JPH08166207A - 気流安定装置 - Google Patents

気流安定装置

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JPH08166207A
JPH08166207A JP6310500A JP31050094A JPH08166207A JP H08166207 A JPH08166207 A JP H08166207A JP 6310500 A JP6310500 A JP 6310500A JP 31050094 A JP31050094 A JP 31050094A JP H08166207 A JPH08166207 A JP H08166207A
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optical path
air
rotating body
rotating
air flow
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JP6310500A
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Hideaki Hara
英明 原
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Original Assignee
Nikon Corp
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature

Abstract

(57)【要約】 【目的】 レーザビーム等の光ビームの光路上の気流に
淀みや渦が生じないように安定させる。 【構成】 レーザ干渉計の送受光系6の移動鏡11aに
対向する前面側の近くに、円柱状の回転体18aを設け
る。送受光系6から移動鏡11aの方向に気流16で示
すように送風系から空気を送り、回転体18aをレーザ
ビームの光路23とほぼ垂直な回転中心軸を中心にして
回転させ、送受光系6の後方のレーザビームの光路23
上の気流16を層流にし、空気の淀み及び渦16aを光
路23の下側に生じさせる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザビーム等の光ビ
ームの光路の周辺を流れる気流を安定化させる気流安定
装置に関し、特に半導体製造装置及び半導体検査装置に
使用されるレーザ干渉計等に適用して好適なものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、各種の分野に使用される光学装置
には、観測用、露光用或いは計測用等として波長の長い
ものから波長の短いものまで様々な光ビームが用いられ
ている。これらの光ビームの光路長の時間による変動は
ないことが望ましいが、実際には光路中に介在する空気
等の気体のゆらぎにより光路長が変動する。特に露光装
置のレチクルステージ及びウエハステージの位置計測用
のレーザ干渉計等では周辺の空気のゆらぎにより光路長
が変動すると、計測値の誤差が生じ、レチクルのパター
ンの転写精度が低下する。そのため、光路中に介在する
気体のゆらぎの影響を回避する方法が求められている。
【0003】ここで、簡単に従来の露光装置におけるウ
エハを載置するウエハステージの周辺の構成について簡
単に説明する。レチクル上の回路パターンが露光光によ
り転写されるウエハは、ウエハの平面に平行で互いに直
交するX軸及びY軸方向に自在に移動するXYステージ
を含むウエハステージ上に搭載され、そのX軸上及びY
軸上の位置は、それぞれウエハステージの周辺に配置さ
れたX軸用及びY軸用のレーザ干渉計により検出され
る。ウエハステージ上にはX軸用及びY軸用のレーザ干
渉計からのレーザビームを反射する移動鏡が個別に設け
られている。
【0004】また、ウエハステージの周辺では、特にウ
エハステージを移動させる駆動モータ等の発熱により回
りの空気が加熱され、X軸用及びY軸用レーザ干渉計か
