JPH08203023A - Production of magnetic head - Google Patents

Production of magnetic head

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JPH08203023A
JPH08203023A JP1477895A JP1477895A JPH08203023A JP H08203023 A JPH08203023 A JP H08203023A JP 1477895 A JP1477895 A JP 1477895A JP 1477895 A JP1477895 A JP 1477895A JP H08203023 A JPH08203023 A JP H08203023A
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JP
Japan
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magnetic
groove
magnetic core
etching
substrate
Prior art date
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JP1477895A
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Japanese (ja)
Inventor
Teruyuki Inaguma
輝往 稲熊
Norikatsu Fujisawa
憲克 藤澤
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPH08203023A publication Critical patent/JPH08203023A/en
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Abstract

PURPOSE: To improve the magnetic characteristics by suppressing the generation of foam generated in a glass part constituting magnetic head and sufficiently obtaining the insulation between the magnetic films of magnetic core formed by laminating plural magnetic metallic films via insulating films. CONSTITUTION: Magnetic core grooves 1a are first formed on a substrate 1 and the working surfaces of these grooves are etched. Next, magnetic layers 2 to constitute the magnetic cores are formed on this substrate 1. Winding grooves 1b and separating grooves 1c are then formed and the working surfaces of these grooves are etched. Glass 3 is packed into the magnetic core grooves 1a, the winding grooves 1b and the separating grooves 1c. Thin-film coils 4 are formed so that the winding grooves 1b pass the glass 3 parts to form a magnetic core half body block.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコー
ダ、ビデオカセットレコーダ、磁気ディスク装置等に好
適な磁気ヘッドの製造方法に関し、特にコイルを薄膜工
程により形成して成る磁気ヘッドの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic head suitable for a video tape recorder, a video cassette recorder, a magnetic disk device and the like, and more particularly to a method of manufacturing a magnetic head in which a coil is formed by a thin film process.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ビデオテープレコーダ、ビデオカ
セットレコーダ、磁気ディスク装置等といったデータス
トレージを担う磁気記録分野において、情報信号の高密
度記録化が進んでいる。そのため、記録再生を担う磁気
ヘッドに対しては、磁気コアの小型化による高効率化、
コイルの薄膜化による低インダクタンス化が要求され、
これに伴い磁気ヘッドの加工も複雑かつ精密になってい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, high density recording of information signals has been advanced in the field of magnetic recording such as video tape recorders, video cassette recorders, magnetic disk devices, etc. Therefore, for a magnetic head that is responsible for recording and reproduction, high efficiency is achieved by downsizing the magnetic core,
Low inductance is required by thinning the coil,
Along with this, processing of the magnetic head has become complicated and precise.

【0003】このような薄膜コイルを用いた小型の磁気
ヘッドを作製する際は、例えば、先ず、非磁性体から成
る基板上に、磁気コアの形状に沿った溝(以下、磁気コ
ア溝という。)を砥石等により研削加工して磁気コア形
成面を形成する。次に、磁気コア溝が形成された基板上
に、磁気コアとなる磁性層を成膜する。ここで、磁性層
は、単一の磁性膜だけから成るとは限らず、渦電流損を
低減するために、絶縁膜を介して複数の金属磁性膜を積
層した積層構造とされる場合もある。次に、磁性層が成
膜された基板上に、薄膜コイルを形成するための溝(以
下、巻線溝という。)と、磁性層を磁気コア毎に分離す
るための溝(以下、分離溝という。)とを砥石等により
形成する。次に、磁気コア溝、巻線溝及び分離溝に低融
点のガラスを融解充填して表面を平滑化するとともに、
ガラス部分に巻線溝を通るように薄膜コイルを形成す
る。以上のようにして、基板上に磁気コア及び薄膜コイ
ルが形成された磁気ヘッド半体が作製される。そして、
このように作製された一対の磁気ヘッド半体を磁気コア
が対向するように、磁気ギャップを介して接合した後、
所定の形状に加工することにより、磁気ヘッドが作製さ
れる。
When manufacturing a small magnetic head using such a thin film coil, for example, first, a groove (hereinafter referred to as a magnetic core groove) along the shape of a magnetic core is formed on a substrate made of a non-magnetic material. ) Is ground with a grindstone or the like to form a magnetic core forming surface. Next, a magnetic layer to be a magnetic core is formed on the substrate on which the magnetic core groove is formed. Here, the magnetic layer is not limited to a single magnetic film, and may have a laminated structure in which a plurality of metal magnetic films are laminated with an insulating film interposed therebetween in order to reduce eddy current loss. . Next, a groove for forming a thin film coil (hereinafter referred to as a winding groove) and a groove for separating the magnetic layer for each magnetic core (hereinafter referred to as a separation groove) are formed on the substrate on which the magnetic layer is formed. And) are formed by a grindstone or the like. Next, the magnetic core groove, the winding groove, and the separation groove are melt-filled with glass having a low melting point to smooth the surface,
A thin film coil is formed so as to pass through the winding groove in the glass portion. As described above, the magnetic head half body in which the magnetic core and the thin film coil are formed on the substrate is manufactured. And
After joining the pair of magnetic head halves thus produced, through the magnetic gap so that the magnetic cores face each other,
A magnetic head is manufactured by processing it into a predetermined shape.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な磁気ヘッドでは、磁気コア溝、巻線溝及び分離溝を砥
石等により形成するが、砥石等による機械加工では、加
工面を十分に滑らかにすることは難しく、加工面は荒れ
た状態となってしまう。そのため、砥石等による機械加
工の後には、加工面に鏡面処理を施すことが好ましい。
しかし、溝の加工面を鏡面処理することは大変難しく、
現状では、これらの溝を形成した後は有機溶剤等により
洗浄するのみである。したがって、これらの溝の加工面
は、滑らかではなく、荒れが残った状態となってしまっ
ている。
By the way, in the magnetic head as described above, the magnetic core groove, the winding groove and the separation groove are formed by a grindstone or the like. It is difficult to do so, and the processed surface becomes rough. Therefore, it is preferable to perform mirror finishing on the machined surface after machining with a grindstone or the like.
However, it is very difficult to mirror-finish the processed surface of the groove,
At present, after forming these grooves, cleaning is only performed with an organic solvent or the like. Therefore, the processed surfaces of these grooves are not smooth and are in a state where roughness remains.

【0005】しかし、このような荒れが残っていると、
ガラスをこれらの溝に充填する際に、溝の加工面の荒れ
に誘発されてガラスに泡が発生してしまう。そして、こ
のような泡は、薄膜コイル形成時にショートや断線の原
因となったり、磁気ヘッドを形成したときの摺動面の荒
れや耐久性の劣化等の原因となったりしてしまう。
However, if such roughness remains,
When glass is filled into these grooves, bubbles are generated in the glass due to the roughness of the processed surface of the grooves. Then, such bubbles may cause a short circuit or disconnection during the formation of the thin film coil, or may cause the sliding surface to be rough or the durability to deteriorate when the magnetic head is formed.

