JPH07302408A - Magnetic head and its production - Google Patents
Magnetic head and its productionInfo
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- JPH07302408A JPH07302408A JP9476994A JP9476994A JPH07302408A JP H07302408 A JPH07302408 A JP H07302408A JP 9476994 A JP9476994 A JP 9476994A JP 9476994 A JP9476994 A JP 9476994A JP H07302408 A JPH07302408 A JP H07302408A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
や磁気ディスク装置等に好適な磁気ヘッドに関し、特に
コイルを薄膜工程により形成してなる磁気ヘッド及びそ
の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head suitable for video tape recorders, magnetic disk devices and the like, and more particularly to a magnetic head having a coil formed by a thin film process and a method for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】ビデオテープレコーダ(VTR)や磁気
ディスク装置等の磁気記録再生装置の磁気ヘッドとして
は、フェライトよりなる磁気コアの磁気ギャップ形成面
に金属磁性膜を成膜した、いわゆるメタル・イン・ギャ
ップ型磁気ヘッドや、一対の非磁性材料よりなる基板で
金属磁性膜を挟み込んだ形の、いわゆるラミネート型磁
気ヘッド等が使用されているが、今後の高画質化、デジ
タル化等に対応するためには、より高周波域で良好な電
磁変換特性を示すことが必要である。2. Description of the Related Art As a magnetic head of a magnetic recording / reproducing apparatus such as a video tape recorder (VTR) or a magnetic disk apparatus, a so-called metal-in film is formed by forming a metal magnetic film on a magnetic gap forming surface of a magnetic core made of ferrite.・ Gap type magnetic heads and so-called laminated type magnetic heads in which a metal magnetic film is sandwiched between a pair of substrates made of non-magnetic materials are used, but they are compatible with future high image quality and digitalization. In order to achieve this, it is necessary to exhibit good electromagnetic conversion characteristics in a higher frequency range.
【0003】しかしながら、上記メタル・イン・ギャッ
プ型磁気ヘッドは、インピーダンスが大きく、高周波数
での使用には適さない。However, the metal-in-gap type magnetic head has a large impedance and is not suitable for use at high frequencies.
【0004】また、上記ラミネート型磁気ヘッドは、高
密度記録化のためにトラック幅を減少させる場合、磁路
を構成する金属磁性膜の膜厚を減少させる必要があり、
再生効率が低下する。さらに、磁路が金属磁性膜のみで
形成されるため、金属磁性膜の磁気異方性の制御に問題
があり、高い再生効率を得るのが困難である。なぜな
ら、一般に磁気ヘッドの磁気異方性は、磁化容易軸が磁
束の方向に対して常に垂直方向であるのが理想である
が、金属磁性膜の磁化容易軸を磁束の方向に対して常に
垂直方向になるようにすることは難しく、現状では異方
性のない等方(無配向)膜か、異方性があっても一方向
の一軸異方性を持つものしかないからである。Further, in the laminated magnetic head, when the track width is reduced for high density recording, it is necessary to reduce the thickness of the metal magnetic film forming the magnetic path.
Regeneration efficiency decreases. Further, since the magnetic path is formed only by the metal magnetic film, there is a problem in controlling the magnetic anisotropy of the metal magnetic film, and it is difficult to obtain high reproduction efficiency. In general, the magnetic anisotropy of the magnetic head is ideally such that the easy axis of magnetization is always perpendicular to the direction of the magnetic flux, but the easy axis of magnetization of the metal magnetic film is always perpendicular to the direction of the magnetic flux. This is because it is difficult to make the film oriented in the direction, and at present, there is only an isotropic (non-oriented) film having no anisotropy or a film having anisotropy but having uniaxial anisotropy.
【0005】そこで、高周波対応の磁気ヘッドとして、
例えば特開昭63−231713号公報や特開平3−2
48305号公報に記載されるように、通常の磁気ヘッ
ドよりも金属磁性膜で構成される磁路を小さくし、且つ
薄膜工程を用いて磁気ギャップ形成面に薄膜コイルを形
成した磁気ヘッドが提案されている。Therefore, as a high frequency compatible magnetic head,
For example, JP-A-63-231713 and JP-A-3-2
As described in Japanese Patent No. 48305, there is proposed a magnetic head in which a magnetic path formed of a metal magnetic film is smaller than that of a normal magnetic head and a thin film coil is formed on a magnetic gap forming surface by using a thin film process. ing.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
63−231713号公報に記載されるような磁気ヘッ
ドは、基板上に金属磁性膜を成膜後、金属磁性膜上に低
融点のガラス等を充填して平坦化する工程があるため、
使用できる磁性膜に制限がある。すなわち、アモルファ
ス磁性材料等の熱処理を施せない材料からなる磁性膜は
使用できない。また、窒化系磁性材料等のガラスと反応
しやすい材料からなる磁性膜は、反応により発泡等が生
じて、充填が不十分となってしまうため適さない。も
し、あえてガラスと反応しやすい磁性膜を用いる場合
は、反応を抑えるための処理が必要となり工程が増える
という問題点がある。そして更に、このようなタイプの
磁気ヘッドでは、充填したガラス等が媒体摺動面に露出
するため、耐摩耗性が劣ってしまうという問題もある。However, in the magnetic head described in Japanese Patent Laid-Open No. 63-231713, a metal magnetic film is formed on a substrate and then a glass having a low melting point or the like is formed on the metal magnetic film. Since there is a step of filling and flattening,
There is a limit to the magnetic film that can be used. That is, a magnetic film made of a material such as an amorphous magnetic material that cannot be heat-treated cannot be used. Further, a magnetic film made of a material such as a nitride-based magnetic material that easily reacts with glass is not suitable because the reaction causes foaming or the like, resulting in insufficient filling. If a magnetic film that easily reacts with glass is used, there is a problem that a process for suppressing the reaction is required and the number of steps is increased. Further, in such a type of magnetic head, the filled glass or the like is exposed on the sliding surface of the medium, so that there is a problem that the wear resistance is deteriorated.
