JPH08198807A - テレフタル酸の製造方法 - Google Patents
テレフタル酸の製造方法Info
- Publication number
- JPH08198807A JPH08198807A JP7012526A JP1252695A JPH08198807A JP H08198807 A JPH08198807 A JP H08198807A JP 7012526 A JP7012526 A JP 7012526A JP 1252695 A JP1252695 A JP 1252695A JP H08198807 A JPH08198807 A JP H08198807A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acetic acid
- slurry
- terephthalic acid
- oxidation reactor
- component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 重金属と臭素からなる触媒を含む酢酸溶媒中
でパラキシレンを分子状酸素含有ガスで酸化してテレフ
タル酸を製造する方法において、反応帯域に供給される
パラキシレンや酢酸溶媒の供給ノズルが付着物により流
路狭窄を起すのを回避する。 【構成】 パラキシレン及び酢酸溶媒を、反応器内のス
ラリー温度よりも４０〜８０℃低い温度まで予熱して供
給する。
でパラキシレンを分子状酸素含有ガスで酸化してテレフ
タル酸を製造する方法において、反応帯域に供給される
パラキシレンや酢酸溶媒の供給ノズルが付着物により流
路狭窄を起すのを回避する。 【構成】 パラキシレン及び酢酸溶媒を、反応器内のス
ラリー温度よりも４０〜８０℃低い温度まで予熱して供
給する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はパラキシレンの液相酸素
酸化によりテレフタル酸を製造する方法に関するもので
ある。特に本発明はテレフタル酸の製造を長期間に亘り
安定して行なう方法に関するものである。
酸化によりテレフタル酸を製造する方法に関するもので
ある。特に本発明はテレフタル酸の製造を長期間に亘り
安定して行なう方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】テレフタル酸の製造法のうち主流をなし
ているのは、酢酸溶媒中、重金属および臭素からなる触
媒の存在下、パラキシレンを分子状酸素で酸化する方法
である。この方法では、酸化反応器にコバルト、マンガ
ン等の重金属と臭素とからなる触媒を溶解した１８０〜
２３０℃の酢酸溶媒を収容し、その中に液状供給物とし
てのパラキシレン及び酢酸溶媒並びにガス状供給物とし
ての空気等の分子状酸素含有ガスを連続的に供給し、パ
ラキシレンからテレフタル酸を生成させる。酢酸溶媒中
でのテレフタル酸の溶解度は小さいので、テレフタル酸
は結晶として析出し、テレフタル酸スラリーを形成す
る。このスラリーは酸化反応器から連続的に抜き出さ
れ、濾過、遠心分離など適宜の手段でテレフタル酸結晶
と母液とに分離される。母液の大部分は酢酸溶媒の一部
として酸化反応器に循環され（＝循環母液）、残部は不
純物の蓄積を防ぐため系外に排出される。
ているのは、酢酸溶媒中、重金属および臭素からなる触
媒の存在下、パラキシレンを分子状酸素で酸化する方法
である。この方法では、酸化反応器にコバルト、マンガ
ン等の重金属と臭素とからなる触媒を溶解した１８０〜
２３０℃の酢酸溶媒を収容し、その中に液状供給物とし
てのパラキシレン及び酢酸溶媒並びにガス状供給物とし
ての空気等の分子状酸素含有ガスを連続的に供給し、パ
ラキシレンからテレフタル酸を生成させる。酢酸溶媒中
でのテレフタル酸の溶解度は小さいので、テレフタル酸
は結晶として析出し、テレフタル酸スラリーを形成す
る。このスラリーは酸化反応器から連続的に抜き出さ
れ、濾過、遠心分離など適宜の手段でテレフタル酸結晶
と母液とに分離される。母液の大部分は酢酸溶媒の一部
として酸化反応器に循環され（＝循環母液）、残部は不
純物の蓄積を防ぐため系外に排出される。
【０００３】酸化反応器では、パラキシレンの酸化及び
酢酸の燃焼により大量の熱が発生する。その一部は酸化
反応器に供給されたパラキシレンや酢酸溶媒等の加熱に
用いられるが、大部分は酢酸及び水の蒸発潜熱として消
費される。酸化反応器から発生した酢酸及び水の蒸気は
