JPH0312805A - Magnetic head and its manufacture - Google Patents

Magnetic head and its manufacture

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JPH0312805A
JPH0312805A JP14709389A JP14709389A JPH0312805A JP H0312805 A JPH0312805 A JP H0312805A JP 14709389 A JP14709389 A JP 14709389A JP 14709389 A JP14709389 A JP 14709389A JP H0312805 A JPH0312805 A JP H0312805A
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JP
Japan
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glass
thin film
magnetic
ferromagnetic metal
metal thin
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Application number
JP14709389A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideji Fujimoto
藤本 秀次
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0312805A publication Critical patent/JPH0312805A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To prevent distortion to be occurred and to control the wear of exposed glass by bonding and fixing the side parts of ferromagnetic metallic thin films and non-magnetic materials with second glass whose softening point is 500 deg.C and less and filling the first glass of high density in glass filling grooves. CONSTITUTION:Second glass 22 and 22 is filled between first glass 21 and 21, namely, on both sides of ferromagnetic metallic thin films 3 and 3 and the non-magnetic thin films 8 and 8. Then, both first and second magnetic core half bodies 1 and 1' are bonded and fixed by fixing second glass 22 and 22 by melting. Namely, a pair of magnetic core half bodies 1 and 1' are bonded and fixed by second glass 22 and 22 which is filled in the ferromagnetic metallic thin films 3 and 3' and the non-magnetic materials 8 and 8' and whose softening point is 500 deg.C and less, and first glass 21 and 21 whose hardness is larger than second glass 22 and 22 in the glass filling grooves 14 and 14. Thus, the peeling of the ferromagnetic metallic thin films 3 and 3 and the occurrence of a crack in the magnetic core half bodies 1 and 1' can be prevented, and a spacing loss owing to the wear of glass which is exposed to a medium sliding surface can be controlled.

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明はVTR(ビデオテープレコーダ)、DAT(デ
ジタルオーディオチーブレコーダ)等の磁気記録再生装
置に使用される磁気ヘッドに関し、特に磁気コアの磁気
ギャップ近傍に強磁性金属薄膜が被着形成されている複
合型の磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
Detailed Description of the Invention (a) Industrial Application Field The present invention relates to a magnetic head used in magnetic recording and reproducing devices such as VTRs (video tape recorders) and DATs (digital audio recorders), and particularly relates to magnetic heads used in magnetic recording and reproducing devices such as VTRs (video tape recorders) and DATs (digital audio recorders). The present invention relates to a composite magnetic head in which a ferromagnetic metal thin film is deposited near the magnetic gap, and a method for manufacturing the same.

(ロ)従来の技術 近年、〜’TR,DAT等の磁気記録再生装置において
は、記録信号の高密度化が進められておりこの高密度記
録に対応して、磁性粉としてFe、Co、Ni等の強磁
性金属粉末を用いた抗磁力の高いメタルテープが使用さ
れるようになっている。例えば、8ミリビデオと称する
小型のVTRではHc=1400〜1500エルステッ
ド程度の高い抗磁力を有するメタルテープが用いられる
。その理由は、磁気記録再生装置を小型化するために記
録密度を高める必要性から、信号の記録波長を短くする
ことの可能な記録媒体が要求されてきたためである。
(b) Conventional technology In recent years, in magnetic recording and reproducing devices such as ~'TR and DAT, the recording signal density has been increased, and in response to this high density recording, Fe, Co, Ni, etc. Metal tapes with high coercive force using ferromagnetic metal powders such as ferromagnetic metal powders are now being used. For example, a small VTR called an 8 mm video uses a metal tape having a high coercive force of about Hc=1400 to 1500 oersteds. The reason for this is that the need to increase recording density in order to downsize magnetic recording and reproducing devices has led to a demand for recording media that can shorten the recording wavelength of signals.

一方、このメタルテープに記録するために従来のフェラ
イトのみからなる磁気ヘッドを用いるとフェライトの飽
和磁束密度が高々5500ガウス程度であることから磁
気飽和現象が発生するためメタルテープの性能を充分に
活用することができない。そこで、この高い抗磁力を有
するメタルテープに対応する磁気ヘッドとしては、通常
磁気ヘッドとして要求される磁気コアの高周波特性や耐
摩耗性の他に、磁気コアのギャップ近傍部め飽和磁束密
度が大きいことが要求される。この要求を満たすメタル
テープ対応型の磁気ヘッドとしては、特開昭60−22
9210号公報(G]、185 / 187 )等に開
示されているような磁気飽和現象の最も生じやすい磁気
ギャップ近傍部分を、磁気コアとして使用されるフェラ
イトよりも飽和磁化の大きな金属磁性材料(たとえば、
パーマロイ、センダスト、アモルファス磁性体)で構成
した磁気へ・ノド(複合型の磁気ヘッドと称する)が提
案されている。この複合型の磁気ヘッドは信頼性、磁気
特性、耐摩耗性等の点で優tした特性を有する。この複
合型の磁気ヘッドには、第11図(a)(b)(c)(
d)に夫々示すように様々な形状がある。図中、(1)
(1’)はM’n−Znフェライト等の強磁性酸化物材
料よりなる一対の第1、第2磁気コア半体、(2)は磁
気ギャップであり、前記第1、第2磁気コア半体(1)
(1”)の磁気ギャップ(2)近傍にはセンダスト等の
強磁性金属薄膜(3)(3)が被着形成さl”している
、 (4)は巻線溝、(5)は前記第1、第2磁気コア
半体(1)(1’)を結合するためのガラスである。
On the other hand, if a conventional magnetic head made only of ferrite is used to record on this metal tape, the saturation magnetic flux density of the ferrite is about 5,500 Gauss at most, which causes magnetic saturation phenomenon, so the performance of the metal tape cannot be fully utilized. Can not do it. Therefore, for a magnetic head compatible with this metal tape having high coercive force, in addition to the high-frequency characteristics and abrasion resistance of the magnetic core normally required for a magnetic head, the saturation magnetic flux density near the gap of the magnetic core is high. This is required. As a magnetic head compatible with metal tapes that meets this requirement, Japanese Patent Laid-Open No. 60-22
9210 Publication (G], 185/187) etc., the area near the magnetic gap where the magnetic saturation phenomenon is most likely to occur is made of a metallic magnetic material (e.g. ,
A magnetic head (referred to as a composite magnetic head) made of permalloy, sendust, amorphous magnetic material) has been proposed. This composite magnetic head has excellent characteristics in terms of reliability, magnetic properties, wear resistance, etc. This composite magnetic head has the following features: (a), (b), (c) (
There are various shapes as shown in d). In the figure, (1)
(1') is a pair of first and second magnetic core halves made of ferromagnetic oxide material such as M'n-Zn ferrite; (2) is a magnetic gap; body (1)
A ferromagnetic metal thin film (3) such as Sendust is deposited near the magnetic gap (2) of (1"). (4) is the winding groove, and (5) is the above-mentioned This is glass for bonding the first and second magnetic core halves (1) (1').

