JPH0819116B2 - ４―置換カルボニルクマリン化合物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規な化合物である４−置換カルボニルク
マリン化合物に関する。具体的には、光硬化樹脂に用い
る新規な光増感剤を提供する４−置換カルボニルクマリ
ン化合物に関するものである。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕

近年、光重合反応を用いた情報記録の分野で、従来の
フイルム原稿等を用いた紫外線による記録方法に代わ
り、コンピュータによって電子編集された原稿をそのま
ま直接レーザーを用いて出力し記録する方法が検討され
ている。しかしながら、現在、一般的に使用されている
高出力で安定なレーザー光源は、例えば、アルゴンレー
ザーのように可視領域にその出力波長を有するものが多
く、従来使用されてきた紫外線用の感光剤では、可視域
での感度が低いため使用できなかった。また、ピリリウ
ム塩またはチアピリリウム塩類等の添加で、可視部での
感度の向上は可能であるが、その感光層の経時安定性が
劣り、使用するのが困難であった。

従来、７−アルキルアミノクマリン誘導体は、４−位
が無置換の場合、400〜450nm程度の最大吸収波長を有し
ているが、一般的に用いられているレーザー光源波長は
それよりも長波長のものが多く、その理由で十分な感度
が得られない場合が少なくなかった。

例えば、７−ジエチルアミノ−３−ベンゾチアゾイル
クマリン、3,3′−カルボニルビス（７−ジエチルアミ
ノクマリン）などが、最大吸収波長は450nm前後にある
ために、アルゴンレーザーの488nmよりは30〜40nm短波
長であり、感度向上の余地を残している。又、ある範囲
内では、増感剤の樹脂中への導入率と感度の間には正の
相関関係が成立するので、その範囲内ではできるだけ多
く樹脂中に安定に溶解している方が望ましいが、これに
ついても例を挙げた２つの化合物は溶解性が不良のため
に、樹脂中への増感剤の導入率が不足し、目的の感度が
得られていないのが現状である。

また、４−位をシアノ化すれば、化合物の極大吸収波
長のより長波長側への移行（以下、単に長波長化とい
う）は可能であるが、樹脂への溶解性や保存安定性を損
なう場合が多かった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者等は、上記課題を解決するため鋭意検討した
結果、前記一般的（Ｉ）で表される化合物を見出し、本
発明を完成した。

すなわち、本発明は一般式（Ｉ） 〔式中、R₁、R₂はそれぞれ同一または独立に水素原子、
アルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、ヒ
ドロキシアルキル基、アラルキル基、アリール基、アル
コキシカルボニルアルキル基を示し、互いに結合する
か、骨格内のアミノ基の置換したベンゼン核と結合して
環を形成していてもよく、R₃は、水素原子、アルキル
基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハ
ロゲノアルキル基、水酸基、アルコキシ基、アルコキシ
アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子
を示し、Ｘは水素原子、アルキル基、シクロアルキル
基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、水酸基、アリ
ール基、アルケニル基、アリールオキシ基、アルケニル
オキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、アルコ
キシカルボニルアルコキシ基、アルキルカルボニルアル
コキシ基、あるいは次の置換基を示す。

R₄ＯCH_{2 m n}，R₄ＯCH_{2 m n}−Ｏ−R₄−HN
−， （こゝで、R₄、R₅は水素原子、アルキル基、ヒドロキシ
アルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、アルコ
キシアルキル基、シクロアルキル基を示し、ｎ、ｍはそ
れぞれ１〜５の整数）を示す。Ｙはアルキルカルボニル
基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アリールカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシ
カルボニルアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニ
ルアルコキシカルボニル基、または次のいづれかのヘテ
ロ環基を示す。

〕で表される４−置換カルボニルクマリン化合物を提供
するものである。

この本発明の化合物は、増感剤として有用な新規のク
マリン化合物である。すなわち、クマリン骨格の４−位
へ置換カルボニル基を導入し、かつ３−位に特定の置換
基を導入したことにより、極大吸収波長の長波長化と樹
脂中への高溶解性を同時に実現したものであり、光硬化
樹脂、例えば、エチレン型不飽和結合を分子中に少なく
とも１個以上有する光重合または光架橋可能な化合物、
および光重合開始剤を用いる光硬化に適用可能なクマリ
ン化合物として極めて有用な化合物である。更に従来の
増感剤は塗布方式の違いによって感度が大きく変動して
いたが、本発明の増感剤は、いずれの方式においても安
定した感度を示し、要望を充分に満足させるものであ
る。

