JPH08201036A - 走査型レーザー変位計 - Google Patents
走査型レーザー変位計Info
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- JPH08201036A JPH08201036A JP2877895A JP2877895A JPH08201036A JP H08201036 A JPH08201036 A JP H08201036A JP 2877895 A JP2877895 A JP 2877895A JP 2877895 A JP2877895 A JP 2877895A JP H08201036 A JPH08201036 A JP H08201036A
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- scanning
- displacement meter
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- laser displacement
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来知られる光学的三角測量方式を用いて被
測定物の表面の２次元形状を測定する走査型レーザー変
位計の測定精度を簡単な構成によって誤差が少なく且つ
測定精度が向上した走査型レーザー変位計を提供する。 【構成】 レーザービームを走査する第１の走査手段
と、前記走査ビームを平行走査ビームに変換するビーム
変換手段と、この平行走査ビームを被測定物の測定面に
対して略垂直方向に走査させ、この平行走査ビームの走
査により前記測定面から反射された拡散光を受けるスキ
ャナミラーを設けた第２の走査手段と、第２の走査手段
の反射光を集光する集光レンズと、集光された光像点の
変位を検出する位置検出手段とを有し、上記第２の走査
手段は第１の走査手段の走査周期と同期している。
測定物の表面の２次元形状を測定する走査型レーザー変
位計の測定精度を簡単な構成によって誤差が少なく且つ
測定精度が向上した走査型レーザー変位計を提供する。 【構成】 レーザービームを走査する第１の走査手段
と、前記走査ビームを平行走査ビームに変換するビーム
変換手段と、この平行走査ビームを被測定物の測定面に
対して略垂直方向に走査させ、この平行走査ビームの走
査により前記測定面から反射された拡散光を受けるスキ
ャナミラーを設けた第２の走査手段と、第２の走査手段
の反射光を集光する集光レンズと、集光された光像点の
変位を検出する位置検出手段とを有し、上記第２の走査
手段は第１の走査手段の走査周期と同期している。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被測定物の表面の２次
元形状を光学的三角測量方式を用いて測定する走査型レ
ーザー変位計に関し、特には、平行走査されたレーザー
ビームを被測定物の測定面に対して横切るように照射
し、その拡散光の一部を位置検出手段に集光させて被測
定物の形状を測定する走査型レーザー変位計に関する。
元形状を光学的三角測量方式を用いて測定する走査型レ
ーザー変位計に関し、特には、平行走査されたレーザー
ビームを被測定物の測定面に対して横切るように照射
し、その拡散光の一部を位置検出手段に集光させて被測
定物の形状を測定する走査型レーザー変位計に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＩＣの足曲がりの検査、あるいはプリン
ト基板上に実装した部品の位置ずれの検査、あるいは連
続する面の歪みや反りの測定等、物品の外観検査または
寸法測定を光学機械的に行う装置の一つとして走査型レ
ーザー変位計が知られる。
ト基板上に実装した部品の位置ずれの検査、あるいは連
続する面の歪みや反りの測定等、物品の外観検査または
寸法測定を光学機械的に行う装置の一つとして走査型レ
ーザー変位計が知られる。
【０００３】一般に知られる２次元測定の走査型レーザ
ー変位計の一例を図４に示す。光源２から射出された光
ビーム３は、投光レンズ４を介して扇状の走査ビーム５
