JPH08212947A - ビームインデックス形陰極線管 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、精細な画像を実現し得るビームイ
ンデックス形陰極線管を提供することを目的とする。 【解決手段】 陰極線管に使用される電子銃２２が、少
なくともメインレンズＭＬとして作用するグリッドＧ
３，Ｇ４，Ｇ５と、メインレンズＭＬ上又はメインレン
ズＭＬに対してカソードＫ寄りの位置に配され、ビーム
スポットの形状を水平（Ｈ）軸方向では発散形に且つ垂
直（Ｖ）軸方向では集束形にする第１の四重極Ｑｐ１
と、メインレンズＭＬに対して蛍光面寄りの位置に配さ
れ、ビームスポットの形状を水平（Ｈ）軸方向では集束
形に且つ垂直（Ｖ）軸方向では発散形にする第２の四重
極Ｑｐ２とを備え、蛍光面におけるビームスポットの形
状の水平（Ｈ）軸方向寸法を相対的に縮小している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ビームインデック
ス形の陰極線管（ＣＲＴ）に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在広く実用化されているカラーブラウ
ン管（陰極線管）として、シャドウマスク形陰極線管が
知られている。図８はシャドウマスク管を説明する図で
あり、ここで図８Ａはシャドウマスク管を上方より見た
水平方向切断面図、図８Ｂ及び図８Ｃはいずれも電子銃
８１，シャドウマスク８３及び蛍光体８５の相対関係を
説明する斜視図、図８Ｄは電子ビームサイズと蛍光体の
寸法の関係を説明する図である。

【０００３】シャドウマスク管を簡単に説明すると、図
８Ａに示すように電子銃８１から発射される３本の電子
ビーム８２が、シャドウマスク８３のパララックス（視
差）を利用して、蛍光面８４上に形成された３色の各蛍
光体を選択的に刺激・発光するようになっている。

【０００４】図８Ｂ及び８Ｃに夫々示すように、電子銃
８１は３原色Ｒ，Ｇ，Ｂに対応して３本用意され、シャ
ドウマスク８３には２つのタイプがある。一般的には開
口がスロット状のもの８６（図８Ｂ参照）が用いられる
が、目的によりドット状のもの８６（図８Ｃ参照）も用
いられ、蛍光面８４の蛍光体８５も夫々ストライプ状
（８Ｂ図）又はモザイク状（８Ｃ図）となっている。ま
た、電子銃８１は夫々インライン配列又はデルタ配列が
一般的である。

【０００５】これに対して、近時、シャドウマスクの無
いビームインデックス形陰極線管の開発が進められてい
る。図９はビームインデックッス管を説明する図であ
り、ここで図９Ａはビームインデックッス管を上方より
見た水平方向切断面図、図９Ｂは電子ビーム９２と蛍光
体９１との関係を説明する図である。

【０００６】図９Ａに示すように、ビームインデックス
管は、蛍光面９８上にＲ，Ｇ，Ｂの各蛍光体９１をスト
ライプ状に形成し、更にその上に一定間隔を空けてイン
デックス蛍光体９３をストライプ状に形成して構成され
る蛍光面９８を有する。このストライプ状蛍光面９８を
１本の電子ビーム９２で走査し、このときインデックス
蛍光体９３から発せられる信号（例えば紫外線又は二次
電子のパルス）９４をセンサ９５で検知してビームの位
置情報を得たうえ、これに同期して色信号切換回路９６
によりビデオ信号（３色の色信号）を切り換えてビーム
を変調する。

【０００７】このビームインデックス形陰極線管は、電
子ビームを捕捉するシャドウマスク（図８の符号８３）
が不要であるため、電子ビームの利用率が高い（即ち、
高輝度につながる）、消費電力が少ない、単一ビームで
あるためビーム集中の問題がない、地磁気の影響が少な
い、陰極線管の構造が簡単である等の種々の長所を有し
ている。

【０００８】従来のシャドウマスク形陰極線管では、図
８Ｄによって明らかなように、蛍光体８５に対応したシ
ャドウマスク８３のスロット８６の開口寸法が蛍光面８
４に衝突するビームサイズを決定しているので、電子銃
８１から発射される電子ビーム８２は各蛍光体８５の寸
法より多少大きい寸法のビームスポットを使用すること
ができる。

【０００９】これに対して、ビームインデックス形陰極
線管では、図９Ｂに示すように、シャドウマスクが無い
ので電子ビーム９２の利用率が良い半面、ビームスポッ
ト寸法（ビーム径）を蛍光面９８のＲＧＢ蛍光体の各ス
トライプ幅Ｗに適合するように小さくする必要がある。
ビームインデックス形陰極線管は、或る１つの時間を取
った場合（即ち、一瞬間では）電子ビームは１つの蛍光
体（色）にのみ衝突するように、１本のビーム９２を
Ｒ，Ｇ，Ｂ各蛍光体９１に順次切り換えて使うため、ビ
ームスポットの水平方向寸法がＲ，Ｇ，Ｂ各蛍光体９１
のピッチを制約することになる。

【００１０】このため、Ｒ，Ｇ，Ｂ各蛍光体９１のピッ
チが小さい高精細（ファインピッチ）な画像を得るため
には、シャドウマスク形陰極線管に使用されているビー
ムスポットに比較して、必然的に電子ビーム９２のビー
ムスポットの水平方向寸法を極めて小さくすることが必
要になる。このように、画像のファインピッチ化が進め
ば進むほど、小さい蛍光体寸法に対応してビームスポッ
ト寸法を一層小さくする必要がある。しかし、ビームス
ポットを小さくすると、色純度（ピュリティ）の確保
（色を付けること。）と明るさとを両立させることが困
難になってくる。

【００１１】また、この蛍光面９８上のＲ，Ｇ，Ｂ各蛍
光体９１は、図１０に示すように、これらを分離するカ
ーボンのガードバンド９７間に延在している。従って、
ビームスポットの形状を各蛍光体寸法（カーボンのガー
ドバンド間寸法Ｗ）に対して相対的に小さくできれば、
符号９８に示すような丸形スポットが好ましい。しかし
実際問題としては、そこまでビームの電子密度を高めて
しまうと、蛍光体９１の飽和が生じて色がまともに発色
しなくなる。従って、現状においては符号９９に示すよ
うな縦長形ビームスポットを採用せざる得ない。

