JPH08180307A

JPH08180307A - 磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH08180307A
Application number: JP31696794A
Authority: JP
Inventors: Hironari Eguchi; 裕也江口
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1994-12-20
Filing date: 1994-12-20
Publication date: 1996-07-12

Abstract

(57)【要約】【目的】高い飽和磁束密度Ｂｓと高い透磁率を有する
と共に、再生時に再生波形にうねりが生ぜず、高出力の
得られる磁気ヘッドを提案する。【構成】トラック幅方向に垂直な方向の厚みＷががト
ラック幅Ｔより大きい強磁性金属膜からなる一対の磁気
コア４ａ、４ｂを有する磁気ヘッドにおいて、一対の磁
気コア４ａ、４ｂはギャップ面（ギャップＧの面）及び
媒体対向面Ｐに略平行な一軸異方性を有する。一対の磁
気コア４ａ、４ｂは、金属磁性膜及び非磁性膜を交互に
積層した静磁結合膜から構成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば、映像信号、音
声信号、データ等の記録再生装置の回転磁気ヘッドに適
用して好適な磁気ヘッドであって、特に、高密度記録の
可能な磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】最近は、例えば、映像信号、音声信号、
データ等の記録再生装置では、記録信号の高密度化や高
周波数化等が進められている。このために、磁気記録媒
体、即ち、磁気テープとしては、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の
強磁性金属の粉末をベースフィルムに塗布した所謂メタ
ルテープや、これらの強磁性金属材料を蒸着によりベー
スフィルムに被着した所謂蒸着テープ等が使用されるよ
うになった。この種の磁気テープは高い残留磁束密度Ｂ
ｒと高い保磁力Ｈｃを有するので、かかる磁気テープに
対し記録再生を行う磁気ヘッドの方も、高い飽和磁束密
度Ｂｓと高い透磁率を有する磁性材料を採用することが
強く要求されるようになって来た。

【０００３】そこで、かかる高い飽和磁束密度Ｂｓと高
い透磁率を有する磁性材料からなる磁気ヘッドとして、
セラミックス等の非磁性基板上に磁気コアとなる強磁性
金属膜を形成し、これをトラック部分とした所謂ラミネ
ート型の磁気ヘッドや、磁性フェライト基板に金属膜を
被着形成してギャップ部に金属磁性膜を有するようにし
た所謂ＭＩＧヘッド等の所謂メタルヘッドが提案されて
いる。又、磁気コアを小型化してそのインダクタンスを
小さくし、その分、卷線数を増やしてより高出力にした
磁気ヘッドも提案されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】さて、ＭＩＧヘッド以
外のメタルヘッドでは、磁気コアが金属膜のみで形成さ
れているが、通常膜面内で磁束が一周することになるか
ら、透磁率が等方に近い方が良いため、高透磁率が得ら
れる一軸異方性膜はその高透磁率性を充分に利用できな
い。

【０００５】一方、磁気コアが小さく、しかも、一軸異
方性を利用した磁気ヘッドとしてはハードディスクに使
用される誘導型の薄膜ヘッドがあるが、上層又は下層コ
アのエッジがギャップから数μｍ程度のところにギャッ
プと平行にあるため、再生時に再生波形にウネリ生じ
（これはコンター効果と呼ばれている）、磁気記録再生
装置の種類によっては不向きな場合ある。

【０００６】かかる点に鑑み、本発明は、高い飽和磁束
密度と高い透磁率を有すると共に、再生時に再生波形に
うねりが生ぜず、高出力の得られる磁気ヘッドを提案し
ようとするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】第１の本発明は、トラッ
ク幅方向に垂直な方向の厚みＷががトラック幅Ｔより大
きい強磁性金属膜からなる一対の磁気コア４ａ、４ｂを
有する磁気ヘッドにおいて、一対の磁気コア４ａ、４ｂ
はギャップ面及び媒体対向面Ｐに略平行な一軸異方性を
有することを特徴とする磁気ヘッドである。

【０００８】第２の本発明は、第１の本発明において、
一対の磁気コア４ａ、４ｂは、金属磁性膜及び非磁性膜
を交互に積層した静磁結合膜から構成されてなることを
特徴とする磁気ヘッドである。

【０００９】

【作用】第１の本発明によれば、一対の磁気コア４ａ、
４ｂはギャップ面及び媒体対向面Ｐに略平行な一軸異方
性を有するので、高い飽和磁束密度Ｂｓと高い透磁率を
有すると共に、再生時に再生波形にうねりが生ぜず、高
出力が得られる。

【００１０】

【実施例】図１を参照して、本発明の実施例の磁気ヘッ
ドを説明する。Ｈはこの磁気ヘッドを全体として示す。
この磁気ヘッドＨは、トラック幅方向に垂直な方向の厚
みＷがトラック幅Ｔより大きい強磁性金属膜からなる磁
気コア４ａ、４ｂを有し、その磁気コア４ａ、４ｂはギ
ャップ面（ギャップＧの面）及び媒体対向面（磁気テー
プ対接面）Ｐに略平行な一軸異方性を有する。その磁気
コア４ａ、４ｂは、金属磁性膜及び非磁性膜を交互に積
層した静磁結合膜から構成されている。尚、ギャップＧ
は磁気ヘッドＨの厚み方向に略一致する。