また、一般式（Ｉ）の該化合物は、文献にその記載が
なく、新規化合物であることを確認した。以下、本発明
を詳細に説明する。

本発明の化合物は、一般式（Ｉ） で表される構造式に明らかなように、４−位に置換カル
ボニル基を有し、３−位に特定の置換基を有することを
特徴とするクマリン化合物である。

一般式（Ｉ）において、R₁およびR₂は水素原子、アル
キル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、ヒドロ
キシアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキ
シカルボニルアルキル基を示し、互いに同一であっても
異なっていてもよい。

具体的には、水素原子；メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、iso−プロピル、ｎ−ブチル、iso−ブチル、sec−
ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル基等
のアルキル基；メトキシメチル、メトキシエチル、エト
キシメチル、エトキシエチル、γ−メトキシプロピル、
γ−エトキシプロピル基等のアルコキシアルキル基；ア
リル、２−ブテニル、２−ペンテニル基等のアルケニル
基；ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、２−ヒドロ
キシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキ
シブチル基等のヒドロキシアルキル基；ベンジル、フェ
ネチル基等のアラルキル基；フェニル、Ｐ−メチルフェ
ニル、ｍ−メチルフェニル、ｏ−メチルフェニル、2,4
−ジメチルフェニル基等のアリール基；メトキシカルボ
ニルメチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカル
ボニルメチル、エトキシカルボニルエチル基等のアルコ
キシカルボニルアルキル基等が挙げられる。

また、R₁とR₂が互いに結合し、または骨格内のアミノ
基が置換しているベンゼン核と結合して、つぎの環を形
成してもよい。

（なお、これらの環において、R₂、R₃は一般式（Ｉ）の
場合と同じ意味を示す） また、一般式（Ｉ）において、R₃は、水素原子、アル
キル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル
基、ハロゲノアルキル基、水酸基、アルコキシ基、アル
コキシアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲ
ン原子を示し、具体的には、水素原子；メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、iso−プロピル、ｎ−ブチル基等の
アルキル基；メトキシメチル、メトキシエチル、エトキ
シメチル、エトキシエチル基等のアルコキシアルキル
基；ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、２−ヒドロ
キシプロピル、３−ヒドロキシプロピル基等のヒドロキ
シアルキル基；クロロメチル、２−クロロエチル、ジク
ロロメチル、トリフルオロメチル基等のハロゲノアルキ
ル基；水酸基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、
ｎ−ブトキシ基等のアルコキシ基；メトキシメトキシ、
メトキシエトキシ、エトキシメトキシ、エトキシエトキ
シ、ｎ−プロポキシエトキシ基等のアルコキシアルコキ
シ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−
プロポキシカルボニル、iso−プロポキシカルボニル基
等のアルコキシカルボニル基；スルホン酸基；塩素原
子、フッソ原子、臭素原子等のハロゲン原子が挙げられ
る。