を形成させる所定の回転周期を有する回転ミラー６に反
射される。この走査ビーム５は、対向配置された被測定
物に向かってＰ１からＰ２の地点まで走査される。被測
定物に照射された走査ビーム５は乱反射され、この拡散
光１０の一部が前記した回転ミラー６の一部に反射し、
次いで集光レンズ７に集光されてＰＳＤ（ポジション・
センシティブ・ディテクタ：半導体位置検出素子）８上
に光点像９として結像される。このような構成の走査型
レーザー変位計では光ビーム３を走査ビーム５として走
査させる回転ミラー６を被測定物からの拡散光１０を反
射させる回転ミラーとして共用しているため、被測定物
の高さがＰ１、Ｐ２間において一定である場合、どの走
査位置においてもＰＳＤ８上の集光される拡散光１０の
光点像９は同一ポイントに常に位置する。
ー変位計の一例を図４に示す。光源２から射出された光
ビーム３は、投光レンズ４を介して扇状の走査ビーム５
を形成させる所定の回転周期を有する回転ミラー６に反
射される。この走査ビーム５は、対向配置された被測定
物に向かってＰ１からＰ２の地点まで走査される。被測
定物に照射された走査ビーム５は乱反射され、この拡散
光１０の一部が前記した回転ミラー６の一部に反射し、
次いで集光レンズ７に集光されてＰＳＤ（ポジション・
センシティブ・ディテクタ：半導体位置検出素子）８上
に光点像９として結像される。このような構成の走査型
レーザー変位計では光ビーム３を走査ビーム５として走
査させる回転ミラー６を被測定物からの拡散光１０を反
射させる回転ミラーとして共用しているため、被測定物
の高さがＰ１、Ｐ２間において一定である場合、どの走
査位置においてもＰＳＤ８上の集光される拡散光１０の
光点像９は同一ポイントに常に位置する。
【０００４】上記した構成の走査型レーザー変位計の測
定原理は、図３に示すように光源２からの光ビーム３が
測定面１１ａに対して垂直の方向に投射され、測定面１
１ａからの拡散光１０ａが集光レンズ７を介してＰＳＤ
８上に結像して光点像９ａを形成する。測定すべき面が
測定面１１ａから測定面１１ｂに変化すると、ＰＳＤ８
上の光点像が９ａから９ｂの位置に変化する。いわゆる
三角測量方式で測定面（点）の変化量をＰＳＤ上の光点
像の変化量ΔＸとして検出し、この変化量を不図示の演
算回路により算出することにより被測定物の位置変化が
測定される。
定原理は、図３に示すように光源２からの光ビーム３が
測定面１１ａに対して垂直の方向に投射され、測定面１
１ａからの拡散光１０ａが集光レンズ７を介してＰＳＤ
８上に結像して光点像９ａを形成する。測定すべき面が
測定面１１ａから測定面１１ｂに変化すると、ＰＳＤ８
上の光点像が９ａから９ｂの位置に変化する。いわゆる
三角測量方式で測定面（点）の変化量をＰＳＤ上の光点
像の変化量ΔＸとして検出し、この変化量を不図示の演
算回路により算出することにより被測定物の位置変化が
測定される。
【０００５】このような走査型レーザー変位計は扇状の
走査ビーム５を被測定物１２に向けて走査しているた
め、常に被測定物１２に対して垂直の方向に走査ビーム
５が照射されていない。図５に示すように、測定面の位
置が測定面１１ａと測定面１１ｂのように変位方向で相
違する被測定物を例にとると、ある走査角度で走査ビー
ム５が被測定物に照射された場合、測定面１１ａに到達
した走査ビームの走査方向に対する位置Ｐ１と測定面１
１ｂに到達した走査ビームの走査方向に対する位置Ｐ２
との間にΔＹの差が生じてしまう。即ち、被測定物の測
定面の高さに依存して走査方向の位置が変化してしま
い、正確に変位方向と走査方向の座標を認識することが
できないという問題を有する。
走査ビーム５を被測定物１２に向けて走査しているた
め、常に被測定物１２に対して垂直の方向に走査ビーム
５が照射されていない。図５に示すように、測定面の位
置が測定面１１ａと測定面１１ｂのように変位方向で相
違する被測定物を例にとると、ある走査角度で走査ビー
ム５が被測定物に照射された場合、測定面１１ａに到達
した走査ビームの走査方向に対する位置Ｐ１と測定面１
１ｂに到達した走査ビームの走査方向に対する位置Ｐ２
との間にΔＹの差が生じてしまう。即ち、被測定物の測