【0007】一方、特開平3−248305号公報に記
載されるような磁気ヘッドは、基板上に金属磁性膜を絶
縁層を介して積層した積層基板を複数作製して、これら
の積層基板をガラス融着により接合しヘッドブロックと
して、このヘッドブロックをもとに磁気ヘッドを作製す
るものである。このような磁気ヘッドでは、薄膜コイル
を形成するための凹部を、基板及び磁性膜からなる面に
イオンミリング等を施して形成するが、基板と磁性膜で
はミリングレートが異なるため、一様な平面からなる凹
部を形成するのは困難である。また、磁性膜の膜厚分布
のむらや磁性膜の剥離等により、ヘッドブロック上に薄
膜コイルを形成する際に、リソグラフィのマスクパター
ンのピッチが狂う可能性が大きく、歩止まりが大幅に低
下するという問題がある。また、積層基板の接合部が全
面に渡って磁性膜となるので、磁性膜と基板の応力の違
いによって基板に反りが生じるという問題がある。さら
に、このような反りが生じると、磁性膜、ガラス、及び
基板の密着性が低下し接着強度が弱まってしまう。On the other hand, in the magnetic head described in Japanese Patent Laid-Open No. 3-248305, a plurality of laminated substrates in which a metal magnetic film is laminated on an insulating layer via an insulating layer are prepared, and these laminated substrates are made of glass. A head block is formed by fusion bonding and a magnetic head is manufactured based on this head block. In such a magnetic head, a recess for forming a thin film coil is formed by subjecting a surface composed of a substrate and a magnetic film to ion milling or the like, but since the substrate and the magnetic film have different milling rates, a uniform flat surface is formed. Is difficult to form. In addition, when the thin film coil is formed on the head block due to the uneven thickness distribution of the magnetic film or the peeling of the magnetic film, the pitch of the mask pattern for lithography is likely to change and the yield is significantly reduced. There's a problem. Further, since the bonded portion of the laminated substrate becomes the magnetic film over the entire surface, there is a problem that the substrate warps due to the difference in stress between the magnetic film and the substrate. Furthermore, when such warpage occurs, the adhesion between the magnetic film, the glass, and the substrate decreases, and the adhesion strength decreases.
【0008】そこで本発明は、上述の従来の磁気ヘッド
の有する欠点を解消すべく提案されたものであって、高
周波域で良好な電磁変換特性を示す磁気ヘッド及びその
製造方法において、磁性膜上にガラス等を充填する必要
がなく、信頼性が高く、耐摩耗性に優れた、歩止まりの
良い磁気ヘッド及びその製造方法を提供することを目的
とする。Therefore, the present invention has been proposed in order to eliminate the above-mentioned drawbacks of the conventional magnetic head, and in the magnetic head exhibiting good electromagnetic conversion characteristics in a high frequency region and a method for manufacturing the same, a magnetic film is formed on the magnetic film. It is an object of the present invention to provide a magnetic head which does not need to be filled with glass or the like, has high reliability, is excellent in wear resistance, and has a good yield, and a manufacturing method thereof.
【0009】さらに、本発明は、磁性膜の磁化容易軸が
磁束の方向に対して常に略垂直方向で、再生効率に優れ
た磁気ヘッド及びその製造方法を提供することも目的と
する。A further object of the present invention is to provide a magnetic head having an easy axis of magnetization of the magnetic film which is always substantially perpendicular to the direction of the magnetic flux and excellent in reproducing efficiency, and a method of manufacturing the same.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の磁気ヘッドは、基板上に磁性膜が成膜さ
れた互いに対向する一対の磁気コア半体を有し、前記磁
気コア半体の突き合わせ面の少なくとも一方の面に薄膜
コイルが形成されてなる磁気ヘッドであって、前記基板
上に磁気コア半体の磁路形状に対応する形状の凹部が形
成され、前記凹部に前記磁性膜が成膜されるものであ
る。In order to achieve the above object, a magnetic head of the present invention has a pair of magnetic core halves facing each other and having a magnetic film formed on a substrate. A magnetic head having a thin film coil formed on at least one of the butting surfaces of the core halves, wherein a recess having a shape corresponding to the magnetic path shape of the magnetic core halves is formed on the substrate, and the recess is formed in the recess. The magnetic film is formed.
【0011】上記磁気ヘッドにおいて、凹部の形成は、
基板上に磁気コア半体の磁路形状に対応する形状の凹部
が形成されるものならば、特に限定されるものではな
く、例えばイオンミリングによって形成されるものであ
る。なお、凹部の形状は、薄膜コイル形成部を避けるよ
うな形状とすることが好ましい。In the above magnetic head, the recess is formed
The concave portion having a shape corresponding to the magnetic path shape of the magnetic core half body is formed on the substrate, and is not particularly limited. For example, it is formed by ion milling. The shape of the recess is preferably a shape that avoids the thin film coil forming portion.
【0012】また、上記磁気ヘッドにおいて、磁性膜は
互いに直交する磁化容易軸をもつ2種の磁性膜からなる
ことが好ましい。そして、この場合は、互いに直交する
磁化容易軸をもつ2種の磁性膜のうち、一方の磁性膜の
磁化容易軸が磁気ギャップのデプス方向であることが更
に好ましい。Further, in the above magnetic head, the magnetic film is preferably composed of two kinds of magnetic films having easy axes of magnetization orthogonal to each other. In this case, it is more preferable that one of the two types of magnetic films having the easy magnetization axes orthogonal to each other has the easy magnetization axis in the depth direction of the magnetic gap.
【0013】一方、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、
基板上に磁性膜が成膜された互いに対向する一対の磁気
コア半体を有し、前記磁気コア半体の突き合わせ面の少
なくとも一方の面に薄膜コイルが形成されてなる磁気ヘ
ッドの製造方法において、前記基板上に前記磁性膜を成
膜するに際し、予め前記基板に凹部を形成し、前記凹部
に前記磁性膜を成膜するものである。On the other hand, the method of manufacturing the magnetic head of the present invention is
A method of manufacturing a magnetic head, comprising a pair of magnetic core halves facing each other having a magnetic film formed on a substrate, and a thin film coil being formed on at least one of the abutting surfaces of the magnetic core halves. When forming the magnetic film on the substrate, a recess is formed in the substrate in advance, and the magnetic film is formed on the recess.
【0014】上記磁気ヘッドの製造方法において、凹部
の形成方法は、磁性膜を成膜する所に凹部を形成するも
のならば特に限定されるものではなく、例えばイオンミ
リングが挙げられる。なお、凹部の形状は、薄膜コイル
形成部を避けるような形状とすることが好ましい。In the method of manufacturing the magnetic head described above, the method of forming the recess is not particularly limited as long as the recess is formed at the place where the magnetic film is formed, and examples thereof include ion milling. The shape of the recess is preferably a shape that avoids the thin film coil forming portion.
