JPH08193956A - フォトマスクの異物検査装置 - Google Patents

フォトマスクの異物検査装置

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JPH08193956A
JPH08193956A JP372695A JP372695A JPH08193956A JP H08193956 A JPH08193956 A JP H08193956A JP 372695 A JP372695 A JP 372695A JP 372695 A JP372695 A JP 372695A JP H08193956 A JPH08193956 A JP H08193956A
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JP
Japan
Prior art keywords
foreign matter
photomask
mask
unit
inspection
Prior art date
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Pending
Application number
JP372695A
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English (en)
Inventor
Mitsuo Hama
満男 濱
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPH08193956A publication Critical patent/JPH08193956A/ja
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 作業者の手に頼ることなく、フォトマスク上
の異物を好適に除去することができるフォトマスクの異
物検査装置を提供する。 【構成】 所定の搬送経路にしたがってフォトマスク1
を搬送するマスク搬送機構4〜9と、マスク搬送機構4
〜9によって規定の検査位置に搬送されたフォトマスク
1上の異物の有無を検査する異物検査部2と、異物検査
部2の検査結果において異物有りと判定されたフォトマ
スク1を収容し且つフォトマスク1上の異物をエアー吹
出部10からのエアーの吹き出しにより除去する異物除
去部3とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路の製造
工程、特にリソグラフィ工程で用いられるフォトマスク
(レクチル等)の異物検査装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路を製造するリソグラフィ
工程では、原画を直接ウエハ上に縮小投影して露光し、
自動焦点機構(オートフォーカス機構)とコンピュータ
による位置決めにより、順次、同じパターンを焼き付け
ていく。その際、パターン原版であるフォトマスク上に
異物があると、これがウエハ上に転写され、回路の短
絡、断線等の諸問題を引き起こす原因となる。
【0003】こうした問題を回避するため、通常は、フ
ォトマスクの片面又は両面に固定欠陥対策としてペリク
ル(透明膜)が装着される。ところが、ペリクルを装着
したフォトマスクであっても、ペリクル上に異物がある
と、やはりパターン形成に少なからず悪影響を与えかね
ないため、ペリクル上の異物についてもマスク面同様に
問題となる。
【0004】そこで従来では、ステッパ(ステップ式投
影露光装置)本体にフォトマスク(レクチル等)を供給
する直前に、フォトマスク上における異物の有無を検査
し、そこに異物が存在する場合は、作業者の手によって
異物を取り除いてから、フォトマスクをステッパ本体に
供給するようにしていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フォト
マスク上に付着した異物を作業者の手によって除去する
場合は、取り扱い中の人為的なミスによってマスク表面
に傷や汚れを付けたり、落下不良を引き起こす虞れがあ
った。特に、近年では、チップサイズの拡大に伴ってマ
スクサイズも大きくなっていることから、フォトマスク
が非常に取り扱いにくいものとなっており、人為的ミス
が多発する傾向にある。また従来においては、エアーガ
ン等による高圧エアーで異物を除去しても、これによっ
て舞い上がった異物がマスク表面に再付着してしまい、
再検査を行っても異物有りと判定される場合があった。
【0006】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、その目的は、従来のように作業者の手に頼
