KR100719709B1 - 레티클 표면의 이물질 제거 장치를 갖는 레티클 로더 - Google Patents

Abstract

본 발명은 레티클의 사용을 위해 레티클 박스에서 로드하거나 사용이 끝난 레티클을 레티클 박스에서 언로드하는 경우 레티클의 표면에 질소를 분사하여 표면의 이물질이 제거되도록 하고, 제거된 이물질과 질소는 흡입하여 레티클 표면의 이물질 제거가 용이하게 하고 레티클 사용 후에 이물질이 묻지않도록 하는 레티클 표면의 이물질 제거 장치를 갖는 레티클 로더에 관한 것으로서, 반도체 노광 작업에 사용되는 레티클이 담겨있는 레티클 박스를 보관되는 레티클 라이브러리, 레티클 라이브러리의 보관되는 레티클 박스를 개방하는 레티클 박스 개방 장치, 상기 레티클 개방 장치에 의해 개방된 레티클 박스의 레티클을 이동시키는 로더를 포함하여 구성되는 레티클 로더에 있어서, 에어를 분사하는 에어 분사부(150), 상기 에어 분사부(150)에 근접하여 설치되고 에어 분사부(150)에서 분사된 에어를 흡입하는 에어 흡입부(150)로 구성되는 이물질 제거 장치가 상기 레티클 박스 개방 장치(100)에 설치되어 구성된다.

웨이퍼, 레티클, 레티클 라이브러리, 파티클

Description

레티클 표면의 이물질 제거 장치를 갖는 레티클 로더{A reticle loader having particle remover for reticle surface}

도 1a와 도 1b는 레티클 로드 장치의 구성을 나타내는 도면.

도 2는 레티클 라이브러리의 구성을 나타내는 사시도.

도 3은 본 발명에 의한 레티클 표면의 이물질 제거 장치를 갖는 레티클 로더의 일실시예의 구성을 나타내는 분해 사시도.

도 4a, 4b,4c 및 도 4d는 본 발명의 사용 상태도.

- 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 -

10 : 레티클 라이브러리 40 : 레티클 박스

150 : 에어 분사부 160 : 에어 흡입부

본 발명은 레티클 표면의 파티클 제거 작업이 용이하게 하고 사용이 끝난 레티클의 복귀하는 동안 파티클 제거 작업이 이루어지도록 하는 레티클 표면의 이물질 제거 장치를 갖는 레티클 로더에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 노광 장비는 반도체 제조공정 중의 하나인 노광 공정을 진행하는 장비이며, 여기서 노광 공정이란 감광제가 코팅된 웨이퍼의 상측에 회로패턴이 형성된 레티클을 위치시키고 웨이퍼를 일정한 전송 피치만큼 이동하며 조명계로부터 상기 레티클을 통과한 빛을 웨이퍼에 조사하여 패턴을 이식하는 공정을 말한다.

이와 같은 노광 장비는 조명계의 하측에 소정 거리를 두고 레티클을 장착하기 위한 레티클 스테이지와, 이 레티클 스테이지의 하측에 웨이퍼를 안착시킬 수 있도록 설치되는 웨이퍼 스테이지와, 상기 레티클 스테이지와 웨이퍼 스테이지 사이에설치되어 레티클의 패턴을 웨이퍼에 이식하기 위한 축소렌즈를 포함하여 구성된다.

즉, 도 1a에 도시된 바와 같이 설비 내의 로더(Loader)부(1)에 있는 웨이퍼(12)가 스텝퍼(Stepper;3)의 웨이퍼 스테이지에 놓여지게 되면, 레티클 로더부(4)에 장착된 레티클(5)이 이송라인(6)을 따라 스텝퍼(3)의 웨이퍼 스테이지에 로딩되어 가상선으로 도시된 바와 같이 렌즈부(7)상에 위치하게 되는 것이고, 이로써 광원(8), 레티클(5), 렌즈부(7)에 의한 포토 공정이 웨이퍼(2) 상에 수행되어진다.

여기서 상기 레티클 로더부는 다수개의 레티클이 적재되어 있는 카세트가 안착되는 라이브러리와 레티클 표면의 이물질 검사부를 포함하여, 레티클 표면에 묻은 이물질의 유무를 검사하게 된다.

즉, 도 1b에 도시되어 있는 바와 같이, 레티클 라이브러리(10)에 적재되어 있는 레티클은 로더(12)에 의해 로딩되어 웨이팅 테이블(16)에 놓여지고, 선회암(18)의 동작에 의해 레티클 스테이지(20)에 놓여져 동작된다. 도면에는 도시되어 있지 않으나 레티클 라이브러리(10)에서 레티클을 로드하기 위해서는 슬라이더, 레티클 박스 개방 장치 등이 설치된다.