第11図(a)(b)(c)(d)に示す磁気ヘッドの
うち、第1、第2磁気コア半体(1)(1’)と強磁性
金属薄膜(3)(3)との境界部(6)(6)が磁気ギ
ャップ(2)のトラック幅方向と非平行である第11図
(C)(d)似示す磁気ヘッドは製造工程が複雑であり
量産性に適していない。
Among the magnetic heads shown in FIGS. 11(a), (b), (c), and (d), the first and second magnetic core halves (1) (1') and the ferromagnetic metal thin films (3) (3) The magnetic head shown in FIGS. 11(C) and 11(d), in which the boundary portions (6) and (6) are non-parallel to the track width direction of the magnetic gap (2), has a complicated manufacturing process and is not suitable for mass production. .

又、前記境界部(6)(6)と磁気ギャップ(2)のト
ラック幅方向とが平行である第11図(a)(b)に示
す磁気ヘッドは製造工程が第11図(c)(d)に示す
磁気ヘッドに比べて簡単であるが、前記境界部(6)(
6)が疑似ギャップとして作用し、再生出力の周波数特
性に波打ち現象(以後疑似ギャップ現象という)が生じ
る。このため、例えばVTRではS/N比が劣化し、D
ATではエラーレートが増加する。
The manufacturing process of the magnetic head shown in FIGS. 11(a) and 11(b), in which the boundary portions (6) and (6) and the track width direction of the magnetic gap (2) are parallel, is as shown in FIG. 11(c). Although it is simpler than the magnetic head shown in d), the boundary portion (6) (
6) acts as a pseudo gap, causing a waving phenomenon (hereinafter referred to as pseudo gap phenomenon) in the frequency characteristics of the reproduced output. For this reason, for example, in a VTR, the S/N ratio deteriorates, and the D
AT increases error rate.

第11図(a)(b)に示す磁気へ・ノドにおいても、
特願昭63−167407号に示されているように前記
境界部に8102等の耐熱性薄膜を介在させることによ
り前述の疑似ギャップ現象を抑制することができる。
Also in the magnetic throat shown in FIGS. 11(a) and (b),
As shown in Japanese Patent Application No. 63-167407, the pseudo gap phenomenon described above can be suppressed by interposing a heat-resistant thin film such as 8102 at the boundary.

しかしながら、第11図(b)に示す磁気ヘッドは第1
、第2磁気コア半体(1ン(1’ンの磁気ギャップ衝き
合わせ面の両側にも強磁性金属薄膜(3)(3)が被着
形成されている。即ち、磁気ギャップ(2)の両側では
第1、第2磁気コア半体(1)(1°)と強磁性金属薄
膜(3)(3)とガラス(5)の3種類の各々の熱膨張
係数が異なる異種材料が隣接しているため、互いに応力
を及ぼし合って歪が発生し疑似ギャップ現象が多大にな
る。又、前記強磁性金属薄膜(3)(3)とガラス(5
)とは濡れ性等の馴染みが悪いため第1、第2磁気コア
半体(1)(1’)同士の接合力も第11図(a)に示
す磁気ヘッドに比べて弱い。
However, the magnetic head shown in FIG. 11(b)
, ferromagnetic metal thin films (3) (3) are also deposited on both sides of the magnetic gap abutting surfaces of the second magnetic core half (1'). On both sides, three different materials with different coefficients of thermal expansion are adjacent: the first and second magnetic core halves (1) (1°), ferromagnetic metal thin films (3) (3), and glass (5). Therefore, the ferromagnetic metal thin film (3) (3) and the glass (5)
), the bonding force between the first and second magnetic core halves (1) and (1') is also weaker than that of the magnetic head shown in FIG. 11(a).

上述の全ての点を考慮すると第11図(a)に示す磁気
ヘッドが最も有効である。
Considering all the above points, the magnetic head shown in FIG. 11(a) is the most effective.

次に、第11図(a)に示す磁気ヘッドの製造方法につ
いて説明する。
Next, a method for manufacturing the magnetic head shown in FIG. 11(a) will be described.