ることなく、フォトマスク上の異物を好適に除去するこ
とができるフォトマスクの異物検査装置を提供すること
にある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、所定の搬送経路にしたが
ってフォトマスクを搬送するマスク搬送機構と、このマ
スク搬送機構によって規定の検査位置に搬送されたフォ
トマスク上の異物の有無を検査する異物検査部と、この
異物検査部の検査結果において異物有りと判定されたフ
ォトマスクを収容するとともに、フォトマスク上の異物
をエアーの吹き出しにより除去する異物除去部とを備え
た装置構成となっている。
【0008】
【作用】本発明のフォトマスクの異物検査装置において
は、異物検査部にて異物有りと判定されたフォトマスク
がマスク搬送機構によって異物除去部に送り込まれ、そ
こに収容される。さらに、こうして異物除去部に収容さ
れたフォトマスクに対しては自動的にエアーの吹き付け
がなされ、これによって作業者の手を煩わすことなくフ
ォトマスク上の異物が取り除かれる。
【0009】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら詳細に説明する。図1は本発明に係わるフォトマ
スクの異物検査装置の一実施例を示す要部斜視図であ
る。なお、本実施例においては、取扱い対象となるフォ
トマスクとして、半導体集積回路の製造用(リソグラフ
ィ用)として主流となっているペリクル付きのレクチル
を例に挙げて説明する。図1に示す異物検査装置は、そ
の主要な構成要素として、所定の搬送経路(後述)にし
たがってフォトマスク1を搬送するマスク搬送機構と、
フォトマスク1上における異物の有無を検査する異物検
査部2と、フォトマスク1上の異物を除去する異物除去
部3とを備えている。
【0010】先ず、マスク搬送機構は、昇降可能(上下
動可能)なマスクカセットキャリア4と、マスクカセッ
トキャリア4から一個ずつフォトマスク1を受け取って
搬出するマスク搬出ハンド5と、未使用マスクと使用済
マスクの位置を反転させる回転機能を備えたマスク交換
ハンド6と、マスク検査用の直動ステージ7と、図示せ
ぬステッパ本体との間でフォトマスク1の授受を行うマ
スク送り込みハンド8とから構成されている。
【0011】異物検査部2は、上記直動ステージ7によ
って規定の検査位置に搬送されたフォトマスク1に対し
て、例えば、図示はしないがレーザ光等をマスク表面に
斜めに照射する光出射部と、そのマスク表面に照射され
た光の散乱反射等を利用してフォトマスク1上に異物が
存在しているか否かを判定する検査機能部とを備えてい
る。
【0012】異物除去部3は、上記直動ステージ2によ
って移送されるフォトマスク1を収容するための空間部
を有する箱型構造をなすもので、これは上述した異物検
査部2に隣接して設けられている。この異物除去部3に
は、直動ステージ7の移動方向を案内するガイドシャフ
ト9が延出しており、これによって直動ステージ7が異
物検査部2と異物除去部3との間を自由に往復移動でき
る構成となっている。
【0013】また異物除去部3には、例えば複数のエア
ー吹出孔(不図示)を有するエアー吹出部10がその底
部に架設されており、これに対向する空間天井部分には
図示せぬHEPAフィルタ(高性能フィルタ)が敷設さ
れている。さらに、異物検査部2との仕切り部分には開
閉可能なシャッター部11が設けられており、このシャ
ッター部11を開放した状態で直動ステージ7が通過可
能な状態、すなわち異物検査部2と異物除去部3とが連
通した状態となり、シャッター部11を閉じた状態で異
物検査部2と異物除去部3とが完全に仕切られた状態、
つまり双方が空間的に独立した状態となる。
【0014】加えて異物除去部3には、シャッター部1
1と反対側の端部に排出部12が設けられている。この
排出部12は、フォトマスク1上から除去された異物を
エアーとともに外部に排出させるためのもので、例えば
図示はしないが異物除去部3の内部空間に接続された排
気ダクトとこの排気ダクトを通してエアーを吸引する排
気ファンとによって構成される。
【0015】続いて、本実施例における異物検査装置の
動作について説明する。まず、マスクカセットキャリア
4に供給されたフォトマスク1はカセットから取り出さ
れたのち、マスクカセットキャリア4の昇降動作により
規定の高さに配置される。そうすると、マスク搬出ハン
ド5がマスクカセットキャリア4側に移動して、その先
端爪部4aがフォトマスク1の下部に進出し、この状態
でマスクカセットキャリア4が下降することで、フォト
マスク1がマスクカセットキャリア4からマスク搬出ハ
ンド5へと受け渡される。
【0016】次いで、フォトマスク1を受け取ったマス
