JPH08195340A - 成形偏向器のオフセット調整方法及びこれを適用した荷電ビーム描画装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、実際の描画の際のオフセット値との
間にずれの生じないオフセット調整を行う。 【構成】第１及び第２のアパーチャ１６、１７を組み合
わせて成形する電子ビーム形状のタイプ「１ｘ」「１
ｙ」「２」〜「５」及びそのサイズａ〜ｆに対するショ
ット数を、描画に用いるショット数の割合に比例した値
として各ビーム電流を測定し、その測定結果に基づいて
オフセットを調整する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子ビームの形状を第
１及び第２のアパーチャを組み合わせることにより成形
するとともに成形偏向器により偏向してパターン等を描
画する荷電ビーム描画装置に係わり、特に荷電ビーム描
画に用いる成形偏向器のオフセット調整方法及びこれを
適用した荷電ビーム描画装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図７は荷電ビーム描画装置の構成図であ
る。電子銃１から出射される電子ビームの進行路には、
照明レンズ２、投影レンズ３、及び対物レンズ４が配置
され、かつ電子ビームの進行路に沿ってブランキング偏
向器５、静電型成形偏向器６、及び対物偏向器７が配置
されるとともに各偏向コイル８〜１２が配置されてい
る。

【０００３】このうちブランキング偏向器５、静電型成
形偏向器６及び対物偏向器７は、静電偏向器制御器１３
により制御動作され、又、各偏向コイル８〜１２は偏向
コイル制御器１４により制御動作されるものとなってい
る。

【０００４】又、電子ビームの進行路上には、図８に示
す開口形状の円形アパーチャ１５、第１成形アパーチャ
１６、第２の成形アパーチャ１７、及び円形アパーチャ
１８が配置されている。

【０００５】このうち第１成形アパーチャ１６及び第２
の成形アパーチャ１７は、これらアパーチャを組み合わ
せることにより電子ビームの形状のタイプ及びそのサイ
ズを図９に示すように変化させるものとなっている。

【０００６】例えば、第２の成形アパーチャ１７の長方
形部分に対して第１成形アパーチャ１６のポジションを
ｘｙ軸方向に移動させることにより長方形のビーム形状
Ｂ１が形成される。この場合、第１のアパーチャ１６を
ｙ軸方向に移動させることによりタイプ１ｙのビーム形
状となり、ｘ軸方向に移動させることによりタイプ１ｘ
のビーム形状となる。そして、ｘ軸及びＹ軸方向のポジ
ションに応じてビーム形状のサイズが可変する。

【０００７】第２の成形アパーチャ１７の四角形部分に
対して第１のアパーチャ１６のポジションをｙ軸方向に
移動させることにより三角形の各ビーム形状Ｂ２〜Ｂ５
が形成される。この場合、第１のアパーチャ１６を第２
の成形アパーチャ１７の四角形の各辺別に移動させるこ
とによりタイプ「２」〜「５」のビーム形状となり、そ
のｙ軸方向のポジションに応じてビーム形状のサイズが
可変する。

【０００８】又、電子ビームの進行路に沿って各反射電
子検出器１９〜２３が配置され、かつ電子ビームの結像
位置にビーム電流検出器２４が配置されている。これら
反射電子検出器１９〜２３及びビーム電流検出器２４に
は、それぞれ各電流計２５〜３０が接続され、その検出
電流が主制御器３１に送られている。

【０００９】この主制御器３１は、各電流計２５〜３０
の検出電流に応じて偏向器制御器１３及び偏向コイル制
御器１４を動作制御する機能を有している。このような
構成であれば、電子銃１から出射された電子ビームは、
照明レンズ２及び円形アパーチャ１５を通過し、第１の
成形アパーチャ１６及び第２の成形アパーチャ１７によ
り描画に必要なビーム形状に成形されるとともに静電型
成形偏向器６により偏向され、さらに円形アパーチャ１
８を通り対物レンズ７により結像される。

【００１０】ここで、対物レンズ７の結像位置に試料が
配置されていれば、この試料上に所望のパターンが描画
される。ところで、このような荷電ビーム描画装置で
は、静電型成形偏向器６に対するオフセット調整が行わ
れている。

【００１１】このオフセット調整は、先ず、例えば図１
０に示すように第１の成形アパーチャ１６のポジション
をｘ軸方向に移動してタイプ１ｘのビーム形状の成形サ
イズａ〜ｆを連続的に変え、その各サイズについて各１
回づつビーム電流検出器２４によりビーム電流を検出す
る。