凝縮器で凝縮させ、その大部分はそのまま酸化反応器に
還流させ、残部は酸化反応器内の酢酸溶媒中の水含有率
を一定値に維持するため、系外に排出される。このよう
に系内の酢酸溶媒の一部は燃焼により失なわれ、また他
にも母液や凝縮液の系外への排出により失なわれるの
で、酸化反応器には常に系外から新たな酢酸溶媒を補給
する必要がある。また、系外から補給される触媒は通
常、酢酸溶媒に溶解して酸化反応器に導入される。これ
らの液状で酸化反応器に導入されるパラキシレン、循環
母液、新たな酢酸溶媒、触媒溶液などは、常温ないしは
１００℃、例えば８０℃で酸化反応器に導入される。ま
た、これらの液状供給物は、それぞれ別個に導入するこ
ともできるし、いくつかをまとめて導入することもでき
る。
酢酸の燃焼により大量の熱が発生する。その一部は酸化
反応器に供給されたパラキシレンや酢酸溶媒等の加熱に
用いられるが、大部分は酢酸及び水の蒸発潜熱として消
費される。酸化反応器から発生した酢酸及び水の蒸気は
凝縮器で凝縮させ、その大部分はそのまま酸化反応器に
還流させ、残部は酸化反応器内の酢酸溶媒中の水含有率
を一定値に維持するため、系外に排出される。このよう
に系内の酢酸溶媒の一部は燃焼により失なわれ、また他
にも母液や凝縮液の系外への排出により失なわれるの
で、酸化反応器には常に系外から新たな酢酸溶媒を補給
する必要がある。また、系外から補給される触媒は通
常、酢酸溶媒に溶解して酸化反応器に導入される。これ
らの液状で酸化反応器に導入されるパラキシレン、循環
母液、新たな酢酸溶媒、触媒溶液などは、常温ないしは
１００℃、例えば８０℃で酸化反応器に導入される。ま
た、これらの液状供給物は、それぞれ別個に導入するこ
ともできるし、いくつかをまとめて導入することもでき
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】酸化反応器に導入され
るパラキシレンや酢酸溶媒、触媒溶液などは、系内にす
みやかに分散させるため、スラリー中に浸漬しているノ
ズルを経て酸化反応器に注入される。しかし、往々にし
て、ノズルの先端部に固体が付着して流路を狭めてしま
い、これらの液状供給物を所定の速度で導入するのに支
障を来たすことがある。
るパラキシレンや酢酸溶媒、触媒溶液などは、系内にす
みやかに分散させるため、スラリー中に浸漬しているノ
ズルを経て酸化反応器に注入される。しかし、往々にし
て、ノズルの先端部に固体が付着して流路を狭めてしま
い、これらの液状供給物を所定の速度で導入するのに支
障を来たすことがある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らはノズルの先
端部に固体が付着する原因について検討した結果、ノズ
ルを介して供給される液状物の温度が酸化反応器内のス
ラリー温度に比して著るしく低いことがその原因をなし
ていることを見出した。すなわち、この温度差のため
に、ノズル出口近傍においてスラリーが冷却されて新た
な析出物を生じ、これがノズルに付着する現象が反復さ
れて、ノズルの先端部の流路狭窄を引き起こすものと推
定される。
端部に固体が付着する原因について検討した結果、ノズ
ルを介して供給される液状物の温度が酸化反応器内のス
ラリー温度に比して著るしく低いことがその原因をなし
ていることを見出した。すなわち、この温度差のため
に、ノズル出口近傍においてスラリーが冷却されて新た
な析出物を生じ、これがノズルに付着する現象が反復さ
れて、ノズルの先端部の流路狭窄を引き起こすものと推
定される。
【０００６】本発明者らは、かかる推定の下に、酸化反
応器に供給する液状物の温度とノズル先端部の流路狭窄
との関係について検討した結果、液状物をスラリー温度
よりも４０〜８０℃、好ましくは４０〜７０℃低い温度
まで加熱して供給すると、流路狭窄を防止できることを
見出し、本発明を達成した。本発明について詳細に説明
すると、本発明は酢酸溶媒中で、重金属及び臭素から成
る触媒の存在下、パラキシレンを分子状酸素含有ガスで
酸化してテレフタル酸を製造する方法に広く適用するこ
とができる。触媒としては、通常、コバルト−マンガン
−臭素から成るものが用いられる。コバルト及びマンガ
ンは通常、酢酸塩やナフテン酸塩として、また臭素は臭
化水素や臭化ナトリウムとして添加される。また、臭化
コバルトや臭化マンガンなど２つの触媒成分を兼ねるも
のも用いられる。反応媒体である酢酸溶媒中におけるこ
れらの触媒成分の濃度は、一般に原子としてコバルトが