【0006】さらに、磁性層が、絶縁膜を介して複数の
金属磁性膜を積層した積層構造である場合に、分離溝や
巻線溝の加工面が荒れていると、分離溝や巻線溝の加工
面の一部である磁性層の断面部分も荒れた状態となり、
磁性層の断面部分において金属磁性膜が隣接する絶縁膜
を越えて他の金属磁性膜と電気的に導通してしまう恐れ
がある。そして、金属磁性膜が隣接する絶縁膜を越えて
電気的に導通すると、積層構造をとることによる渦電流
損の低減効果が減少してしまうという問題が生じる。
Further, in the case where the magnetic layer has a laminated structure in which a plurality of metal magnetic films are laminated with an insulating film interposed, if the processed surface of the separation groove or the winding groove is rough, the separation groove or the winding groove is formed. The cross-section of the magnetic layer, which is part of the processed surface of, becomes rough,
In the cross-section of the magnetic layer, the metal magnetic film may cross the adjacent insulating film and be electrically connected to another metal magnetic film. Then, when the metal magnetic film is electrically conducted beyond the adjacent insulating film, there arises a problem that the effect of reducing the eddy current loss due to the laminated structure is reduced.

【0007】また、磁性層を成膜する際も、磁気コア溝
が形成された基板の表面性は非常に重要であり、磁気コ
ア溝の加工面、すなわち磁気コア形成面が荒れている
と、磁性層が均一に成膜されずに、磁気コアの磁気特性
が劣化してしまう。
Also, when the magnetic layer is formed, the surface property of the substrate on which the magnetic core groove is formed is very important, and if the processed surface of the magnetic core groove, that is, the magnetic core formation surface is rough, The magnetic layer is not uniformly formed, and the magnetic characteristics of the magnetic core deteriorate.

【0008】そこで本発明は、従来のこのような実情に
鑑みて提案されたものであり、磁気ヘッド半体を作製す
る際にガラスにあまり泡が発生することがなく、ガラス
中の泡による不良が生じにくい磁気ヘッドの製造方法を
提供するとともに、磁性層を積層構造としたとき金属磁
性膜間の絶縁が十分に図られる磁気ヘッドの製造方法を
提供することを目的とする。さらに、本発明は、磁性層
を均一に成膜することができ、磁気特性に優れた磁気ヘ
ッドを製造することができる磁気ヘッドの製造方法を提
供することも目的とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of such a conventional situation, and bubbles are not generated much in the glass when the magnetic head half body is manufactured, and the defects due to the bubbles in the glass are not generated. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a magnetic head in which the occurrence of the magnetic field is less likely to occur, and a method of manufacturing a magnetic head in which insulation between metal magnetic films is sufficiently achieved when a magnetic layer has a laminated structure. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a magnetic head, which can form a magnetic layer uniformly and can manufacture a magnetic head having excellent magnetic characteristics.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
め、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、一対の磁気ヘッ
ド半体を接合して成る磁気ヘッドの製造方法であって、
非磁性体から成る基板上に、磁気コア溝を研削加工して
磁気コア形成面を形成し、上記磁気コア形成面上に、磁
気コアとなる磁性層を形成し、上記磁性層が形成された
基板上に、薄膜コイルを配するための巻線溝と、磁性層
を磁気コア毎に分離する分離溝を形成し、上記巻線溝及
び分離溝の加工面をエッチングし、上記磁気コア溝、巻
線溝及び分離溝に、ガラスを充填し、上記ガラス部分
に、巻線溝を通るように薄膜コイルを形成して、磁気ヘ
ッド半体を作製することを特徴とする。
In order to achieve the above-mentioned object, a method of manufacturing a magnetic head according to the present invention is a method of manufacturing a magnetic head comprising a pair of magnetic head halves joined together.
A magnetic core groove was ground to form a magnetic core forming surface on a substrate made of a non-magnetic material, and a magnetic layer serving as a magnetic core was formed on the magnetic core forming surface, and the magnetic layer was formed. On the substrate, a winding groove for arranging the thin film coil and a separation groove for separating the magnetic layer for each magnetic core are formed, and the processed surface of the winding groove and the separation groove is etched to form the magnetic core groove, It is characterized in that the winding groove and the separation groove are filled with glass, and a thin film coil is formed in the glass portion so as to pass through the winding groove to produce a magnetic head half body.

【0010】ここで、巻線溝及び分離溝の加工面のエッ
チングは、例えば、イオンエッチングやウエットエッチ
ング、あるいは微粒子を被エッチング加工物質に向けて
噴射することでエッチング加工を行うパウダービームエ
ッチング等により行えばよい。
Here, the etching of the processed surface of the winding groove and the separation groove is performed by, for example, ion etching, wet etching, or powder beam etching in which fine particles are jetted toward the material to be etched to perform etching processing. Just go.

【0011】また、磁気コア形成面も、例えば、イオン
エッチング、ウエットエッチング又はパウダービームエ
ッチング等により、エッチングしたほうがよい。
The magnetic core forming surface should also be etched by, for example, ion etching, wet etching or powder beam etching.

【0012】なお、前記磁性層は、絶縁膜を介して複数
の金属磁性膜を積層した積層構造とされていてもよい。
The magnetic layer may have a laminated structure in which a plurality of metallic magnetic films are laminated with an insulating film interposed therebetween.

【0013】[0013]

【作用】本発明では、機械加工によって磁気コア溝を形
成した後や、巻線溝及び分離溝を形成した後に、これら
の溝の加工面をエッチングすることにより、これらの溝
の加工面の平滑化が成される。したがって、これらの溝
にガラスを充填する際に生じる泡の発生が抑えられる。
According to the present invention, after the magnetic core grooves are formed by machining or the winding grooves and the separation grooves are formed, the processed surfaces of these grooves are etched to smooth the processed surfaces of these grooves. Is made. Therefore, the generation of bubbles generated when filling these grooves with glass is suppressed.

【0014】また、磁性層が、絶縁膜を介して複数の金
属磁性膜を積層した積層構造である場合には、分離溝や
巻線溝の加工面の一部である磁性層の断面部分も平滑化
されるため、金属磁性膜間の絶縁が十分に図られる。
When the magnetic layer has a laminated structure in which a plurality of metal magnetic films are laminated with an insulating film interposed, the cross-section of the magnetic layer, which is a part of the processed surface of the separation groove or the winding groove, is also included. Since it is smoothed, insulation between the metal magnetic films is sufficiently achieved.