【００１２】従来、この縦長形ビームスポット９９は、
陰極線管に内蔵された電子銃の所定のグリッドの開口寸
法を制御することにより実現していた。図１１は、典型
的なビームインデックス形陰極線管の電子銃２２を部分
的に示している。電子銃２２は、熱電子を発射するカソ
ードＫと、電子レンズ系の第１乃至第５のグリッドＧ１
〜Ｇ５と、偏光ヨークＤＹとを備えている。ここで、電
子銃２２のカソードＫの後段に配置された第１のグリッ
ドＧ１の開口部（又は第１及び第２のグリッドＧ１，Ｇ
２の開口部。以下、いずれの場合をも含めて、「第１の
グリッドＧ１の開口部」として説明する。）を小さい縦
長にして、水平方向サイズの比較的小さいビームスポッ
トを得ていた。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、この従来の第
１のグリッドＧ１の開口部を小さい縦長にする構成で
は、インデックス形陰極線管が大画面化し高精細化（フ
ァインピッチ化）した場合、カソードローディングの問
題に起因する限界が生じ、これにより更にビームスポッ
トの水平方向サイズを小さくすることは出来なくなって
いる。

【００１４】カソードローディング（陰極負荷）の問題
とは、カソードＫはその一定の面積（ワーキングエリ
ア）から熱電子を発射する（即ち、電流を流す）ので、
第１のグリッドＧ１の開口部が小さくなればなるほどワ
ーキングエリアからの電流効率は悪化し、この結果、所
定の電流を得るためにはエミッション（電子放出）の劣
化が急速化しライフエンド（寿命）が早まる現象であ
る。このように、陰極線管の寿命を決定する最大の要因
は、熱電子源であるカソードＫから電子ビームを取り出
すことが出来ない状態になることである。このカソード
ローディングの問題から検討すると、現状の縦長形ビー
ムスポット（図１０の符号９９）を実現している第１の
グリッドＧ１の開口部のスリットの縦横比は、これ以上
更にビームスポット形状を小さくできない所まできてお
り、カソードローディングの限界に近い。

【００１５】なお、このカソードＫは第１のグリッドＧ
１の内側に配置され、ヒータと、金属酸化物から成るオ
キサイドカソードあるいはインプレカソード等の種類が
あり、この内、インプレカソードがカソードローディン
グを比較的高めに取ることが出来る。しかし、インプレ
カソードを使用しても、現状の縦長形ビームスポットは
カソードローディングの限界に近づいている。具体的に
は、第１のグリッドＧ１の開口部の孔径は水平（Ｈ）方
向が０．２５ｍｍで、垂直（Ｖ）方向が０．６５ｍｍで
ある。

【００１６】しかし、この孔径寸法を使用して得られる
ビームスポット９９でも、ファインピッチ画像に対して
は、十分な色純度が確保できていない。更に最近では、
画像のより一層のファインピッチ化が望まれており、こ
の場合に現状の縦長形ビームスポットでは水平方向寸法
が大きすぎる。これに対し、垂直方向の寸法に関して
は、解像度の点から未だクリティカルな問題にはなって
いない。

【００１７】また、仮にこの第１のグリッドＧ１でつく
る開口部孔径を更に小さくすることが技術的に可能であ
ったとしても、この孔径を或るレベルを越えて極端に小
さくした場合には、第１のグリッドＧ１のレンズ作用の
収差の問題が生じて、常にこの孔径に比例してビームス
ポット寸法が小さくなるわけではない。従って、第１の
グリッドＧ１の開口部によってビームスポットを小さく
することは、カソードローディングの問題、カソードレ
ンズの収差の問題等から限界がある。

【００１８】更に、現状においても電子ビームの水平方
向と垂直方向の発散角が異なるため、水平方向でジャス
トフォーカスさせたとき、垂直方向のフォーカスが少し
だれるという問題も生じている。

【００１９】そこで本発明は、上述した問題点に鑑み、
カソードローディングの問題等と両立しながら、水平方
向寸法を一層減少したビームスポットを形成し得る電子
銃を備えたビームインデックス形陰極線管を提供するも
のである。

【００２０】更に本発明は、精細な（ファインピッチ）
画像を実現し得るビームインデックス形陰極線管を提供
するものである。

【００２１】

【課題を解決するための手段】本発明にかかる第１のビ
ームインデックス形陰極線管は、例えば図１乃至図７に
示すように、陰極線管に使用される電子銃２２が、少な
くともメインレンズＭＬとして作用するグリッドＧ３，
Ｇ４，Ｇ５と、メインレンズＭＬ上又はメインレンズＭ
Ｌに対してカソードＫ寄りの位置に配され、ビームスポ
ットの形状を水平（Ｈ）軸方向では発散形に且つ垂直
（Ｖ）軸方向では集束形にする第１の四重極Ｑｐ１と、
メインレンズＭＬに対して蛍光面（図示せず。）寄りの
位置に配され、ビームスポットの形状を水平（Ｈ）軸方
向では集束形に且つ垂直（Ｖ）軸方向では発散形にする
第２の四重極Ｑｐ２とを備え、蛍光面におけるビームス
ポットの形状の水平（Ｈ）軸方向寸法を相対的に縮小し
ている。

【００２２】更に、本発明にかかる第２のビームインデ
ックス形陰極線管は、例えば図１乃至図２に示すよう
に、上述の第１のビームインデックス形陰極線管を構成
する諸手段において、第１の四重極Ｑｐ１は、メインレ
ンズＭＬに対してカソードＫ寄りの位置に配され、ビー
ムスポットの形状を水平（Ｈ）軸方向では発散形に且つ
垂直（Ｖ）軸方向では集束形にする磁界を形成する電磁
四重極２４，２４′（図１）であり、第２の四重極Ｑｐ
２は、ビームスポットの形状を水平（Ｈ）軸方向では集
束形に且つ垂直（Ｖ）軸方向では発散形にする磁界を形
成する電磁四重極２５，２５′である。

【００２３】更に、本発明にかかる第３のビームインデ
ックス形陰極線管は、例えば図４乃至図７に示すよう
に、上述の第１のビームインデックス形陰極線管を構成
する諸手段において、第１の四重極Ｑｐ１は、メインレ
ンズＭＬ上に配され、ビームスポットの形状を水平
（Ｈ）軸方向では発散形に且つ垂直（Ｖ）軸方向では集
束形にする電界を形成する静電四重極であり、第２の四
重極Ｑｐ２は、ビームスポットの形状を水平（Ｈ）軸方
向では集束形に且つ垂直（Ｖ）軸方向では発散形にする
磁界を形成する電磁四重極２５，２５′である。