１０〜５０００ｐｐｍ、マンガンが１０〜５０００ｐｐ
ｍ、臭素が１０〜１００００ｐｐｍである。
応器に供給する液状物の温度とノズル先端部の流路狭窄
との関係について検討した結果、液状物をスラリー温度
よりも４０〜８０℃、好ましくは４０〜７０℃低い温度
まで加熱して供給すると、流路狭窄を防止できることを
見出し、本発明を達成した。本発明について詳細に説明
すると、本発明は酢酸溶媒中で、重金属及び臭素から成
る触媒の存在下、パラキシレンを分子状酸素含有ガスで
酸化してテレフタル酸を製造する方法に広く適用するこ
とができる。触媒としては、通常、コバルト−マンガン
−臭素から成るものが用いられる。コバルト及びマンガ
ンは通常、酢酸塩やナフテン酸塩として、また臭素は臭
化水素や臭化ナトリウムとして添加される。また、臭化
コバルトや臭化マンガンなど２つの触媒成分を兼ねるも
のも用いられる。反応媒体である酢酸溶媒中におけるこ
れらの触媒成分の濃度は、一般に原子としてコバルトが
１０〜５０００ｐｐｍ、マンガンが１０〜５０００ｐｐ
ｍ、臭素が１０〜１００００ｐｐｍである。
【０００７】分子状酸素含有ガスとしては、酸素含有量
が１７〜３０容量％のものを用いるのが好ましく、通常
は空気が用いられる。その供給量は排ガス、すなわち酸
化反応器から凝縮器に流入するガス中の非凝縮性成分中
の酸素濃度を指標として制御され、通常はこの排ガス中
の酸素濃度が１．５〜８．０容量％となるようにする。
が１７〜３０容量％のものを用いるのが好ましく、通常
は空気が用いられる。その供給量は排ガス、すなわち酸
化反応器から凝縮器に流入するガス中の非凝縮性成分中
の酸素濃度を指標として制御され、通常はこの排ガス中
の酸素濃度が１．５〜８．０容量％となるようにする。
【０００８】酢酸溶媒は酸化反応器中のスラリー濃度が
通常、３０〜４５重量％、好ましくは３８〜４３重量％
となるように供給される。反応温度は通常１８０〜２３
０℃、好ましくは１８５〜２１０℃である。反応圧力は
通常０．５〜１０ＭＰａ、好ましくは１〜３ＭＰａであ
る。スラリーの平均滞留時間は３０〜２００分間であ
る。
通常、３０〜４５重量％、好ましくは３８〜４３重量％
となるように供給される。反応温度は通常１８０〜２３
０℃、好ましくは１８５〜２１０℃である。反応圧力は
通常０．５〜１０ＭＰａ、好ましくは１〜３ＭＰａであ
る。スラリーの平均滞留時間は３０〜２００分間であ
る。
【０００９】本発明では、酸化反応器に供給するパラキ
シレン、循環母液、新たに補給する酢酸溶媒、及び触媒
溶液などは、予じめ反応器内のスラリー温度よりも４０
〜８０℃低い温度まで加熱しておく。これよりも低い温
度で供給したのでは、ノズル先端部への固体の付着を十
分に抑制することはできない。好ましくはスラリーとの
温度差が４０〜７０℃となるような温度で供給する。さ
らに高温に加熱して供給しても特に利点はなく、逆に加
熱コストが高くなるので不利である。
シレン、循環母液、新たに補給する酢酸溶媒、及び触媒
溶液などは、予じめ反応器内のスラリー温度よりも４０
〜８０℃低い温度まで加熱しておく。これよりも低い温
度で供給したのでは、ノズル先端部への固体の付着を十
分に抑制することはできない。好ましくはスラリーとの
温度差が４０〜７０℃となるような温度で供給する。さ
らに高温に加熱して供給しても特に利点はなく、逆に加
熱コストが高くなるので不利である。
【００１０】これらのパラキシレン、循環母液、補給用
の酢酸溶媒及び触媒溶液は個別に加熱して、それぞれの
ノズルを経て酸化反応器に供給してもよく、予じめ全て
を混合してから加熱してもよい。また、パラキシレンと
補給用の酢酸溶媒とを混合して加熱し、触媒成分は循環
母液に添加しておくようにしてもよい。酸化反応器から
抜出されたテレフタル酸スラリーは、所望により追酸化
したのち、テレフタル酸結晶と母液とに分離される。母
液の大部分は循環母液として酸化反応器に循環され、残
部は不純物の蓄積を防ぐため系外に排出される。テレフ
タル酸結晶はそのまま製品とするか、又は高温高圧下で
水に溶解して水溶液とし、白金族金属触媒と接触させる
精製処理を経たのち製品とする。
の酢酸溶媒及び触媒溶液は個別に加熱して、それぞれの
ノズルを経て酸化反応器に供給してもよく、予じめ全て
を混合してから加熱してもよい。また、パラキシレンと
補給用の酢酸溶媒とを混合して加熱し、触媒成分は循環
母液に添加しておくようにしてもよい。酸化反応器から
抜出されたテレフタル酸スラリーは、所望により追酸化
したのち、テレフタル酸結晶と母液とに分離される。母