【0015】さらに、磁気コア溝の加工面である磁気コ
ア形成面をエッチングすることにより、磁気コア形成面
の平滑化が成される。したがって、磁気コア形成面上に
成膜される磁性層が均一に成膜される。
Further, by etching the magnetic core forming surface which is the processed surface of the magnetic core groove, the magnetic core forming surface is smoothed. Therefore, the magnetic layer formed on the magnetic core formation surface is uniformly formed.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて、図面を参照しながら詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail below with reference to the drawings.

【0017】本実施例で作製される磁気ヘッドは、ビデ
オテープレコーダやビデオカセットレコーダ等に用いら
れる磁気ヘッドであり、図1及び図2に示すように、一
対の磁気ヘッド半体10a,10bが、磁気ギャップg
を介して突き合わさるようにして、接合一体化されて成
る。ここで、磁気ヘッド半体10a,10bは、基板1
と、基板1上に成膜され磁気コアとして機能する磁性層
2と、磁性層2上に充填されたガラス3と、ガラス3部
分に薄膜形成プロセスによって形成された薄膜コイル4
とを有して成る。そして、一対の磁気コア半体ブロック
10a,10bは、それぞれの磁性層2が突き合わさ
り、それぞれの磁性層2間にフロントギャップfgとバ
ックギャップbgが形成されるように、非磁性体を介し
て接合される。
The magnetic head manufactured in this embodiment is a magnetic head used in a video tape recorder, a video cassette recorder, etc., and as shown in FIGS. 1 and 2, a pair of magnetic head halves 10a and 10b are used. , Magnetic gap g
They are joined and integrated so as to abut each other. Here, the magnetic head halves 10a and 10b are the substrate 1
A magnetic layer 2 formed on the substrate 1 to function as a magnetic core; a glass 3 filled on the magnetic layer 2; and a thin film coil 4 formed on the glass 3 portion by a thin film forming process.
And. Then, in the pair of magnetic core half blocks 10a and 10b, the respective magnetic layers 2 are abutted with each other, and a front gap fg and a back gap bg are formed between the respective magnetic layers 2, with a non-magnetic material interposed therebetween. To be joined.

【0018】以下、このような磁気ヘッドの製造方法に
ついて詳細に説明する。
A method of manufacturing such a magnetic head will be described in detail below.

【0019】先ず、図3に示すような、MnO−NiO
系等の非磁性体から成る基板1を用意する。ここで、基
板1の大きさは、例えば、長さ約30mm、幅約30m
m、厚さ約2mmとする。
First, as shown in FIG. 3, MnO--NiO.
A substrate 1 made of a non-magnetic material such as a system is prepared. Here, the size of the substrate 1 is, for example, about 30 mm in length and about 30 m in width.
m and the thickness is about 2 mm.

【0020】次に、図4に示すように、基板1上に、磁
気コアが形成される傾斜面、すなわち磁気コア形成面を
形成するために、複数の磁気コア溝1aを、磁気コア溝
1a内の一方の面が傾斜面となるように、平行かつ等間
隔に形成する。この磁気コア溝1aは、例えば、片面を
約45度に成型した研削砥石を用いて、深さが約130
μm、幅が約150μm、傾斜面の傾きが約45度とな
るように、数十本形成する。ここで、傾斜面の傾きは、
45度でなくてもよいが、疑似ギャップやトラック幅精
度を考慮すると45度程度が好ましい。
Next, as shown in FIG. 4, in order to form an inclined surface on which a magnetic core is formed, that is, a magnetic core forming surface, a plurality of magnetic core grooves 1a are formed on the substrate 1. It is formed in parallel and at equal intervals so that one of the inner surfaces becomes an inclined surface. The magnetic core groove 1a has a depth of about 130, for example, using a grinding wheel having one surface molded at about 45 degrees.
Dozens of them are formed so that the width is about 150 μm, the inclination of the inclined surface is about 45 degrees. Here, the inclination of the inclined surface is
The angle need not be 45 degrees, but is preferably about 45 degrees in consideration of the pseudo gap and the track width accuracy.

【0021】このとき、磁気コア溝1aは研削砥石等に
よって形成されるため、図5に示すように、磁気コア溝
1aの加工面は荒れた状態となっている。特に、耐摩耗
性に優れたMnO−NiO系の基板の場合は加工性が悪
いため、研削砥石等による加工面は非常に荒れた状態と
なりやすい。そして、このような荒れが存在すると、後
工程で磁性層2を均一に形成することができなくなって
しまうとともに、後工程でガラス3を充填する際に、ガ
ラス3に泡が発生しやすくなるため、磁気コア溝1aの
加工面を平滑化することが好ましい。しかしながら、磁
気コア溝1aが形成された基板1は、複雑な形状となっ
ているため、通常の鏡面処理で磁気コア溝1aの加工面
を平滑化するのは大変難しい。
At this time, since the magnetic core groove 1a is formed by a grinding wheel or the like, the processed surface of the magnetic core groove 1a is in a rough state as shown in FIG. In particular, in the case of a MnO—NiO-based substrate having excellent wear resistance, the workability is poor, and therefore the work surface of a grinding wheel or the like is likely to become extremely rough. When such roughness exists, it becomes impossible to uniformly form the magnetic layer 2 in the subsequent step, and bubbles tend to be generated in the glass 3 when the glass 3 is filled in the subsequent step. It is preferable to smooth the processed surface of the magnetic core groove 1a. However, since the substrate 1 on which the magnetic core groove 1a is formed has a complicated shape, it is very difficult to smooth the processed surface of the magnetic core groove 1a by a normal mirror surface treatment.

【0022】そこで、本実施例では、基板1の表面をエ
ッチングして、磁気コア溝1aの加工面を平滑化する。
Therefore, in this embodiment, the surface of the substrate 1 is etched to smooth the processed surface of the magnetic core groove 1a.

【0023】具体的には、例えば、基板1の全面に、A
rガス雰囲気中で約1時間、イオンエッチングを施す。
ただし、イオンエッチングの時間やガスの種類は、基板
の種類や形状、及び表面の粗さによって適宜変化させれ
ばよいことは言うまでもない。又は、例えば、基板1の
全面に、大気中で約1時間、パウダーを高速で基板1の
表面に向けて射出して、パウダービームエッチングを施
す。ここで、パウダーの大きさは100〜500μm程
度の大きさが適当である。ただし、パウダービームエッ
チングの時間やパウダーの種類は、基板1の種類や形
状、及び表面の粗さによって適宜変化させればよいこと
は言うまでもない。なお、エッチングは、このようなイ
オンエッチングやパウダービームエッチングに限られる
ものではなく、ウエットエッチング等によって行っても
よい。
Specifically, for example, on the entire surface of the substrate 1, A
Ion etching is performed in an r gas atmosphere for about 1 hour.
However, it goes without saying that the ion etching time and the type of gas may be appropriately changed depending on the type and shape of the substrate and the surface roughness. Alternatively, for example, powder is injected toward the surface of the substrate 1 at high speed over the entire surface of the substrate 1 in the atmosphere for about 1 hour to perform powder beam etching. Here, the size of the powder is preferably about 100 to 500 μm. However, it goes without saying that the time for powder beam etching and the type of powder may be appropriately changed depending on the type and shape of the substrate 1 and the surface roughness. The etching is not limited to such ion etching or powder beam etching, but may be wet etching or the like.