同様に一般式（Ｉ）において、Ｘは水素原子、アルキ
ル基、シクロヘキシル基、アルコキシ基、シクロアルコ
キシ基、水酸基、アリール基、アルケニル基、アリール
オキシ基、アルケニルオキシ基、アラルキル基、アラル
キルオキシ基、アルコキシカルボニルアルコキシ基、ア
ルキルカルボニルアルコキシ基、あるいは次の置換基で
あり、 R₄ＯCH_{2 m n}，R₄ＯCH_{2 m n}−Ｏ−R₄−HN
−， （こゝで、R₄、R₅は水素原子、アルキル基、ヒドロキシ
アルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、アルコ
キシアルキル基、シクロアルキル基を示し、ｎ、ｍはそ
れぞれ１〜５の整数を示す） 具体的には、水素原子；メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、iso−プロピル、ｎ−ブチル、iso−ブチル、sec−
ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ
−ヘプチル、ｎ−オクチル基等のアルキル基；シクロペ
ンチル、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；メト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、iso−プロポキシ、
ｎ−ブトキシ、iso−ブトキシ、sec−ブトキシ、ｔ−ブ
トキシ、ｎ−ペンチルオキシ、ｎ−ヘキシルオキシ、ｎ
−ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ基等のアルコキ
シ基；シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ基
等のシクロアルコキシ基；水酸基；フェニル、ｐ−メチ
ルフェニル、ｍ−メチルフェニル、ｏ−メチルフェニル
基等のアリール基;2−ブテニル、２−ペンテニル基等の
アルケニル基；フエノキシ、ｐ−メチルフエノキシ、ｍ
−メチルフエノキシ、ｏ−メチルフエノキシ、2,4−ジ
メチルフエノキシ、2,6−ジメチルフエノキシ、2,4,6−
トリメチルフエノキシ、４−フェニルフエノキシ基等の
アリールオキシ基；プロペノキシ、２−ブテノキシ基等
のアルケニルオキシ等；ベンジル、フェネチル基等のア
ラルキル基；ベンジルオキシ、メチルベンジルオキシ、
フェネチルオキシ基等のアラルキルオキシ基；メトキシ
カルボニルメトキシ、エトキシカルボニルメトキシ、ｎ
−プロポキシカルボニルメトキシ、iso−プロポキシカ
ルボニルメトキシ基等のアルコキシカルボニルアルコキ
シ基；メチルカルボニルメトキシ、エチルカルボニルメ
トキシ基等のアルキルカルボニルアルコキシ；ヒドロキ
シエチル、ヒドロキシエトキシエチル、ヒドロキシエト
キシエトキシエチル、エトキシエトキシエチル、ヒドロ
キシエトキシ、ヒドロキシエトキシエトキシ、ヒドロキ
シプロポキシプロポキシ、ヒドロキシエトキシエトキシ
エトキシ基等のポリエーテル基；アミノ基；メチルアミ
ノ、エチルアミノ、ｎ−プロピルアミノ、ｎ−ブチルア
ミノ、ｎ−ペンチルアミノ、ｎ−ヘキシルアミノ、ｎ−
オクチルアミノ基等のモノアルキルアミノ基；ジメチル
アミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチル
アミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノ、ジオク
チルアミノ等のジアルキルアミノ基；ヒドロキシエチル
アミノ、２−ヒドロキシプロピルアミノ、３−ヒドロキ
シプロピルアミノ基等のモノ（ヒドロキシアルキル）ア
ミノ基；ジ（ヒドロキシエチル）アミノ、ジ（２−ヒド
ロキシプロピル）アミノ、ジ（３−ヒドロキシプロピ
ル）アミノ基等のジ（ヒドロキシアルキル）アミノ基；
ヒドロキシエトキシエチルアミノ、ヒドロキシプロポキ
シエチルアミノ、ヒドロキシプロポキシプロピルアミノ
基等のモノ〔ヒドロキシアルコキシアルキル）アミノ
基；ジ（ヒドロキシエトキシエチル）アミノ、ジ（ヒド
ロキシプロポキシエチル）アミノ、ジ（ヒドロキシプロ
ポキシプロピル）アミノ基等のジ（ヒドロキシアルコキ
シアルキル）アミノ基；メトキシメチルアミノ、メトキ
シエチルアミノ、エトキシメチルアミノ、エトキシエチ
ルアミノ、プロポキシエチルアミノ等のモノ（アルコキ
シアルキル）アミノ基；ジ（メトキシメチル）アミノ、
ジ（メトキシエチル）アミノ、ジ（エトキシメチル）ア
ミノ、ジ（エトキシエチル）アミノ、ジ（プロポキシエ
チル）アミノ基等のジ（アルコキシアルキル）アミノ
基；シクロペンチルアミノ、シクロヘキシルアミノ基等
のシクロアルキルアミノ基が挙げられる。

さらに、一般式（Ｉ）において、Ｙはアルキルカルボ
ニル基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アリー
ルカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコ
キシカルボニルアルキルカルボニル、アルコキシカルボ
ニルアルコキシカルボニル基、またはヘテロ環基を示
す。