【００１１】この磁気コア４ａ、４ｂは面対称な形状を
有し、そのギャップＧにはガラス等の薄い非磁性のギャ
ップ充填部材１０が充填されている。図１では図示して
いないが、磁気コア４ａ、４ｂの中間部には、それぞれ
互いに衝合する極く僅かに突出する突出部が設けられ、
その一方の突出部にコイルが巻装されている。又、磁気
コア４ａ、４ｂの下端部にも、それぞれ互いに衝合する
極く僅かに突出する突出部が設けられている。

【００１２】１ａ、１ｂは非磁性フェライト、セラミッ
クス、結晶化ガラス等からなる互いに面対称な形状を有
する非磁性基板で、ギャップＧと略垂直な方向から一対
の磁気コア４ａ、４ｂを挟む如くその両側に位置してい
る。そして、これら非磁性基板１ａ、１ｂと一対の磁気
コア４ａ、４ｂとの間に、磁気コア４ａ、４ｂをそのギ
ャップＧと略同方向に各別に挟むガラス等からなる線対
称な形状を有する充填部材２ａ、２ｃ；２ｂ、２ｄ及び
磁気コア４ａ、４ｂのギャップＧ付近をそのギャップＧ
と略同方向に挟むガラス等からなる面対称な形状を有す
る充填部材３ａ、３ｂが配されて一体化される。

【００１３】これら非磁性基板１ａ、１ｂ及び充填部材
２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ；３ａ、３ｂが、一対の磁気コ
ア２ａ、２ｂの磁気テープ対向面（対接面）Ｐを含め
て、全体として、例えば、円柱面の磁気テープ対向面
（対接面）とされる。

【００１４】一対の磁気コア４ａ、４ｂは、上述したよ
うに金属磁性膜及び非磁性膜を交互に積層した静磁結合
膜から構成されるが、その金属磁性膜は、高飽和磁束密
度を有し、且つ、軟磁気特性に優れた強磁性合金材料が
使用され、これは結晶質でも非晶質であっても良い。

【００１５】使用可能な強磁性合金材料としては、例え
ば、Fe-Al-Si系合金、Fe-Si-Co系合金、Fe-Ni 系合金、
Fe-Al-Ge系合金、Fe-Ga-Ge系合金、Fe-Si-Ge系合金、Fe
-Si-Ga系合金、Fe-Si-Ga-Ru 系合金、Fe-Co-Si-Al 系合
金等が挙げられる。耐蝕性や耐磨耗性等の一層の向上を
図るために、上述の各合金材料に、例えば、Ti、Cr、M
n、Zr、Nb、Mo、Ta、Ｗ、Ru、Os、Rh、Ir、Re、Ni、P
d、Pt、Hf、Ｖ等の任意の１種類又は任意の複数種類を
添加することができる。

【００１６】又、強磁性非晶質金属合金材料としては、
所謂アモルファス合金材料（例えば、Fe、Ni、Coのうち
の１つ以上の元素と、Ｐ、Ｃ、Ｂ、Siのうちの１つ以上
の元素とからなる合金、又は、これらを主成分としてA
l、Ge、Be、Sn、In、Mo、Ｗ、Ti、Mn、Cr、Zr、Hf、Nb
等のうちの１つ以上を含んだ合金等のメタル−メタロイ
ド系アモルファス合金、又は、Co、Hf、Zr等のうちの１
つ以上の遷移元素や希土類元素等を主成分とするメタル
−メタル系アモルファス合金）等が挙げられる。

【００１７】静磁結合膜を構成する非磁性膜の材料は、
例えば、Cr、Ti、Ｗ、Ptなどの非磁性金属や SiO₂、Al
₂O₃ 等の酸化物やSiN 等の窒化物である。

【００１８】かかる静磁結合膜の成膜方法としては、膜
厚制御性に優れたスパッタリング法、真空蒸着法、イオ
ンプレーティング法、イオンビーム法等に代表される真
空薄膜形成技術が採用され、又、メッキ技術による成膜
も可能である。

【００１９】以下に、図２及び図３を参照して、かかる
磁気ヘッドの製造方法を説明する。図２Ａに示す如く、
非磁性フェライト、セラミックス、結晶化ガラス等の非
磁性基板１を用意する。図２Ｂに示す如く、この非磁性
基板１上に、金属磁性膜及び非磁性膜を交互に積層した
静磁結合膜４を形成する。この場合、矢印ｍの方向が磁
化容易軸となるように、磁場中膜作製や磁場中アニール
等により異方性を付与する。