液の大部分は循環母液として酸化反応器に循環され、残
部は不純物の蓄積を防ぐため系外に排出される。テレフ
タル酸結晶はそのまま製品とするか、又は高温高圧下で
水に溶解して水溶液とし、白金族金属触媒と接触させる
精製処理を経たのち製品とする。
【００１１】
【実施例】原料調製槽にパラキシレン２０重量部／ｈ
ｒ、補給用の酢酸溶媒４０重量部／ｈｒ及び循環母液４
０重量部／ｈｒを供給し、更に触媒成分を添加して原料
溶液を調製した。触媒濃度は原料溶液中の酢酸溶媒に対
し、コバルト約３００ｐｐｍ、マンガン約２００ｐｐ
ｍ、臭素約１０００ｐｐｍである。
ｒ、補給用の酢酸溶媒４０重量部／ｈｒ及び循環母液４
０重量部／ｈｒを供給し、更に触媒成分を添加して原料
溶液を調製した。触媒濃度は原料溶液中の酢酸溶媒に対
し、コバルト約３００ｐｐｍ、マンガン約２００ｐｐ
ｍ、臭素約１０００ｐｐｍである。
【００１２】この原料溶液を約１３０℃まで加熱して酸
化反応器に連続的に供給した。同時に酸化反応器には、
排ガス中の酸素濃度が約６．０容量％となるように空気
を連続的に供給した。反応温度は約１９５℃とした。生
成したスラリーは、平均滞留時間が約８０分間となるよ
うに、連続的に抜出した。この条件で約１１ケ月テレフ
タル酸の製造を行なったが、原料溶液供給ノズルの流路
狭窄は起らなかった。
化反応器に連続的に供給した。同時に酸化反応器には、
排ガス中の酸素濃度が約６．０容量％となるように空気
を連続的に供給した。反応温度は約１９５℃とした。生
成したスラリーは、平均滞留時間が約８０分間となるよ
うに、連続的に抜出した。この条件で約１１ケ月テレフ
タル酸の製造を行なったが、原料溶液供給ノズルの流路
狭窄は起らなかった。
【００１３】これに対し、原料溶液を９０℃に加熱して
供給した場合には、約６ケ月でノズルの流路狭窄が起こ
り、原料溶液の定量供給が困難となった。
供給した場合には、約６ケ月でノズルの流路狭窄が起こ
り、原料溶液の定量供給が困難となった。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、酸化反応器に供給する
パラキシレン及び酢酸溶媒を、反応器内のスラリー温度
よりも４０〜８０℃低い温度に加熱しておくだけで、ノ
ズルの流路狭窄を回避することができる。
パラキシレン及び酢酸溶媒を、反応器内のスラリー温度
よりも４０〜８０℃低い温度に加熱しておくだけで、ノ
ズルの流路狭窄を回避することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (2)
- 【請求項１】 重金属及び臭素を含む触媒が溶解してい
る酢酸溶媒にテレフタル酸結晶が懸濁しているスラリー
が収容されている酸化反応器に、パラキシレン及び酢酸
溶媒と分子状酸素含有ガスとをそれぞれスラリー中に浸
漬しているノズルを経て供給し、パラキシレンを酸化し
てテレフタル酸を生成させるテレフタル酸の製造方法に
おいて、パラキシレン及び酢酸溶媒をスラリー温度から
４０〜８０℃低い温度に加熱して供給することを特徴と
する方法。 - 【請求項２】 パラキシレンを少くとも一部の酢酸溶媒
と混合して酸化反応器に供給することを特徴とする請求
項１記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7012526A JPH08198807A (ja) | 1995-01-30 | 1995-01-30 | テレフタル酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7012526A JPH08198807A (ja) | 1995-01-30 | 1995-01-30 | テレフタル酸の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08198807A true JPH08198807A (ja) | 1996-08-06 |
Family
ID=11807784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7012526A Pending JPH08198807A (ja) | 1995-01-30 | 1995-01-30 | テレフタル酸の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08198807A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003518433A (ja) * | 1999-12-23 | 2003-06-10 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 蒸気状芳香族炭化水素及び酸素含有ガスからなる均質混合物を製造するための方法及び装置 |