定面の高さに依存して走査方向の位置が変化してしま
い、正確に変位方向と走査方向の座標を認識することが
できないという問題を有する。
【０００６】このため、図６に示すように回転ミラー６
と被測定物との間にビーム変換手段１３を設けて走査ビ
ーム５を平行走査ビーム１４に変換させる。平行走査ビ
ーム１４を走査することにより被測定物に対して常に垂
直の方向に走査させることができ、測定精度の向上のた
め望ましい。しかしながら、ビーム変換手段１３によっ
て走査ビーム５の走査形が変化したため、即ち、図４に
示す有効走査領域Ｐ１、Ｐ２が図６に示す有効走査領域
Ｐ３、Ｐ４間のように短くなったため、回転ミラー６に
より反射する拡散光の反射方向が平行走査ビーム１４の
走査方向に対応しておらず、測定面の高さが同一の被測
定物であってもＰＳＤ８上の同一ポイントに光点像９と
して結像することができなくなる。
と被測定物との間にビーム変換手段１３を設けて走査ビ
ーム５を平行走査ビーム１４に変換させる。平行走査ビ
ーム１４を走査することにより被測定物に対して常に垂
直の方向に走査させることができ、測定精度の向上のた
め望ましい。しかしながら、ビーム変換手段１３によっ
て走査ビーム５の走査形が変化したため、即ち、図４に
示す有効走査領域Ｐ１、Ｐ２が図６に示す有効走査領域
Ｐ３、Ｐ４間のように短くなったため、回転ミラー６に
より反射する拡散光の反射方向が平行走査ビーム１４の
走査方向に対応しておらず、測定面の高さが同一の被測
定物であってもＰＳＤ８上の同一ポイントに光点像９と
して結像することができなくなる。
【０００７】本発明は、上記した問題点に鑑みてなされ
たものであり、従来知られる走査型レーザー変位計の測
定精度を更に向上させた高精度の走査型レーザー変位計
を簡単な構成により提供することを課題とする。
たものであり、従来知られる走査型レーザー変位計の測
定精度を更に向上させた高精度の走査型レーザー変位計
を簡単な構成により提供することを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】レーザービームを走査す
る第１の走査手段から扇状に走査ビームを走査し、ビー
ム変換手段により前記走査ビームを平行走査ビームに変
換した後、この平行走査ビームを被測定物の測定面に対
して略垂直方向に走査させ、該平行走査ビームの走査に
より前記測定面から反射された拡散光を、前記第１の走
査手段の走査周期と同期して駆動するスキャナミラーを
有する第２の走査手段により、集光レンズを介して位置
検出手段に集光させることを特徴とする。
る第１の走査手段から扇状に走査ビームを走査し、ビー
ム変換手段により前記走査ビームを平行走査ビームに変
換した後、この平行走査ビームを被測定物の測定面に対
して略垂直方向に走査させ、該平行走査ビームの走査に
より前記測定面から反射された拡散光を、前記第１の走
査手段の走査周期と同期して駆動するスキャナミラーを
有する第２の走査手段により、集光レンズを介して位置
検出手段に集光させることを特徴とする。
【０００９】また、前記第１の走査手段および前記第２
の走査手段は、レゾナントスキャナまたはガルバノミラ
ースキャナであることを特徴とし、前記位置検出手段
は、該位置検出手段に集光された拡散光の光点像の位置
変位を前記被測定物の高さ変化として検出する半導体位
置検出素子（ＰＳＤ）もしくはＣＣＤセンサであること
を特徴とする。
の走査手段は、レゾナントスキャナまたはガルバノミラ
ースキャナであることを特徴とし、前記位置検出手段
は、該位置検出手段に集光された拡散光の光点像の位置
変位を前記被測定物の高さ変化として検出する半導体位
置検出素子（ＰＳＤ）もしくはＣＣＤセンサであること
を特徴とする。
【００１０】更に、前記第１の走査手段の走査周期と前
記第２の走査手段の走査周期との周波数を同一とさせ、
ほぼリニアリティを有する速度領域を選択して前記第１
の走査手段による走査ビームの形成と前記第２の走査手
段による拡散光の光路変更とを連動させることを特徴と
する
記第２の走査手段の走査周期との周波数を同一とさせ、
ほぼリニアリティを有する速度領域を選択して前記第１