【００１２】なお、この１回のビーム電流の測定には、
０．２秒〜１秒の時間を要するので、各サイズへの変更
もこの時間サイクルで変化させる。又、１回のビーム電
流測定中に、電子銃１から電子ビームは連続的に出射し
てブランキングは行われていない。

【００１３】このタイプ１ｙのビーム形状についてのビ
ーム電流測定が終了すると、図１１に示すようにビーム
サイズに対するビーム電流の関係が求められる。このビ
ームサイズとビーム電流との関係からオフセット値が求
められ、このオフセット値が許容値範囲内に入るように
偏向パラメータが調整される。

【００１４】この後、主制御器３１に調整された偏向パ
ラメータがセットされる。以下、同様に各タイプ「２」
〜「５」の各ビーム形状の成形サイズをそれぞれ連続的
に変え、そのときの各サイズについて各１回づつビーム
電流検出器２４によりビーム電流を検出する。

【００１５】そして、各タイプ「１ｙ」「２」〜「５」
の各ビーム形状についてのビーム電流測定が終了する
と、ビームサイズに対するビーム電流の関係が求められ
る。この場合、ビームサイズとビーム電流との関係は、
ビーム形状のタイプ「１ｘ」「１ｙ」について図１１に
示すように直線近似し、タイプ「２」〜「５」について
図１２に示すように２次曲線近似となる。

【００１６】このようなビームサイズとビーム電流との
関係からオフセット値が求められ、このオフセット値が
許容値範囲内に入るように偏向パラメータが調整され、
この偏向パラメータが主制御器３１にセットされる。

【００１７】しかしながら、電子ビームを成形すると、
例えば第１及び第２のアパーチャ１６、１７から電子が
反射し、その反射電子又は各アパーチャ１６、１７から
発生する２次電子が成形偏向器６の周辺部品にチャージ
アップし、この影響を受けて電子ビームがドリフトす
る。

【００１８】この電子ビームのドリフトの量と方向は、
反射電子や２次電子の発生量やその方向に左右され、
又、反射電子や２次電子の発生量やその方向は、成形タ
イプとそのサイズによって決まる。

【００１９】従って、成形偏向器のオフセット調整は、
ビーム形状の各タイプ毎に連続的にサイズを変更してビ
ーム形状を成形しているので、各アパーチャ１６、１７
から発生する反射電子や２次電子の発生量やその方向
は、実際のパターンを描画する場合と全く異なった状態
となっている。

【００２０】

【発明が解決しようとする課題】このため、オフセット
調整により求めたオフセット値と実際の描画の際のオフ
セット値とにずれが生じ、目的とするサイズの描画が困
難となっている。そこで本発明は、実際の描画の際のオ
フセット値との間にずれの生じないオフセット調整がで
きる成形偏向器のオフセット調整方法を提供することを
目的とする。

【００２１】又、本発明は、オフセット調整時の反射電
子や２次電子の発生量やその方向と、描画時における反
射電子や２次電子の発生量やその方向とを等しくでき
て、オフセット値にずれを生じさせないオフセット調整
ができる成形偏向器のオフセット調整方法を提供するこ
とを目的とする。

【００２２】又、本発明は、実際の描画の際のオフセッ
ト値との間にずれの生じないオフセット調整の機能を備
えた荷電ビーム描画装置を提供することを目的とする。
又、本発明は、オフセット調整時の反射電子や２次電子
の発生量やその方向と、描画時における反射電子や２次
電子の発生量やその方向とを等しくできて、オフセット
値にずれを生じさせないオフセット調整の機能を備えた
荷電ビーム描画装置を提供することを目的とする。

【００２３】

【課題を解決するための手段】請求項１によれば、電子
ビーム形状のタイプ及びサイズを少なくとも２つのアパ
ーチャを組み合わせて可変成形するとともに成形偏向器
により偏向して描画する荷電ビーム描画装置の成形偏向
器のオフセット調整方法において、各アパーチャを組み
合わせて成形する電子ビーム形状のタイプ及びサイズに
対するショット数を描画に用いるショット数の割合に比
例した値とし、かつこのショット数で電子ビーム形状の
タイプ及びサイズを変化させたときの各ビーム電流を測
定してその測定結果に基づいてオフセットを調整するよ
うにして上記目的を達成しようとする成形偏向器のオフ
セット調整方法である。