らそれぞれの移動鏡に向かうレーザビームの光路の周辺
の空気が加熱され、レーザ干渉計の精度が悪化する。そ
のため、例えばY軸用レーザ干渉計の後方に空調装置か
らの送風口等の送風系が配置され、その送風系からY軸
にほぼ平行に温度制御された空気が流されて、X軸用及
びY軸用レーザ干渉計のそれぞれの光路周辺の空気の温
度が制御されている。また、空気の流れの方向は、モー
タや各種光源等の発熱体を搭載するウエハステージがY
軸用のレーザ干渉計の下流側になるように設計されてい
る。
【0005】図7は、従来のレーザ干渉計周辺の空気の
流れを示す図であり、この図7において、Y軸用のレー
ザ干渉計の送受光系6から不図示のステージに固定され
た移動鏡11aに向けてレーザビームが照射され、移動
鏡11aで反射されたレーザビームが送受光系6に戻っ
ている。なお、送受光系6は、レーザ光源からのレーザ
ビームを移動鏡11a側に向ける光学系と、移動鏡11
aからのレーザビームと不図示の参照レーザビームとの
干渉光を光電変換する受光素子と、これらの部材を支持
する枠体(ブロック)を含むものである。双方向の矢印
で示される光路23はレーザビームの往復の光路を示
す。また、送受光系6の後方(図7の紙面の+Y方向)
に配置された不図示の送風系から送受光系6の前方(−
Y方向)に向けて気流16で示すように温度調節された
空気が送風されている。
【0006】以上のようなウエハステージの構成では、
X軸用及びY軸用のレーザ干渉計からのそれぞれのレー
ザ光は直交する2方向に進行するので、何れか一方のレ
ーザ光は空気の流れる方向に平行に進み、他方は空気の
流れる方向に直交する方向に進む。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】以上の従来技術によれ
ば、レーザ光の光路は送光光学系であるX軸用及びY軸
用レーザ干渉計とウエハステージに搭載された移動鏡と
に挟まれた空間に存在するので、Y軸用のレーザ干渉計
のように光路の方向と空気の流れの方向とが一致する場
合には、空気の流れはレーザ干渉計に遮られてしまい、
レーザ干渉計本体部の下流では空気の流れは乱流となり
渦や淀みが発生するという不都合がある。
【0008】即ち、図7の従来例において、送風系から
の空気は気流16で示されるように送受光系6により流
れが妨げられ、一旦送受光系6本体の周辺を回って送受
光系6の前方で曲線の矢印16cで示すような渦や淀み
が発生する。空気の渦や淀みは、空気温度のむらや変動
を生じさせる要因となり、これにより屈折率分布が変動
してレーザ干渉計の計測精度が悪化する。言い換える
と、単に温度調節された空気を送風するだけでは、光路
長変動を十分に小さくすることができない。そのため、
これらの渦や淀みの発生を防ぎ、レーザ光路の空気の流
れを層流にするための手段として、局所的な送風を補助
的に用いるという方法も実施されているが、複数の送風
系により干渉計の周辺の空気の温度差を低減する方法に
は限界があり、十分な性能が得られていない。
【0009】本発明は斯かる点に鑑み、光ビームの光路
上に送風される気体による渦や淀みを光ビームの光路上
に発生させず、光ビームの光路上の空気の流れを層流に
保つことができる気流安定装置を提供することを目的と
する。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明による気流安定装
置は、例えば図1及び図2に示すように、光ビームの光
路(23)上に送風される気体の流れ(16)を妨げる
物体(6)の風下側に、その光ビームの光路(23)に
近接させて回転体(18a)を設けたものである。
【0011】この場合、その回転体は、その光ビームの
光路(23)を挟むようにして配置され、且つその光ビ
ームの光路(23)にほぼ直交する回転軸(12a,1
2b)を有する一対の回転体(18a,18b)である
ことが好ましい。また、その回転体は、軸対称性を有す
る回転体(18a,18b)であることが好ましい。