の走査手段による走査ビームの形成と前記第２の走査手
段による拡散光の光路変更とを連動させることを特徴と
する
【００１１】
【作用】光源から射出された光ビームは第１の走査手段
により扇状の走査ビームに変換する。この走査ビームは
投光レンズ等を介して平行走査ビームに変換し、被測定
物の測定面に対して垂直方向に走査する。この被測定物
表面からの反射された拡散光は、平行走査ビームの走査
位置に応じて駆動する第２の走査手段のスキャナミラー
により集光レンズの方向に光路を変え、位置検出手段に
光点像として集光される。この結果、被測定物の高さ変
化が位置検出手段上における拡散光による光点像の位置
変化として検出され、この信号を演算処理することによ
って被測定物の形状が測定される。
により扇状の走査ビームに変換する。この走査ビームは
投光レンズ等を介して平行走査ビームに変換し、被測定
物の測定面に対して垂直方向に走査する。この被測定物
表面からの反射された拡散光は、平行走査ビームの走査
位置に応じて駆動する第２の走査手段のスキャナミラー
により集光レンズの方向に光路を変え、位置検出手段に
光点像として集光される。この結果、被測定物の高さ変
化が位置検出手段上における拡散光による光点像の位置
変化として検出され、この信号を演算処理することによ
って被測定物の形状が測定される。
【００１２】
【実施例】本発明の好適な実施例を図面に基づいて説明
する。図１は本発明による走査型レーザー変位計の一例
を示すブロック図である。走査型レーザー変位計１は、
光源２から射出される光ビーム３をスキャナミラー２０
ａによって扇状の走査ビーム５を走査させる第１の走査
手段１６と、走査ビーム５を所定の光路に変える反射ミ
ラー１５と、扇状の走査ビーム５を平行走査ビーム１４
に変換させるビーム変換手段１３と、この平行走査ビー
ム１４を被測定物１２に対して垂直の方向に走査して被
測定物１２から反射される拡散光１０を前記第１の走査
手段１６の走査周期に同期して集光レンズ７の方向に光
路を変更するスキャナミラー２０ｂを含む第２の走査手
段１７と、所定の方向に向けられた拡散光１０を後述す
る位置検出手段に集光する集光レンズ７と、集光された
拡散光１０の位置変化に応じて被測定物の形状を認識す
る位置検出手段１８とを有する。また、直接ビーム変換
手段１３に走査ビームを走査する場合においては反射ミ
ラー１５を設けなくても良い。
する。図１は本発明による走査型レーザー変位計の一例
を示すブロック図である。走査型レーザー変位計１は、
光源２から射出される光ビーム３をスキャナミラー２０
ａによって扇状の走査ビーム５を走査させる第１の走査
手段１６と、走査ビーム５を所定の光路に変える反射ミ
ラー１５と、扇状の走査ビーム５を平行走査ビーム１４
に変換させるビーム変換手段１３と、この平行走査ビー
ム１４を被測定物１２に対して垂直の方向に走査して被
測定物１２から反射される拡散光１０を前記第１の走査
手段１６の走査周期に同期して集光レンズ７の方向に光
路を変更するスキャナミラー２０ｂを含む第２の走査手
段１７と、所定の方向に向けられた拡散光１０を後述す
る位置検出手段に集光する集光レンズ７と、集光された
拡散光１０の位置変化に応じて被測定物の形状を認識す
る位置検出手段１８とを有する。また、直接ビーム変換
手段１３に走査ビームを走査する場合においては反射ミ
ラー１５を設けなくても良い。
【００１３】上記した構成の走査型レーザー変位計１は
平行に走査された平行走査ビーム１４の平面の有効走査
領域内に被測定物１２を位置させ、被測定物１２の形状
を測定するものである。即ち、位置検出手段１８として
のＰＳＤ８上に集光された拡散光１０の光点像９の位置
変化を検知することにより被測定物１２の高さ変化を認
識もしくは寸法測定するものである。
平行に走査された平行走査ビーム１４の平面の有効走査
領域内に被測定物１２を位置させ、被測定物１２の形状
を測定するものである。即ち、位置検出手段１８として
のＰＳＤ８上に集光された拡散光１０の光点像９の位置
変化を検知することにより被測定物１２の高さ変化を認
識もしくは寸法測定するものである。
【００１４】第１および第２の走査手段については、レ