멀티레이어(multi-layer) 반도체 소자 제조 공정에서는 우수한 포토 레지스트 패턴의 노광을 위해서 파티클이 제거된 레티클이 필수적으로 요구된다.

따라서, 레티클의 표면에서 파티클이 발견되는 경우에는 레티클은 노광 장비에서 언로딩된 후 전문적인 작업자에 의해 레티클 표면의 이물질 제거작업이 이루어지게 된다

파티클 제거 작업이 완료된 후에는 레티클을 재 로딩하여 작업을 수행하게 된다.

따라서 파티클이 발견되었을 때, 레티클의 언 로딩, 파티클 제거 작업 및 재 로딩에는 많은 시간이 필요하게 되는 문제점이 있었다.

또한, 레티클의 사용 후 언로딩 되는 중에는 파티클 검사 동작이 없기 때문에 레티클의 언 로딩 중에 발생되는 오염에는 별도의 대책이 없는 문제점이 있었다.

본 발명은 이와 같은 종래의 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 레티클 표면의 파티클 제거 작업이 용이하게 하는 레티클 표면의 이물질 제거 장치를 갖는 레티클 로더를 제공하는 것을 목적으로 한다.

또한, 사용이 끝난 레티클의 복귀하는 동안 파티클 제거 작업이 이루어지도록 하는 레티클 표면의 이물질 제거 장치를 갖는 레티클 로더를 제공하는 것을 목 적으로 한다.

도 2는 레티클 라이브러리의 구성을 나타내는 사시도이고, 도 3은 본 발명에 의한 레티클 표면의 이물질 제거 장치를 갖는 레티클 로더의 일실시예의 구성을 나타내는 분해 사시도로서, 반도체 노광 작업에 사용되는 레티클이 담겨있는 레티클 박스를 보관되는 레티클 라이브러리, 레티클 라이브러리의 보관되는 레티클 박스를 개방하는 레티클 박스 개방 장치, 상기 레티클 개방 장치에 의해 개방된 레티클 박스의 레티클을 이동시키는 로더를 포함하여 구성되는 레티클 로더에 있어서, 에어를 분사하는 에어 분사부(150), 상기 에어 분사부(150)에 근접하여 설치되고 에어 분사부(150)에서 분사된 에어를 흡입하는 에어 흡입부(150)로 구성되는 이물질 제거 장치가 상기 레티클 박스 개방 장치(100)에 설치되어 구성되어 있음을 도시하고 있다.

상기 에어 분사부(150)와 에어 흡입부(160)는 레티클면 제거부(110)와 펠리클면 제거부(120)에 각각 설치되는 것이 바람직하다.

상기 에어 분사부(150)와 에어 흡입부(160)는 레티클의 로드와 언로드시에 각각 동작되도록 구성된다.

도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하면 다음과 같다.

반도체 노광 작업을 위해 사용되는 레티클(reticle)은 레티클 박스(40)에 저장되고, 레티클 박스(40)는 레티클 라이브러리(10)의 슬롯(10a)에 각각 설치되어 있다.

반도체 노광 작업을 위해 필요로 하는 레티클을 로딩하기 위해서는 레티클 라이브러리(10)에 근접되어 있는 슬라이더(30)를 따라 레티클 박스 개방 장치(100)가 상하로 이동하게 된다. 이때 레티클 박스 개방 장치(100)에는 본 발명에 의한 이물질 제거 장치를 설치하도록 한다.

필요로 하는 레티클이 저장되어 있는 레티클 박스(40)에 레티클 박스 개방 장치(100)가 위치되면 레티클 라이브러리(10)에서 레티클 박스(40)를 꺼내고, 도 4a에 도시되어 있는 바와 같이 레티클 박스를 개방한 후, 로더(12)를 삽입하여 레티클을 로드하도록 한다.

레티클 박스가 위치된 후, 레티클 박스가 개방되는 부분의 전방 상부와 하부에는 레티클면 제거부(110)와 펠리클면 제거부(120)가 각각 설치되어 있다. 이때 레티클면 제거부(110)와 펠리클면 제거부(120)에는 도 3에 도시되어 있는 바와 같이 각각 에어 분사부(150)와 에어 흡입부(160)가 순차적으로 설치되어 있어, 레티클(5) 표면의 이물질을 제거하도록 한다.