【００２４】更に、本発明にかかる第４のビームインデ
ックス形陰極線管は、例えば図４乃至図７に示すよう
に、上述の第３ビームインデックス形陰極線管を構成す
る諸手段に加えて、熱電子を放出するカソードＫと、電
子レンズ系として作用する少なくとも第１，第２，第
３，第４及び第５のグリッドＧ１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４，
Ｇ５とを備え、メインレンズＭＬは、第３，第４及び第
５のグリッドＧ３，Ｇ４，Ｇ５によって第４のグリッド
Ｇ４の近傍に形成され、静電四重極Ｑｐ１は、第４のグ
リッドＧ４によって形成され、電磁四重極Ｑｐ２は、ビ
ーム通路周囲に設けられた磁界発生手段２５，２５′に
より形成されている。

【００２５】更に、本発明にかかる第５のビームインデ
ックス形陰極線管は、例えば図４乃至図７に示すよう
に、上述の第３又は第４のビームインデックス形陰極線
管を構成する諸手段に加えて、更に、静電四重極Ｑｐ１
を構成する第４のグリッドＧ４は、電子銃２２の軸Ｚに
対して同軸関係に並置された３つの電極Ｇ４ａ，Ｇ４
ｂ，Ｇ４ｃから形成され、両端の電極Ｇ４ａ，Ｇ４ｃは
各々、縦横比Ｖ／Ｈが１より大きい寸法の開口７２，７
４を有し、真ん中の電極Ｇ４ｂは、縦横比Ｖ／Ｈが１よ
り小さい寸法の開口を有している。

【００２６】

【作用】本発明にかかる第１のビームインデックス形陰
極線管においては、電子銃２２の第１の四重極Ｑｐ１に
よって、ビームスポットの形状が水平（Ｈ）軸方向では
発散形に且つ垂直（Ｖ）軸方向では集束形にされ、また
第２の四重極Ｑｐ２によって、ビームスポットの形状が
水平（Ｈ）軸方向では集束形に且つ垂直（Ｖ）軸方向で
は発散形にされる。これは、図３に示すように、水平軸
（Ｖ）方向では従来のメインレンズＭＬの位置（図２の
ＭＬ）を、結像点ｆに近い位置（図２の点ｃを通る垂直
線の位置）に移動する作用に相当し、また垂直（Ｖ）軸
方向では従来のメインレンズＭＬの位置（図２のＭＬ）
を物点ａに近い位置（図２の点ｄを通る垂直線の位置）
に移動する作用に相当する。この結果、蛍光面における
ビームスポットの水平（Ｈ）軸方向像倍率ＭH はｂH ／
ａH からｂH ′／ａH ′に減少し、反対に垂直（Ｖ）軸
方向像倍率ＭV はｂV ／ａV からｂV ′／ａV ′に増大
する。こうして、水平（Ｈ）軸方向寸法の一層減少した
ビームスポットが形成され、このビームスポットを利用
することにより、精細な画像を実現し得るビームインデ
ックス陰極線管が実現できる。

【００２７】更に、本発明にかかる第２のビームインデ
ックス形陰極線管においては、上述の第１のビームイン
デックス形陰極線管の奏する作用を、第１の四重極Ｑｐ
１として用いられた電磁四重極２４，２４′（図１）の
形成する磁界により、ビームスポットの形状が水平
（Ｈ）軸方向では発散形に且つ垂直（Ｖ）軸方向では集
束形にされ、第２の四重極Ｑｐ２として用いられた電磁
四重極２５，２５′の形成する磁界により、ビームスポ
ットの形状が水平（Ｈ）軸方向では集束形に且つ垂直
（Ｖ）軸方向では発散形にされる。

【００２８】更に、本発明にかかる第３のビームインデ
ックス形陰極線管においては、上述の第１のビームイン
デックス形陰極線管の奏する作用を、第１の四重極Ｑｐ
１として用いられた静電四重極（図４）の形成する電界
により、ビームスポットの形状が水平（Ｈ）軸方向では
発散形に且つ垂直（Ｖ）軸方向では集束形にされ、第２
の四重極Ｑｐ２として用いられた電磁四重極２５，２
５′の形成する磁界により、ビームスポットの形状が水
平（Ｈ）軸方向では集束形に且つ垂直（Ｖ）軸方向では
発散形にされる。

【００２９】更に、本発明にかかる第４のビームインデ
ックス形陰極線管は、上述の第３のビームインデックス
形陰極線管の奏する作用を、カソードＫと、少なくと
も、第１，第２，第３，第４及び第５のグリッドＧ１，
Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４，Ｇ５とを備え、メインレンズＭＬ
を、第３，第４及び第５のグリッドＧ３，Ｇ４，Ｇ５に
よって第４のグリッドＧ４の近傍に形成し、静電四重極
Ｑｐ１として用いられた第４のグリッドＧ４の形成する
電界により、ビームスポットの形状が水平（Ｈ）軸方向
では発散形に且つ垂直（Ｖ）軸方向では集束形にされ、
電磁四重極Ｑｐ２として用いられた磁界発生手段２５，
２５′の形成する磁界により、ビームスポットの形状が
水平（Ｈ）軸方向では集束形に且つ垂直（Ｖ）軸方向で
は発散形にされる。

【００３０】更に、本発明にかかる第５のビームインデ
ックス形陰極線管は、上述の第３又は第４のビームイン
デックス形陰極線管の奏する作用を、静電四重極Ｑｐ１
を構成する第４のグリッドＧ４として用いられた３つの
電極Ｇ４ａ，Ｇ４ｂ，Ｇ４ｃの形成する電界により、ビ
ームスポットの形状が水平（Ｈ）軸方向では発散形に且
つ垂直（Ｖ）軸方向では集束形にされる。

【００３１】更に、第１の四重極Ｑｐ１及び第２の四重
極Ｑｐ２の双方又はいずれか一方の強さを、偏向周期に
同期した電流又は電圧信号によりダイナミックに変調し
て、画面各位置のスポット形状を補正し、画面全域での
ビームスポットを最適化することも出来る。