ゾナントスキャナが好適に使用される。
ゾナントスキャナが好適に使用される。
【００１５】動作について説明すると、被測定物１２に
対して垂直の方向から平行走査ビーム１４を横切るよう
に走査する。被測定物１２は平行走査ビーム１４によっ
て乱反射して拡散光１０として放出される。この拡散光
１０の一部を第２の走査手段１７のスキャナミラー２０
ｂにより集光レンズ７に向かうように反射させる。例え
ば、第１の走査手段１６によって走査方向に連続的に平
行走査ビーム１４が走査されているが、便宜上部分的に
平行走査ビーム１４を代表するＡ、Ｂ、Ｃの各ポイント
に分割する。平行走査ビーム１４Ａにおいて、第２の走
査手段１７のスキャナミラー２０ｂは、被測定物１２上
のａ点からの拡散光１０を集光レンズ７に集光させるよ
うな位置に向いている。また、平行走査ビーム１４Ｂに
おいて、第２の走査手段１７のスキャナミラー２０ｂ
は、被測定物１２上のｂ点からの拡散光１０を集光レン
ズ７に集光させるような位置に向いている。平行走査ビ
ーム１４Ｃについても同様にｃ点からの拡散光１０を集
光レンズ７に集光させるような位置に向いている。この
ように第１の走査手段１６のスキャナミラー２０ａの回
動と第２の走査手段１７のスキャナミラー２０ｂの回動
とは同期されており、被測定物１２に走査されて反射す
る位置を第２の走査手段のスキャナミラー２０ｂが常時
集光レンズ７に向かうように光路変更を行っている。
対して垂直の方向から平行走査ビーム１４を横切るよう
に走査する。被測定物１２は平行走査ビーム１４によっ
て乱反射して拡散光１０として放出される。この拡散光
１０の一部を第２の走査手段１７のスキャナミラー２０
ｂにより集光レンズ７に向かうように反射させる。例え
ば、第１の走査手段１６によって走査方向に連続的に平
行走査ビーム１４が走査されているが、便宜上部分的に
平行走査ビーム１４を代表するＡ、Ｂ、Ｃの各ポイント
に分割する。平行走査ビーム１４Ａにおいて、第２の走
査手段１７のスキャナミラー２０ｂは、被測定物１２上
のａ点からの拡散光１０を集光レンズ７に集光させるよ
うな位置に向いている。また、平行走査ビーム１４Ｂに
おいて、第２の走査手段１７のスキャナミラー２０ｂ
は、被測定物１２上のｂ点からの拡散光１０を集光レン
ズ７に集光させるような位置に向いている。平行走査ビ
ーム１４Ｃについても同様にｃ点からの拡散光１０を集
光レンズ７に集光させるような位置に向いている。この
ように第１の走査手段１６のスキャナミラー２０ａの回
動と第２の走査手段１７のスキャナミラー２０ｂの回動
とは同期されており、被測定物１２に走査されて反射す
る位置を第２の走査手段のスキャナミラー２０ｂが常時
集光レンズ７に向かうように光路変更を行っている。
【００１６】上記した動作において、被測定物の高さが
一定であればＰＳＤ８上の集光された光点像９は一定の
場所に位置し、また、被測定物に凹凸があればこの高さ
に応じてＰＳＤ８上の光点像９が変位する。この信号を
上述した光学的な三角測量方式に基づいて不図示の制御
回路によって演算処理され、被測定物の高さ変化を測定
する。
一定であればＰＳＤ８上の集光された光点像９は一定の
場所に位置し、また、被測定物に凹凸があればこの高さ
に応じてＰＳＤ８上の光点像９が変位する。この信号を
上述した光学的な三角測量方式に基づいて不図示の制御
回路によって演算処理され、被測定物の高さ変化を測定
する。
【００１７】第１の走査手段１６のスキャナミラー２０
ａと第２の走査手段１７のスキャナミラー２０ｂとの同
期方法について好適な一例を図２に基づいて説明する。
図２は図７のレゾナントスキャナを使用した時間と走査
角度との関係を表すもので、縦軸にスキャナミラー２０
の走査角度θを示し、横軸に時間ｔを示す。走査角度は
θ０を中心に上下方向に向かうほどスキャナミラー２０
の走査角度が広くなり、一周期にかかる時間が一定であ
ればスキャナミラー２０の角速度が増加する。ここでス
キャナミラー２０の周期を同一とし、走査型レーザー変
位計の機械設計に合わせて走査ビーム５の走査角度およ
び平行走査ビーム１４の有効走査領域から第１の走査手
段１６の最大走査角度θ２と第２の走査手段１７の最大