【0015】また、上記磁気ヘッドの製造方法におい
て、磁性膜の成膜は、一方向に磁化容易軸を持つ磁性
膜、及び前記磁化容易軸と直交する磁化容易軸を持つ磁
性膜の、2種の磁性膜の成膜であることが好ましい。そ
して、この場合は、互いに直交する磁化容易軸を持つこ
れら2種の磁性膜の成膜に際して、一方の磁性膜の磁化
容易軸を磁気ギャップのデプス方向とすることが更に好
ましい。In the method of manufacturing a magnetic head described above, the magnetic film is formed by two types: a magnetic film having an easy axis of magnetization in one direction and a magnetic film having an easy axis of magnetization orthogonal to the easy axis of magnetization. It is preferable to form the magnetic film. In this case, it is more preferable to set the easy magnetization axis of one of the magnetic films in the depth direction of the magnetic gap when forming these two types of magnetic films having the easy magnetization axes orthogonal to each other.
【0016】[0016]
【作用】本発明においては、基板上に磁気コア半体の磁
路形状に対応する形状の凹部が形成され、前記凹部に磁
性膜が成膜されるため、不要な開口や溝等が形成される
ことがなく、ガラス等を充填する必要がない。したがっ
て、窒化系磁性材料等のガラスと反応しやすい材料から
なる磁性膜や、アモルファス磁性材料等の熱処理を施せ
ない材料からなる磁性膜であっても問題なく適用が可能
となる。更に、ガラス等の充填材が媒体摺動面に露出す
ることがないので、優れた耐摩耗性が得られる。In the present invention, since the concave portion having a shape corresponding to the magnetic path shape of the magnetic core half body is formed on the substrate and the magnetic film is formed in the concave portion, unnecessary openings and grooves are formed. There is no need to fill glass or the like. Therefore, even a magnetic film made of a material such as a nitride-based magnetic material that easily reacts with glass or a magnetic film made of a material such as an amorphous magnetic material that cannot be subjected to heat treatment can be applied without any problem. Further, since the filler such as glass is not exposed on the sliding surface of the medium, excellent wear resistance can be obtained.
【0017】また、磁性膜が形成されるのは、前記凹部
内だけなので、磁性膜と基板の応力の違いによって基板
に反りが生じることがほとんどない。そのため、接着強
度が強く信頼性の高い磁気ヘッドとなる。Further, since the magnetic film is formed only in the recess, the substrate hardly warps due to the difference in stress between the magnetic film and the substrate. Therefore, the magnetic head has high adhesive strength and high reliability.
【0018】また、前記凹部を、イオンミリングによっ
て形成することにより、前記凹部を高速かつ正確に形成
することができる。By forming the recess by ion milling, the recess can be formed at high speed and accurately.
【0019】また、前記凹部を、薄膜コイル形成部を避
けるような形状とすることにより、薄膜コイルの形成が
基板上で行われるようになるため、薄膜コイルを形成す
るにあたって、主に基板に対して薄膜工程を施すことと
なり磁性膜に対して薄膜工程を施すことがなくなる。Further, by forming the recess so as to avoid the thin film coil forming portion, the thin film coil is formed on the substrate. Therefore, when forming the thin film coil, the thin film coil is mainly formed on the substrate. As a result, the thin film process is performed and the thin film process is not performed on the magnetic film.
【0020】さらに、磁性膜を、互いに直交する磁化容
易軸をもつ2種の磁性膜によって形成することにより、
磁性膜の磁気異方性の制御が可能となる。特に、互いに
直交する磁化容易軸をもつ2種の磁性膜のうち、一方の
磁性膜の磁化容易軸を磁気ギャップのデプス方向とする
ことにより、磁性膜の磁化容易軸が磁束の方向に対して
常に略垂直方向となり、磁気ヘッドの再生効率が向上す
る。Further, by forming the magnetic film by two kinds of magnetic films having easy axes of magnetization orthogonal to each other,
It is possible to control the magnetic anisotropy of the magnetic film. In particular, by setting the easy axis of magnetization of one of the two types of magnetic films having the easy axes of magnetization orthogonal to each other to the depth direction of the magnetic gap, the easy axis of the magnetic film is oriented with respect to the direction of the magnetic flux. It is always in the substantially vertical direction, and the reproduction efficiency of the magnetic head is improved.
【0021】[0021]
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例とし
て、磁気ヘッドの製造方法の実施例の説明を通して、磁
気ヘッドの実施例について説明する。EXAMPLES As specific examples to which the present invention is applied, examples of magnetic heads will be described through description of examples of a method of manufacturing a magnetic head.
【0022】実施例1 本実施例の磁気ヘッドを製造するには、まず、結晶化ガ
ラスや非磁性セラミックス等の非磁性体よりなる平板状
の基板を用意する。そして、図1に示すように、基板1
の一主面1aに対して、フォトリソグラフィ技術を用い
てパターニングを行い、イオンミリング等により、磁気
コア半体の磁路形状に対応する形状の磁性膜用凹部2を
形成する。なお、磁性膜用凹部2は、その深さを、所望
するトラック幅以上とし、その形状を、後の工程で薄膜
コイルが基板上に形成されるようにするため、薄膜コイ
ル形成部を避けるような略コ字形状とする。 Example 1 To manufacture the magnetic head of this example, first, a flat plate-shaped substrate made of a non-magnetic material such as crystallized glass or non-magnetic ceramics is prepared. Then, as shown in FIG.
Patterning is performed on the one main surface 1a using a photolithography technique, and the magnetic film recess 2 having a shape corresponding to the magnetic path shape of the magnetic core half is formed by ion milling or the like. The magnetic film recess 2 has a depth equal to or larger than a desired track width, and its shape is such that a thin film coil will be formed on a substrate in a later step. It has a substantially U shape.
【0023】次に、図2に示すように、磁性膜用凹部2
を形成した基板1の主面1a上に、金属磁性膜3を、磁
性膜用凹部内2を含めて、スパッタ法や真空蒸着法等に
より成膜する。なお、金属磁性膜3としては、高飽和磁
束密度を有し、良好な軟磁気特性を有するものであれば
如何なるものであってもよく、例えば、厚さ数μmの、
FeAlSi膜、FeRuGaSi膜、FeHfTaN
膜、FeAlN膜、アモルファス膜等が挙げられる。ま
た、この金属磁性膜3は、単層膜でも、SiO 2 等の絶
縁膜を介して積層した積層膜であってもよい。Next, as shown in FIG. 2, the recess 2 for the magnetic film is formed.
The metal magnetic film 3 is formed on the main surface 1a of the substrate 1 on which the magnetic film is formed.
Including the inside 2 of the recess for the conductive film
More film is formed. The metal magnetic film 3 has a high saturation magnetic field.
