JPH0821537B2 - 図形データの分割変換に対する誤差処理回路 - Google Patents

図形データの分割変換に対する誤差処理回路

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JPH0821537B2
JPH0821537B2 JP1323268A JP32326889A JPH0821537B2 JP H0821537 B2 JPH0821537 B2 JP H0821537B2 JP 1323268 A JP1323268 A JP 1323268A JP 32326889 A JP32326889 A JP 32326889A JP H0821537 B2 JPH0821537 B2 JP H0821537B2
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寿一 谷野
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安藤電気株式会社
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/302Controlling tubes by external information, e.g. programme control
    • H01J37/3023Programme control
    • H01J37/3026Patterning strategy
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317Processing objects on a microscale
    • H01J2237/3175Lithography
    • H01J2237/31761Patterning strategy

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、荷電粒子ビーム描画装置において、マス
クなどの図形データを荷電粒子ビームで露光できる大き
さまで小さく分割変換する場合の誤差処理回路について
のものである。
[従来の技術] 荷電粒子ビーム描画装置は、ウェハ上に荷電粒子ビー
ムを直接当てて露光する装置である。
荷電粒子ビーム描画装置の入力図形データが荷電粒子
ビームで一度に露光できる大きさは小さいので、大きい
図面データを露光する場合には、データを複数の部分に
分割して露光をする。
次に、入力図形データを複数のブロックに分割した状
態図を第3図により説明する。
第3図の21が入力図形、22が分割図形のひとつであ
る。入力図形21は実線で示されており、分割図形22は鎖
線で示されている。
入力図形21を分割する場合、境界線での誤差を最小限
にするため、必要とする値以下の単位までを計算し、最
終的に必要とする分解能で四捨五入する。
例えば、第3図の分割後の図形23と図形24の境界部分
を第4図と第5図により説明する。
第4図の縦線の間隔は図形データの最小分解能L0であ
る。
分割の結果、図形23の座標点及び辺の長さが最小分解
能L0未満の誤差を含んでいるとき、データを必要最小分
解能L0に一致させるように、丸め処理として単に四捨五
入をすると、図形23と図形の間に隙間、重なりが生じ
る。
例えば、第4図でX座標データだけを考えると、図形
23の始点の座標がX11、X11の座標データの最小分解能L0
未満の誤差がL1、辺の長さがL2、図形23の終点の座標が
X12、図形24の始点の座標がX12、X12の座標データの最
小分解能L0未満の誤差がL3である。
また、L1<L0/2、L3≧L0/2、L3−L1<L0とする。
ここで丸めの処理をすると、図形23の始点の座標の誤
差L1は四捨五入で切り捨てられて、第4図ウに示すよう
に座標X1となる。
したがって、新しい座標点から辺の長さを考えると、
図形23の辺の終点の座標X12はL1だけ小さくなり、X13
なる。辺の長さの誤差(L3−L1)はL0/2未満のため、四
捨五入をすると切り捨てられて、第4図エに示すよう
に、図形23の終点座標X12は座標X4となる。
図形24の始点の座標X12は誤差L3の値がL0/2以上のた
め四捨五入で切り上げられ、第4図オの座標点X5とな
る。
また、第5図に示すように、L1≧L0/2、L3<L0/2、
(L0−L1)+L3≧L0/2の場合、丸め処理をすると、図形
23の始点の座標の誤差L1は四捨五入で切り上げられて、
第5図ウに示すように、座標X2となる。
したがって、新しい座標点からの辺の長さを考える
と、図形23の終点の座標X12はL0−L1だけ大きくなり、X
13となる。
辺の長さの誤差L3+L0−L1はL0/2以上なので、四捨五
入すると切り上げられて、図形23の終点座標X13は、第
5図エに示すようにX5となる。
図形24の始点座標X12は、誤差L3がL0/2であるため、
四捨五入で切り捨てられ、第5図オの座標点X4となる。
[発明が解決しようとする問題点] 第4図の図形23と図形24の間には最小分解能L0の隙間
が生じる。
第5図の図形23と図形24の間には最小分解能L0の重な
りが生じる。
電子ビームによる描画装置など、サブミクロン領域を
する装置では、描画パターンが微少なために、入力図形
データを分割する場合、分割データに隙間や重なりがあ
ると、露光した結果、図形の周辺部にへこみ、出っ張り
があらわれるという問題がある。
この発明は、図形データを描画できる大きさの図形デ
ータに分割変換する場合、個々の図形データを偏向系の
最小分解能L0に合わせて丸めるときに発生する隣どうし
の図形の隙間、重なりをなくすことを目的とする。
[課題を解決するための手段] この目的を達成するため、この発明では、原点(X1
から距離L1の第1の座標(X11)を入力とし、第1の座
標(X11)に最小分解能L0の1/2を加算し、この第1の加
算値に対して最小分解能L0未満を切り捨て、出力を原点
(X1)にする第1の演算器(1)と、第1の座標
(X11)を入力とし、第1の座標(X11)から第1の演算
器(1)の出力を減算する減算器(2)と、減算器
(2)の出力と辺の長さ(L2)を加算し、この第2の加