まず、第12図に示すように強磁性酸化物材料よりなる
基板(7)の上面に5μm厚の強磁性金属薄III(3
’)をスパッタリング等により被着形成し、該強磁性金
属薄膜(3′)の上面にギャップ長の半分の膜厚を有す
るSin、等の非磁性薄膜(8′)をスパッタリング等
により被着形成する。尚、前記基板(7)のL面にリン
酸溶液等によるエツチング及び逆スパツタリングを施し
た後、前記上面に10m以上でギャップ長の1/10以
下の膜厚を有するSiO□等の耐熱性薄膜(図示せず)
をスパッタリング等により被着形成し、その後前記強磁
性金属薄膜(3゛)を被着形成してもよい。
First, as shown in FIG. 12, a 5 μm thick ferromagnetic metal thin III (3
') is deposited by sputtering etc., and a non-magnetic thin film (8') such as Sin having a film thickness of half the gap length is deposited on the upper surface of the ferromagnetic metal thin film (3') by sputtering etc. do. After etching and reverse sputtering with a phosphoric acid solution or the like on the L side of the substrate (7), a heat-resistant thin film such as SiO□ having a film thickness of 10 m or more and 1/10 of the gap length or less is applied to the upper surface. (not shown)
may be formed by sputtering or the like, and then the ferromagnetic metal thin film (3') may be formed.

次に、第13図に示すように前記非磁性薄膜(8゛)の
上面にフォトリングラフィ技術を用いてレジスト(9)
を所定のパターンで形成する。
Next, as shown in FIG. 13, a resist (9) is formed on the top surface of the non-magnetic thin film (8゛) using a photolithography technique.
are formed in a predetermined pattern.

次に、第14図に示すようにイオンビームエツチングに
より前記レジスト(9)形成部以外の非磁性薄膜及び強
磁性金属薄膜を除去して基板(7)を露出させ、所定の
パターン(ギャップ衝き合わせ部)の強磁性金属薄膜(
3)及び非磁性薄膜(8)を残す。
Next, as shown in FIG. 14, the nonmagnetic thin film and the ferromagnetic metal thin film other than the resist (9) formation area are removed by ion beam etching to expose the substrate (7), and a predetermined pattern (gap alignment) is removed. ferromagnetic metal thin film (
3) and the non-magnetic thin film (8) are left.

次に、前記基板(7)の上面露出部に第16図(a)(
b)に示すように回転砥石(1o)(H)により溝加工
を施して第15図に示すようにガラス充填溝(12)を
形成する。
Next, the upper surface exposed portion of the substrate (7) is placed on the upper surface of the substrate (7) as shown in FIG.
As shown in b), groove processing is performed using a rotary grindstone (1o) (H) to form a glass-filled groove (12) as shown in FIG.

以後、周知の如く第15図に示す基板(7)を−対用意
し、そのうち一方の基板に巻線溝及びガラス棒挿入溝を
形成した後、前記両基板をギャップ衝合面同士が衝き合
う状態でガラス接合してブロックを形成し、その後前記
ブロックに研摩、切断等の加工を施して複数のへラドチ
ップを形成する。
Thereafter, as is well known, a pair of substrates (7) shown in FIG. 15 are prepared, and after forming a winding groove and a glass rod insertion groove in one of the substrates, the two substrates are brought into contact with their gap abutting surfaces. A block is formed by glass bonding in this state, and then the block is subjected to processing such as polishing and cutting to form a plurality of Herad chips.

しかしながら、上述の製造方法では、一対の第15図に
示す基板(7)(7)をガラス接合する際、600℃以
上の高温に加熱すると、その時の温度変化が強磁性金属
薄膜(3)と該強磁性金属薄膜(3)の下地である基板
(7)あるいは耐熱性薄膜との熱膨張係数の差に作用し
て前記強磁性金属薄膜(3)と前記基板(7)あるいは
前記耐熱性薄膜との界面に応力等の歪が生じ、前記強磁
性金属薄膜(3)が剥離したり、前記界面にヒビ等が発
生する。
However, in the above manufacturing method, when the pair of substrates (7) (7) shown in FIG. The ferromagnetic metal thin film (3) and the substrate (7) or the heat-resistant thin film act on the difference in thermal expansion coefficient between the ferromagnetic metal thin film (3) and the underlying substrate (7) or the heat-resistant thin film. Strains such as stress occur at the interface with the ferromagnetic metal thin film (3), and the ferromagnetic metal thin film (3) peels off or cracks occur at the interface.

又、前述のガラス接合を低融点のガラスを用いて行うこ
とにより、前述の熱膨張係数の差によって生じる応力等
の歪を抑えることができるが、般に下記の第1表に示す
ように低融点のガラスはど硬度が小さくなるため、磁気
ヘッド完成体において媒体摺接面に露出している低融点
ガラスは摩耗し易く、この低融点ガラスにより接合され
た磁気ヘッドは長時間使用すると磁気媒体の走行性が劣
化する。
Furthermore, by performing the above-mentioned glass bonding using a glass with a low melting point, it is possible to suppress distortions such as stress caused by the above-mentioned difference in thermal expansion coefficients, but in general, as shown in Table 1 below, Since the hardness of melting point glass is low, the low melting point glass exposed on the media sliding surface in the completed magnetic head is likely to wear out, and if a magnetic head bonded with this low melting point glass is used for a long time, the magnetic medium will drivability deteriorates.

第  1  表 又、上述の製造方法では、第16図(a)(b)に示す
工程において、回転砥石(10)(11)が前記強磁性
金属薄膜(3)に接触したり、あるいは非常に近接した
部分を通過するとその衝撃や振動等により前記強磁性金
属薄膜(3)に剥離が生じる。また、この膜剥れは前記
基板(7)の上面に耐熱性薄膜を形成させたときは特に
顕著である。
Table 1 Furthermore, in the above-mentioned manufacturing method, in the steps shown in FIGS. When the ferromagnetic metal thin film (3) passes through a nearby portion, the ferromagnetic metal thin film (3) peels off due to the impact, vibration, etc. Furthermore, this film peeling is particularly noticeable when a heat-resistant thin film is formed on the upper surface of the substrate (7).