具体的には、メチルカルボニル、エチルカルボニル、
ｎ−プロピルカルボニル、ｎ−ブチルカルボニル基等の
アルキルカルボニル基；メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシ
カルボニル基等のアルコキシカルボニル基；フエニル、
ｐ−メチルフェニル、ｍ−メチルフエニル、ｏ−メチル
フェニル基等のアリール基；ベンゾイル、ｐ−メチルベ
ンゾイル、ｍ−メチルベンゾイル、ｏ−メチルベンゾイ
ル基等のアリールカルボニル基；フェノキシカルボニ
ル、ｐ−メチルフェノキシカルボニル、ｍ−メチルフェ
ノキシカルボニル、ｏ−メチルフェノキシカルボニル基
等のアリールオキシカルボニル基；メトキシカルボニル
メチルカルボニル、エトキシカルボニルメチルカルボニ
ル基等のアルコキシカルボニルアルキルカルボニル基；
メトキシカルボニルメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニルメトキシカルボニル等のアルコキシカルボニルア
ルコキシカルボニル基；または下記で表されるヘテロ環
基が挙げられる。

本発明の化合物は、例えば、下記に示した反応径路で
製造することができる。

原料である４−置換アミノサリチルアルデヒド（II）
とシアノメチル置換体を、例えば、メタノール、エタノ
ール、N,N−ジメチルホルムアミド（以下DMFと略す
る）、ジメチルスルホキシドのような極性溶媒中で1:1
で混合したものに、10分の１程度の触媒量の弱塩基を加
える。弱塩基としては、例えば、ピペリジン、ピロリジ
ン、ピリジン、アニリンのようなアミン類が好ましい。

その混合物を０〜80℃で１〜12時間反応させ化合物
（III）を得る。これを５〜20倍量の１〜５重量％の希
塩酸で２〜６時間煮沸すると、化合物（IV）を得る。ま
た、シアノメチル置換体の代わりにアルコキシカルボニ
ルメチル置換体を用いて、上記の方法で反応させると、
化合物（III）を経ることなく化合物（IV）を得ること
ができる。

シアノ化は得られた化合物（IV）を「Dyes and Pigme
nts 1巻,3〜15ページ（1980年）」記載の方法に従い、D
MF中でNaCNと反応させた後に臭素によって酸化すること
によってシアノ体（Ｖ）が得られる。

シアノ体（Ｖ）から新規化合物（Ｉ）を得る方法は、
50〜80重量％の硫酸で70〜100℃に加熱して、シアノ基
を加水分解し、カルボン酸（VI）とした後に、アルコー
ル類、アミノ類、ハロゲン化アルキル類、各種トシレー
ト類、またはフェノール類等と、塩素化剤で、一旦酸ク
ロライドにした後反応させるか、もしくは酸触媒、脱水
剤存在下、または無触媒で加熱する方法があるが、シア
ノ体（Ｖ）と等モル程度の水を含んだアルコール類等の
混合物中に、濃硫酸を滴下し、50〜100℃に加熱して
も、化合物（Ｉ）を直接に得ることができる。また、カ
ルボニルに直接炭素原子を導入するには、通常の方法で
シアノ基にBrMeXのようなグリニヤール試薬を反応させ
ると得られる。

〔作用および効果〕

本発明の４−置換カルボニルクマリン化合物は新規な
化合物であり、光増感剤として新規な有用性の高い化合
物である。

従来、光重合反応を用いた情報記録の分野で、コンピ
ュータによって電子編集された原稿をそのまま直接レー
ザーを用いて出力し記録する方式では、感光層の経時安
定性が低く、また、感度が低く溶解性、保存安定性等に
問題があった。

しかし、本発明の光増感色素を含んだ感光性樹脂組成
物を塗布して得られる感光被膜は、感度およびその経時
安定性に優れており、本発明は、実用上極めて有益なも
のである。

〔実施例〕

以下、実施例によって本発明を詳しく説明する。

例中、部は重量部、％は重量％を示す。

実施例１ ４−ジエチルアミノサルチルアルデヒド20部と２−エ
トキシカルボニルメチルベンゾチアゾール18部にピペリ
ジン１部を加え、エタノール溶媒中で室温で12時間反応
させ、濾別後、結晶をよくエタノールで洗浄、乾燥し
て、３−（ベンゾチアゾ−２−イル）−７−ジエチルア
ミノクマリン32部を得た。