【0024】このように基板1の表面をエッチングする
ことにより、図6に示すように、基板1の表面が平滑化
されるので、後工程で磁性層2を均一に形成することが
できるようになるとともに、後工程でガラス3を充填す
る際に、ガラス3に泡が発生しにくくなる。
By etching the surface of the substrate 1 in this manner, the surface of the substrate 1 is smoothed as shown in FIG. 6, so that the magnetic layer 2 can be uniformly formed in a later step. At the same time, bubbles are less likely to be generated in the glass 3 when the glass 3 is filled in the subsequent step.

【0025】次に、磁気コア溝1aが形成された基板1
上に、図7に示すように、磁性層2を形成する。ここ
で、磁性層2は、単一の磁性膜から成るものであっても
よいが、高周波領域において高感度を持たせるために
は、複数の金属磁性膜を絶縁膜を介して積層して形成し
たほうがよい。ただし、このように磁性層2を積層構造
とする場合、絶縁膜の厚みは、十分な絶縁効果が得られ
る程度の厚みが必要があるとともに、絶縁膜が疑似ギャ
ップとして作用しないようになるべく薄くする必要があ
る。
Next, the substrate 1 on which the magnetic core groove 1a is formed
As shown in FIG. 7, the magnetic layer 2 is formed thereon. Here, the magnetic layer 2 may be composed of a single magnetic film, but in order to have high sensitivity in a high frequency region, a plurality of metal magnetic films are laminated by interposing an insulating film. You had better. However, in the case where the magnetic layer 2 has a laminated structure as described above, the thickness of the insulating film needs to be such that a sufficient insulating effect can be obtained, and is made as thin as possible so that the insulating film does not act as a pseudo gap. There is a need.

【0026】そこで、本実施例では、磁性層2は、セン
ダスト(Fe−Al−Si合金)から成る厚さ約5μm
の金属磁性膜と、アルミナから成る厚さ約0.15μm
の絶縁膜とを、金属磁性膜が3層となるように交互に積
層させて形成した。このように、磁性層2を積層構造と
することにより、渦電流損が低減し、特に高周波領域に
おいて、より高い感度を得ることができる。
Therefore, in this embodiment, the magnetic layer 2 is made of sendust (Fe-Al-Si alloy) and has a thickness of about 5 μm.
Made of alumina and a metal magnetic film of about 0.15 μm thick
And the insulating film of No. 1 were alternately laminated so that the metal magnetic film had three layers. As described above, by forming the magnetic layer 2 into a laminated structure, eddy current loss is reduced, and higher sensitivity can be obtained especially in a high frequency region.

【0027】なお、磁性層2の成膜方法は、スパッタリ
ングが好適であるが、蒸着や分子線エピタキシー(MB
E)等のようなスパッタリング以外の物理的な成膜方法
(PVD)や、化学的な成膜方法(CVD)等を用いて
もよい。
As a method for forming the magnetic layer 2, sputtering is preferable, but vapor deposition or molecular beam epitaxy (MB
A physical film forming method (PVD) other than sputtering such as E) or a chemical film forming method (CVD) may be used.

【0028】また、金属磁性膜の材質は、センダストが
好適であるが、その他の金属磁性体、例えば、センダス
トに類似した合金、窒化系軟磁性合金、炭化系軟磁性合
金等も使用可能である。また、絶縁膜も、アルミナに限
定されるものではなく、SiO2 やSiO、あるいはこ
れらを混合させたもの等も使用可能である。
The material of the metal magnetic film is preferably sendust, but other metal magnetic materials such as an alloy similar to sendust, a nitriding type soft magnetic alloy, and a carbonizing type soft magnetic alloy can also be used. . Also, the insulating film is not limited to alumina, and SiO 2 , SiO, or a mixture thereof can be used.

【0029】次に、図8に示すように、磁気コア溝1a
に対して直角に、薄膜コイル4を配するための巻線溝1
bと、磁性層3を磁気コア毎に分離する分離溝1cを形
成する。
Next, as shown in FIG. 8, the magnetic core groove 1a is formed.
Winding groove 1 for arranging thin film coil 4 at right angles to
b and a separation groove 1c for separating the magnetic layer 3 for each magnetic core are formed.

【0030】ここで、巻線溝1bは、上述した図2に示
すように、フロントギャップ側の磁性層2がフロントギ
ャップfgに向けて斜めに絞り込んだ形となるように、
例えば、巻線溝1bのフロントギャップ側を約45度の
斜面を持つ砥石で形成する。このように、フロントギャ
ップ側の磁性層2がフロントギャップfgに向けて絞り
込んだ形となっていると、磁束が集中して高い記録感度
が得られる。ただし、巻線溝1bの形状は、フロントギ
ャップ側の磁性層2がフロントギャップfgに向けて絞
り込んだ形となっていれば、巻線溝1bのフロントギャ
ップ側の斜面の角度は45度でなくても構わないし、さ
らには、巻線溝1bのフロントギャップ側の形状は円弧
状や多角形状であっても構わない。また、巻線溝1bの
深さは、磁性層2が分断されない深さであればよいが、
深すぎると、磁路長が大きくなり磁束伝達効率が下がっ
てしまう。そこで、本実施例では、磁気コア溝1aの斜
面の頂点から20μm程度の深さまで巻線溝1bを形成
した。そして、巻線溝1bの幅は、後工程で形成する薄
膜コイル4の幅と巻線数によって決定され、本実施例で
は、約140μmとした。
Here, as shown in FIG. 2, the winding groove 1b is formed such that the magnetic layer 2 on the front gap side is slanted toward the front gap fg.
For example, the front gap side of the winding groove 1b is formed by a grindstone having a slope of about 45 degrees. As described above, when the magnetic layer 2 on the front gap side is narrowed toward the front gap fg, the magnetic flux is concentrated and high recording sensitivity is obtained. However, if the shape of the winding groove 1b is such that the magnetic layer 2 on the front gap side is narrowed toward the front gap fg, the angle of the slope on the front gap side of the winding groove 1b is not 45 degrees. Further, the shape of the winding groove 1b on the front gap side may be an arc shape or a polygonal shape. Further, the depth of the winding groove 1b may be a depth that does not divide the magnetic layer 2,
If it is too deep, the magnetic path length increases and the magnetic flux transmission efficiency decreases. Therefore, in this embodiment, the winding groove 1b is formed to a depth of about 20 μm from the apex of the slope of the magnetic core groove 1a. The width of the winding groove 1b is determined by the width of the thin-film coil 4 and the number of windings to be formed in a later step, and in this embodiment, it is set to about 140 μm.