If it has a bundle density and good soft magnetic properties,
It may be of any type, for example, with a thickness of several μm,
FeAlSi film, FeRuGaSi film, FeHfTaN
A film, a FeAlN film, an amorphous film and the like can be mentioned. Well
The metal magnetic film 3 may be a single layer film or SiO. 2Etc.
It may be a laminated film laminated via an edge film.
【0024】次に、図3に示すように、金属磁性膜3を
成膜した面に、イオンミリングや鏡面加工等を施して金
属磁性膜3の不要部分を取り除いた上で、鏡面加工を施
す。このとき、金属磁性膜3は、磁性膜用凹部内2だけ
に残るように、且つ残った部分の膜厚がトラック幅とな
るようにする。Next, as shown in FIG. 3, the surface on which the metal magnetic film 3 is formed is subjected to ion milling, mirror surface processing or the like to remove unnecessary portions of the metal magnetic film 3, and then mirror surface processing. . At this time, the metal magnetic film 3 is made to remain only in the magnetic film concave portion 2, and the film thickness of the remaining portion is set to the track width.
【0025】次に、図4に示すように、金属磁性膜4が
成膜された基板1を短冊状に切断して短冊状基板4を作
製する。このとき、一方の切断面1bが磁気コア半体同
士の突き合わせ面となるように、且つ他の切断面1cが
前記突き合わせ面の反対側の面となるようにする。Next, as shown in FIG. 4, the substrate 1 on which the metal magnetic film 4 is formed is cut into strips to form strip substrates 4. At this time, one cut surface 1b is made to be a contact surface of the magnetic core halves, and the other cut surface 1c is a surface opposite to the abutted surface.
【0026】次に、図5に示すように、複数の短冊状基
板4を接合一体化して接合基板5を作製する。このと
き、前記突き合わせ面が上部主面1bとなるように接合
する。なお、接合は、ガラス融着や低温メタル接合(例
えば金の拡散接合)等によって行う。Next, as shown in FIG. 5, a plurality of strip substrates 4 are joined and integrated to produce a joined substrate 5. At this time, they are joined so that the abutting surface becomes the upper main surface 1b. The joining is performed by glass fusion, low temperature metal joining (for example, gold diffusion joining), or the like.
【0027】次に、接合基板5に、薄膜工程によって薄
膜コイルを形成する。なお、磁気コア半体は一つの接合
基板5から複数作製されるものであり、個々の磁気コア
半体に対応して薄膜コイルが形成されるが、以下の説明
では便宜上、接合基板の内の一つの磁気コア半体に対応
する部分(図5中の破線Aで囲まれた部分)を拡大して
説明する。Next, a thin film coil is formed on the bonded substrate 5 by a thin film process. It should be noted that a plurality of magnetic core halves are produced from one bonded substrate 5, and a thin film coil is formed corresponding to each magnetic core half, but in the following description, for convenience, A part corresponding to one magnetic core half (a part surrounded by a broken line A in FIG. 5) will be described in an enlarged manner.
【0028】まず、図6に示すように、磁気コア半体同
士の突き合わせ面となる面に、薄膜コイルの略中心に位
置することになるバックギャップ部6と、一対の磁気コ
ア半体を接合一体化するときに各磁気コア半体の薄膜コ
イル同士を接続することになる電極接点部7を、フォト
リソグラフィ技術を用いてパターニングを行った上で、
イオンミリング等により、薄膜コイルの形成部位に薄膜
コイル用凹部8を形成する。このとき、電極接点部7は
バックギャップ部6より2〜3μm低くしておく。First, as shown in FIG. 6, a pair of magnetic core halves are joined to a back gap portion 6 to be located substantially at the center of the thin-film coil on the surface which is the abutting surface of the magnetic core halves. After patterning the electrode contact portion 7 that will connect the thin film coils of the respective magnetic core halves when they are integrated by using the photolithography technique,
The thin-film coil recess 8 is formed in the thin-film coil forming portion by ion milling or the like. At this time, the electrode contact portion 7 is lower than the back gap portion 6 by 2 to 3 μm.
【0029】次に、図7に示すように、薄膜コイル用凹
部8内に、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニン
グを行い、真空蒸着法やメッキ等により薄膜コイル9を
形成する。なお、薄膜コイル9の材料としては、良導体
であれば如何なるものであってもよく、例えば、Au、
Ag、Cu、Al等が挙げられる。Next, as shown in FIG. 7, patterning is performed in the thin film coil concave portion 8 by using a photolithography technique, and a thin film coil 9 is formed by a vacuum deposition method, plating or the like. The thin-film coil 9 may be made of any good conductor, such as Au,
Ag, Cu, Al, etc. are mentioned.
【0030】次に、図8に示すように、前記薄膜コイル
用凹部8内を、薄膜コイル9の保護膜となる絶縁膜10
によって埋める。ただし、薄膜コイル9の引き出し電極
部9aは露出したままとする。なお、絶縁膜の材料とし
ては、SiO2 やAl2 O3等が挙げられる。Next, as shown in FIG. 8, an insulating film 10 serving as a protective film for the thin film coil 9 is formed in the recess 8 for the thin film coil.
Fill by. However, the extraction electrode portion 9a of the thin film coil 9 is left exposed. Note that examples of the material of the insulating film include SiO 2 and Al 2 O 3 .
【0031】次に、図9に示すように、バックギャップ
部6及び電極接点部7が露出するまで、絶縁膜10が形
成された面に鏡面加工を施す。Next, as shown in FIG. 9, the surface on which the insulating film 10 is formed is mirror-finished until the back gap portion 6 and the electrode contact portion 7 are exposed.
【0032】次に、図10に示すように、前記薄膜コイ
ル用凹部8以外の部分と、バックギャップ部6と、電極
接点部7に、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニ
ングを行い、磁気ギャップの形成、及び一対の磁気コア
半体を接合するときの接着に用いるための、良導体金属
膜11を成膜する。なお、ここで用いる良導体金属とし
ては、例えば、Au、Sn等が挙げられる。Next, as shown in FIG. 10, the portions other than the thin-film coil concave portion 8, the back gap portion 6, and the electrode contact portion 7 are patterned by using a photolithography technique to form a magnetic gap. , And a good conductor metal film 11 to be used for bonding when joining the pair of magnetic core halves. Note that examples of the good conductor metal used here include Au, Sn, and the like.
【0033】次に、以上のように作製された、基板1上
に磁性膜3及び薄膜コイル9が形成された磁気コア半体
12から磁気ヘッドを作製する。Next, a magnetic head is manufactured from the magnetic core half body 12 having the magnetic film 3 and the thin film coil 9 formed on the substrate 1 manufactured as described above.