【００３２】

【発明の実施の形態】ビームインデックス形陰極線管
は、図９Ｂを用いて説明したように、蛍光面９８上に
Ｒ，Ｇ，Ｂの各蛍光体９１をストライプ状に形成し、更
にその上に一定間隔を空けて紫外線又は二次電子を発生
するインデックス蛍光体９３をストライプ状に形成して
構成される蛍光面９８を有する。そして、電子ビーム９
２を水平に走査したときに瞬時的にインデックス蛍光体
９３から発生する紫外線又は二次電子９４を捕らえて電
子ビーム９２の位置を検出し、それに合わせて電子ビー
ム９２を制御して色選択を行うものである。

【００３３】しかし前述した通り、ビームインデックス
管では、ビームスポットの水平方向サイズをシャドウマ
スク管に比較して非常に小さくしなければならない。

【００３４】以下、本発明にかかるビームインデックス
形陰極線管の実施例について、図面を参照しながら詳細
に説明する。

【００３５】〔第１の実施例〕図１は、第１の実施例に
かかるインデックス形陰極線管の要部を上方から見た水
平方向切断面図である。図１において、ビームインデッ
クス形陰極線管は、内部を高真空にされたファンネルガ
ラス２１のネック部２３内部に電子銃２２が組み込まれ
ており、この電子銃２２は、電子ビーム発生源であるカ
ソードＫと、電子レンズ系を構成する第１グリッドＧ
１、第２グリッドＧ２、第３グリッドＧ３、第４グリッ
ドＧ４及び第５グリッドＧ５とから構成されている。

【００３６】これら構成部材の配置関係は、ネック部２
３後端のステム部２７にカソードＫがその端子２９を外
部に突出させて取り付けられ、カソードＫから蛍光面
（図示せず）に向かって順次第１グリッドＧ１、第２グ
リッドＧ２、第３グリッドＧ３、第４グリッドＧ４及び
第５グリッドＧ５が配置されている。

【００３７】なお、符号ＤＹは偏向磁界を発生する偏向
ヨークＤＹ（Deflection Yoke ）であるが、偏向ヨーク
ＤＹは、本発明及び従来技術のいずれにも採用されてお
り、そのレンズ作用及び効果は同一である。従って、図
面及び説明を簡略化して分かり易いものとするため、以
下の記載において特に断らない限りこの偏向ヨークＤＹ
に関する事項は省略する。

【００３８】前述したように、第１グリッドＧ１の開口
を小さくすることによって、カソードＫから発射される
電子ビームが縦長形（図１０の符号９９）にされる。光
学レンズ系で表現すると、第３〜第５グリッドＧ３〜Ｇ
５によってメインレンズＭＬが第４グリッドＧ４の箇所
に形成され、電子ビームを蛍光面（図示せず。）に投射
する。以下、その位置を、メインレンズ部２６として破
線で示す。

【００３９】このようなビームインデックス形陰極線管
に対して、本実施例では、ファンネルガラス２１のネッ
ク部２３の周囲で且つカソードＫとメインレンズ部２６
の間に、第１の電磁四重極Ｑｐ１（Quadrupole１）（符
号２４，２４′）を配置する。同様に、ファンネルガラ
ス２１のネック部２３の周囲で且つメインレンズ部２６
と蛍光面（図示せず。）の間に、第２の電磁四重極Ｑｐ
２（符号２５，２５′）を配置する。

【００４０】図２は、電磁四重極Ｑｐ１の詳細を説明す
る図であって、図１のＱｐ１の箇所Ｉ−II′方向切断面
図である。図２において、符号２３はファンネルガラス
のネック部、Ｅは直流電源を表し、この直流電圧がそれ
ぞれＵ字形のコアを持つ２つの電磁石２４，２４′に順
次巻回されたコイルに印加される。このように、第１の
電磁四重極Ｑｐ１は２つの電磁石２４，２４′から構成
され、図２で示すように四極の磁極Ｎ，Ｓ，Ｎ′，Ｓ′
を形成する。

【００４１】ファンネルガラスのネック部２３の中心付
近を図面に対し垂直方向で紙面表から裏向きに（即ち、
カソードＫから蛍光面に向かって、）電子ビームが発射
される（電子ビームスポット形状を破線円で示す）。即
ち、図示するように、電流が紙面裏から表向きに流れ
る。

【００４２】このため、水平軸方向ではＮ′−Ｓ間及び
Ｎ−Ｓ′間の磁界により、電子ビームは拡散されビーム
スポット形状は大きくなる。垂直軸方向ではＮ−Ｓ間及
びＮ′−Ｓ′間の磁界により、電子ビームは集束されス
ポット形状は小さくなる。こうして、電子レンズ系の第
１の電磁四重極Ｑｐ１は、ビームスポットの形状を水平
軸方向では発散形に且つ垂直軸方向では集束形にする。

【００４３】この電磁石２４，２４′は磁界発生手段で
あればよく、例えば永久磁石によっても構成し得る。具
体的には、例えば、可撓性を有する適当な帯状永久磁石
をネック部２３の周囲に貼り付けてもよい。光学レンズ
系で表現すると、第１の電磁四重極Ｑｐ１はビームスポ
ットの形状を水平軸方向では発散形に且つ垂直軸方向で
は集束形にする「軸非対称レンズ」と表現できる。

【００４４】第２の電磁四重極Ｑｐ２は、同様に２つの
電磁石２５，２５′により構成し、メインレンズ部２６
と蛍光面（図示せず。）との間に配置する。第２の電磁
四重極Ｑｐ２は第１の四重極Ｑｐ１とは逆に、ビームス
ポットの形状を水平軸方向では集束形に且つ垂直軸方向
では発散形にしている。

【００４５】従って、例えば、図２の直流電圧源Ｅの極
性を反対にすることにより構成し得る。同様に、光学レ
ンズ系で表現すると、第２の電磁四重極Ｑｐ２はビーム
スポットの形状を水平軸方向では集束形に且つ垂直軸方
向では発散形にする「軸非対称レンズ」と表現できる。

【００４６】このように、第１及び第２の四重極Ｑｐ
１，Ｑｐ２は、いずれも電磁コイル又は永久磁石によっ
て形成する電磁四重極である。各四重極の位置として
は、第１の電磁四重極Ｑｐ１はメインレンズ部２６より
カソードＫ寄りに位置し、第２の電磁四重極Ｑｐ２はメ
インレンズ部２６より蛍光面（図示せず。）寄りに位置
していればよい。