【0031】一方、分離溝1cは、磁性層2が分断され
ていれば任意の形状でよく、例えば、加工が容易な矩形
とする。この分離溝1cの深さは、磁性層2が完全に分
断されるだけの深さが必要であり、本実施例では、磁気
コア溝1aの底辺から約150μmの深さまで分離溝1
cを形成した。また、分離溝1cの幅は、所望する磁気
ヘッドのフロントギャップfgの長さとバックギャップ
bgの長さの兼ね合いによって決定される。ただし、フ
ロントギャップ側の磁性層2の長さは、最終的に磁気ヘ
ッドを所定の形状に加工する際に媒体摺動面をラップす
るため、最終的に所望するフロントギャップfgの長さ
よりも長めに設定して、分離溝1cを形成する。そこ
で、本実施例では、フロントギャップ側の磁性層2の長
さが約300μm、バックギャップ側の磁性層2の長さ
が約85μmとなるよう分離溝1cを形成した。
On the other hand, the separation groove 1c may have any shape as long as the magnetic layer 2 is divided, and has, for example, a rectangular shape that can be easily processed. The depth of the separation groove 1c needs to be such that the magnetic layer 2 is completely divided. In the present embodiment, the separation groove 1c extends from the bottom of the magnetic core groove 1a to a depth of about 150 μm.
c was formed. The width of the separation groove 1c is determined by the desired balance between the length of the front gap fg and the length of the back gap bg of the magnetic head. However, the length of the magnetic layer 2 on the front gap side is longer than the finally desired length of the front gap fg because the medium sliding surface is lapped when the magnetic head is finally processed into a predetermined shape. And the separation groove 1c is formed. Therefore, in this example, the separation groove 1c is formed so that the length of the magnetic layer 2 on the front gap side is about 300 μm and the length of the magnetic layer 2 on the back gap side is about 85 μm.

【0032】このように形成された巻線溝1bと分離溝
1cも、磁気コア溝1aと同様に研削砥石等によって形
成されるため、加工面は荒れた状態となっている。そし
て、このような荒れが存在すると、例えば、巻線溝1b
部分を拡大した図9に示すように、加工面の一部である
磁性層2の断面部分1dも荒れた状態となっており、こ
のような磁性層2の断面部分1dにおいて金属磁性膜が
隣接する絶縁膜を越えて他の金属磁性膜と電気的に導通
してしまう恐れがあるとともに、後工程でガラス3を充
填する際にガラスに泡が発生しやすくなる。したがっ
て、巻線溝1b及び分離溝1cの加工面を平滑化するこ
とが好ましい。しかしながら、巻線溝1b及び分離溝1
cが形成された基板1は、複雑な形状となっているた
め、通常の鏡面処理で、巻線溝1b及び分離溝1cの加
工面を平滑化するのは大変難しい。
Since the winding groove 1b and the separation groove 1c thus formed are also formed by a grinding wheel or the like like the magnetic core groove 1a, the processed surface is rough. When such a roughness exists, for example, the winding groove 1b
As shown in the enlarged view of FIG. 9, the cross-section 1d of the magnetic layer 2 which is a part of the processed surface is also in a rough state, and the metal magnetic film is adjacent to the cross-section 1d of the magnetic layer 2 as described above. There is a possibility that it will pass over the insulating film and be electrically connected to another metal magnetic film, and bubbles will easily occur in the glass when the glass 3 is filled in a later step. Therefore, it is preferable to smooth the processed surface of the winding groove 1b and the separation groove 1c. However, the winding groove 1b and the separation groove 1
Since the substrate 1 on which c is formed has a complicated shape, it is very difficult to smooth the processed surface of the winding groove 1b and the separation groove 1c by a normal mirror surface treatment.

【0033】そこで、本実施例では、基板1及び磁性層
2をエッチングして、巻線溝1b及び分離溝1cの加工
面を平滑化する。
Therefore, in this embodiment, the substrate 1 and the magnetic layer 2 are etched to smooth the processed surfaces of the winding groove 1b and the separation groove 1c.

【0034】具体的には、例えば、基板1をイオン照射
方向から約30度傾けた状態にした上で、Arガス雰囲
気中で約1時間、イオンエッチングを基板1及び磁性層
2の全面に施し、およそ1μm程度エッチングする。た
だし、イオン照射方向と基板1の角度や、イオンエッチ
ングの時間やガスの種類は、基板1及び磁性層2の種類
や形状、及び表面の粗さによって適宜変化させればよい
ことは言うまでもない。又は、例えば、大気中で約1時
間、基板1をパウダー照射方向から約30度傾けた状態
にした上で、パウダーを高速で基板1及び磁性層2の表
面に向けて射出して、パウダービームエッチングを基板
1及び磁性層2の全面に施し、およそ1μm程度エッチ
ングする。ここで、パウダーの大きさは100〜500
μm程度の大きさが適当である。ただし、パウダー照射
方向と基板1の角度や、パウダービームエッチングの時
間やパウダーの種類は、基板1及び磁性層2の種類や形
状、及び表面の粗さによって適宜変化させればよいこと
は言うまでもない。なお、エッチングは、このようなイ
オンエッチングやパウダービームエッチングに限られる
ものではなく、ウエットエッチング等によって行っても
よい。
Specifically, for example, after the substrate 1 is tilted by about 30 degrees from the ion irradiation direction, ion etching is performed on the entire surfaces of the substrate 1 and the magnetic layer 2 for about 1 hour in an Ar gas atmosphere. Etching about 1 μm. However, it goes without saying that the angle between the ion irradiation direction and the substrate 1, the time for ion etching, and the type of gas may be appropriately changed depending on the types and shapes of the substrate 1 and the magnetic layer 2, and the surface roughness. Alternatively, for example, after the substrate 1 is tilted by about 30 degrees from the powder irradiation direction in the atmosphere for about 1 hour, the powder is injected at high speed toward the surfaces of the substrate 1 and the magnetic layer 2, and the powder beam is emitted. Etching is performed on the entire surfaces of the substrate 1 and the magnetic layer 2, and etching is performed by about 1 μm. Here, the size of the powder is 100 to 500
A size of about μm is suitable. However, it goes without saying that the angle between the powder irradiation direction and the substrate 1, the time for powder beam etching, and the type of powder may be appropriately changed depending on the types and shapes of the substrate 1 and the magnetic layer 2, and the surface roughness. . The etching is not limited to such ion etching or powder beam etching, but may be wet etching or the like.