【００２４】請求項２によれば、オフセット調整に際し
てビーム電流を測定する場合、ショット時間とブランキ
ング時間との割合を、描画中におけるショット時間とブ
ランキング時間との割合と同一にする。

【００２５】請求項３によれば、電子ビーム形状のタイ
プ及びサイズを少なくとも２つのアパーチャを組み合わ
せて可変成形するとともに成形偏向器により偏向して描
画する荷電ビーム描画装置において、描画に用いるショ
ット数の割合に比例した値で、各アパーチャを組み合わ
せて成形する電子ビーム形状のタイプ及びサイズに対す
るショット数が記憶されたショット数メモリと、電子ビ
ーム形状のタイプ及びサイズに対応したショット数をシ
ョット数メモリから読み出し、このショット数で電子ビ
ーム形状のタイプ及びサイズを変化させたときの各ビー
ム電流を測定する電流測定手段と、この電流測定手段に
より測定されたビームタイプに対するビーム電流の測定
結果に基づいてオフセットを調整する調整手段と、を備
えて上記目的を達成しようとする荷電ビーム描画装置で
ある。

【００２６】請求項４によれば、電流測定手段は、オフ
セット調整に際してビーム電流を測定する場合、ショッ
ト時間とブランキング時間との割合を、描画中における
ショット時間とブランキング時間との割合と同一にす
る。

【００２７】

【作用】請求項１によれば、各アパーチャを組み合わせ
て成形する電子ビーム形状のタイプ及びサイズに対する
ショット数を描画に用いるショット数の割合に比例した
値として各ビーム電流を測定し、その測定結果に基づい
てオフセットを調整すれば、オフセット調整時の反射電
子や２次電子の発生量やその方向と、描画時における反
射電子や２次電子の発生量やその方向とが等しくなり、
実際の描画時のオフセット値に対してずれの生じないオ
フセット調整ができる。

【００２８】請求項２によれば、このビーム電流を測定
する場合、ショット時間とブランキング時間との割合
を、描画中におけるショット時間とブランキング時間と
の割合と同一にすることにより、確実にオフセット調整
時の反射電子や２次電子の発生量やその方向と、描画時
における反射電子や２次電子の発生量やその方向とが等
しくなる。

【００２９】請求項３によれば、電子ビーム形状のタイ
プ及びサイズに対して描画に用いるショット数の割合に
比例した値のショット数を記憶するショット数メモリか
ら、電子ビーム形状のタイプ及びサイズに対応したショ
ット数を読み出し、このショット数で電子ビーム形状の
タイプ及びサイズを変化させたときの各ビーム電流を測
定し、この測定されたビームタイプに対するビーム電流
の測定結果に基づいてオフセットを調整する。

【００３０】請求項４によれば、オフセット調整に際し
てビーム電流を測定する場合、ショット時間とブランキ
ング時間との割合を、描画中におけるショット時間とブ
ランキング時間との割合と同一にする。

【００３１】

【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
して説明する。なお、図７と同一部分には同一符号を付
してその詳しい説明は省略する。この成形偏向器のオフ
セット調整方法は、荷電ビーム描画装置における第１及
び第２のアパーチャを組み合わせて成形する電子ビーム
形状のタイプ及びサイズに対するショット数を描画に用
いるショット数の割合に比例した値とし、このショット
数で電子ビーム形状のタイプ及びサイズを変化させたと
きの各ビーム電流を測定してその測定結果に基づいてオ
フセットを調整するものである。

【００３２】図１はかかる成形偏向器のオフセット調整
方法を適用した荷電ビーム描画装置の構成図である。主
制御器４０は、各電流計２５〜３０の検出電流に応じて
偏向器制御器１３及び偏向コイル制御器１４を動作制御
する機能、さらには次の各機能を有している。

【００３３】ショット数メモリ４１には、描画に用いる
ショット数の割合に比例した値で、第１及び第２のアパ
ーチャを組み合わせて成形する電子ビーム形状のタイプ
「１ｘ」「１ｙ」「２」〜「５」及びそのサイズに対す
るショット数が記憶されている。すなわち、各タイプ各
サイズのショット数は、実際の描画に用いるショット数
の割合に比例している。