この化合物10部を「Dyes and Pigments 1巻,315ペー
ジ（1980年）」記載の方法に従い、50部のDMF中で懸濁
させ、そこへ30％NaCN水溶液９部を室温で滴下し、その
まま１時間反応させた後、臭素を５部０〜10℃で滴下
し、２時間攪拌し、濾過後良く水洗し、乾燥して、３−
〔ベンゾチアゾ−２−イル〕−４−シアノ−７−ジエチ
ルアミノクマリンを得た。

さらに上記シアノ化体９部を、100部のエタノール中
で98％硫酸21.6部と80℃、３時間反応させ、放冷後300
部の水に排出して中和した。

析出した結晶を濾別後よく水洗、乾燥して、３−〔ベ
ンゾチアゾ−２−イル〕−４−エトキシカルボニル−７
−ジエチルアミノクマリン７部を得た。

融点155〜157℃ 電子スペクトル；吸収極大〔λ_max〕470nm （アセトン中） 元素分析値 Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 65.40 5.21 6.64 （C₂₃H₂₂N₂O₄S） 実測値（％） 65.31 5.33 6.69 NMR スペクトル（δ/ppm）:DMSO−H₆中 1.19（t,6H）,1.35（t,3H）,3.52（q,4H）， 4.55（q,2H）,6.65〜8.15（m,7H）， 赤外線吸収スペクトル（KBr錠）；図−１に示す。

また、上記クマリン化合物５部とポリビニルピロリド
ンをバインダーポリマーとして、100部ペンタエリスリ
トールトリアクリレートを100部、重合開始剤の3,3′,
4,4′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベ
ンゾフエノン４部、メチルセルソルブを1000部を用い
て、感光液を調製し積層銅板上にスピナーを用いて塗布
した。

次いで、キセノンランプおよびアルゴンレーザーによ
って、上記の感光層に光照射したところ、すみやかに樹
脂が硬化することが確認された。

実施例２ ４−ジエチルアミノサルチルアルデヒド20部とシアノ
メチルベンゾチアゾール17.5部にピペリジン１部を加
え、N,N−ジメチルホルムアミド溶媒中で、室温で８時
間時間反応させ、濾別後、結晶をよくエタノールで洗
浄、乾燥して、３−（ベンゾチアゾ−２−イル）−７−
ジエチルアミノクマリン−２−イミン28部を得た。この
化合物を400部の２％塩酸中で８時間煮沸し、３−（ベ
ンゾチアゾ−２−イル）−７−ジエチルアミノクマリン
−２−イミン26部を得た。この化合物を実施例１と同様
の方法でシアノ化し、このシアノ化物９部を70％硫酸中
で100℃、８時間加水分解すると、３−（ベンゾチアゾ
−２−イル）−７−ジエチルアミノクマリン−４−カル
ボン酸8.5部を得た。

これを100部の脱水テトラヒドロフラン中、ジシクロ
ヘキシルカルボイミド４部と室温で１時間反応させ、そ
の後、イソプロピルアルコール4.8部を10℃、30分間で
滴下して、同温度で３時間反応させ、３−（ベンゾチア
ゾ−２−イル）−４−イソプロポキシカルボニル−７−
ジエチルアミノクマリン6.3部を得た。

融点196〜198℃ 電子スペクトル；吸収極大〔λ_max〕470nm （アセトン中） 元素分析値 Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 66.06 5.50 6.42 （C₂₄H₂₄N₂O₄S） 実測値（％） 66.12 5.61 6.33 NMR スペクトル（δ/ppm）:DMSO−H₆中 1.19（t,6H）,1.39（t,6H）,3.52（q,4H）， 5.45（Sep,1H）,6.65〜8.15（m,7H）， 赤外線吸収スペクトル（KBr錠）；図−２に示す。

また、上記クマリン化合物を用い実施例１に示したも
のと同様の組成の感光液を調製して、感光層を形成しキ
セノンランプおよびアルゴンレーザーによって光照射し
たところ、すみやかに樹脂が硬化することが確認され
た。