【0035】そして、このように基板1及び磁性層2の
表面をエッチングすることにより、基板1及び磁性層2
の表面が平滑化される。したがって、後工程でガラス3
を充填する際に、ガラス3に泡が発生しにくくなるとと
もに、巻線溝1b部分を拡大した図10に示すように、
巻線溝1b及び分離溝1cの加工面の一部である磁性層
2の断面部分1dも平滑化され、磁性層2の積層構造の
断面が明瞭になり、磁性層2の断面部分1dにおける絶
縁不良がなくなり、金属磁性膜間の絶縁が十分に図られ
る。
Then, by etching the surfaces of the substrate 1 and the magnetic layer 2 in this manner, the substrate 1 and the magnetic layer 2 are etched.
The surface of is smoothed. Therefore, the glass
As shown in FIG. 10 in which bubbles are less likely to be generated in the glass 3 when the powder is filled, and the winding groove 1b is enlarged,
The cross-section 1d of the magnetic layer 2 which is a part of the processed surface of the winding groove 1b and the separation groove 1c is also smoothed, the cross-section of the laminated structure of the magnetic layer 2 is clarified, and the insulation of the cross-section 1d of the magnetic layer 2 is improved. The defect is eliminated, and the insulation between the metal magnetic films is sufficiently achieved.

【0036】次に、図11に示すように、磁気コア溝1
a、巻線溝1b及び分離溝1cに低融点のガラス3を融
解充填した上で、表面を平滑化する。このとき、本実施
例では、磁気コア溝1a、巻線溝1b及び分離溝1cの
加工面が平滑化されているため、ガラス3に泡が発生す
ることがほとんどない。
Next, as shown in FIG. 11, the magnetic core groove 1
A, the winding groove 1b, and the separation groove 1c are melt-filled with the glass 3 having a low melting point, and then the surface is smoothed. At this time, in this embodiment, since the processed surfaces of the magnetic core groove 1a, the winding groove 1b, and the separation groove 1c are smoothed, bubbles are hardly generated on the glass 3.

【0037】次に、図12に示すように、薄膜形成プロ
セスによって、ガラス3部分に、巻線溝1bを通過する
ように、薄膜コイル4を形成する。
Next, as shown in FIG. 12, a thin film coil 4 is formed on the glass 3 portion so as to pass through the winding groove 1b by a thin film forming process.

【0038】次に、図13に示すように、磁気コア毎に
1列ずつ切断して磁気ヘッド半体ブロック11a,11
bを作製し、このように作製された一対の磁気ヘッド半
体ブロック11a,11bを、磁性層2を突き合わせる
ようにして、金接合により接合する。ただし、磁気ヘッ
ド半体ブロック11a,11bの接合は、接着剤等を用
いた化学的な接合方法で接合してもよい。
Next, as shown in FIG. 13, the magnetic head half blocks 11a and 11 are cut by cutting one row for each magnetic core.
b is produced, and the pair of magnetic head half blocks 11a and 11b produced in this way are joined by gold joining so that the magnetic layers 2 are butted. However, the magnetic head half blocks 11a and 11b may be joined by a chemical joining method using an adhesive or the like.

【0039】そして、最後に、磁気コア毎に1つずつ切
断し、所定の形状に加工して、上述の図1に示したよう
な、一対の磁気ヘッド半体10a,10bを接合して成
る磁気ヘッドが作製される。
Finally, the magnetic cores are cut one by one, processed into a predetermined shape, and a pair of magnetic head halves 10a and 10b as shown in FIG. 1 are joined. A magnetic head is manufactured.

【0040】なお、本実施例では、一対の磁気ヘッド半
体の両方に薄膜コイルを形成したが、一方の磁気ヘッド
半体だけに薄膜コイルを形成するようにしてもよい。
In this embodiment, the thin film coil is formed on both the pair of magnetic head halves, but the thin film coil may be formed on only one of the magnetic head halves.

【0041】また、本実施例では、磁性層や薄膜コイル
等が形成された基板を、磁気コア毎に1列ずつ切断して
磁気ヘッド半体ブロックを作成し、この磁気ヘッド半体
ブロックを接合した後に、各磁気コア毎に1つずつ切断
したが、磁性層や薄膜コイル等が形成された基板を、予
め各磁気コア毎に1つずつ切断して磁気ヘッド半体を作
成し、この磁気ヘッド半体をそれぞれ接合するようにし
てもよいし、磁性層や薄膜コイル等が形成された基板を
そのまま接合し、後から各磁気コア毎に1つずつ切断す
るようにしてもよい。
In the present embodiment, the magnetic head half block is prepared by cutting the substrate on which the magnetic layer, the thin film coil, etc. are formed one by one for each magnetic core, and joining the magnetic head half blocks. After that, each magnetic core was cut one by one, but the substrate on which the magnetic layer, the thin film coil, etc. were formed was previously cut one by one for each magnetic core to prepare a magnetic head half body. The head halves may be bonded to each other, or the substrates on which the magnetic layers and the thin film coils are formed may be bonded as they are, and then the magnetic cores may be cut one by one.

【0042】つぎに、上述のように、磁気コア溝、巻線
溝及び分離溝の加工面を平滑化するために行ったエッチ
ングの効果を評価するために、全くエッチングを施さな
かった場合と、巻線溝及び分離溝の形成後にパウダービ
ームエッチングを施した場合と、巻線溝及び分離溝の形
成後にイオンエッチングを施した場合と、磁気コア溝の
形成後と巻線溝及び分離溝の形成後の両方にイオンエッ
チングを施した場合とについて、ガラスを充填したとき
にガラスに泡がどの程度生じるかを調べた。
Next, as described above, in order to evaluate the effect of etching performed for smoothing the processed surface of the magnetic core groove, the winding groove and the separation groove, the case where no etching was performed, Powder beam etching after formation of winding groove and separation groove, ion etching after formation of winding groove and separation groove, formation of magnetic core groove and formation of winding groove and separation groove It was examined how much bubbles were generated in the glass when the glass was filled, both when the latter was subjected to ion etching.

【0043】図14乃至図17に結果を示す。ここで、
図14は全くエッチングを施さなかった場合について、
図15は巻線溝及び分離溝の形成後にパウダービームエ
ッチングを施した場合について、図16は巻線溝及び分
離溝の形成後にイオンエッチングを施した場合につい
て、図17は磁気コア溝の形成後と巻線溝及び分離溝の
形成後の両方にイオンエッチングを施した場合について
示している。
The results are shown in FIGS. 14 to 17. here,
FIG. 14 shows the case where no etching is performed.
FIG. 15 shows a case where powder beam etching is performed after forming the winding groove and the separation groove, FIG. 16 shows a case where ion etching is performed after forming the winding groove and the separation groove, and FIG. 17 shows a case where the magnetic core groove is formed. And the case where ion etching is performed both after forming the winding groove and the separation groove.