【００４７】これら電磁四重極Ｑｐ１，Ｑｐ２の磁界強
度（光学レンズ系のレンズパワー）を適当に調節するこ
とにより所望の縦長形状のビームスポットを達成できる
ため、第１グリッドＧ１の開口部形状は丸形形状でも縦
長形状でも任意に選択できる。

【００４８】また、第１の四重極Ｑｐ１は、２つの電磁
石２４，２４′に印加する直流電源Ｅを別個にしたり、
又は電磁石２４，２４′のコイル巻回数を変えることに
より、磁界強度を別々に制御し得る。従って、水平方向
と垂直方向の発散角が異なっていても、水平方向軸と垂
直軸方向とを独立してジャストフォーカス状態に調整し
得る。

【００４９】更に、第１の四重極Ｑｐ１及び第２の四重
極Ｑｐ２の双方又はいずれか一方の強さを、偏向周期に
同期した電流又は電圧信号によりダイナミックに変調し
て、画面各位置のスポット形状を補正し、画面全域での
ビームスポットを最適化することも出来る。

【００５０】〔実施例の原理〕図３は、本実施例に係る
ビームインデックス管の電子レンズ系を光学レンズ系に
置き換えて表現したときの模式図であり、本実施例の原
理を示したものである。一般に、陰極線管に適用される
電子光学（Electron Optics ）における電子レンズ系の
領域においても、光学レンズ系の収差論がほぼそのまま
成立する。ここで、符号ａはカソードＫ上の物点を示
し、Ｑｐ１は第１の軸非対称レンズ、ＭＬはメインレン
ズ、Ｑｐ２は第２の軸非対称レンズ、ｆは蛍光面上の結
像点を夫々示す。また、光軸中心をＺ軸とし、このＺ軸
を境としてその上部は水平軸方向（Ｈ）のレンズ作用を
示し、下部は垂直軸方向（Ｖ）のレンズ作用を示す。前
述したように、これら軸非対称レンズＱｐ１及びＱｐ２
はいずれも電磁四重極又は永久磁石によって実現され
る。

【００５１】これに対して、従来技術のビームインデッ
クス管の光学レンズ系の模式図は、図３の第１及び第２
の軸非対称レンズＱｐ１，Ｑｐ２が無い場合、即ちメイ
ンレンズＭＬのみの場合となる。

【００５２】なお、第２の軸非対称レンズＱｐ２と結像
点ｆの間には偏向ヨークＤＹが配置されているが（図１
参照）、前述した通りこの偏向ヨークＤＹに関する事項
は省略する。

【００５３】先ず、従来技術に相当するメインレンズＭ
Ｌのみ存在し２つの軸非対称レンズＱｐ１，Ｑｐ２が無
い場合を想定すると、図３に破線で描かれた電子ビーム
の軌跡のように、水平軸方向及び垂直軸方向とも、物点
ａからの電子ビームはメインレンズＭＬの凸レンズ作用
により集束され、結像点ｆで結像する。このときジャス
トフォーカス状態であり、また実際は第１のグリッドＧ
１の開口により電子ビームスポットは水平軸方向が小さ
いスポット形状であるが説明を簡単にするため、物点は
小さな真円であり、結像点の像も真円の像とする。

【００５４】これに対して本実施例では、メインレンズ
ＭＬに加えて、物点ａとメインレンズＭＬの間に第１の
軸非対称レンズＱｐ１が配置され、またメインレンズＭ
Ｌと結像点ｆの間に第２の軸非対称レンズＱｐ２が配置
される。２つの軸非対称レンズＱｐ１，Ｑｐ２はいずれ
も、水平軸方向の作用と垂直軸方向の作用が相異なる軸
非対称のレンズ作用をなしている。具体的には第１の軸
非対称レンズＱｐ１は、水平軸方向では凹レンズ作用を
なし、垂直軸方向では凸レンズ作用をなし、一方第２の
軸非対称レンズＱｐ２はこれとは反対に、水平軸方向で
は凸レンズ作用をなし、垂直軸方向では凹レンズ作用を
なしている。

【００５５】従って、図３に実線で描かれた電子ビーム
の軌跡のように、水平軸方向では、物点ａからの電子ビ
ームは第１の軸非対称レンズＱｐ１の凹レンズ作用によ
り発散され、メインレンズＭＬの凸レンズ作用により集
束され、第２の軸非対称レンズＱｐ２の凸レンズ作用に
より集束され結像点ｆで結像する。一方、垂直軸方向で
は、物点ａからの電子ビームは第１の軸非対称レンズＱ
ｐ１の凸レンズ作用により集束され、メインレンズＭＬ
の凸レンズ作用により集束され、第２の軸非対称レンズ
Ｑｐ２の凹レンズ作用により発散され結像点ｆで結像す
る。

【００５６】この実施例の原理を効果の面から説明す
る。先ず、従来技術に相当するメインレンズＭＬのみの
場合を想定すると、水平軸方向の像倍率ＭH ′及び垂直
軸方向の像倍率ＭV ′は、夫々次の通りになる。 ＭH ′＝ｂH ′／ａH ′……（１） ＭV ′＝ｂV ′／ａV ′……（２） ここで、 ａH ′，ａV ′：物点ａとメインレンズＭＬのＺ軸方向
の長さ ｂH ′，ｂV ′：メインレンズＭＬと結像点ｆのＺ軸方
向の長さ

【００５７】これに対して、本実施例の原理では、物点
ａとメインレンズＭＬの間に第１の軸非対称レンズＱｐ
１が配置され、またメインレンズＭＬと結像点ｆの間に
第２の軸非対称レンズＱｐ２が配置される。この結果、
水平軸方向の像倍率ＭH ′及び垂直軸方向の像倍率ＭV
′は、次の通りになる。 ＭH ＝ｂH ／ａH ……（３） ＭV ＝ｂV ／ａV ……（４） ここで、 ａH ：物点ａと点ｃのＺ軸方向の長さで、ａH 〉ａH ′
の関係にある。 ｂH ：点ｃと結像点ｆのＺ軸方向の長さで、ｂH 〈ｂH
′の関係にある。 ａV ：物点ａと点ｄのＺ軸方向の長さで、ａV 〈ａV ′
の関係にある。 ｂV ：点ｄと結像点ｆのＺ軸方向の長さで、ｂV 〉ｂV
′の関係にある。