【0034】まず、一対の磁気コア半体12a,12b
を、図11に示すように、薄膜コイル9を形成した面1
b同士を突き合わせ、加圧しながら適当な温度で接着
し、図12に示すように接合一体化する。このとき、薄
膜コイル9が形成された薄膜コイル用凹部8内は、絶縁
膜10によって保護されているため、不用意な断線や短
絡が発生することはない。なお、一対の磁気コア半体1
2a,12bを突き合わせるに際しては、一方の磁気コ
ア半体12aの側面側の突出した薄膜コイル9の引き出
し電極を切断して短くし、他方の磁気コア半体12bに
形成した薄膜コイルの引き出し電極部9aが外部に露呈
するように設定する。First, the pair of magnetic core halves 12a, 12b.
On the surface 1 on which the thin film coil 9 is formed, as shown in FIG.
The b's are abutted against each other and adhered at an appropriate temperature while applying pressure to join them together as shown in FIG. At this time, since the inside of the thin film coil recess 8 in which the thin film coil 9 is formed is protected by the insulating film 10, inadvertent disconnection or short circuit does not occur. The pair of magnetic core halves 1
When the 2a and 12b are butted, the lead electrode of the thin film coil 9 protruding on the side surface side of one magnetic core half body 12a is cut and shortened, and the lead electrode of the thin film coil formed on the other magnetic core half body 12b. The part 9a is set to be exposed to the outside.
【0035】最後に、図13に示すように、スライシン
グ加工によってチップ切断し、各磁気ヘッド単位に切り
出し、磁気ヘッド13が作製される。Finally, as shown in FIG. 13, chips are cut by slicing and cut into individual magnetic heads to manufacture the magnetic head 13.
【0036】以上のように作製された磁気ヘッドにおい
ては、薄膜コイルが既に形成されており、後から巻線を
施す必要がない。In the magnetic head manufactured as described above, the thin film coil is already formed, and it is not necessary to apply the winding afterwards.
【0037】また、従来の磁気ヘッドと異なり、不要な
開口や溝等が形成されることがなく、ガラス等を充填す
る必要がない。そのため、ガラス等と反応しやすい磁性
膜であっても使用できる。また、ガラス等を充填するた
めの熱処理が不要なので、熱処理を行うと特性が悪化す
る磁性膜であっても使用できる。なお、この場合は、短
冊状基板の接合は、低温メタル接合(例えば、金の拡散
接合)等で行う。Further, unlike the conventional magnetic head, unnecessary openings and grooves are not formed, and it is not necessary to fill glass or the like. Therefore, even a magnetic film that easily reacts with glass or the like can be used. Further, since a heat treatment for filling glass or the like is not necessary, even a magnetic film whose characteristics are deteriorated by the heat treatment can be used. In this case, the strip substrates are joined by low temperature metal joining (for example, gold diffusion joining).
【0038】また、薄膜コイルを形成するにあたって、
磁性膜に対して薄膜工程を施すことがなく、主に基板に
対して薄膜工程を施すため、薄膜コイルの形成が容易で
ある。When forming the thin film coil,
Since the thin film process is mainly performed on the substrate without performing the thin film process on the magnetic film, the thin film coil can be easily formed.
【0039】更に、充填されたガラス等が媒体摺動面に
露出するようなこともないので、耐摩耗性にも優れてい
る。Further, since the filled glass and the like are not exposed on the sliding surface of the medium, the abrasion resistance is excellent.
【0040】実施例2 本実施例の磁気ヘッドを製造するには、まず、結晶化ガ
ラスや非磁性セラミックス等の非磁性体よりなる平板状
の基板を用意する。そして、図14に示すように、基板
21の一主面21aに対して、磁性膜用凹部として、複
数の縦溝22aを形成する。なお、前記縦溝22aの形
成は、機械加工によって形成しても、フォトリソグラフ
ィ技術を用いてパターニングを行いイオンミリング等に
より形成してもよい。また、この縦溝22aは、所望す
る磁気ギャップのデプス方向に平行、且つ所望するトラ
ック幅以上の深さとなるように形成する。 Example 2 To manufacture the magnetic head of this example, first, a flat substrate made of a non-magnetic material such as crystallized glass or non-magnetic ceramics is prepared. Then, as shown in FIG. 14, a plurality of vertical grooves 22a are formed as concave portions for the magnetic film on the one main surface 21a of the substrate 21. The vertical groove 22a may be formed by machining, or may be formed by patterning using photolithography technique and by ion milling or the like. The vertical groove 22a is formed so as to be parallel to the desired depth direction of the magnetic gap and have a depth equal to or larger than the desired track width.
【0041】次に、図15に示すように、縦溝22aを
形成した基板21の主面21a上に、一軸性の磁気異方
性を持つ金属磁性膜23aを、磁化容易軸M1が図中矢
印で示すように縦溝22aの形成方向と垂直となるよう
に、縦溝22aの内部を含めて、スパッタ法や真空蒸着
法等により成膜する。なお、磁化容易軸M1を付与する
方法としては、例えば、磁界中で成膜を行う方法や、基
板を傾斜させてスパッタ粒子の入射方向を変えて異方性
をつける方法等が挙げられる。Next, as shown in FIG. 15, a metal magnetic film 23a having a uniaxial magnetic anisotropy is formed on the main surface 21a of the substrate 21 in which the vertical groove 22a is formed, and an easy axis M1 is shown in the figure. A film including the inside of the vertical groove 22a is formed by a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like so as to be perpendicular to the forming direction of the vertical groove 22a as shown by an arrow. Examples of the method of providing the easy axis of magnetization M1 include a method of forming a film in a magnetic field and a method of tilting the substrate to change the incident direction of sputtered particles to give anisotropy.
【0042】次に、図16に示すように、金属磁性膜2
3aを成膜した面に、イオンミリングや鏡面加工等を施
して金属磁性膜23aの不要部分を取り除いた上で、鏡
面加工を施す。このとき、金属磁性膜23aは、縦溝2
2a内だけに残るように、且つ残った部分の膜厚がトラ
ック幅以上となるようにする。Next, as shown in FIG. 16, the metal magnetic film 2
The surface on which 3a is formed is subjected to ion milling, mirror finishing, etc. to remove unnecessary portions of the metal magnetic film 23a, and then mirror finishing. At this time, the metal magnetic film 23a is formed in the vertical groove 2
The film thickness of the remaining portion is set to be equal to or larger than the track width so that it remains only in 2a.