【0044】これら図14乃至図17において、「不
良」は、ガラスに泡が生じており、この泡のために薄膜
コイルを形成する際にコイル間のショートや断線が生じ
る恐れが高い場合であり、「良」は、ガラスに泡が生じ
ているが、磁性層の近傍には泡が存在せず、磁気ヘッド
の形成にあまり影響を与えないと思われる場合であり、
「泡無し」は、ガラスに泡が生じていない場合である。
14 to 17, "defective" means that bubbles are generated in the glass and there is a high possibility that short-circuiting or disconnection between the coils will occur when the thin film coil is formed due to the bubbles. , "Good" is a case where bubbles are generated in the glass, but there is no bubbles in the vicinity of the magnetic layer, and it is considered that the formation of the magnetic head is not affected so much,
"No bubbles" is when the glass has no bubbles.

【0045】この結果から明らかなように、巻線溝及び
分離溝の形成後にエッチングを施すことにより、ガラス
に発生する泡が大幅に減少する。そして、分離溝の形成
後にもエッチングを施すことにより、さらに、ガラスに
発生する泡が減少する。
As is clear from this result, by performing etching after forming the winding groove and the separation groove, bubbles generated in the glass are significantly reduced. Then, by performing etching even after the formation of the separation groove, bubbles generated in the glass are further reduced.

【0046】つぎに、上述のように、磁気コア溝を平滑
化するために行ったエッチングの効果を評価するため
に、鏡面処理を施した基板上に成膜した磁性層と、基板
に磁気コア溝を形成した後にイオンエッチングを施した
上で成膜した磁性層と、基板に磁気コア溝を形成した後
にエッチングを施さないで成膜した磁性層とについて、
磁気特性を調べた。ここで、磁気特性は、磁性層が、単
一の金属磁性膜から成る単層膜の場合と、複数の金属磁
性膜を絶縁膜を介して積層して成る積層膜の場合とにつ
いて、それぞれ保磁力Hc[Oe]と、周波数1MHz
のときの透磁率及び周波数10MHzのときの透磁率を
測定した。図18に保磁力Hc[Oe]の測定結果を、
図19に透磁率の測定結果を示す。
Next, as described above, in order to evaluate the effect of the etching for smoothing the magnetic core groove, the magnetic layer formed on the mirror-finished substrate and the magnetic core on the substrate were evaluated. Regarding the magnetic layer formed after forming the groove and subjected to ion etching, and the magnetic layer formed after forming the magnetic core groove on the substrate and not performing etching,
The magnetic properties were investigated. Here, the magnetic characteristics are maintained for the case where the magnetic layer is a single-layer film composed of a single metal magnetic film and the case where the magnetic film is a laminated film formed by laminating a plurality of metallic magnetic films with an insulating film interposed therebetween. Magnetic force Hc [Oe] and frequency 1MHz
And the magnetic permeability at a frequency of 10 MHz were measured. The measurement result of coercive force Hc [Oe] is shown in FIG.
FIG. 19 shows the measurement results of magnetic permeability.

【0047】この結果から明らかなように、基板にエッ
チングを施した上で成膜した磁性層は、保磁力が小さく
なっているとともに、透磁率が大きくなっており、鏡面
処理された基板上に成膜した場合に近いレベルの優れた
軟磁気特性を有している。
As is clear from these results, the magnetic layer formed by etching the substrate has a small coercive force and a large magnetic permeability, and thus the magnetic layer is formed on the mirror-finished substrate. It has an excellent soft magnetic property, which is close to that of a film formed.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明によれば、機械加工によって複雑な形に形成され鏡面
処理が難しい磁気コア溝、巻線溝又は分離溝の加工面の
ような部分であっても、エッチングを施すことにより、
機械加工時に生じる傷や細かな凹凸を無くして平滑化す
ることができる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, such as a machined surface of a magnetic core groove, a winding groove or a separation groove, which has a complicated shape and is difficult to be mirror-finished by machining. Even if it is a part, by applying etching,
It can be smoothed by eliminating scratches and fine irregularities that occur during machining.

【0049】したがって、これらの溝にガラスを充填す
る際に生じる泡の発生が抑えられ、薄膜コイルのショー
トや断線が減少して歩止まりが大幅に向上するととも
に、摺動面の荒れが少なく、耐久性に優れた磁気ヘッド
を製造することができる。
Therefore, it is possible to suppress the generation of bubbles when filling these grooves with glass, to reduce the short-circuiting and disconnection of the thin-film coil and to greatly improve the yield, and to reduce the roughness of the sliding surface. It is possible to manufacture a magnetic head having excellent durability.

【0050】また、磁性層が、複数の金属磁性膜を絶縁
膜を介して積層した積層構造である場合には、分離溝や
巻線溝の加工面の一部である磁性層の断面部分も平滑化
されるため、金属磁性膜間の絶縁が十分に図られる。し
たがって、渦電流損を低減でき、特に高周波領域におい
て、高い感度が得られる磁気ヘッドを製造することがで
きる。
When the magnetic layer has a laminated structure in which a plurality of metal magnetic films are laminated with an insulating film interposed, the cross-section of the magnetic layer, which is a part of the processed surface of the separation groove or the winding groove, is also included. Since it is smoothed, insulation between the metal magnetic films is sufficiently achieved. Therefore, it is possible to reduce the eddy current loss and manufacture a magnetic head having high sensitivity, especially in a high frequency region.

【0051】さらに、磁気コア溝の加工面が平滑化され
るので、この溝の上に成膜される磁性層を均一に成膜で
きる。したがって、磁性層の軟磁気特性が向上するの
で、磁気特性に優れた磁気ヘッドを製造することができ
る。
Further, since the processed surface of the magnetic core groove is smoothed, the magnetic layer formed on the groove can be uniformly formed. Therefore, since the soft magnetic characteristics of the magnetic layer are improved, it is possible to manufacture a magnetic head having excellent magnetic characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明を適用して製造された磁気ヘッドの一
構成例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a magnetic head manufactured by applying the present invention.

【図2】 図1に示す磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍を
拡大して示す要部拡大斜視図である。
FIG. 2 is an enlarged perspective view of an essential part showing an enlarged vicinity of a magnetic gap of the magnetic head shown in FIG.

【図3】 基板の一例を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing an example of a substrate.

【図4】 基板に磁気コア溝を形成した状態の一例を示
す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing an example of a state in which a magnetic core groove is formed on a substrate.