【００５８】尚、点ｃ及び点ｄは、物点ａ及び結像点ｆ
からの電子ビーム軌跡を延長させたときの交点であり、
本実施例の作用をメインレンズＭＬのみの作用と仮定し
たときの仮想メインレンズの位置を意味する。換言すれ
ば、本実施例では、メインレンズＭＬの位置を仮想的
に、水平軸方向では点ｃを通る垂直線の位置に、垂直軸
方向では点ｄを通る垂直線の位置に、夫々移動する作用
を奏している。

【００５９】従って、従来技術と本実施例の原理におけ
る像倍率を比較すると、水平（H ）軸方向では、式
（１）と式（３）の関係により、 ＭH ′＝ｂH ′／ａH ′〉ｂH ／ａH ＝ＭH ……（５） と相対的に小さくなり、従来技術より本実施例の原理の
水平方向像倍率は減少する。

【００６０】一方、垂直軸方向では、式（２）と式
（４）の関係により、 ＭV ′＝ｂV ′／ａV ′〈ｂV ／ａV ＝ＭV ……（６） と相対的に大きくなり、従来技術より本実施例の原理の
垂直方向像倍率は拡大する。

【００６１】この結果、物点ｆの小さい真円は、結像点
ｆで水平方向寸法が減少し、垂直方向寸法が拡大した像
となる。

【００６２】次に、フォーカスの面から検討すると、メ
インレンズＭＬのみの場合の従来技術でジャストフォー
カスの状態に対して、第１の軸非対称レンズＱｐ１を単
独で組合わせた場合は、水平軸方向では像を発散する凹
レンズ作用によりアンダーフォーカス状態となり、垂直
軸方向では像を集束する凸レンズ作用によりオーバフォ
ーカス状態となり、いずれも非点作用となる。同様に、
第２の軸非対称レンズＱｐ２を単独で組合わせた場合、
水平軸方向では像を集束する凸レンズ作用によりオーバ
フォーカス状態となり、垂直軸方向では像を発散する凹
レンズ作用によりアンダーフォーカス状態となり、いず
れも非点作用となる。

【００６３】しかし、本実施例の原理のように、２つの
軸非対称レンズＱｐ１，Ｑｐ２を設けると、水平軸方向
及び垂直軸方向のいずれにおいても、一方の軸非対称レ
ンズの非点作用に対して、他方の軸非対称レンズはこれ
とは逆方向の非点作用を行っているため、ジャストフォ
ーカス状態が維持される。このように、本実施例の原理
では、軸非対称レンズは少なくとも２つは必要となる。
ここで、少なくとも２つとしたのは、以下の理由によ
る。

【００６４】本実施例の変形として、第１の軸非対称レ
ンズＱｐ１と第２の軸非対称レンズＱｐ２の双方又はい
ずれか一方を、複数個の軸非対称レンズで構成すること
もできるからである。即ち、第１の軸非対称レンズＱｐ
１を２つ以上の軸非対称レンズ（即ち、２つ以上の電磁
四重極）Ｑｐ１１，Ｑｐ１２，…，Ｑｐ１ｎで構成して
もよく、これらの軸非対称レンズ全体が第１の軸非対称
レンズＱｐ１と実質的に同様の作用、即ち水平軸方向で
は凹レンズ作用、垂直軸方向では凸レンズ作用を奏して
いる限り本実施例の原理に該当する。

【００６５】第２の軸非対称レンズに関しても、２つ以
上の軸非対称レンズ（即ち、２つ以上の電磁四重極）Ｑ
ｐ２１，Ｑｐ２２，…，Ｑｐ２ｎで構成してもよく、こ
れらの軸非対称レンズ全体が第２の軸非対称レンズＱｐ
２と実質的に同様の作用、即ち水平軸方向では凸レンズ
作用、垂直軸方向では凹レンズ作用を奏している限り本
実施例の原理に該当する。

【００６６】以上述べたように、ビームスポットは軸非
対称レンズを入れない場合に比較して、水平方向は圧縮
され且つ垂直方向は伸長されて、一層縦長のスポットに
される。

【００６７】また、理論的に、水平方向の像倍率ＭH と
垂直方向の像倍率ＭV との和は、軸非対称レンズを入れ
ない場合の像倍率Ｍ′（＝ＭH ′＝ＭV ′）の２倍に等
しいこと、即ち、 ＭH ′＋ＭV ′＝２Ｍ′……（７） が成立することが知られている。このため、例えば、水
平方向を１／２に縮めた場合、垂直方向は１．５倍しか
ならず、垂直方向の解像度をそれほど犠牲にしないで、
ファインピッチ画像に適当なスポットを得ることができ
る。

【００６８】このように第１の実施例にかかるビームイ
ンデックス形陰極線管（図１）においては、従来技術に
比較して、カソードＫ並びに第１のグリッドＧ１（又
は、第１及び第２のグリッドＧ１，Ｇ２）を現状のまま
で、ビームスポット形状の水平方向寸法をはるかに小さ
くすることができる。このために、上述した本実施例の
原理を採択することにより、一層高精細度のインデック
ス形陰極線管が実現できる。また、従来技術と比較して
もカソードローディング等を犠牲にしていないことよ
り、カソードのエミションライフは従来通りの期間が確
保できる。

【００６９】〔第２の実施例〕図４は第２の実施例にか
かるインデックス形陰極線管の要部を上方から見た断面
を示し、この第２の実施例は実施例の原理（図３）にお
ける２つの軸非対称レンズＱｐ１，Ｑｐ２を静電四重
極，電磁四重極で夫々構成している。第１の実施例（図
１）と比較すると、第１の電磁四重極Ｑｐ１を静電四重
極としているため、第４のグリッドＧ４の構成が異なっ
ている。なお、第１の実施例と同じ部材に対しては同一
の参照番号を付し、その説明を省略する。

【００７０】電子銃２２は、カソードＫと、電子レンズ
系を構成する第１グリッドＧ１、第２グリッドＧ２、第
３グリッドＧ３、第４グリッドＧ４及び第５グリッドＧ
５とから構成され、第４のグリッドＧ４は、３つの電極
Ｇ４ａ，Ｇ４ｂ，Ｇ４ｃからなる。なお、偏向ヨークＤ
Ｙも配置されている。