【0043】次に、図17に示すように、縦溝22a内
に金属磁性膜23aを形成した基板21の主面21aに
対して、磁性膜用凹部として、縦溝22aと直交する複
数の横溝22bを形成する。なお、前記横溝22bの形
成は、縦軸22aの形成と同様、機械加工によって形成
しても、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニング
を行いイオンミリング等により形成してもよい。また、
この横溝22bは、縦溝22aと同じ深さとなるように
形成する。Next, as shown in FIG. 17, with respect to the main surface 21a of the substrate 21 having the metal magnetic film 23a formed in the vertical groove 22a, a plurality of lateral grooves orthogonal to the vertical groove 22a are formed as magnetic film recesses. 22b is formed. The formation of the lateral groove 22b may be performed by machining, as in the case of forming the vertical axis 22a, or may be formed by patterning using photolithography technique and ion milling or the like. Also,
The horizontal groove 22b is formed to have the same depth as the vertical groove 22a.
【0044】次に、図18に示すように、横溝22bを
形成した基板21の主面21a上に、一軸性の磁気異方
性を持つ金属磁性膜23bを、磁化容易軸M2が図中矢
印で示すように横溝22bの形成方向と垂直となるよう
に、横溝22bの内部を含めて、スパッタ法や真空蒸着
法等により成膜する。なお、磁化容易軸M2を付与する
方法は縦軸22a内に金属磁性膜23aを成膜した場合
と同様である。Next, as shown in FIG. 18, a metal magnetic film 23b having a uniaxial magnetic anisotropy is formed on the main surface 21a of the substrate 21 in which the lateral groove 22b is formed. As shown by, the film including the inside of the lateral groove 22b is formed by a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like so as to be perpendicular to the formation direction of the lateral groove 22b. The method of providing the easy axis of magnetization M2 is the same as the case of forming the metal magnetic film 23a in the vertical axis 22a.
【0045】ただし、横軸22b形成後に成膜した金属
磁性膜23bに、磁気異方性を付与するに際して、磁界
をかけることにより磁気異方性を付与する場合は、縦軸
22aに形成した金属磁性膜23aの異方性の方向を乱
さないように、且つ横軸22b形成後に成膜した金属磁
性膜23bに異方性を付与できるように金属磁性膜を選
択する必要がある。このような金属磁性膜の選択として
は、例えば、縦軸22aに形成する金属磁性膜23aを
FeAlSi膜として、横軸22b形成後に成膜する金
属磁性膜23bをアモルファス膜とすればよい。However, when the magnetic anisotropy is applied to the metal magnetic film 23b formed after the formation of the horizontal axis 22b by applying a magnetic field, the metal formed on the vertical axis 22a is applied. It is necessary to select a metal magnetic film so as not to disturb the direction of anisotropy of the magnetic film 23a and to impart anisotropy to the metal magnetic film 23b formed after forming the horizontal axis 22b. To select such a metal magnetic film, for example, the metal magnetic film 23a formed on the vertical axis 22a may be an FeAlSi film and the metal magnetic film 23b formed after the formation of the horizontal axis 22b may be an amorphous film.
【0046】次に、図19に示すように、金属磁性膜2
3bを成膜した面に、イオンミリングや鏡面加工等を施
して金属磁性膜23bの不要部分を取り除いた上で、鏡
面加工を施す。このとき、金属磁性膜23bは、横溝2
2b内だけに残るように、且つ残った部分の膜厚がトラ
ック幅となるようにする。Next, as shown in FIG. 19, the metal magnetic film 2
The surface on which 3b is formed is subjected to ion milling, mirror finishing or the like to remove unnecessary portions of the metal magnetic film 23b, and then mirror finished. At this time, the metal magnetic film 23b is formed in the lateral groove 2
2b is left, and the film thickness of the remaining portion is the track width.
【0047】次に、図20に示すように、基板21を短
冊状に切断して短冊状基板24を作製する。このとき、
一方の切断面21bが磁気コア半体同士の突き合わせ面
となるように、且つ他の切断面21cが前記突き合わせ
面の反対側の面となるようにする。Next, as shown in FIG. 20, the substrate 21 is cut into strips to form strip substrates 24. At this time,
One of the cut surfaces 21b is a contact surface between the magnetic core halves, and the other cut surface 21c is a surface opposite to the contact surface.
【0048】次に、図21に示すように、複数の短冊状
基板24を接合一体化して接合基板25を作製する。こ
のとき、前記突き合わせ面が上部主面21bとなるよう
に接合する。なお、接合は、ガラス融着や低温メタル接
合(例えば金の拡散接合)等によって行う。Next, as shown in FIG. 21, a plurality of strip substrates 24 are joined and integrated to form a joined substrate 25. At this time, they are joined so that the abutting surface becomes the upper main surface 21b. The joining is performed by glass fusion, low temperature metal joining (for example, gold diffusion joining), or the like.
【0049】この接合基板25を用いて、実施例1と同
様に、薄膜コイルの形成、一対の磁気コア半体の接合一
体化等の工程を経て、図22に示すような、磁気ヘッド
26を作製する。Using this bonded substrate 25, a magnetic head 26 as shown in FIG. 22 is obtained through the steps of forming a thin film coil, bonding and unifying a pair of magnetic core halves, and the like, as in the first embodiment. Create.
【0050】本実施例の磁気ヘッドは、実施例1の磁気
ヘッドの効果に加えて、高い再生効率を得ることができ
るという効果が得られる。なぜなら、本実施例の磁気ヘ
ッドは、図23に示すように、磁気コアが、磁化容易軸
M2が磁気ギャップgのデプス方向に平行な、縦溝22
aに形成された金属磁性膜23aと、磁化容易軸M1が
磁気ギャップgのデプス方向に垂直な、横溝22bに形
成された金属磁性膜23bとからなっており、各金属磁
性膜23a,23bの磁化容易軸M1,M2は磁束の方
向に対して常に略垂直方向になっているからである。In addition to the effect of the magnetic head of the first embodiment, the magnetic head of the present embodiment has the effect that a high reproducing efficiency can be obtained. This is because, in the magnetic head of this embodiment, as shown in FIG. 23, the magnetic core has a longitudinal groove 22 in which the easy axis M2 is parallel to the depth direction of the magnetic gap g.
The metal magnetic film 23a formed in a and the metal magnetic film 23b formed in the lateral groove 22b in which the easy axis M1 is perpendicular to the depth direction of the magnetic gap g are composed of the metal magnetic films 23a and 23b. This is because the easy magnetization axes M1 and M2 are always substantially perpendicular to the direction of the magnetic flux.