-
1995
- 1995-01-30 JP JP7012526A patent/JPH08198807A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003518433A (ja) * | 1999-12-23 | 2003-06-10 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 蒸気状芳香族炭化水素及び酸素含有ガスからなる均質混合物を製造するための方法及び装置 |
| JP4669184B2 (ja) * | 1999-12-23 | 2011-04-13 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 蒸気状芳香族炭化水素及び酸素含有ガスからなる均質混合物を製造するための方法及び装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3708532A (en) | Process for the continuous purification of crude terephthalic acid | |
| KR100363923B1 (ko) | 방향족카르복실산의제조방법 | |
| US4158738A (en) | Process for the production of fiber-grade terephthalic acid | |
| KR100352693B1 (ko) | 고순도 테레프탈산의 제조방법 | |
| JP5095390B2 (ja) | 選択的溶媒を用いた複合体形成によるカルボン酸の精製 | |
| JPH1025266A (ja) | 高純度イソフタル酸の製造方法 | |
| JP2001513102A (ja) | テレフタル酸の製造 | |
| NL8201046A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van tereftaalzuur. | |
| TW201100374A (en) | Methods, processes, and systems for treating and purifying crude terephthalic acid and associated process streams | |
| JP4055913B2 (ja) | 高純度テレフタル酸を製造する方法 | |
| CS226447B2 (en) | Method of oxidizing reactive aromatic compounds | |
| JPH09278709A (ja) | 芳香族カルボン酸の製造方法 | |
| JPH08198807A (ja) | テレフタル酸の製造方法 | |
| JP3648372B2 (ja) | テレフタル酸の回収方法 | |
| KR100596600B1 (ko) | 고순도 방향족 카르복실산의 개량된 제조 방법 | |
| JP3269508B2 (ja) | 高純度イソフタル酸を製造する方法 | |
| JP2002355697A (ja) | 超臨界水酸化分解装置および超臨界水酸化分解方法 | |
| US5420344A (en) | Process for producing highly pure terephthalic acid | |
| JPH08157415A (ja) | 高純度テレフタル酸の製造方法 | |
| JP3804075B2 (ja) | テレフタル酸の精製方法及びそのための装置 | |
| JP3201436B2 (ja) | 高純度イソフタル酸の製造法 | |
| KR20010041050A (ko) | 산화 혼합물로부터 촉매를 분리하기 위한 방법 및 장치 | |
| JPS5836910A (ja) | リン酸から有機不純物を除去する方法 | |
| KR820000093B1 (ko) | 메타 또는 파라프탈산의 제조방법 | |
| JPH0454149A (ja) | 高純度イソフタル酸の製造方法 |