又、前記強磁性金属薄膜(3)から離れたところに溝加
工を施すことにより上述の膜剥れを解消することは可能
であるが、第17図(a)に示すように磁気ギャップ(
2)の両側において磁気コア半体(1)(1’)同士が
対向し、その部分(13)(13)がギャップとして作
用して隣接トラックの低周波数信号を拾う虞れがある。
Furthermore, it is possible to eliminate the above-mentioned film peeling by forming a groove at a location away from the ferromagnetic metal thin film (3), but as shown in FIG. 17(a), the magnetic gap (
On both sides of 2), the magnetic core halves (1) (1') face each other, and the portions (13) (13) may act as a gap and pick up low frequency signals from adjacent tracks.

例えば、DATにおいてはその部分(13)(13)が
ATF用のパイロット信号を拾ってしまう。又、前記強
磁性金属薄膜(3)から離れた所に溝加工を施すと第1
7図(b)に示すように磁気ギャップ(2)の位置が中
心からずれる虞れもある。
For example, in the DAT, the portions (13) (13) pick up the pilot signal for the ATF. Furthermore, if a groove is formed at a location away from the ferromagnetic metal thin film (3), the first
As shown in FIG. 7(b), there is a possibility that the position of the magnetic gap (2) may be shifted from the center.

(ハ)発明が解決しようとする課題 本発明は上記従来例の欠点に鑑み為されたものであり、
磁気コア半体と強磁性金属薄膜との間に両者間の熱膨張
係数の違いにより発生する歪を防止し、且つ媒体摺接面
に露出しているガラスの摩耗を抑えた磁気ヘッド及びそ
の製造方法を提供することを目的とするものである。
(c) Problems to be Solved by the Invention The present invention has been made in view of the drawbacks of the above-mentioned conventional examples.
A magnetic head that prevents distortion caused by a difference in coefficient of thermal expansion between a magnetic core half and a ferromagnetic metal thin film, and suppresses abrasion of glass exposed on a surface in contact with a medium, and its manufacture. The purpose is to provide a method.

(ニ)課題を解決するための手段 本発明の磁気ヘッドは、一対の磁気コア半体同士を強磁
性金属薄膜及び非磁性材料の側部に充填した軟化点が5
00℃以下の第2のガラスにより接合固定し、前記一対
の磁気コア半体の薄膜形成面を規制するガラス充填溝内
には前記第2のガラスよりも高硬度の第1のガラスを充
填したことを特徴とする。
(d) Means for Solving the Problems The magnetic head of the present invention has a softening point of 5, in which a pair of magnetic core halves are filled with a ferromagnetic metal thin film and a non-magnetic material on the sides.
A second glass having a temperature of 00° C. or lower is used to bond and fix the glass, and a first glass having a harder hardness than the second glass is filled in the glass filling groove that regulates the thin film forming surface of the pair of magnetic core halves. It is characterized by

又、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、強磁性酸化物材
料よりなる一対の基板の上面に薄膜形成面の幅を規制す
るガラス充填溝を形成し、該ガラス充填溝内に高硬度の
第1のガラスを充填した後、前記薄膜形成面上に強磁性
金属薄膜を形成し、次いで前記一対の基板上の強磁性金
属薄膜同士を磁気ギャップとなる非磁性材料を介して衝
き合わせ、前記一対の基板の前記第1のガラス同士が対
向している空隙に軟化点が500℃以下の第2のガラス
を溶融固化することにより充填して前記一対の基板同士
を接合固定する工程を有する事を特徴とする。
Further, in the method for manufacturing a magnetic head of the present invention, a glass-filled groove is formed on the upper surface of a pair of substrates made of a ferromagnetic oxide material to regulate the width of the thin film forming surface, and a highly hard glass groove is formed in the glass-filled groove. 1, a ferromagnetic metal thin film is formed on the thin film formation surface, and then the ferromagnetic metal thin films on the pair of substrates are brought into contact with each other via a nonmagnetic material that forms a magnetic gap. The step of joining and fixing the pair of substrates by melting and solidifying a second glass having a softening point of 500° C. or less is filled into a gap in which the first glasses of the substrates face each other. Features.

(ホ)作 用 上記構造の磁気ヘッドによれば、磁気コア半体と強磁性
金属薄膜との間に両者の熱膨張係数の違いにより発生す
る歪がほとんど発生しない600℃以下で、前記第1、
第2磁気コア半体同士を接合することが可能であり、ま
た、媒体摺接面に露出しているガラスの大部分は、ガラ
ス充填溝に充填されている高硬度の第1のガラスで形成
されているため、前記媒体摺接面に露出しているガラス
の摩耗は抑えられる。
(E) Effect According to the magnetic head having the above structure, the first magnetic head is heated at 600° C. or lower, at which almost no strain occurs between the magnetic core half and the ferromagnetic metal thin film due to the difference in coefficient of thermal expansion between the two. ,
It is possible to join the second magnetic core halves together, and most of the glass exposed on the medium sliding contact surface is made of the high hardness first glass filled in the glass filling groove. Therefore, abrasion of the glass exposed at the medium sliding contact surface is suppressed.

又、上述の製造方法によれば、強磁性金属薄膜を被着形
成する以前に、高硬度の第1のガラスを充填するので、
この充填時の熱は強磁性金属薄膜には全く影響を与えず
、しかも、磁気コア半体と1 なる一対の基板同士の接合は軟化点が500 ℃以下の
低融点の第2のガラスを溶融固化することにより行われ
るため、前記基板と強磁性金属薄膜との間にほとんど歪
が発生しない600℃以下の低温で前記一対の基板は接
合固定される。
Furthermore, according to the above manufacturing method, the first glass having high hardness is filled before the ferromagnetic metal thin film is deposited.
This heat during filling has no effect on the ferromagnetic metal thin film, and the bond between the magnetic core halves and the pair of substrates 1 is made by melting the second glass, which has a low melting point of 500°C or less. Since this is done by solidification, the pair of substrates are bonded and fixed at a low temperature of 600° C. or lower, where almost no strain occurs between the substrate and the ferromagnetic metal thin film.