【0051】[0051]
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明によれば、不要な開口や溝等が形成されることがな
く、ガラス等を充填する必要がない。したがって、ガラ
ス等と反応しやすい磁性膜であっても使用できる。ま
た、ガラス等を充填するための熱処理が不要なので、熱
処理を行うと特性が悪化する磁性膜であっても使用でき
る。更に、充填されたガラス等が媒体摺動面に露出する
ようなことがないので、耐摩耗性にも優れている。As is apparent from the above description, according to the present invention, unnecessary openings and grooves are not formed, and it is not necessary to fill glass or the like. Therefore, even a magnetic film that easily reacts with glass or the like can be used. Further, since a heat treatment for filling glass or the like is not necessary, even a magnetic film whose characteristics are deteriorated by the heat treatment can be used. Further, since the filled glass or the like is not exposed on the sliding surface of the medium, it has excellent wear resistance.
【0052】また、磁性膜を成膜する凹部を、薄膜コイ
ル形成部を避けるような形状とすることにより、薄膜コ
イルの形成が基板上で行われるようになるため、薄膜コ
イルを形成するにあたって、主に基板に対して薄膜工程
を施すこととなり磁性膜に対して薄膜工程を施すことが
なくなる。したがって、薄膜コイルの形成が容易であ
り、歩止まりが大幅に向上する。Further, by forming the recess for forming the magnetic film so as to avoid the thin film coil forming portion, the thin film coil can be formed on the substrate. Therefore, when forming the thin film coil, The thin film process is mainly performed on the substrate, and the thin film process is not performed on the magnetic film. Therefore, the thin-film coil can be easily formed, and the yield is greatly improved.
【0053】また、磁性膜を成膜する凹部を、イオンミ
リングによって形成することにより、前記凹部を高速か
つ正確に形成することができる。Further, by forming the concave portion for forming the magnetic film by ion milling, the concave portion can be formed at high speed and accurately.
【0054】また、磁性膜が形成されるのは、予め形成
された凹部内だけなので、磁性膜と基板の応力の違いに
よって基板に反りが生じることがほとんどない。そのた
め、接着強度が強く信頼性の高い磁気ヘッドとなる。Further, since the magnetic film is formed only in the previously formed recess, the substrate hardly warps due to the difference in stress between the magnetic film and the substrate. Therefore, the magnetic head has high adhesive strength and high reliability.
【0055】さらに、磁性膜を、互いに直交する磁化容
易軸をもつ2種の磁性膜によって形成することにより、
磁性膜の磁気異方性の制御が可能となる。特に、互いに
直交する磁化容易軸をもつ2種の磁性膜のうち、一方の
磁性膜の磁化容易軸を磁気ギャップのデプス方向とし
て、磁性膜の磁化容易軸を磁束の方向に対して常に略垂
直方向となるようにすることにより、磁気ヘッドの再生
効率が向上する。Further, by forming the magnetic film by two kinds of magnetic films having easy axes of magnetization orthogonal to each other,
It is possible to control the magnetic anisotropy of the magnetic film. Particularly, of the two types of magnetic films having the easy magnetization axes orthogonal to each other, the easy magnetization axis of one magnetic film is set as the depth direction of the magnetic gap, and the easy magnetization axis of the magnetic film is always substantially perpendicular to the magnetic flux direction. By adjusting the direction, the reproduction efficiency of the magnetic head is improved.
【図1】実施例1の磁気ヘッドの製造工程を工程順に示
すものであり、基板への磁性膜用凹部の形成工程を示す
概略斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view showing a manufacturing process of a magnetic head of Example 1 in the order of processes, and is a schematic view showing a process of forming a recess for a magnetic film on a substrate.
【図2】金属磁性膜の成膜工程を示す概略斜視図であ
る。FIG. 2 is a schematic perspective view showing a film forming process of a metal magnetic film.
【図3】不要な金属磁性膜を取り除く工程を示す概略斜
視図である。FIG. 3 is a schematic perspective view showing a step of removing an unnecessary metal magnetic film.
【図4】短冊状基板の作製工程を示す概略斜視図であ
る。FIG. 4 is a schematic perspective view showing a process of manufacturing a strip substrate.
【図5】接合基板の作製工程を示す概略斜視図である。FIG. 5 is a schematic perspective view showing a manufacturing process of the bonded substrate.
【図6】薄膜コイル用凹部の形成工程を示す概略平面図
である。FIG. 6 is a schematic plan view showing a step of forming a recess for a thin film coil.
【図7】薄膜コイルの形成工程を示す概略平面図であ
る。FIG. 7 is a schematic plan view showing a process of forming a thin film coil.
【図8】薄膜コイルの保護層である絶縁膜の形成工程を
示す概略平面図である。FIG. 8 is a schematic plan view showing a step of forming an insulating film which is a protective layer of a thin film coil.
【図9】鏡面加工を施し、バックギャップ部と電極接点
部を露呈させる工程を示す概略平面図である。FIG. 9 is a schematic plan view showing a step of exposing the back gap portion and the electrode contact portion by performing mirror finishing.
【図10】磁気ギャップ形成用及び磁気コア半体接合用
の良導体金属膜の成膜工程を示す概略平面図である。FIG. 10 is a schematic plan view showing a film forming process of a good conductor metal film for forming a magnetic gap and for joining magnetic core halves.
【図11】一対の磁気コア半体の突き合わせ工程を示す
概略斜視図である。FIG. 11 is a schematic perspective view showing a step of butting a pair of magnetic core halves.
【図12】一対の磁気コア半体の接合状態を示す概略斜
視図である。FIG. 12 is a schematic perspective view showing a joined state of a pair of magnetic core halves.
【図13】実施例1で得られる磁気ヘッドを示す概略斜
視図である。FIG. 13 is a schematic perspective view showing a magnetic head obtained in Example 1.
【図14】実施例2の磁気ヘッドの製造工程を工程順に
示すものであり、基板への磁性膜用凹部である縦溝の形
成工程を示す概略斜視図である。FIG. 14 is a schematic perspective view showing the manufacturing process of the magnetic head of Example 2 in the order of processes, and showing the process of forming a vertical groove which is a recess for a magnetic film on a substrate.
【図15】縦溝への金属磁性膜の成膜工程を示す概略斜
視図である。FIG. 15 is a schematic perspective view showing a film forming process of a metal magnetic film on a vertical groove.
【図16】不要な金属磁性膜を取り除く工程を示す概略
斜視図である。FIG. 16 is a schematic perspective view showing a step of removing an unnecessary metal magnetic film.
【図17】基板への磁性膜用凹部である横溝の形成工程
を示す概略斜視図である。FIG. 17 is a schematic perspective view showing a step of forming a lateral groove which is a concave portion for a magnetic film on a substrate.