【0012】更に、その回転体は、例えば図6に示すよ
うに、その表面の一部又は全体に凹凸(31)が形成さ
れたものであることが好ましい。また、その気体は、温
度制御されていることが好ましい。
【0013】
【作用】斯かる本発明の気流安定装置によれば、例えば
図2に示すように、物体(6)の風下側に設けた回転体
(18a)を回転させることにより、気体の流れ(1
6)が淀み、又は渦になる部分が光ビームの光路(2
3)外に移動し、光ビームの光路(23)上の気体の流
れ(16)が層流になり、光ビームの光路(23)が気
流により乱されることがない。
【0014】例えば、回転体(18a)が回転せず、静
止している場合には、その回転体の回転面に沿うように
して流れてきた気体は、その回転体から離れるように前
方に流れる。気体の流れ(16)がその回転体から離れ
る点(特異点)はその回転体の中心軸を通り、気体の流
れに平行な平面(以下、「中心平面」という)とその回
転体の側面との交わる線上に存在し、渦や淀みは中心平
面を中心にしてほぼ対称に発生するので、光ビームの光
路(23)が中心平面上にある場合には光ビームの光路
(23)上には渦や淀みが存在することになる。
【0015】そこで、例えば回転体(18a)の上面が
気体の流れ(16)の向きとほぼ一致するようにその回
転体を回転させると、気体の粘性によりその回転体の回
りに循環流が発生し、特異点は中心平面よりも下方に移
動する。また、同時に特異点付近の気体の流れの向きは
やや下向きになっているので、気体の渦や淀みは特異点
より下に多く分布するようになる。従って、中心平面上
の気体の流れは層流になる。回転体(18a)の回転方
向を逆にすれば、気体の渦や淀みは中心平面より上方に
移動し、中心平面上はやはり層流になる。
【0016】また、回転体が、例えば図3に示すよう
に、光ビームの光路(23)を挟むようにして配置さ
れ、且つその光ビームの光路(23)にほぼ直交する回
転軸(12a,12b)を有する一対の回転体(18
a,18b)である場合には、例えばそれら回転体を同
一方向に回転させれば、光ビームの光路(23)の両側
の気体の流れ(16)に対して、光路(23)と同一方
向の力(気体の粘性による粘性抵抗力)が作用するた
め、気体の渦や淀みの分布が多い位置が光ビームの光路
(23)からより遠い位置に移動して、光ビームの光路
(23)上の気体の流れが安定する。
【0017】また、回転体が軸対称性を有する回転体
(18a,18b)である場合には、それら回転体の回
転面の回転方向の速度にむらがなく、回転面に沿って流
れる気体に対して均一な影響を与えるため、気体の流れ
が安定する。また、例えば図6に示すように、回転体が
その表面の一部又は全体に凹凸(31)が形成されたも
の(30a,30b)である場合には、気体の流れが安
定する。即ち、回転体の回転面が滑らかな場合は、気体
の流れが剥離する特異点の位置が安定せず、気体の流れ
に変動が生じるが、回転面に凹凸が形成されていると、
特異点が安定し、気体の流れが安定すると共に、気体の
淀みや渦が生じる位置が安定する。
【0018】
【実施例】以下、本発明による気流安定装置の一実施例
につき、図1〜図3を参照して説明する。本実施例は、
本発明の気流安定装置を露光装置のウエハステージ用の
レーザ干渉計に適用したものである。図1は、本例の露
光装置に使用されるウエハステージの斜視図を示し、こ
の図1において、ウエハ14上に露光用の照明光によ
り、不図示のレチクル上の回路パターンが不図示の投影
光学系を介して転写される。ここで、不図示の投影光学
系の光軸に平行にZ軸を取り、Z軸に垂直な平面内の直
交座標系をX軸、Y軸とする。
【0019】図1において、ウエハ14はウエハホルダ
15上に真空吸着により保持されている。また、ウエハ
ホルダ15は、X方向に移動可能なX軸ステージ1上に
載置され、X軸ステージ1は、Y方向に移動可能なY軸
ステージ2上に載置されている。Y軸ステージ2は、送
りねじ10を介してY軸用駆動モータ4によりベース8