実施例３ 実施例１と同様の方法で、エステル合成の際の100部
のエタノールの代わりにジエチルグリコールを用い、３
−（ベンゾチアゾ−２−イル）−４−ヒドロキシエトキ
シエトキシカルボニル−７−ジエチルアミノクマリン５
部を得た。

融点145〜146℃ 電子スペクトル；吸収極大〔λ_max〕472nm （アセトン中） 元素分析値 Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） 62.24 5.39 5.81 （C₂₅H₂₆N₂O₆S） 実測値（％） 62.21 5.45 5.72 NMR スペクトル（δ/ppm）:DMSO−d₆中 1.18（t,6H）,3.43（t,4H）,3.52（q,4H）， 3.76（t,2H）,4.22（s,1H）,4.63（t,2H）， 6.65〜8.22（m,7H）， 赤外線吸収スペクトル（KBr錠）；図−３に示す。

実施例４〜27 実施例１の方法に準じて表１に示す化合物を合成し
た。

また、上記クマリン化合物を用い実施例１に示したも
のと同様の組成の感光液を調製して、感光層を形成しキ
セノンランプおよびアルゴンレーザーによって光照射し
たところ、すみやかに樹脂が硬化することが確認され
た。

【図面の簡単な説明】

図面は、実施例で得た本発明の化合物の赤外線吸収スペ
クトルを示し、図−１が実施例１で合成した３−（ベン
ゾチアゾ−２−イル）−４−エトキシカルボニル−７−
ジエチルアミノクマリンの赤外線吸収スペクトルを示
し、図−２が実施例２で合成した３−（ベンゾチアゾ−
２−イル）−４−イソプロポキシカルボニル−７−ジエ
チルアミノクマリンの赤外線吸収スペクトルを示し、図
−３が実施例３で合成した３−（ベンゾチアゾ−２−イ
ル）−４−ヒドロキシエトキシエトキシカルボニル−７
−ジエチルアミノクマリンの赤外線吸収スペクトルを示
す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０８Ｆ 2/50 ＮＤＮ Ｇ０３Ｆ 7/031 (72)発明者 加藤 公敏 福岡県大牟田市淨真町116番地 (56)参考文献 特開 昭63−23901（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−48857（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−43562（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−223759（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−200880（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−200785（ＪＰ，Ａ) 米国特許4698286（ＵＳ，Ａ) 米国特許4289844（ＵＳ，Ａ) Ｊ．Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．，35［１］, （1986）Ｐ．33−46 Ｄｙｅｓ Ｐｉｇｍ．，［１］, （1980）Ｐ．３−15 Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｚｅｔｔ．，25 ［12］，（1974），Ｐ．723−725 Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，32 ［10］，（1984），Ｐ．3926−3933 Ｐｏｌｙｍ．Ｅｎｇ．Ｓｃｉ．，29［14 ］，（1989），Ｐ．945−949

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（Ｉ） 〔式中、R₁、R₂はそれぞれ同一または独立に水素原子、
   アルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、ヒ
   ドロキシアルキル基、アラルキル基、アリール基、アル
   コキシカルボニルアルキル基を示し、互いに結合する
   か、骨格内のアミノ基の置換したベンゼン核と結合して
   環を形成していてもよく、R₃は、水素原子、アルキル
   基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハ
   ロゲノアルキル基、水酸基、アルコキシ基、アルコキシ
   アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子
   を示し、Ｘは水素原子、アルキル基、シクロアルキル
   基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、水酸基、アリ
   ール基、アルケニル基、アリールオキシ基、アルケニル
   オキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、アルコ
   キシカルボニルアルコキシ基、アルキルカルボニルアル
   コキシ基、あるいは次の置換基を示す。 R₄ＯCH_{2 m n}，R₄ＯCH_{2 m n}−Ｏ−，R₄−HN
   −， （こゝで、R₄、R₅は水素原子、アルキル基、ヒドロキシ
   アルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、アルコ
   キシアルキル基、シクロアルキル基を示し、ｎ、ｍはそ
   れぞれ１〜５の整数を示す）。Ｙはアルキルカルボニル
   基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アリールカ
   ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシ
   カルボニルアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニ
   ルアルコキシカルボニル基、または次の何れかのヘテロ
   環基を示す。 〕で表される４−置換カルボニルクマリン化合物。