【００７１】これら構成部材の配置関係は、第１の実施
例（図１）と同様に、カソードＫから蛍光面（図示せ
ず）に向かって順次第１グリッドＧ１、第２グリッドＧ
２、第３グリッドＧ３、第４グリッドＧ４（４ａ，Ｇ４
ｂ，Ｇ４ｃ）及び第５グリッドＧ５が配置され、更に偏
向ヨークＤＹが取り付けられる。光学レンズ系で表現す
ると、第３〜第５グリッドＧ３〜Ｇ５によってメインレ
ンズＭＬが第４グリッドＧ４の箇所に形成される。以
下、その位置を、メインレンズ部２６として破線で示
す。

【００７２】ここで、第４のグリッドＧ４は静電四重極
Ｑｐ１として機能するよう構成されている。静電四重極
の構成は従来から知られているもので、その詳細は、例
えばShoji Shirai and Masakazu Fukusima, "Quadrupol
e Lens for Dynamic Forcusand Astigmatism Contorol
in an Elliptical Aperture Lens Gun", ProceedingSID
87 DIGEST Pages 162-165 等を参照されたい。

【００７３】本第２の実施例において静電四重極Ｑｐ１
は、例えば図５にその斜視図を及び図６にその断面図を
示すように、第４のグリッドＧ４を３つの電極（Ｇ４
ａ，Ｇ４ｂ，Ｇ４ｃ）にて構成し、その内両側の２つの
電極（第１電極Ｇ４ａ及び第３電極Ｇ４ｃ）を円筒状と
し、真ん中の第２電極Ｇ４ｂを比較的短い円筒状とす
る。そして図６及び図７に示すように、第１電極Ｇ４ａ
と第３電極Ｇ４ｃの円筒状内側の夫々対向する側に、ビ
ーム通過孔７２，７４が夫々形成された円形平板７１，
７３（図７Ａ，Ｃ）を、第２電極４ｂの円筒状内側にビ
ーム通過孔７６が形成された円形平板７５（図７Ｂ）
を、夫々溶接等により取り付けられている。

【００７４】このビーム通過孔７２，７４は、図７Ａ，
Ｃに示すように真円に対し左右方向寸法が狭められた縦
横比（Ｖ／Ｈ）が１より大きい形状の開口となってい
る。第２電極Ｇ４ｂを形成する円形平板７５は、図７Ｂ
に示すように真円に対し上下方向寸法が狭められた縦横
比（Ｖ／Ｈ）が１より小さい形状の開口７６が形成され
ている。

【００７５】このように構成された第４グリッドＧ４の
内、図４及び図６に示すように第２電極Ｇ４ｂにフォー
カス固定電圧ＦＣ（Forcusvoltage Constant）を供給
し、第１電極Ｇ４ａ及び第３電極Ｇ４ｃに偏向周期に同
期したフォーカス可変電圧ＦＶ（Forcusvoltage Variab
le）を供給することにより、メインレンズ部２６に静電
四重極Ｑｐ１を形成し、ビームスポットの形状を水平軸
方向では発散形に且つ垂直軸方向では集束形にしてい
る。この可変電圧ＦＶを適宜補正して、四重極の強さ及
びメインレンズＭＬの強さを調整することにより、蛍光
面（画像）センターでのフォーカスを劣化させることな
く、画像周辺部でのフォーカスを改善維持することもで
きる。

【００７６】電磁四重極の代わりに静電四重極を用いた
メリットは、電磁四重極ではコイルを駆動する電流発生
手段を別途設けなければならず、このため四重極Ｑｐ１
を静電四重極とした方が電子銃２２の構成が簡単にな
り、製造コストが廉価になる点にある。

【００７７】第２の電磁四重極Ｑｐ２は電磁石２５，２
５′（図４）から構成されるが、これは図１に示す第１
の実施例の第２の電磁四重極Ｑｐ２と同じものであり、
ビームスポットの形状を水平軸方向では集束形に且つ垂
直軸方向では発散形にしている。従って、例えば、図２
の直流電圧源Ｅの極性を反対にすることにより構成し得
る。勿論、上述したように第２の電磁四重極Ｑｐ２を永
久磁石で構成することもできる。なお、この第２の電磁
四重極Ｑｐ２を、第１の静電四重極と同じように適当な
グリッドを設けることにより、静電四重極とすることも
可能である。

【００７８】このように第１の四重極Ｑｐ１は静電四重
極、第２の四重極Ｑｐ２は電磁コイル（又は永久磁石）
によって形成することが出来る。四重極レンズの位置と
しては、Ｑｐ１はメインレンズＭＬ２６の近傍に、Ｑｐ
２はメインレンズ部２６と蛍光面（図示せず。）の間に
位置していればよい。本第２の実施例は、図３を用いて
説明した実施例の原理において第１の軸非対象レンズＱ
ｐ１の位置が限りなくメインレンズＭＬの位置に接近し
た場合に相当し、この実施例の原理はそのまま適用され
る。従って、実施例の原理として記述したのと同様の作
用・効果を奏している。

【００７９】また、第１の実施例と同様に、第１及び第
２の四重極Ｑｐ１，Ｑｐ２の強度（レンズパワー）との
相対的関係によって所定の縦長形状のビームスポットが
達成できるため、第１及び第２のグリッドＧ１，Ｇ２の
開口部形状は丸形形状でも縦長形状でも任意に選択する
こともできる。

【００８０】更に、第１の四重極Ｑｐ１及び第２の四重
極Ｑｐ２の双方又はいずれか一方の強さを、偏向周期に
同期した電流又は電圧信号によりダイナミックに変調し
て、画面各位置のスポット形状を補正し、画面全域での
ビームスポットを最適化することも出来る。

【００８１】以上、本発明に係る実施例に関して説明し
たが、本発明は上述の実施例に限定されることなく、当
業者ならば取り得る種々の改良・変更を成し得ることは
勿論である。

【００８２】即ち、本発明にかかるビームインデックス
形陰極線管は、光学レンズ系として表現したとき、この
陰極線管に使用される電子銃が、メインレンズＭＬを有
し、更に、メインレンズＭＬ上又はメインレンズＭＬに
対して物点ａ寄りの位置に、ビームスポットの形状を水
平軸方向では発散形に且つ垂直軸方向では集束形にする
第１の軸非対称レンズＱｐ１と、メインレンズＭＬに対
して結像点ｆ寄りの位置に、ビームスポットの形状を水
平軸方向では集束形に且つ垂直軸方向では発散形にする
第２の軸非対称レンズＱｐ１とを備え、結像点ｆにおけ
るビームスポットの形状の水平軸方向寸法を相対的に縮
小したことを特徴とするビームインデックス形陰極線管
である。