즉, 다음과 같은 방법으로 레티클 표면의 이물질을 제거하도록 한다.

도 4b에 도시되어 있는 바와 같이, 레티클 박스(40)의 일측이 개방되고 로더(12)가 레티클 박스(40)의 개방된 부분을 통하여 삽입되어 레티클(5)의 로드가 개시되도록 한다. 도 4c에 도시되어 있는 바와 같이, 레티클(5)을 로드하여 레티클 박스(40)의 전방에 위치되면 에어 분사부(150)와 에어 흡입부(160)가 동작되도록 한다.

에어 분사부(150)가 동작하여 N₂ 가 레티클 표면을 향하여 분사되도록 하면, 레티클 표면에 이물질이 있는 경우 N₂ 에 의해 이물질이 제거된다.

이물질이 제거된 후, 별도의 조치가 없는 경우 레티클 표면에 이물질이 다시 부착될 수 있으므로, 레티클 하부에 위치되어 있는 에어 흡입부(160)를 통해 분사된 N₂ 를 흡입하도록 한다.

에어 흡입부(160)로 흡입되는 N₂ 에는 레티클 표면에서 제거된 이물질이 포함되어 있으므로, 에어 흡입부(160)의 동작에 의해 이물질의 제거가 완료된다.

상기한 바와 같은 동작에 의해 레티클의 로드가 완료된 상태에서는 레티클 표면의 이물질이 제거되어 있게 된다. 상기와 같은 과정은 펠리클 표면에 이물질을 제거하는 과정에서도 동일하게 진행된다.

또한, 노광 공정을 수행한 후 레티클 라이브러리로 이동하는 도중 레티클 표면에 이물질이 묻을 수 있으므로, 도 4d에 도시되어 있는 바와 같이, 노광 공정을 수행한 레티클을 레티클 박스로 언로드하기 위해, 로더(12)에 의해 레티클(5)이 레티클 박스(40)의 전방에 위치되도록 한다.

레티클이 위치된 상태에서 에어 분사부(150)에서는 N₂ 를 레티클 표면으로 분사하고 에어 흡입부(160)에서는 레티클 표면으로 분사된 N₂ 를 흡입하여, 작업이 완료된 레티클 표면에 이물질이 남지않도록 하여 레티클 박스(40)에 저장되도록 한 후, 레티클 박스(40)는 레티클 라이브러리(10)에 보관된다.

따라서, 레티클 라이브러리에 보관되는 레티클은 표면이 청결한 상태가 되도록 한다.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 이러한 실시예에 한정되지 않으며, 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 실시할 수 있는 다양한 형태의 실시예들을 모두 포함한다.

이상에서와 같이 본 발명에 의하면, 레티클의 사용을 위해 레티클 박스에서 로드하거나 사용이 끝난 레티클을 레티클 박스에서 언로드하는 경우 레티클의 표면에 질소를 분사하여 표면의 이물질이 제거되도록 하고, 제거된 이물질과 질소는 흡입하여 레티클 표면의 이물질 제거가 용이하게 하고 레티클 사용 후에 이물질이 묻지않도록 하는 효과를 갖는다.

Claims (3)

1. 반도체 노광 작업에 사용되는 레티클이 담겨있는 레티클 박스를 보관되는 레티클 라이브러리, 레티클 라이브러리의 보관되는 레티클 박스를 개방하는 레티클 박스 개방 장치, 상기 레티클 개방 장치에 의해 개방된 레티클 박스의 레티클을 이동시키는 로더를 포함하여 구성되는 레티클 로더에 있어서, 에어를 분사하는 에어 분사부(150), 상기 에어 분사부(150)에 근접하여 설치되고 에어 분사부(150)에서 분사된 에어를 흡입하는 에어 흡입부(150)로 구성되는 이물질 제거 장치가 상기 레티클 박스 개방 장치(100)에 설치되어 구성되는 것을 특징으로 하는 레티클 표면의 이물질 제거 장치를 갖는 레티클 로더.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 에어 분사부(150)와 에어 흡입부(160)는 레티클면 제거부(110)와 펠리클면 제거부(120)에 각각 설치되는 것을 특징으로 하는 레티클 표면의 이물질 제거 장치를 갖는 레티클 로더.
3. 제 1 항에 있어서, 상기 에어 분사부(150)와 에어 흡입부(160)는 레티클의 로드와 언로드시에 각각 동작되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 레티클 표면의 이물질 제거 장치를 갖는 레티클 로더.

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