走査角度θ１を設定する。最もリニアリティを有するほ
ぼ直線部分Ｄ１、Ｅ１を同一の時間となるように適宜に
選択し、この部分についてのみに走査ビーム５を射出す
るように不図示の制御手段により制御し、あるいはこれ
ら選択した部分以外の部分を遮光すること等によりそれ
ぞれのスキャナミラー２０ａ、２０ｂを同期させる。
ａと第２の走査手段１７のスキャナミラー２０ｂとの同
期方法について好適な一例を図２に基づいて説明する。
図２は図７のレゾナントスキャナを使用した時間と走査
角度との関係を表すもので、縦軸にスキャナミラー２０
の走査角度θを示し、横軸に時間ｔを示す。走査角度は
θ０を中心に上下方向に向かうほどスキャナミラー２０
の走査角度が広くなり、一周期にかかる時間が一定であ
ればスキャナミラー２０の角速度が増加する。ここでス
キャナミラー２０の周期を同一とし、走査型レーザー変
位計の機械設計に合わせて走査ビーム５の走査角度およ
び平行走査ビーム１４の有効走査領域から第１の走査手
段１６の最大走査角度θ２と第２の走査手段１７の最大
走査角度θ１を設定する。最もリニアリティを有するほ
ぼ直線部分Ｄ１、Ｅ１を同一の時間となるように適宜に
選択し、この部分についてのみに走査ビーム５を射出す
るように不図示の制御手段により制御し、あるいはこれ
ら選択した部分以外の部分を遮光すること等によりそれ
ぞれのスキャナミラー２０ａ、２０ｂを同期させる。
【００１８】第１の走査手段１６および第２の走査手段
１７は上記したレゾナントスキャナを用いる方法の他、
ガルバノミラースキャナによっても同様の走査ビーム５
が得られ、この走査ビームを被測定物に照射し、被測定
物から拡散される拡散光を集光させることができる。
１７は上記したレゾナントスキャナを用いる方法の他、
ガルバノミラースキャナによっても同様の走査ビーム５
が得られ、この走査ビームを被測定物に照射し、被測定
物から拡散される拡散光を集光させることができる。
【００１９】
【発明の効果】被測定物に対して垂直方向から走査し、
第２の走査手段のスキャナミラーが第１の走査手段であ
る平行走査ビームに同期して常に拡散光が集光レンズに
向かうように駆動させるため、集光レンズの収差の影響
がない状態で位置検出手段上に集光され、高精度な被測
定物の測定を行うことができる。また、走査手段のスキ
ャナミラーと集光手段のスキャナミラーとを分離して配
置することが可能であるため、装置本体の機械設計に自
由度をもつことができ、小型化の可能な走査型レーザー
変位計を提供することができる。
第２の走査手段のスキャナミラーが第１の走査手段であ
る平行走査ビームに同期して常に拡散光が集光レンズに
向かうように駆動させるため、集光レンズの収差の影響
がない状態で位置検出手段上に集光され、高精度な被測
定物の測定を行うことができる。また、走査手段のスキ
ャナミラーと集光手段のスキャナミラーとを分離して配
置することが可能であるため、装置本体の機械設計に自
由度をもつことができ、小型化の可能な走査型レーザー
変位計を提供することができる。
【００２０】
【図１】 本発明による走査型レーザー変位計の実施例
を示すブロック図。
を示すブロック図。
【図２】 本発明による走査型レーザー変位計のスキャ
ナミラーの走査角度と時間の関係を示す図。
ナミラーの走査角度と時間の関係を示す図。
【図３】 光学的三角測定方法を示すブロック図。
【図４】 従来例を示すブロック図。
【図５】 被測定物に走査ビームが走査される図。
【図６】 別の従来例を示すブロック図。
１ 走査型レーザー変位計 ２ 光源 ３ 光ビーム ４ 投光レンズ ５ 走査ビーム ６ 回転ミラー ７ 集光レンズ ８ ＰＳＤ ９、９ａ、９ｂ光点像 １０、１０ａ、１０ｂ 拡散光 １１ａ、１１ｂ 測定面 １２ 被測定物 １３ ビーム変換手段 １４ 平行走査ビーム １５ 反射ミラー １６ 第１の走査手段 １７ 第２の走査手段 １８ 位置検出手段 ２０、２０ａ、２０ｂ スキャナミラー
Claims (5)
- 【請求項１】 レーザービームを走査する第１の走査手
段から扇状に走査ビームを走査し、ビーム変換手段によ
り前記走査ビームを平行走査ビームに変換した後、この