【００３４】具体的にショット数メモリ４１には、図２
に示すように第１及び第２のアパーチャを組み合わせて
成形する電子ビーム形状サイズ（ショットサイズ）サイ
ズａ〜ｆと各タイプ「１ｘ」「１ｙ」「２」〜「５」に
対する描画に用いるショット数の割合が記憶されてい
る。

【００３５】例えば、ショットタイプ「１ｘ」のサイズ
ｄのショットを描画中に使う割合は、１３４分の１であ
ることを示す。又、ショット数メモリ４１には、図３及
び図４に示すようにオフセット調整時のショットの順番
が記憶されている。

【００３６】例えば、ショット番号１〜５は、タイプ１
ｘ、サイズｂで５回ビーム電流を測定することを示して
いる。又、ショット数５は、図２に示す描画に用いるシ
ョット数の割合に比例した値である。次にショット番号
６〜１０は、タイプを「１ｙ」とし、サイズをｆとして
５回ビーム電流を測定することを示している。

【００３７】なお、ショット番号１３５〜１４０は、サ
イズが０である。電流測定部４２は、電流測定手段を構
成するもので、電子ビーム形状のタイプ及びサイズに対
応したショット数をショット数メモリ４１から読み出
し、このショット数で電子ビーム形状のタイプ及びサイ
ズを変化させたときに電子銃１を動作させ、かつこのと
きにビーム電流検出器２４により検出されたビーム電
流、つまり電流計３０により測定されたビーム電流を入
力してその値を一時記憶する機能を有している。なお、
電流測定手段としては、ビーム電流検出器２４、電流計
３０及び電流測定部４２から構成されている。

【００３８】又、電流測定部４２は、オフセット調整に
際してビーム電流を測定する場合、ショット時間とブラ
ンキング時間との割合（duty-ratio）を、描画中におけ
るショット時間（８００ｎｓ）とブランキング時間（２
００ｎｓ）との割合と同一にする機能を有している。

【００３９】調整部４３は、電流測定部４２により測定
された各電子ビームタイプに対するビーム電流の測定結
果のグラフからオフセット値を求め、このオフセット値
を「０」とするような偏向パラメータを主制御部４０に
セットする機能を有している。

【００４０】なお、主制御器４０は、調整部４３により
求められる電子ビームタイプに対するビーム電流の測定
グラフ等を表示器４４に表示する機能を有している。次
に上記の如く構成された装置の作用について説明する。

【００４１】静電型成形偏向器６に対するオフセット調
整は次にようにして行われる。主制御部４０の電流測定
部４２は、先ず、ショット数メモリ４１からショット番
号１〜５のタイプ「１ｘ」、サイズｂ及びショット数５
を読み出す。

【００４２】このとき電子ビーム形状は、タイプ「１
ｘ」、サイズｂなので、第１の成形アパーチャ１６は、
図１０に示すようにタイプ「１ｘ」のサイズｂのポジシ
ョンに移動する。

【００４３】この状態に、電流測定部４２は、電子銃１
からショット数５で動作させる。この場合、電流測定部
４２は、ショット時間とブランキング時間との割合（du
ty-ratio）を、描画中におけるショット時間（８００ｎ
ｓ）とブランキング時間（２００ｎｓ）との割合と同一
にして電子銃１をショット数５で動作させる。

【００４４】このようにショット数５で電子ビームが出
射されたとき、ビーム電流検出器２４は、試料上のビー
ム電流を検出する。このビーム電流は、電流計３０を通
して電流測定部４２に一時記憶される。

【００４５】続いて、電流測定部４２は、ショット数メ
モリ４１からショット番号６〜１０のタイプ「１ｙ」、
サイズｆ及びショット数５を読み出す。このとき電子ビ
ーム形状は、タイプ「１ｙ」、サイズｆなので、第１の
成形アパーチャ１６は、図１０に示すようにタイプ「１
ｙ」のサイズｆのポジションに移動する。

【００４６】この状態に、電流測定部４２は、電子銃１
からショット数５で、かつショット時間とブランキング
時間との割合を、描画中におけるショット時間（８００
ｎｓ）とブランキング時間（２００ｎｓ）との割合と同
一にして電子銃１をショット数５で動作させる。

【００４７】このようにショット数５で電子ビームが出
射されたとき、ビーム電流検出器２４は、試料上のビー
ム電流を検出する。このビーム電流は、電流計３０を通
して電流測定部４２に一時記憶される。