に対して相対的にY方向に駆動され、X軸ステージ1
は、送りねじ9を介してX軸用駆動モータ3によりY軸
ステージ2に対して相対的にX方向に駆動される。
【0020】更に、X軸ステージ1の+X方向の側面中
央近くにはX軸用のレーザ干渉計の送受光系5が配置さ
れ、それに対応してX軸ステージ1の+X方向の端部に
は送受光系5からのレーザビームを反射する移動鏡11
bが設けられて、送受光系5からの検出信号を不図示の
信号処理装置で処理することによりウエハ14のX座標
値が測定され、そのX座標値は主制御系7に供給され
る。送受光系5から射出されるレーザビームの光路を光
路24で示す。一方、ウエハ14のY座標値は、X軸ス
テージ1の+Y方向に配置されたY軸用のレーザ干渉計
の送受光系6と、それに対応してX軸ステージ1の+Y
方向の端部に設けられた移動鏡11aとにより測定され
る。Y座標値も主制御系7に供給され、主制御系7は計
測された座標値に基づいて駆動モータ3,4の動作を制
御する。送受光系6から射出されるレーザビームの光路
を光路23で示す。なお、送受光系5,6は共に、不図
示のレーザ光源からのレーザビームを移動鏡に向ける光
学系と、その移動鏡からのレーザビームと不図示の参照
ビームとの干渉光を光電変換する受光素子と、これらの
部材を支持する枠体(ブロック)を含むものである。
【0021】また、本例では、Y軸用のレーザ干渉計の
送受光系6の後方(+Y方向)に、不図示の空調装置に
連通する送風口22が配置されており、送風口22か
ら、ウエハステージに向けて温度調整され、高度に清浄
化された空気が気流16で示すように、ほぼY方向に平
行に供給されている。そして、Y軸用のレーザ干渉計の
送受光系6と移動鏡11aとの間には、気流を安定させ
るための気流安定装置17が配置されている。この気流
安定装置17につき図1〜図3を参照して説明する。
【0022】図2は、図1のY軸用のレーザ干渉計の送
受光系6の周辺の拡大側面図を示し、図3は、図2の平
面図を示している。図2では、気流安定装置17の一方
の回転体18aを示す。図2に示されるように、送受光
系6は支持足6aを介して固定台29の上に設置されて
いる。この送受光系6のウエハステージに対向する面の
近傍に気流安定装置17が配置されている。図3に示す
ように、気流安定装置17は、一対のほぼ円柱状の回転
体18a,18b、回転体18a,18bのそれぞれの
回転軸25a,25bを支える軸受け台26a,26
b、及び回転体18a,18bを回転軸25a,25b
を介してそれぞれ回転駆動する駆動モータ27a,27
b等から構成されている。
【0023】図3において、一対の回転体18a,18
bは、互いにレーザビームの光路23を挟むようにして
設けられており、光路23を遮らない形で且つそれぞれ
の回転体の端面が光路23の近傍に来るように配置され
ている。回転体18a,18bは、一点鎖線で示すそれ
ぞれの回転中心軸12a,12bが、レーザビームの光
路23にほぼ垂直で、X軸にほぼ平行になるように、且
つ、その回転中心軸12a,12bと光路23とはほぼ
同じ高さ(Z方向の位置)になるように配置されてい
る。また、回転体18a,18bは、送受光系6の縦方
向(Z方向)の長さとほぼ同程度の大きさの直径を有
し、それぞれ駆動モータ27a,27bにより回転して
光路23の周辺の気流を安定させる。なお、回転体18
a,18bの形及び大きさに制限はなく、また、回転体
18a,18bの回転中心軸12a,12bの高さ(Z
方向の位置)は上述の配置位置に制限されるものではな
い。
【0024】回転体18a,18bを構成する材料に特
に制限はないが、空気等の気体との粘性抵抗が大きなも
の程好ましく、金属、非金属、樹脂、及びゴム等の材料
の内から、使用される気体との粘性抵抗が大きく、耐久
性及び非剥離性に優れたものが選択される。また、それ
らの材料を適当な部材の表面に張り付けたものを用いて
もよい。また、一例として送風口22からの空気の送風
速度が300mm/sec程度の場合、回転体18a,