(へ)実施例 以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を詳細に説明
する。
(F) Embodiment Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は本実施例の磁気ヘッドの外観を示す斜視図、第
2図は上記磁気ヘッドのテープ摺接面を示す図である。
FIG. 1 is a perspective view showing the external appearance of the magnetic head of this embodiment, and FIG. 2 is a view showing the tape sliding surface of the magnetic head.

図中、(1)(1’)はM n −Z nフェライト等
の強磁性酸化物よりなる一対の第1、第2磁気コア半体
であり、該一対の第1、第2磁気コア半体(1)(1′
)夫々の薄膜形成面(15)(15)上にはS10!等
の耐熱性薄膜(図示せず)を介してセンダスト等の強磁
性金属薄膜(3)(3)が被着形成されており、該強磁
性金属薄膜(3)(3)上にはギャップ長の172の膜
厚を有する8102等の非磁性薄膜(8)(8)が被着
形成されている。前記強磁性金属薄膜(3)(3)2 は耐熱性薄膜を介さず前記薄膜形成面(15)(15)
上に直接形成してもよい。前記薄膜形成面(15)(1
5)の幅aを規制するガラス充填溝(14)(14)(
14)(14)には第1のガラス(21)(21)(2
1)(21’)が充填されている。前記第1、第2磁気
コア半体(1)(1’)は前記非磁性薄膜(8)(8)
が衝き合う状態で接合固定されており該非磁性薄膜(8
)(s)は所望のギャップ長の磁気ギャップ(2)とな
る。前記第1磁気コア半体(1)の第1のガラス(21
)(21)と、前記第2磁気コア半体(1°)の第1の
ガラス(21)(21)との間、即ち前記強磁性金属薄
膜(3)(3)及び前記非磁性薄膜(8)(8)の両側
には第2のガラス(22)(22)が充填されており、
該第2のガラス(22)(22)の溶融同化により前記
第1、第2磁気コア半体(1)(1′)同士は接合固定
されている。前記第2磁気コア半体(1′)の前記第1
磁気コア半体(1)と対向する面には巻線溝(4)及び
ガラス棒挿入溝(20)が形成されている。前記第1、
第2のガラス(21)(22)の組成及び物理特性は下
記の第2表及び第3表に示すとおりである。
In the figure, (1) and (1') are a pair of first and second magnetic core halves made of ferromagnetic oxide such as Mn-Zn ferrite; Body (1) (1'
) S10! on each thin film formation surface (15) (15)! A ferromagnetic metal thin film (3) (3) such as Sendust is deposited on the ferromagnetic metal thin film (3) (3) through a heat-resistant thin film (not shown) such as A non-magnetic thin film (8) (8) such as 8102 having a film thickness of 172 is deposited. The ferromagnetic metal thin films (3) (3) 2 are attached to the thin film forming surfaces (15) (15) without intervening a heat-resistant thin film.
It may also be formed directly on top. The thin film forming surface (15) (1
5) Glass filling grooves (14) (14) (
14) (14) has the first glass (21) (21) (2
1) (21') is filled. The first and second magnetic core halves (1) (1') are the non-magnetic thin films (8) (8).
The non-magnetic thin film (8
)(s) becomes the magnetic gap (2) with the desired gap length. The first glass (21) of the first magnetic core half (1)
) (21) and the first glass (21) (21) of the second magnetic core half (1°), that is, the ferromagnetic metal thin film (3) (3) and the nonmagnetic thin film ( 8) Both sides of (8) are filled with second glass (22) (22),
The first and second magnetic core halves (1, 1') are bonded and fixed together by melting and assimilating the second glasses (22, 22). The first magnetic core half of the second magnetic core half (1')
A winding groove (4) and a glass rod insertion groove (20) are formed on the surface facing the magnetic core half (1). Said first,
The composition and physical properties of the second glasses (21) and (22) are as shown in Tables 2 and 3 below.

次に、上記実施例の磁気ヘッドの製造方法について説明
する。
Next, a method of manufacturing the magnetic head of the above embodiment will be explained.

まず、第3図に示すようにM n −Z n単結晶フェ
ライト等の強磁性酸化物材料よりなる基板(7)の上面
に深さ10071mのトラック幅規制溝(14)を形成
して、所望のトラック幅よりも少許大きい幅a(例えば
26μm)を有する薄膜形成面(15)を形成する。尚
、前記トラック幅規制溝(14)の上部は両側面(14
a)(14a)が基板(7)上面と直交しており、下部
は断面V字状である。
First, as shown in FIG. 3, track width regulating grooves (14) with a depth of 10,071 m are formed on the upper surface of a substrate (7) made of a ferromagnetic oxide material such as Mn-Zn single crystal ferrite, and A thin film forming surface (15) having a width a (for example, 26 μm) slightly larger than the track width of is formed. Note that the upper part of the track width regulating groove (14) is located on both sides (14).
a) (14a) is perpendicular to the upper surface of the substrate (7), and the lower part has a V-shaped cross section.

次に、前記基板(7)の上面に軟化点が540℃である
第1のガラスよりなる板状のガラスを圧着させながら真
空中で560℃まで加熱して前記トラック幅規制溝(1
4)内に第1のガラス(21)を充填した。この時、前
記薄膜形成面(15)上にもガラスが被着している。そ
の後、第4図に示すように前記基板(7)の上面に薄膜
形成面(15)が露出するまで平面研摩を施した後、鏡
面に仕上げる。尚、前記トラック幅規制溝(14)は上
部の両側面(14a>(14a)が前記基板(7)の上
面と直交しているので、5 前述の研摩量に関係なく前記薄膜形成面(15)の幅a
を一定に保つことができる。
Next, a plate glass made of a first glass having a softening point of 540° C. is pressed onto the upper surface of the substrate (7) and heated to 560° C. in vacuum to form the track width regulating groove (1).
4) The first glass (21) was filled inside. At this time, glass is also deposited on the thin film forming surface (15). Thereafter, as shown in FIG. 4, the upper surface of the substrate (7) is polished to a mirror surface until the thin film forming surface (15) is exposed. It should be noted that since the track width regulating groove (14) has both upper side surfaces (14a>(14a) perpendicular to the upper surface of the substrate (7), the thin film forming surface (15) ) width a
can be kept constant.