ク搬出ハンド5はマスク交換ハンド6の一方の吸着コレ
ット6aの真下まで移動する。すると、マスク交換ハン
ド6aが下降して吸着コレット6aでフォトマスク1を
吸着保持し、そのままマスク搬出ハンド5からフォトマ
スク1を取り上げる。続いて、マスク交換ハンド6が枢
軸Zを中心に180°回転し、これによって吸着コレッ
ト6a、6bの位置が反転するとともに、吸着コレット
6aに保持されたフォトマスク1が直動ステージ7の移
動経路上に配置される。
【0017】次に、直動ステージ7がマスク交換ハンド
6側に移動して、フォトマスク1の真下に進出する。す
ると、マスク交換ハンド6はフォトマスク1と直動ステ
ージ7との間に僅かの隙間が確保される高さまで下降
し、その位置で吸着コレット6aの吸着作用を解除す
る。これにより、フォトマスク1は吸着コレット6aか
ら直動ステージ7へと受け渡される。続いて、フォトマ
スク1を受け取った直動ステージ7はガイドシャフト9
に案内されながら異物検査部2の規定の検査位置まで移
動し、そこから予め設定された速度をもって移動する。
このとき、ステージ上のフォトマスク1には図示せぬ光
出射部からレーザ光等が照射され、これによるマスク表
面の散乱反射等を利用してフォトマスク1上(本実施例
の場合にはペリクル上)の異物の有無が検査機能部(不
図示)にて検査される。
【0018】その際、上記検査機能部にてフォトマスク
1上に異物が有ると判定された場合は、異物検査部2と
異物除去部3との仕切り部分に設けられたシャッター部
11が開き、これに続いて直動ステージ7がガイドシャ
フト9に沿って異物除去部3内に進出する。こうして直
動ステージ7が異物検査部3に収容されると、シャッタ
ー部11が閉ざされる。次いで、エアー吹出部10から
排出部12側に向けて例えばおよそ斜め45°の角度で
エアーが吹き出すとともに、図示せぬ排気ファンの作動
によって排出部12からエアーの排出が開始される。こ
のとき、異物検査部3の空間内にはその天井部分に敷設
されたHEPAフィルタ(不図示)を介して清浄エアー
が吸気される。
【0019】この状態で直動ステージ7はフォトマスク
1を担持しつつ、排出部12の近傍まで移動し、その移
動途中でフォトマスク1にエアーの吹き付けがなされ
る。これにより、フォトマスク1に付着していた異物が
取り除かれるとともに、その取り除かれた異物がエアー
吹出部10からの吹出エアーやHEPAフィルタからの
吸気エアーとともに排出部12から排出される。
【0020】こうして異物の除去が終了すると、エアー
吹出部10からのエアー吹き出しと排出部12からのエ
アーの排出作用が停止する。続いて、直動ステージ7の
移動方向が反転するとともに、シャッター部11が開放
され、このシャッター部11を通過してフォトマスク1
が再び異物検査部2に移送される。その後、上記同様の
手法でフォトマスク1上における異物の有無が確認さ
れ、そこで異物無しと判定された場合は直動ステージ7
の移動によりフォトマスク1が再びマスク交換ハンド6
の吸着コレット6a下に配置される。
【0021】次いで、フォトマスク1は吸着コレット6
aに吸着保持されたのち、マスク交換ハンド6の反転動
作(180°回転動作)と吸着コレット6aの吸着解除
により、一旦、マスク搬出ハンド5に受け渡される。そ
の間、直動ステージ7はマスク交換ハンド6から退避
し、これに続いてマスク送り込みハンド8が90°回転
して吸着コレット6b下に配置される。その後、マスク
搬出ハンド5上のフォトマスク1は再度、吸着コレット
6aにて吸着保持されたのち、マスク交換ハンド6の反
転動作によってマスク送り込みハンド8の真上に配置さ
れる。最後は、吸着コレット6aからマスク送り込みハ
ンド8へとフォトマスク1が受け渡されたのち、マスク
送り込みハンド8の90°回転動作により検査済みのフ
ォトマスク1がステッパ本体(不図示)に供給される。
【0022】以降は、上記同様の手順で使用前のフォト
マスク1の異物検査が行われるとともに、検査済みのフ
ォトマスク1がマスク送り込みハンド8によって順次、
ステッパ本体に供給される。また、ステッパ本体側から
排出された使用済みのフォトマスク1は、順次、マスク
送り込みハンド8からマスク交換ハンド6に受け渡さ
れ、さらにマスク交換ハンド6の反転動作によってマス
ク排出ハンド5に移載されたのち、供給元のマスクカセ
ットキャリア4に回収される。
【0023】このように本実施例の異物検査装置におい
ては、異物検査部2にて異物有りと判定されたフォトマ
スク1を異物除去部3に収容し、そこでエアー吹出部1
0からのエアーの吹き付けにより異物の除去を自動的に
行うため、人為的ミスによるフォトマスク1の破損は皆