【図18】横溝への金属磁性膜の成膜工程を示す概略斜
視図である。FIG. 18 is a schematic perspective view showing a film forming process of a metal magnetic film on a lateral groove.
【図19】不要な金属磁性膜を取り除く工程を示す概略
斜視図である。FIG. 19 is a schematic perspective view showing a step of removing an unnecessary metal magnetic film.
【図20】短冊状基板の作製工程を示す概略斜視図であ
る。FIG. 20 is a schematic perspective view showing a step of manufacturing a strip substrate.
【図21】接合基板の作製工程を示す概略斜視図であ
る。FIG. 21 is a schematic perspective view showing the manufacturing process of the bonded substrate.
【図22】実施例2で得られる磁気ヘッドを示す概略斜
視図である。22 is a schematic perspective view showing a magnetic head obtained in Example 2. FIG.
【図23】図22に示す磁気ヘッドの磁気コアの磁化容
易軸を示す模式的断面図である。23 is a schematic cross-sectional view showing the easy axis of magnetization of the magnetic core of the magnetic head shown in FIG. 22.
1 基板 2 磁性膜用凹部 3 金属磁性膜 4 短冊状基板 5 接合基板 6 バックギャップ部 7 電極接点部 8 薄膜コイル用凹部 9 薄膜コイル 10 絶縁膜 11 良導体金属膜 12 磁気コア半体 13 磁気ヘッド 21 基板 22a 縦溝 22b 横溝 23a,23b 金属磁性膜 24 短冊状基板 25 接合基板 26 磁気ヘッド M1,M2 磁化容易軸 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Recessed part for magnetic film 3 Metal magnetic film 4 Strip-shaped substrate 5 Bonding substrate 6 Back gap part 7 Electrode contact part 8 Recessed part for thin film coil 9 Thin film coil 10 Insulating film 11 Good conductor metal film 12 Magnetic core half body 13 Magnetic head 21 Substrate 22a Vertical groove 22b Horizontal groove 23a, 23b Metal magnetic film 24 Strip substrate 25 Bonded substrate 26 Magnetic head M1, M2 Easy axis of magnetization
フロントページの続き (72)発明者 山元 哲也 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内Front Page Continuation (72) Inventor Tetsuya Yamamoto 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation
Claims (8)
する一対の磁気コア半体を有し、前記磁気コア半体の突
き合わせ面の少なくとも一方の面に薄膜コイルが形成さ
れてなる磁気ヘッドにおいて、 前記基板上に磁気コア半体の磁路形状に対応する形状の
凹部が形成され、前記凹部に前記磁性膜が成膜されてい
ることを特徴とする磁気ヘッド。1. A magnetic device comprising a pair of magnetic core halves facing each other, each having a magnetic film formed on a substrate, and a thin film coil formed on at least one of the abutting faces of the magnetic core halves. In the head, a recess having a shape corresponding to the magnetic path shape of the magnetic core half is formed on the substrate, and the magnetic film is formed in the recess.
されていることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッ
ド。2. The magnetic head according to claim 1, wherein the recess is formed by ion milling.
をもつ2種の磁性膜からなることを特徴とする請求項1
記載の磁気ヘッド。3. The magnetic film is composed of two kinds of magnetic films having easy axes of magnetization perpendicular to each other.
The magnetic head described.
磁性膜のうち、一方の磁性膜の磁化容易軸が磁気ギャッ
プのデプス方向であることを特徴とする請求項3記載の
磁気ヘッド。4. The magnetic head according to claim 3, wherein, of the two types of magnetic films having the easy magnetization axes orthogonal to each other, one of the magnetic films has the easy magnetization axis in the depth direction of the magnetic gap.
する一対の磁気コア半体を有し、前記磁気コア半体の突
き合わせ面の少なくとも一方の面に薄膜コイルが形成さ
れてなる磁気ヘッドの製造方法において、 前記基板上に前記磁性膜を成膜するに際し、予め前記基
板に凹部を形成し、前記凹部に前記磁性膜を成膜するこ
とを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。5. A magnetic structure comprising a pair of magnetic core halves facing each other, each having a magnetic film formed on a substrate, and a thin film coil formed on at least one of the abutting surfaces of the magnetic core halves. In the method of manufacturing a head, when forming the magnetic film on the substrate, a recess is formed in the substrate in advance, and the magnetic film is formed in the recess.
することを特徴とする請求項5記載の磁気ヘッドの製造
方法。6. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 5, wherein the recess is formed by ion milling.
軸を持つ磁性膜、及び前記磁化容易軸と直交する磁化容
易軸を持つ磁性膜の、2種の磁性膜の成膜であることを
特徴とする請求項5記載の磁気ヘッドの製造方法。7. The film formation of the magnetic film is performed by forming two kinds of magnetic films, a magnetic film having an easy axis of magnetization in one direction and a magnetic film having an easy axis of magnetization orthogonal to the easy axis of magnetization. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 5, wherein:
磁性膜の成膜に際し、一方の磁性膜の磁化容易軸を磁気
ギャップのデプス方向とすることを特徴とする請求項7
記載の磁気ヘッドの製造方法。8. The magnetic easy axis of one of the magnetic films is set to the depth direction of the magnetic gap when the two types of magnetic films having the easy magnetic axes orthogonal to each other are formed.
A method for manufacturing the magnetic head described.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9476994A JPH07302408A (en) | 1994-05-09 | 1994-05-09 | Magnetic head and its production |
EP95917519A EP0709828B1 (en) | 1994-05-09 | 1995-05-09 | Magnetic head and its manufacture |
US08/578,630 US5796564A (en) | 1994-05-09 | 1995-05-09 | Magnetic head having a recessed portion corresponding to a magnetic path and method of manufacturing the same |
DE69521965T DE69521965T2 (en) | 1994-05-09 | 1995-05-09 | MAGNETIC HEAD AND MANUFACTURING METHOD |
KR1019960700035A KR960704303A (en) | 1994-05-09 | 1995-05-09 | Magnetic Head and Manufacturing Method Thereof |
PCT/JP1995/000884 WO1995030984A1 (en) | 1994-05-09 | 1995-05-09 | Magnetic head and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP9476994A JPH07302408A (en) | 1994-05-09 | 1994-05-09 | Magnetic head and its production |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07302408A true JPH07302408A (en) | 1995-11-14 |
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ID=14119310
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP9476994A Withdrawn JPH07302408A (en) | 1994-05-09 | 1994-05-09 | Magnetic head and its production |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH07302408A (en) |
-
1994
- 1994-05-09 JP JP9476994A patent/JPH07302408A/en not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010731 |