次に、前記基板(7)の薄膜形成面(15)及び充填さ
れた第1のガラス(21)の上面にリン酸溶液等による
化学的エツチングを施すことにより研摩による加工変質
層を除去し、逆スパツタリングにより不純物を除去した
後、前記薄膜形成面(15)及び第1のガラス(21)
上にSin、等の耐熱性薄膜(図示せず)をスパッタリ
ング等により被着形成する。尚、前記耐熱性薄膜の膜厚
はlnm以上でギャップ長の1/10以下である。
Next, the thin film formation surface (15) of the substrate (7) and the upper surface of the filled first glass (21) are chemically etched with a phosphoric acid solution or the like to remove the process-affected layer due to polishing; After removing impurities by reverse sputtering, the thin film forming surface (15) and the first glass (21)
A heat-resistant thin film (not shown) such as Sin is deposited thereon by sputtering or the like. The thickness of the heat-resistant thin film is 1 nm or more and 1/10 or less of the gap length.

次に、第5図に示すように前記耐熱性薄膜(図示せず)
上にセンダスト等の強磁性金属薄膜(3′)をスパッタ
リング等により5μm厚被首形成し、該強磁性金属薄膜
(3′)上にギャップ長の1/2の膜厚を有する5i0
2等の非磁性薄膜(8′)をスパッタリング等により被
着形成する。尚、前記耐熱性薄膜を形成せずに、前記基
板(7)の薄膜形成面(15)及び第1のガラス(21
)上に直接強磁性金属薄膜(3°)及び非磁性薄膜(8
′)を被着形成してもよ6 い。次に、第6図に示すように前記非磁性薄膜(8′)
のうち前記薄膜形成面(15)上に被着された部分の上
面にフォトリングラフィ技術によりレジスト(17)を
形成する。前記レジス) (17)は基板(7)の巻線
溝形成部分(18)及びガラス棒挿入溝形成部分(19
)には形成されていない。尚、本実施例では幅22μm
のパターンを有するフォトマスクを使用してレジス) 
(17)を形成した。前記薄膜形成面(15)は幅aが
26μmであるので幅22μmのパターンを位置合わせ
するのは容易である。又、仮に1.2μmのズレがあっ
てもほとんど問題はない。
Next, as shown in FIG. 5, the heat-resistant thin film (not shown) is
A 5 μm thick ferromagnetic metal thin film (3') such as Sendust is formed on the top by sputtering etc., and a 5i0 film having a film thickness of 1/2 of the gap length is formed on the ferromagnetic metal thin film (3').
A non-magnetic thin film (8') such as No. 2 is deposited by sputtering or the like. Note that the thin film forming surface (15) of the substrate (7) and the first glass (21
) directly on the ferromagnetic metal thin film (3°) and non-magnetic thin film (8°
') may be formed by adhesion. Next, as shown in FIG. 6, the non-magnetic thin film (8') is
A resist (17) is formed on the upper surface of the portion deposited on the thin film forming surface (15) by photolithography. (17) is the winding groove forming portion (18) and the glass rod insertion groove forming portion (19) of the substrate (7).
) is not formed. In this example, the width is 22 μm.
resist using a photomask with a pattern of)
(17) was formed. Since the thin film forming surface (15) has a width a of 26 μm, it is easy to align a pattern with a width of 22 μm. Further, even if there is a deviation of 1.2 μm, there is almost no problem.

次に、第7図に示すようにイオンビームエツチングによ
り前記レジス) (17)形成部以外の非磁性薄膜及び
強磁性金属薄膜を除去して基板(7)を露出させ、所定
のパターン(ギャップ衝き合わせ部)の強磁性金属薄膜
(3)及び非磁性薄膜(8)を残す。前記強磁性金属薄
膜(3)の底面(3a)の幅は第8図に示すように前記
薄膜形成面(15)の幅aに略等しい。尚イオンビーム
エツチング時の入射角を選択することにより前記強磁性
金属薄膜(3)の側面(3b)の傾斜角を調整して前記
底面(3a)の幅を所定値にした。
Next, as shown in FIG. 7, the non-magnetic thin film and the ferromagnetic metal thin film other than the region where the resist (17) is formed are removed by ion beam etching to expose the substrate (7). The ferromagnetic metal thin film (3) and non-magnetic thin film (8) of the mating part) are left. The width of the bottom surface (3a) of the ferromagnetic metal thin film (3) is approximately equal to the width a of the thin film forming surface (15), as shown in FIG. By selecting the incident angle during ion beam etching, the inclination angle of the side surface (3b) of the ferromagnetic metal thin film (3) was adjusted, and the width of the bottom surface (3a) was set to a predetermined value.

次に、第7図に示す基板(7)(7’)を一対用意し、
一方の基板(7゛)の巻線溝形成部(18)及びガラス
棒挿入溝形成部(19)に溝加工を施して巻線溝(4)
及びガラス棒挿入溝(20)を形成し、第9図に示すよ
うに前記一対の基板(7)(7’)のギャップ衝き合わ
せ部同士を衝合させる。
Next, prepare a pair of substrates (7) (7') shown in FIG.
The winding groove forming part (18) and the glass rod insertion groove forming part (19) of one substrate (7゛) are grooved to form a winding groove (4).
and a glass rod insertion groove (20) are formed, and the gap abutting portions of the pair of substrates (7) (7') are brought into contact with each other as shown in FIG.