【００８３】上述した第１の実施例では、第１及び第２
の軸非対称レンズＱｐ１，Ｑｐ２を電磁四重極，電磁四
重極で夫々実現し、また第２の実施例では、第１及び第
２の軸非対称レンズＱｐ１，Ｑｐ２を静電四重極，電磁
四重極で夫々実現している。従って、これら軸非対称レ
ンズとして、他の電子レンズ手段を採択しても、その作
用が実質的に同じである限りそのような発明は本発明と
均等なものである。

【００８４】本発明の技術的範囲は、特許請求の範囲に
基づいて定められる。

【００８５】

【発明の効果】本発明によれば、カソードローディング
等を少なくても従来のレベルに維持しながら、水平方向
寸法を一層減少したビームスポットを形成し得る電子銃
を備えたビームインデックス形陰極線管を提供すること
が可能となる。

【００８６】更に本発明は、この電子銃を使用すること
により、一層精細な画像を実現し得るビームインデック
ス形陰極線管を提供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る第１の実施例のビームインデック
ス形陰極線管の要部断面図である。

【図２】第１図に示す第１の実施例のビームインデック
ス形陰極線管に用いられる電磁四重極を説明する図であ
る。

【図３】本発明に係る実施例の原理を光学レンズ系で説
明した図である。

【図４】本発明に係る第２の実施例のビームインデック
ス形陰極線管の要部断面図である。

【図５】図４に示す第２の実施例のビームインデックス
形陰極線管の電子銃の一部分を示す斜視図である。

【図６】図５に示す電子銃の第４グリッドの断面図であ
る。

【図７】図５に示す電子銃の第４グリッドを構成する各
電極に設けられた開口部を説明する図でる。

【図８】従来のシャドウマスク管の特徴を説明する図で
ある。

【図９】本発明に係るビームインデックス管の特徴を説
明する図である。

【図１０】ビームインデックス管のビームスポット形状
と螢光体寸法の関係を説明する図である。

【図１１】ビームインデックス管の電子銃の一部の構成
を説明する図である。

【符号の説明】

２１ ファンネルガラス ２２ 電子銃 ２３ ネック部 ２４，２４′ 第１の電磁四重極 ２５，２５′ 第２の電磁四重極 ２６ メインレンズ部 ２７ ステム部 ２８ ファンネル部 ８３ シャドウマスク ａ 物点 ｆ 結像点 Ｇ１ 第１のグリッド Ｇ２ 第２のグリッド Ｇ３ 第３のグリッド Ｇ４ 第４のグリッド Ｇ４ａ 第１電極 Ｇ４ｂ 第２電極 Ｇ４ｃ 第３電極 Ｇ５ 第５のグリッド Ｑｐ１ 第１の四重極（第１の電磁四重極，第１の静電
四重極） Ｑｐ２ 第２の四重極（第２の電磁四重極） ＭＬ メインレンズ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ビームインデックス形陰極線管におい
   て、該陰極線管に使用される電子銃が、 少なくともメインレンズとして作用するグリッドと、 上記メインレンズ上又は該メインレンズに対してカソー
   ド寄りの位置に配され、ビームスポットの形状を水平軸
   方向では発散形に且つ垂直軸方向では集束形にする第１
   の四重極と、 上記メインレンズに対して蛍光面寄りの位置に配され、
   ビームスポットの形状を水平軸方向では集束形に且つ垂
   直軸方向では発散形にする第２の四重極とを備え、 上記蛍光面におけるビームスポットの形状の水平軸方向
   寸法を相対的に縮小することを特徴とするビームインデ
   ックス形陰極線管。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のビームインデックス形
   陰極線管において、 上記第１の四重極は、上記メインレンズに対してカソー
   ド寄りの位置に配され、ビームスポットの形状を水平軸
   方向では発散形に且つ垂直軸方向では集束形にする磁界
   を形成する電磁四重極であり、 上記第２の四重極は、ビームスポットの形状を水平軸方
   向では集束形に且つ垂直軸方向では発散形にする磁界を
   形成する電磁四重極であることを特徴とするビームイン
   デックス形陰極線管。
3. 【請求項３】 請求項１に記載のビームインデックス形
   陰極線管において、 上記第１の四重極は、上記メインレンズ上の位置に配さ
   れ、ビームスポットの形状を水平軸方向では発散形に且
   つ垂直軸方向では集束形にする電界を形成する静電四重
   極であり、 上記第２の四重極は、ビームスポットの形状を水平軸方
   向では集束形に且つ垂直軸方向では発散形にする磁界を
   形成する電磁四重極であることを特徴とするビームイン
   デックス形陰極線管。
4. 【請求項４】 請求項３に記載のビームインデックス形
   陰極線管において、 熱電子を放出するカソードと、 電子レンズ系として作用する少なくとも第１，第２，第
   ３，第４及び第５のグリッドと備え、 上記メインレンズは、上記第３，第４及び第５のグリッ
   ドによって上記第４のグリッドの近傍に形成され、 上記静電四重極は、上記第４のグリッドによって形成さ
   れ、 上記電磁四重極は、ビーム通路周囲に設けられた磁界発
   生手段により形成されているビームインデックス形陰極
   線管。
5. 【請求項５】 請求項３又は４に記載されたビームイン
   デックス形陰極線管において、 上記静電四重極を形成する上記第４のグリッドは、上記
   電子銃の軸に対して同軸関係に並置された３つの電極か
   ら形成され、 両端の該電極は各々、縦横比が１より小さい寸法の開口
   を有し、 真ん中の該電極は、縦横比が１より大きい寸法の開口を
   有しているビームインデックス形陰極線管。
6. 【請求項６】 請求項１乃至５のいずれか一項に記載さ
   れたビームインデックス形陰極線管において、 上記電磁四重極及び静電四重極の双方又はいずれか一方
   の強さを、偏向周期に同期した電流又は電圧信号により
   ダイナミックに変調して、画面各位置のスポット形状を
   補正しているビームインデックス形陰極線管。