【図5】 研削砥石によって形成された磁気コア溝の加
工面の状態を模式的にを示す側面図である。
FIG. 5 is a side view schematically showing a state of a processed surface of a magnetic core groove formed by a grinding wheel.

【図6】 エッチングを施した後の磁気コア溝の加工面
の状態を模式的に示す側面図である。
FIG. 6 is a side view schematically showing a state of a processed surface of a magnetic core groove after etching.

【図7】 基板上に磁性層を形成した状態の一例を示す
斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing an example of a state in which a magnetic layer is formed on a substrate.

【図8】 基板及び磁性層に巻線溝と分離溝を形成した
状態の一例を示す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing an example of a state where winding grooves and separation grooves are formed on a substrate and a magnetic layer.

【図9】 研削砥石によって形成された巻線溝の加工面
の状態を模式的に示す要部拡大斜視図である。
FIG. 9 is an enlarged perspective view of an essential part schematically showing a state of a processed surface of a winding groove formed by a grinding wheel.

【図10】 エッチングを施した後の巻線溝の加工面の
状態を模式的に示す要部拡大斜視図である。
FIG. 10 is an enlarged perspective view of an essential part schematically showing the state of the processed surface of the winding groove after etching.

【図11】 磁気コア溝、巻線溝及び分離溝にガラスを
充填した状態の一例を示す斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view showing an example of a state where glass is filled in the magnetic core groove, the winding groove, and the separation groove.

【図12】 薄膜コイルを形成した状態の一例を示す斜
視図である。
FIG. 12 is a perspective view showing an example of a state in which a thin film coil is formed.

【図13】 一対の磁気ヘッド半体ブロックを接合する
様子の一例を示す斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view showing an example of how a pair of magnetic head half blocks are joined together.

【図14】 全くエッチングを施さなかったときにガラ
スに生じた泡についての測定結果を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing measurement results of bubbles generated on glass when no etching is performed.

【図15】 磁気コア溝の形成後にパウダービームエッ
チングを施したときにガラスに生じた泡についての測定
結果を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing measurement results of bubbles generated in glass when powder beam etching was performed after formation of magnetic core grooves.

【図16】 磁気コア溝の形成後にイオンエッチングを
施したときにガラスに生じた泡についての測定結果を示
す図である。
FIG. 16 is a diagram showing measurement results of bubbles generated in glass when ion etching is performed after formation of magnetic core grooves.

【図17】 磁気コア溝の形成後と巻線溝及び分離溝の
形成後の両方にイオンエッチングを施したときにガラス
に生じた泡についての測定結果を示す図である。
FIG. 17 is a diagram showing the measurement results of bubbles generated in glass when ion etching was performed both after formation of the magnetic core groove and after formation of the winding groove and the separation groove.

【図18】 保磁力Hc[Oe]の測定結果を示す図で
ある。
FIG. 18 is a diagram showing measurement results of coercive force Hc [Oe].

【図19】 透磁率の測定結果を示す図である。FIG. 19 is a diagram showing the measurement results of magnetic permeability.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 1a 磁気コア溝 1b 巻線溝 1c 分離溝 2 磁性層 3 ガラス 4 薄膜コイル 10a,10b 磁気ヘッド半体 11a,11b 磁気ヘッド半体ブロック g 磁気ギャップ fg フロントギャップ bg バックギャップ 1 Substrate 1a Magnetic Core Groove 1b Winding Groove 1c Separation Groove 2 Magnetic Layer 3 Glass 4 Thin Film Coil 10a, 10b Magnetic Head Half 11a, 11b Magnetic Head Half Block g Magnetic Gap fg Front Gap bg Back Gap

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の磁気ヘッド半体を接合して成る磁
気ヘッドの製造方法において、 非磁性体から成る基板に、磁気コア溝を切削加工して磁
気コア形成面を形成し、 上記磁気コア形成面上に、磁気コアとなる磁性層を形成
し、 上記磁性層が形成された基板上に、薄膜コイルを配する
ための巻線溝と、磁性層を磁気コア毎に分離する分離溝
とを形成し、 上記巻線溝及び分離溝の加工面をエッチングし、 上記磁気コア溝、巻線溝及び分離溝に、ガラスを充填
し、 上記ガラス部分に、巻線溝を通るように薄膜コイルを形
成して、磁気ヘッド半体を作製することを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法。
1. A method of manufacturing a magnetic head comprising a pair of magnetic head halves joined together, wherein a magnetic core groove is formed on a substrate made of a non-magnetic material to form a magnetic core forming surface. A magnetic layer serving as a magnetic core is formed on the formation surface, and a winding groove for arranging the thin film coil on the substrate on which the magnetic layer is formed and a separation groove for separating the magnetic layer for each magnetic core. And etching the processed surface of the winding groove and the separation groove, filling the magnetic core groove, the winding groove and the separation groove with glass, and passing through the winding groove into the glass portion. And forming a magnetic head half body.
【請求項2】 前記巻線溝及び分離溝の加工面のエッチ
ングを、イオンエッチングにより行うことを特徴とする
請求項1記載の磁気ヘッドの製造方法。
2. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 1, wherein etching of the processed surface of the winding groove and the separation groove is performed by ion etching.
【請求項3】 前記巻線溝及び分離溝の加工面のエッチ
ングを、パウダービームエッチングにより行うことを特
徴とする請求項1記載の磁気ヘッドの製造方法。
3. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 1, wherein the processing surface of the winding groove and the separation groove is etched by powder beam etching.
【請求項4】 前記磁気コア溝を形成した後に、前記磁
気コア形成面をエッチングすることを特徴とする請求項
1、2又は3記載の磁気ヘッドの製造方法。
4. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 1, wherein the surface on which the magnetic core is formed is etched after forming the magnetic core groove.
【請求項5】 前記磁気コア形成面のエッチングを、イ
オンエッチングにより行うことを特徴とする請求項4記
載の磁気ヘッドの製造方法。
5. A method of manufacturing a magnetic head according to claim 4, wherein the etching of the magnetic core formation surface is performed by ion etching.
【請求項6】 前記磁気コア形成面のエッチングを、パ
ウダービームエッチングにより行うことを特徴とする請
求項4記載の磁気ヘッドの製造方法。
6. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 4, wherein the etching of the magnetic core formation surface is performed by powder beam etching.
【請求項7】 前記磁性層が、複数の金属磁性膜を絶縁
膜を介して積層した積層構造とされていることを特徴と
する請求項1、2、3、4、5又は6記載の磁気ヘッド
の製造方法。
7. The magnetic according to claim 1, 2, 3, 4, 5 or 6, wherein the magnetic layer has a laminated structure in which a plurality of metal magnetic films are laminated with an insulating film interposed therebetween. Head manufacturing method.
JP1477895A 1995-01-31 1995-01-31 Production of magnetic head Pending JPH08203023A (en)

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