次に、前記ガラス棒挿入溝(20)内に軟化点が455
℃である第2のガラスよりなるガラス棒(図示せず)を
挿入した状態で490℃まで加熱することにより前記ガ
ラス棒を溶融し、その後冷却することにより第10図に
示すように前記一対の基板(7)(7’)の第1のガラ
ス(21)(21)間、即ち前記強磁性金属薄膜(3)
(3)と非磁性薄膜(8)(8)との側部に第2のガラ
ス(22)を充填し、前記一対の基板(7)(7°)同
士を接合固定する。
Next, the glass rod insertion groove (20) has a softening point of 455.
By heating to 490°C with a glass rod (not shown) made of a second glass inserted therein, the glass rod is melted, and then cooled to melt the pair of glass rods as shown in FIG. Between the first glasses (21) (21) of the substrates (7) (7'), that is, the ferromagnetic metal thin film (3)
(3) and the nonmagnetic thin films (8) (8) are filled with a second glass (22), and the pair of substrates (7) (7°) are bonded and fixed together.

そして最後に、第10図に示す接合体を破線A−A’に
沿って切断して複数のコアブロックを形成し、該コアブ
ロックの媒体摺接面側の端面にR針加工を施した後、前
記コアブロックを破線B−B′に沿って切断して第1図
に示す本実施例の磁気ヘッドを複数個形成する。
Finally, the joined body shown in FIG. 10 is cut along the broken line A-A' to form a plurality of core blocks, and the end surface of the core block on the medium sliding surface side is subjected to R needle processing. , the core block is cut along broken line B-B' to form a plurality of magnetic heads of this embodiment shown in FIG.

上述のような磁気ヘッドでは、一対の第1、第2磁気コ
ア半体(1)(1’)同士は軟化点が455℃の低融点
である第2のガラス(22)(22)の溶融固化により
接合されるため、この接合に必要な加熱温度は490℃
荊後の低温でよく、第1、第2磁気コア半体(1)(1
’)と強磁性金属薄膜(3)(3)との間に両者の熱膨
張係数の違いにより発生する歪を抑えることができる。
In the above-described magnetic head, the pair of first and second magnetic core halves (1) (1') are made of melted second glass (22) (22) having a low melting point of 455°C. Since the bond is formed by solidification, the heating temperature required for this bond is 490°C.
The temperature after pruning is sufficient, and the first and second magnetic core halves (1) (1
') and the ferromagnetic metal thin film (3) (3) due to the difference in their thermal expansion coefficients can be suppressed.

又、上述の磁気ヘッドの媒体摺接面に露出するガラスの
うち大部分は第1、第2磁気コア半体(1)(1’)の
薄膜形成面(15)(15)の幅を規制するガラス充填
溝(14)(14)(14)(14)に充填された前記
第2のガラス(22)(22)よりも高硬度の第1のガ
ラス<21)(21)により形成されるため、1rij
記媒体摺接面の摩耗による記録、再生時のスペーシング
ロスを抑えることができる。
Furthermore, most of the glass exposed on the medium sliding contact surface of the magnetic head described above is used to control the width of the thin film forming surfaces (15) (15) of the first and second magnetic core halves (1) (1'). The glass filling grooves (14) (14) (14) (14) are filled with a first glass (21) (21) having a harder hardness than the second glass (22) (22). 1rij
Spacing loss during recording and reproduction due to wear of the recording medium sliding surface can be suppressed.

又、上述の磁気ヘッドの製造方法では、薄膜形9 成面(15)を規定するガラス充填溝(14)を形成し
、該ガラス充填溝(14)に第1のガラス(21)を充
填した後、強磁性金属薄膜(3′)及び非磁性薄膜(8
′)を被着形成するので、前記溝加工による強磁性金属
薄膜(3゛)若しくは耐熱性薄膜の膜剥れは防止される
。特に、疑似ギャップ防止用の耐熱性薄膜を形成した時
、その効果は大である。又、イオンビームエツチングに
よりギャップ衝き合わせ部の強磁性金属薄膜(3)及び
非磁性薄膜(8)を形成する際イオンビームの入射角を
調整することにより前記薄膜形成部(3)の幅aと前記
強磁性金属薄膜(3)の底面(3a)の幅とを一致させ
ることが容易にでき、製造された磁気ヘッドにおいて薄
膜形成面(15)(15)同士が直接対向することはな
く、隣接トラックの低周波信号を拾う虞れはない。又、
磁気ギャップ(2)の位置が中心からずれることもなく
なる。
Further, in the method for manufacturing the magnetic head described above, a glass filling groove (14) defining the forming surface (15) of the thin film type 9 is formed, and the glass filling groove (14) is filled with the first glass (21). After that, a ferromagnetic metal thin film (3') and a non-magnetic thin film (8
′), the peeling of the ferromagnetic metal thin film (3′) or the heat-resistant thin film due to the groove processing is prevented. In particular, when a heat-resistant thin film for preventing pseudo gaps is formed, the effect is great. Furthermore, when forming the ferromagnetic metal thin film (3) and non-magnetic thin film (8) of the gap abutting part by ion beam etching, the width a and the width a of the thin film forming part (3) can be adjusted by adjusting the incident angle of the ion beam. The width of the bottom surface (3a) of the ferromagnetic metal thin film (3) can be easily matched with the width of the bottom surface (3a) of the ferromagnetic metal thin film (3). There is no risk of picking up low frequency signals from the truck. or,
The position of the magnetic gap (2) will no longer shift from the center.