【００４８】以下、同様に、電流測定部４２は、ショッ
ト数メモリ４１からショット番号１１〜１２、１３、…
１４０の各タイプ、サイズ及びショット数を読み出し、
そのときの電子ビーム形状のタイプ及びサイズに第１の
成形アパーチャ１６のポジションに移動し、かつそのシ
ョット数５で電子銃１からショット数５で、かつショッ
ト時間とブランキング時間との割合を、描画中における
ショット時間（８００ｎｓ）とブランキング時間（２０
０ｎｓ）との割合と同一にして電子銃１をショット数５
で動作させる。

【００４９】このようにショット数５で電子ビームが出
射されたとき、ビーム電流検出器２４は、試料上のビー
ム電流を検出する。このビーム電流は、電流計３０を通
して電流測定部４２に一時記憶される。

【００５０】このようにしてショット番号１〜１４０の
ビーム電流測定が終了すると、調整部４３は、電流測定
部４２により測定された各電子ビームタイプに対するビ
ーム電流値を各タイプ別に平均化した測定結果のグラフ
を求める。

【００５１】図５(a) は電子ビーム形状のタイプ「１
ｘ」のビーム電流のグラフであり、同図(b) は電子ビー
ム形状のタイプ「１ｙ」のビーム電流のグラフであっ
て、直線近似する。

【００５２】又、図６(a) 〜(d) は電子ビーム形状のタ
イプ「２」〜「５」の各ビーム電流の各グラフであり、
２次曲線近似する。調整部４３は、これら直線及び２次
曲線からオフセット値を求め、このオフセット値を
「０」とするような偏向パラメータを主制御部４０にセ
ットする。

【００５３】このように上記一実施例においては、第１
及び第２のアパーチャ１６、１７を組み合わせて成形す
る電子ビーム形状のタイプ「１ｘ」「１ｙ」「２」〜
「５」及びそのサイズａ〜ｆに対するショット数を、描
画に用いるショット数の割合に比例した値として各ビー
ム電流を測定し、その測定結果に基づいてオフセットを
調整するので、実際の描画の際のオフセット値との間に
ずれの生じないオフセット調整ができる。

【００５４】すなわち、オフセット調整時の反射電子や
２次電子の発生量やその方向と、描画時における反射電
子や２次電子の発生量やその方向とを等しくでき、実際
の描画時のオフセット値に対してずれの生じないオフセ
ット調整ができる。

【００５５】又、ビーム電流を測定する場合、ショット
時間とブランキング時間との割合を、描画中におけるシ
ョット時間とブランキング時間との割合と同一にするの
で、確実にオフセット調整時の反射電子や２次電子の発
生量やその方向と、描画時における反射電子や２次電子
の発生量やその方向とを等しくできる。

【００５６】従って、このようなオフセット調整機能を
備えた荷電ビーム描画装置であれば、描画時のオフセッ
トにずれが発生せずに、目的のサイズで精度高く描画が
できる。

【００５７】なお、本発明は、上記一実施例に限定され
るものでなく次の通り変形してもよい。上記一実施例で
は、ビーム形状の各タイプ「１ｘ」「１ｙ」「２」〜
「５」ごとにサイズ数をａ〜ｆの６個としているが、こ
のサイズ数は複数であればよい。なお、例外として、描
画で使うサイズが１種類の場合には、そのサイズの前後
のサイズを設定し、必ず複数のビーム電流値から近似直
線又は近似曲線を求めてオフセット値を決定するように
する。

【００５８】又、描画のショット数の割合は、図２に示
す値に限ることはない。オフセット調整時のショットの
順番は、図２に示すショット数の割合と同一にすればよ
く、ビーム形状のタイプ及びサイズの順番は限定される
ものでない。

【００５９】図５及び図６に示すように同タイブ同サイ
ズの複数のショットのビーム電流値を平均したものをグ
ラフ化したが、平均を行わず、全てのビーム電流値を用
いて近似直線、近似曲線を求めるようにしてもよい。
又、複数のビーム電流値のうち、１つだけ利用して、他
はダミーとして用いてもよい。

【００６０】又、図３及び図４に示すショット番号１〜
１４０を何回か繰り返して、反射電子や２次電子の発生
を安定させてから調整用のビーム電流を測定するように
してもよい。又、ビーム形状の成形は、第１及び第２の
アパーチャ１６、１７に限らず、他のアパーチャを複数
用いて行ってもよい。