算値を出力とする加算器(3)と、第2の加算値と最小
分解能L0の1/2を加算し、この第3の加算値に対して最
小分解能L0未満を切り捨てる第2の演算器(4)とを備
える。
次に、この発明による図形データの分割変換に対する
誤差処理回路の構成図を第1図により説明する。
第1図の1は演算器、2は減算器、3は加算器、4は
演算器である。
演算器1は、原点X1から距離L1の座標X11を入力と
し、座標X11に最小分解能L0の1/2を加算し、この加算値
に対して小数点以下を切り捨て、出力を原点X1にする。
減算器2は、座標X11を入力とし、座標X11から演算器
1の出力を減算する。
加算器3は、減算器2の出力の辺の長さL2を加算し、
この加算値を出力とする。
演算器4は、この加算値と最小分解能L0の1/2を加算
し、この第3の加算値に対して最小分解能未満を切り捨
てる。
[作用] 次に、第1図の作用を第2図により説明する。
第1図はX座標の回路なので、Y軸についても同じ回
路が必要になる。
第2図の図形23の始点座標データX11は演算器1によ
りL0/2を加算して、最小分解能L0未満を切り捨てること
により、第2図ウに示すように、補正された始点座標デ
ータX1を出力する。
減算器2は、補正された始点データX1と補正前の始点
データX11の差をとり、加算器3で図形23の辺の長さL2
に加える。
図形23の始点の座標データの誤差L1を辺の長さL2に加
えると、図形23の辺の終点の座標は、第2図オに示すよ
うに、座標データの四捨五入によつて変化せず、X12
なる。
次に、演算器4で、演算器1と同様に終点座標X12にL
0/2を加算して、最小分解能L0未満を切り捨てる。
辺の長さの誤差はL3のままで、四捨五入することによ
り、図形23の終点の座標はX5となり、図形24の始点座標
もX5となって、隙間は生じない。
以上のようにして、第2図の図形23の終点の座標X5
得る。
[発明の効果] この発明によれば、分割した図形データを最終的に必
要な最小分解能に四捨五入する処理をする場合に、図形
データの始点で生じた誤差を補正してからその補正分を
図形データの辺の長さに加算し、終点座標を四捨五入す
ることにより、隣どうしの図形の隙間、重なりをなくす
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明による図形データの分割変換に対する
誤差処理回路の構成図、第2図は第1図の作用説明図、
第3図は入力図形データを複数のブロックに分割した状
態図、第4図と第5図は第3図の図形23と図形24の境界
線の拡大図である。 1……演算器、2……減算器、3……加算器、4……演
算器。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】原点(X1)から距離L1の第1の座標
    (X11)を入力とし、第1の座標(X11)に最小分解能L0
    の1/2を加算し、この第1の加算値に対して最小分解能L
    0未満を切り捨て、出力を原点(X1)にする第1の演算
    器(1)と、 第1の座標(X11)を入力とし、第1の座標(X11)から
    第1の演算器(1)の出力を減算する減算器(2)と、 減算器(2)の出力と辺の長さ(L2)を加算し、この第
    2の加算値を出力とする加算器(3)と、 第2の加算値と最小分解能L0の1/2を加算し、この第3
    の加算値に対して最小分解能L0未満を切り捨てる第2の
    演算器(4)とを備えることを特徴とする図形データの
    分割変換に対する誤差処理回路。
JP1323268A 1989-12-13 1989-12-13 図形データの分割変換に対する誤差処理回路 Expired - Lifetime JPH0821537B2 (ja)

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JP1323268A JPH0821537B2 (ja) 1989-12-13 1989-12-13 図形データの分割変換に対する誤差処理回路
US07/625,271 US5177692A (en) 1989-12-13 1990-12-10 Method and apparatus for processing errors occurring upon division of pattern to be transferred
DE4039667A DE4039667A1 (de) 1989-12-13 1990-12-12 Verfahren und vorrichtung zum verarbeiten von fehlern, die beim unterteilen eines zu uebertragenden musters auftreten

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63199421A (ja) * 1987-02-16 1988-08-17 Toshiba Corp 荷電ビ−ム描画方法
US4812962A (en) * 1987-04-09 1989-03-14 Harris Corp. Area feature sorting mechanism for neighborhood-based proximity correction in lithography processing of integrated circuit patterns
JP2614884B2 (ja) * 1988-02-04 1997-05-28 富士通株式会社 電子ビーム露光方法及びその装置
JPH03166713A (ja) * 1989-11-27 1991-07-18 Mitsubishi Electric Corp 電子ビーム露光方法

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US5177692A (en) 1993-01-05
DE4039667A1 (de) 1991-06-20
JPH03184318A (ja) 1991-08-12

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