無となる。また、エアーの吹き付けによりフォトマスク
1上の異物を除去する場合は、シャッター部11を閉じ
ることで異物除去部3から異物検査部2への異物の侵入
を阻止することができるため、異物検査部2における清
浄雰囲気が汚染されることがない。さらに、異物除去部
3に排出部12を設けることによって、フォトマスク1
上から除去した異物をエアーとともに排出部12から外
部に排出するようにしたので、エアーの吹き付けにより
舞い上がった異物がフォトマスク1に再付着することを
効果的に防止することができる。
【0024】なお、上記実施例の構成においては、異物
除去部3の底部にのみエアー吹出部10を設けるように
したが、本発明はこれに限定されることなく、異物除去
部3の側壁部分や天井部分などにエアー吹出部10を設
けるようにしてもよい。また上記実施例では、ペリクル
付きのレチクルをフォトマスク1の一例として挙げた
が、取扱い対象となるフォトマスクとしては、ペリクル
無しのいわゆるレチクル単体であっても、またレチクル
以外のフォトマスクであってもよい。
【0025】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
従来のように作業者の手を煩わすことなく、異物検査部
にて異物有りと判定されたフォトマスクを異物除去部に
収容し、そこでエアーの吹き付けにより自動的にフォト
マスク上の異物を除去できる構成としたので、人為的ミ
スのよるフォトマスクの破損を確実に防止することが可
能となる。その結果、異物検査済みのフォトマスクを効
率良く露光装置(ステッパ本体)に供給できるととも
に、異物検査工程での省人化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わるフォトマスクの異物検査装置の
一実施例を示す要部斜視図である。
【符号の説明】
1 フォトマスク 2 異物
検査部 3 異物除去部 4 マス
クカセットキャリア 5 マスク搬出ハンド 6 マス
ク交換ハンド 7 直動ステージ 8 マス
ク送り込みハンド 9 ガイドシャフト 10 エ
アー吹出部 11 シャッター部 12 排
出部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の搬送経路にしたがってフォトマス
    クを搬送するマスク搬送機構と、 前記マスク搬送機構によって規定の検査位置に搬送され
    たフォトマスク上の異物の有無を検査する異物検査部
    と、 前記異物検査部の検査結果において異物有りと判定され
    たフォトマスクを収容するとともに、前記フォトマスク
    上の異物をエアーの吹き出しにより除去する異物除去部
    とを備えたことを特徴とするフォトマスクの異物検査装
    置。
  2. 【請求項2】 前記異物除去部は、前記異物検査部との
    仕切り部分を開閉するシャッター部を有することを特徴
    とする請求項1記載のフォトマスクの異物検査装置。
  3. 【請求項3】 前記異物除去部は、前記エアーの吹き出
    しにより前記フォトマスク上から除去された異物をエア
    ーとともに外部に排出する排出部を有することを特徴と
    する請求項1又は2記載のフォトマスクの異物検査装
    置。
JP372695A 1995-01-13 1995-01-13 フォトマスクの異物検査装置 Pending JPH08193956A (ja)

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JP372695A JPH08193956A (ja) 1995-01-13 1995-01-13 フォトマスクの異物検査装置

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JP (1) JPH08193956A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002217256A (ja) * 2001-01-17 2002-08-02 Sony Corp 半導体装置の検査装置
JP2011069624A (ja) * 2009-09-24 2011-04-07 Hitachi High-Technologies Corp 表面検査装置およびその方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002217256A (ja) * 2001-01-17 2002-08-02 Sony Corp 半導体装置の検査装置
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