【００６１】

【発明の効果】本発明によれば、実際の描画の際のオフ
セット値との間にずれの生じないオフセット調整ができ
る成形偏向器のオフセット調整方法を提供できる。又、
本発明によれば、オフセット調整時の反射電子や２次電
子の発生量やその方向と、描画時における反射電子や２
次電子の発生量やその方向とを等しくできて、オフセッ
ト値にずれを生じさせないオフセット調整ができる成形
偏向器のオフセット調整方法を提供できる。

【００６２】又、本発明によれば、実際の描画の際のオ
フセット値との間にずれの生じないオフセット調整の機
能を備えた荷電ビーム描画装置を提供できる。又、本発
明によれば、オフセット調整時の反射電子や２次電子の
発生量やその方向と、描画時における反射電子や２次電
子の発生量やその方向とを等しくできて、オフセット値
にずれを生じさせないオフセット調整の機能を備えた荷
電ビーム描画装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わる荷電ビーム描画装置の一実施例
を示す構成図。

【図２】ショット数メモリの記憶されているショット数
割合の模式図。

【図３】ショット数メモリの記憶されているショットの
順番を示す模式図。

【図４】ショット数メモリの記憶されているショットの
順番を示す模式図。

【図５】直線近似する各タイプのビームサイズに対する
ビーム電流の関係を示す図。

【図６】２次曲線近似する各タイプのビームサイズに対
するビーム電流の関係を示す図。

【図７】従来の荷電ビーム描画装置の構成図。

【図８】各アパーチャの構成図。

【図９】第１及び第２のアパーチャの組み合わせによる
ビーム形状の成形を示す図。

【図１０】ビーム形状の各タイプ及び各サイズの成形を
示す図。

【図１１】直線近似する各タイプのオフセット調整を示
す図。

【図１２】２次曲線近似する各タイプのオフセット調整
を示す図。

【符号の説明】

１…電子銃、３…投影レンズ、４…対物レンズ、６…静
電型成形偏向器、７…対物偏向器、１３…静電偏向器制
御器、１４…偏向コイル制御器、１６…第１成形アパー
チャ、１７…第２の成形アパーチャ、１９〜２３…反射
電子検出器、２４…ビーム電流検出器、２５〜３０…電
流計、４０…主制御器、４１…ショット数メモリ、４２
…電流測定部、４３…調整部。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電子ビーム形状のタイプ及びサイズを少
   なくとも２つのアパーチャを組み合わせて可変成形する
   とともに成形偏向器により偏向して描画する荷電ビーム
   描画装置の成形偏向器のオフセット調整方法において、 前記各アパーチャを組み合わせて成形する電子ビーム形
   状のタイプ及びサイズに対するショット数を前記描画に
   用いるショット数の割合に比例した値とし、かつこのシ
   ョット数で前記電子ビーム形状のタイプ及びサイズを変
   化させたときの各ビーム電流を測定してその測定結果に
   基づいてオフセットを調整する、ことを特徴とする成形
   偏向器のオフセット調整方法。
2. 【請求項２】 オフセット調整に際してビーム電流を測
   定する場合、ショット時間とブランキング時間との割合
   を、描画中におけるショット時間とブランキング時間と
   の割合と同一にすることを特徴とする請求項１記載の成
   形偏向器のオフセット調整方法。
3. 【請求項３】 電子ビーム形状のタイプ及びサイズを少
   なくとも２つのアパーチャを組み合わせて可変成形する
   とともに成形偏向器により偏向して描画する荷電ビーム
   描画装置において、 前記描画に用いるショット数の割合に比例した値で、前
   記各アパーチャを組み合わせて成形する電子ビーム形状
   のタイプ及びサイズに対するショット数が記憶されたシ
   ョット数メモリと、 前記電子ビーム形状のタイプ及びサイズに対応したショ
   ット数を前記ショット数メモリから読み出し、このショ
   ット数で前記電子ビーム形状のタイプ及びサイズを変化
   させたときの各ビーム電流を測定する電流測定手段と、 この電流測定手段により測定されたビームタイプに対す
   るビーム電流の測定結果に基づいてオフセットを調整す
   る調整手段と、を具備したことを特徴とする荷電ビーム
   描画装置。
4. 【請求項４】 電流測定手段は、オフセット調整に際し
   てビーム電流を測定する場合、ショット時間とブランキ
   ング時間との割合を、描画中におけるショット時間とブ
   ランキング時間との割合と同一にすることを特徴とする
   請求項３記載の荷電ビーム描画装置。