【００２０】次に、図２Ｃに示す如く、非磁性基板１上
の静磁結合膜４に、フォトエッチング等により、磁化容
易軸ｍと略直交する方向に延在し、非磁性基板１の所定
深さまで達する所定幅の複数の溝５を所定間隔を置いて
平行に形成する。非磁性基板１上に残存する静磁結合膜
４の幅は、溝５の幅より狭くなっている。そして、静磁
結合膜４の残存部分の表面と同一平面を構成する如く、
各溝５内に、例えば、ガラスからなる充填部材２を充填
する。

【００２１】次に、図２Ｄに示す如く、各溝５内の各充
填部材２に、フォトエッチング等により、磁化容易軸ｍ
と略直交する方向に延在し、各溝５の幅より狭く、各溝
５の深さより浅い所定幅及び所定深さの複数の溝と、こ
の複数の溝と略直交し、同じ深さの２本の溝とからなる
格子状の溝６を形成して、それぞれ静磁結合膜４の細い
部分及びその両側の充填部材２からなる２列の複数の島
状領域７を形成する。

【００２２】次に、図２Ｅに示す如く、２列の島状領域
のうちの一方の列の各島状領域７の周囲９を巻装する如
く、薄膜技術によりコイル８を形成する。そして、図３
に示す如く、図２Ｄに示す板状体及び図２Ｅに示す板状
体を、その各対応する島状領域７が対向するように接合
合体する。この場合、２つの板状体のコイル７の巻装さ
れた部分の上側の溝にガラス等のギャップ充填部材１０
を充填する。そして、この２つの板状体が合体されて得
られたブロックの上面（ギャップ充填部材１０の充填さ
れた側の面）を、２つの板状体の接合部が略母線方向と
一致する円筒面となるように研磨し、しかる後、このブ
ロックを接合部と略直交する方向で、充填部材２を２分
する如く、切断線９を以て切断することによって、図１
に示した磁気ヘッドＨを得る。

【００２３】因みに、一対の磁気コア４ａ、４ｂとして
単に金属磁性膜を用いた場合には、形状異方性のため図
２Ｃの工程で、磁化はトラック幅方向に対し垂直な方向
に向いてしまうが、実施例のように静磁結合膜を用いる
ときは、磁化容易軸をトラック幅方向に保ことができ
る。

【００２４】又、実施例のように、薄膜技術によって、
コイル８を磁気コア４ａ、４ｂに巻装することから、メ
タルヘッドに比べて磁路を小さくすることができ、イン
ダクタンスが小さい分、巻線数を多くすることができる
ので、高出力の磁気ヘッドが得られる。

【００２５】更に、一対の磁気コア４ａ、４ｂにトラッ
ク幅方向が磁化容易軸となるように異方性が付与されて
いるので、磁束が流れる方向が常に一軸異方性と略垂直
になるため、ヘッド効率が高まり、高出力が得られる。
しかも、一対の磁気コア４ａ、４ｂの記録媒体（磁気テ
ープ）に相対する磁気ヘッドの面Ｐにおいては、そのエ
ッジがギャップＧより十分遠いため、従来の薄膜ヘッド
のようなコンター効果は生じない。

【００２６】

【発明の効果】上述せる第１の本発明によれば、トラッ
ク幅方向に垂直な方向の厚みがトラック幅より大きい強
磁性金属膜からなる一対の磁気コアを有する磁気ヘッド
において、一対の磁気コアはギャップ面及び媒体対向面
に略平行な一軸異方性を有するので、高い飽和磁束密度
Ｂｓと高い透磁率を有すると共に、再生時に再生波形に
うねりが生ぜず、高出力の得られる磁気ヘッドを得るこ
とができる。

【００２７】上述せる第２の本発明によれば、第１の本
発明において、一対の磁気コアは、金属磁性膜及び非磁
性膜を交互に積層した静磁結合膜からなるので、第１の
効果に加えて、はギャップ面及び媒体対向面に略平行な
一軸異方性を有する一対の磁気コアを備えた磁気ヘッド
を容易且つ確実に得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例の磁気ヘッドを示す斜視図

【図２】実施例の磁気ヘッドの製造方法を示す工程図

【図３】実施例の磁気ヘッドの製造方法の最終工程を示
す斜視図

【符号の説明】

Ｈ磁気ヘッドＧギャップＰ媒体対向面１ａ非磁性基板１ｂ非磁性基板１非磁性基板２ａ充填部材２ｂ充填部材２ｃ充填部材２ｄ充填部材２充填部材３ａ充填部材３ｂ充填部材３充填部材４ａ磁気コア（静磁結合膜）４ｂ磁気コア（静磁結合膜）４静磁結合膜５溝６溝７島状領域８コイル９切断線１０ギャップ充填部材

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】トラック幅方向に垂直な方向の厚みがト
ラック幅より大きい強磁性金属膜からなる一対の磁気コ
アを有する磁気ヘッドにおいて、上記一対の磁気コアはギャップ面及び媒体対向面に略平
行な一軸異方性を有することを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】請求項１に記載の磁気ヘッドにおいて、上記一対の磁気コアは、金属磁性膜及び非磁性膜を交互
に積層した静磁結合膜から構成されてなることを特徴と
する磁気ヘッド。