.07(1H,d,J=
10.2Hz),6.24(2H,m),6.00(2
H,m),3.26(1H,s),1.19(3H,
s),0.94(3H,d,J=6.3Hz)0.78
(3H,s)
【0016】参考例2
【化15】 (式中、TBDMSはtert−ブチルジメチルシリル
基を表す) (1)塩化カルシウム(3.0g)のメタノール(20
ml)溶液を−15℃まで冷却し、そこへ水素化ホウ素
ナトリウム(1.5g)のエタノール(50ml)溶液
を滴下する。さらに15分撹拌した後、化合物(2c)
(5.0g)のエタノール(20ml)とテトラヒドロ
フラン(10ml)の混合溶媒に溶解したものを滴下
し、同じ温度で2時間撹拌する。反応液を酢酸水溶液に
注入した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和重曹水
と飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾
燥する。減圧濃縮した後、ジクロロエタンで結晶化し白
色結晶(化合物(3)、3.6g)を得る。 NMR(CDCl3 ,δ);5.74〜5.61(2
H,m),5.45(1H,m),4.29(1H,
m),2.58(1H,dd,J=12.5Hz),
2.27(1H,br.t,J=9.9Hz),1.0
1(3H,s),0.97(3H,d,J=6.3H
z),0.63(3H,s) (2)化合物(3)(3.6g)のジクロロメタン(2
0ml)溶液に4−フェニル−1,2,4−トリアゾリ
ン−3,5−ジオン(1.2g)を加え室温で30分撹
拌する。減圧濃縮した後、メタノールで結晶化し白色結
晶(化合物(4c)、4.6g)を得る。 NMR(CDCl3 ,δ);7.41〜7.26(5
H,m),6.46(1H,d,J=8.3Hz),
6.29(1H,d,J=8.3Hz),5.75(1
H,s),5.06(1H,m),3.39(1H,d
d,J=14.7,7.9Hz),2.44(2H,
m),2.35(1H,dd,J=14.7,7.0H
z),1.10(3H,s),0.95(3H,d,J
=6.4Hz),0.82(3H,s)
【0017】(3)化合物(4c)(1.7g)のジメ
チルホルムアミド(6.8ml)溶液にイミダゾール
(340mg)、t−ブチルジメチルシリルクロリド
(450mg)を順次加え、45℃で4時間撹拌する。
放冷後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機
層を水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥する。減
圧濃縮した後、メタノールで結晶化し白色結晶(化合物
(5c)、1.8g)を得る。 NMR(CDCl3 ,δ);7.44〜7.28(5
H,m),6.44(1H,d,J=8.4Hz),
6.27(1H,d,J=8.4Hz),5.68(2
H,m),4.96(1H,m),1.10(3H,
s),0.96(3H,d,J=6.3Hz),0.8
9(9H,s),0.82(3H,s),0.10(3
H,s),0.08(3H,s) (4)化合物(5c)(1.2g)のジクロロメタン
(12ml)溶液にm−クロロ過安息香酸(362m
g)を加え、室温で終夜放置する。反応液にチオ硫酸ナ
トリウム水溶液、重曹水を順次加えて1時間撹拌し、分
液した後有機層を水で洗浄する。硫酸マグネシウムで乾
燥した後、減圧濃縮し残渣を得る。これをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し酢酸エチル:ヘキサン
(1:3)で溶出される分画を集めて減圧濃縮し油状残
渣(化合物(6c)、1.2g)を得る。 NMR(CDCl3 ,δ);7.45〜7.29(5
H,m),6.42(1H,d,J=8.3Hz),
6.20(1H,d,J=8.3Hz),4.91(1
H,m),3.02〜3.27(4H,m),1.09
(3H,s),0.95(1H,d,J=6.3H
z),0.91(1H,9H,s),0.84(3H,
s),0.11(6H,s)
【0018】(5)化合物(6c)(1.0g)のエタ
ノール(12ml)溶液に濃塩酸(0.1ml)を加
え、室温で8時間撹拌する。反応液を水にあけ、酢酸エ
チルで抽出し、有機層を飽和重曹水と飽和食塩水で順次
洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧濃縮
し、油状残渣(化合物(7c)、860mg)を得る。 NMR(CDCl3 ,δ);7.45〜7.32(5
H,m),5.43(1H,d,J=8.3Hz),
6.22(1H,d,J=8.3Hz),5.05(1
H,m),3.26〜3.17(3H,m),1.10
(3H,s),0.95(3H,d,J=6.4H
z),0.80(3H,s) (6)水素化リチウムアルミニウム(120mg)のテ
トラヒドロフラン(8.0ml)溶液に化合物(7c)
(400mg)のテトラヒドロフラン(3.0ml)溶
液を滴下し65℃で6時間加熱還流する。放冷後、アセ
トンを滴下して過剰の水素化リチウムアルミニウムを分
解した後、1N塩酸を加える。酢酸エチルで抽出し、有
機層を飽和重曹水と飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸
マグネシウムで乾燥する。減圧濃縮し、油状残渣を得
る。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
酢酸エチル:ヘキサン(1:2)で溶出される分画を集
めて減圧濃縮し油状残渣(化合物(8)、300mg)
を得る。 NMR(CDCl3 ,δ);5.73(1H,s),
5.38(1H,m),4.11(1H,m),3.7
7(1H,br.s),2.83(1H,br.s),
0.96(3H,d,J=7.6Hz),0.95(3
H,s),0.63(3H,s) (7)化合物(8)(300mg)をピリジン(3.0
ml)に溶解し、そこへ無水酢酸(1.0ml)、ジメ
チルアミノピリジン(20mg)を順次加える。反応液
を室温で終夜放置した後、氷水にあけ、トルエンで2回
抽出する。有機層を2N塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水
で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
し、化合物(9)(350mg)を得る。 NMR(CDCl3 ,δ);5.68(1H,m),
5.39(1H,m),4.99(2H,m),2.1
8(3H,s)2.08(3H,s),2.04(3
H,s),1.01(3H,s),0.92(3H,
d,J=6.3Hz),0.61(3H,s)
【0019】
【図面の簡単な説明】
【図1】化合物(1b)、ナトリウムメトキシドおよび
ジメチルスルホキシド/メタノール混合溶媒を用いた反
応、2M酢酸水溶液に注入する反応の停止および後処理
を種々のジメチルスルホキシド/メタノール比に於いて
行った結果を示すグラフである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(1) 【化1】 (式中、R1 は、メチル基またはトリフルオロメチル基
    を表し、R2 は、R1 がメチル基のときは水素原子また
    は保護されていてもよい水酸基を表し、R1 がトリフル
    オロメチル基のときは保護されていてもよい水酸基を表
    す)で表される化合物を非プロトン性溶媒とアルコール
    の混合溶媒中、金属アルコキシド存在下で処理して、一
    般式(2) 【化2】 (式中、R1 およびR2 は前記と同じ意味を表す)で表
    される化合物を製造する方法。
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