(ト)発明の効果 本発明によれば、磁気コア半体と強磁性金属薄膜との間
の歪を抑えることにより前記強磁性金属薄膜の剥離や前
記磁気コア半体のヒビの発生を防0 止し、更に、媒体摺接面に露出しているガラスの摩耗に
よるスペーシングロスを抑えることにより記録再生特性
の劣化を防止した磁気ヘッド及びその製造方法を提供し
得る。
(G) Effects of the Invention According to the present invention, by suppressing the strain between the magnetic core half and the ferromagnetic metal thin film, peeling of the ferromagnetic metal thin film and generation of cracks in the magnetic core half can be prevented. Furthermore, it is possible to provide a magnetic head and a method for manufacturing the same that prevent deterioration of recording and reproducing characteristics by suppressing spacing loss due to abrasion of the glass exposed on the sliding contact surface of the medium.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図乃至第10図は本発明に係り、第1図は磁気ヘッ
ドの外観を示す斜視図、第2図は磁気ヘッドのテープ摺
接面を示す図、第3図、第4図、第5図、第6図、第7
図、第8図、第9図及び第10図は夫々磁気ヘッドの製
造方法に示す図である。第11図は磁気ヘッドの外観を
示す斜視図、第12図、第13図、第14図、第15図
及び第16図は夫々従来の磁気ヘッドの製造方法を示す
図、第17図は従来の磁気ヘッドのテープ摺接面を示す
図である。 (1)(1°)・・・第1、第2磁気コア半体、(2)
・・磁気ギャップ、(3)・・・強磁性金属薄膜、(7
)・・・基板、(8)・・・非磁性薄膜、(14)・・
・ガラス充填溝、(15)・・・薄膜形成面、(21)
・・・第1のガラス、(22片・・第2のガラス。 2 ] 2 第1図 14 第2図 n 吟 ψ 特開平 3 12805 (10)
1 to 10 relate to the present invention; FIG. 1 is a perspective view showing the external appearance of the magnetic head, FIG. 2 is a view showing the tape sliding surface of the magnetic head, FIGS. Figure 5, Figure 6, Figure 7
8, 9, and 10 are diagrams showing a method of manufacturing a magnetic head, respectively. FIG. 11 is a perspective view showing the external appearance of the magnetic head, FIGS. 12, 13, 14, 15, and 16 are views showing conventional methods of manufacturing a magnetic head, and FIG. 17 is a conventional method. FIG. 3 is a diagram showing the tape sliding contact surface of the magnetic head of FIG. (1) (1°)...first and second magnetic core halves, (2)
...Magnetic gap, (3)...Ferromagnetic metal thin film, (7
)...Substrate, (8)...Nonmagnetic thin film, (14)...
・Glass filling groove, (15)...Thin film forming surface, (21)
...First glass, (22 pieces...Second glass. 2 ] 2 Fig. 1 14 Fig. 2 n gin ψ JP-A-3 12805 (10)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)強磁性酸化物材料よりなる一対の磁気コア半体は
ガラス充填溝により幅が規制されている薄膜形成面を有
し、該薄膜形成面上に形成された強磁性金属薄膜同士を
非磁性材料を介して衝き合わせることにより前記薄膜形
成面と平行方向に延在する磁気ギャップを形成してなる
磁気ヘッドに於て、前記一対の磁気コア半体同士を前記
強磁性金属薄膜及び前記非磁性材料の側部に充填した軟
化点が500℃以下の第2のガラスにより接合固定し、
前記ガラス充填溝内には前記第2のガラスよりも高硬度
の第1のガラスを充填したことを特徴とする磁気ヘッド
(1) A pair of magnetic core halves made of a ferromagnetic oxide material have a thin film forming surface whose width is regulated by a glass-filled groove, and the ferromagnetic metal thin films formed on the thin film forming surface are separated from each other. In a magnetic head in which a magnetic gap extending parallel to the thin film formation surface is formed by abutting each other through a magnetic material, the pair of magnetic core halves are connected to each other by the ferromagnetic metal thin film and the non-ferromagnetic metal thin film. Bonded and fixed with a second glass having a softening point of 500°C or less filled in the side of the magnetic material,
A magnetic head characterized in that the glass filling groove is filled with a first glass having a harder hardness than the second glass.
(2)強磁性酸化物材料よりなる一対の磁気コア半体の
磁気ギャップ近傍に強磁性金属薄膜が被着され、前記磁
気コア半体と前記強磁性金属薄膜との境界が前記磁気ギ
ャップのトラック幅方向と平行である磁気ヘッドの製造
方法において、強磁性酸化物材料よりなる一対の基板の
上面に薄膜形成面の幅を規制するガラス充填溝を形成し
、該ガラス充填溝内に高硬度の第1のガラスを充填した
後、前記薄膜形成面上に強磁性金属薄膜を形成し、次い
で前記一対の基板上の強磁性金属薄膜同士を磁気ギャッ
プとなる非磁性材料を介して衝き合わせ、前記一対の基
板の前記第1のガラス同士が対向している空隙に軟化点
が500℃以下の第2のガラスを溶融固化することによ
り充填して前記一対の基板同士を接合固定する工程を有
する事を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
(2) A ferromagnetic metal thin film is deposited near the magnetic gap between a pair of magnetic core halves made of a ferromagnetic oxide material, and the boundary between the magnetic core halves and the ferromagnetic metal thin film tracks the magnetic gap. In a method for manufacturing a magnetic head that is parallel to the width direction, a glass-filled groove is formed on the upper surface of a pair of substrates made of a ferromagnetic oxide material to regulate the width of the thin film forming surface, and a highly hardened material is placed in the glass-filled groove. After filling the first glass, a ferromagnetic metal thin film is formed on the thin film formation surface, and then the ferromagnetic metal thin films on the pair of substrates are brought into contact with each other via a nonmagnetic material that forms a magnetic gap, and the The method includes the step of joining and fixing the pair of substrates by melting and solidifying a second glass having a softening point of 500° C. or less to fill the gap between the first glasses of the pair of substrates facing each other. A method for manufacturing a magnetic head characterized by:
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0602567A2 (en) * 1992-12-14 1994-06-22 Sony Corporation Magnetic transducer head
US8216262B2 (en) 2005-10-15 2012-07-10 Stryker Ireland, Ltd Surgical sagittal saw blade with spaced apart tines from which the blade teeth emerge and recessed webs that extend between the tines

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