平行走査ビームを被測定物の測定面に対して略垂直方向
に走査させ、該平行走査ビームの走査により前記測定面
から反射された拡散光を、前記第１の走査手段の走査周
期と同期して駆動するスキャナミラーを有する第２の走
査手段により、集光レンズを介して位置検出手段に集光
させることを特徴とする走査型レーザー変位計。 - 【請求項２】 前記第１の走査手段および前記第２の走
査手段は、レゾナントスキャナまたはガルバノミラース
キャナであることを特徴とする請求項１記載の走査型レ
ーザー変位計。 - 【請求項３】 前記位置検出手段は、該位置検出手段に
集光された拡散光の光点像の位置変位を前記被測定物の
高さ変化として検出する半導体位置検出素子（ＰＳＤ）
であることを特徴とする請求項１または２記載の走査型
レーザー変位計。 - 【請求項４】 前記位置検出手段は、該位置検出手段に
集光された拡散光の光点像の位置変位を前記被測定物の
高さ変化として検出するＣＣＤセンサであることを特徴
とする請求項１または２記載の走査型レーザー変位計。 - 【請求項５】 前記第１の走査手段の走査周期と前記第
２の走査手段の走査周期との周波数を同一とさせ、ほぼ
リニアリティを有する速度領域を選択して前記第１の走
査手段による走査ビームの形成と前記第２の走査手段に
よる拡散光の光路変更とを連動させることを特徴とする
請求項１乃至４いずれか記載の走査型レーザー変位計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2877895A JPH08201036A (ja) | 1995-01-25 | 1995-01-25 | 走査型レーザー変位計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2877895A JPH08201036A (ja) | 1995-01-25 | 1995-01-25 | 走査型レーザー変位計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08201036A true JPH08201036A (ja) | 1996-08-09 |
Family
ID=12257869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2877895A Pending JPH08201036A (ja) | 1995-01-25 | 1995-01-25 | 走査型レーザー変位計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08201036A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014050319A1 (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 成膜装置および成膜方法 |
| CN106291919A (zh) * | 2015-06-29 | 2017-01-04 | 株式会社三丰 | 光学探针及测量设备 |
-
1995
- 1995-01-25 JP JP2877895A patent/JPH08201036A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014050319A1 (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 成膜装置および成膜方法 |
| CN106291919A (zh) * | 2015-06-29 | 2017-01-04 | 株式会社三丰 | 光学探针及测量设备 |
| JP2017015459A (ja) * | 2015-06-29 | 2017-01-19 | 株式会社ミツトヨ | 光プローブ、及び測定装置 |
| CN106291919B (zh) * | 2015-06-29 | 2020-05-05 | 株式会社三丰 | 光学探针及测量设备 |
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