18bの直径が100mm程度であるとき、その回転速
度は300〜2,000rpm程度である。
【0025】次に、本例の気流安定装置17の動作につ
き図1〜図3を参照して説明する。図2において、送受
光系6の後方(−Y方向)に配置された図1の送風口2
2からの空気は、気流16に示されるように、送受光系
6に流れを遮られて、送受光系6の周囲を迂回する形
で、送受光系6の前方に流れてくる。図3に示されるよ
うに送受光系6の前面側には、レーザビームの光路23
の両側に、光路23を挟むようにして一対の回転体18
a,18bが配置されている。送受光系6を迂回して、
送受光系6の前方に回り込むように流れてきた空気は、
空気の流れる向き(図2では、時計回り)に回転する回
転体18a,18bの回転面に沿うようにして流れる。
【0026】回転体18a,18bが回転せず、静止し
ている場合には、回転体18a,18bの回転面に沿う
ようにして流れてきた空気は、回転体18a,18bか
ら離れるように前方に流れる。空気の流れが回転体18
a,18bから離れる点(特異点)は回転体18a,1
8bのそれぞれの回転中心軸12a,12bを通り、空
気の流れに平行な平面(中心平面)と回転体18a,1
8bの側面との交わる線上に存在し、渦や淀みは中心平
面を中心にしてほぼ対称に発生するので、レーザ光路が
中心平面上にある場合にはレーザ光路上には渦や淀みが
存在することになる。
【0027】回転体18a,18bの上面が空気の流れ
の向きとほぼ一致するように回転体18a,18bを回
転させると、空気の粘性により回転体18a,18bの
回りに循環流が発生し、特異点は中心平面よりも下方に
移動する。また、同時に特異点付近の空気の流れの向き
はやや下向きになっているので、渦や淀みは特異点より
下に多く分布するようになる。従って、中心平面上の空
気の流れは層流になる。回転方向を逆にすれば、渦や淀
みは中心平面より上方に移動し、中心平面上は層流にな
る。なお、中心平面はレーザビームの光路23と一致す
る必要はなく、要はレーザビームの光路で層流になれば
よい。
【0028】また、回転体18a,18bはレーザ光路
を妨げないよう、光路を挟んで一対の形で設置される
が、レーザ光路上の気流は、回転体18a,18bより
やや下流の地点を起点として移動鏡11aの近くまでの
範囲21Aにおいて層流に保たれる。移動鏡11aの近
傍では、気流16が移動鏡11aの面に当たって乱れを
生じるため、層流とはならない。
【0029】図2に示されるように、回転体18aの後
方でレーザビームの光路23の下側において、気流が乱
れ、渦流16aが生じる。渦流16aの分布は、気流1
6の速度、回転体18a,18bの大きさ、形、及び配
置或いは回転速度及び回転方向等の条件により決定され
るので、レーザビームの光路23上の気流16が層流で
且つ気流16の乱れによる空気の淀みや渦流が光路23
上で生じないようにそれらの条件を設定する。
【0030】なお、露光装置のウエハステージでは、計
測精度を上げると共にウエハステージのXY平面上での
回転角を求めるため、X方向又はY方向の位置を測定す
るレーザ干渉計を複数個配置している。本例でも図示さ
れていないがY軸用のレーザ干渉計がもう1系列配置さ
れている。ウエハステージ上の気流の方向としては、通
常レーザ干渉計の台数が多い方のレーザ干渉計のレーザ
ビームの光路方向が選択される。その意味から、本例で
もY軸用のレーザ干渉計の送受光系6からの光路23に
沿って送風されている。従って、X軸用のレーザ干渉計
の送受光系5からのレーザビームの光路24と送風口2
2から送風される空気の流れは直交し、X軸用のレーザ
干渉計の計測値は安定である。
【0031】以上、本例の気流安定装置17によれば、
Y軸用の送受光系6の本体からX軸ステージ1上の移動
鏡11aに至るレーザビームの光路23上における気流
16は層流で、気流16の乱れによる渦流や空気の停滞
が光路23上で生ずることはなく、送受光系6の本体の
計測精度が気流の乱れにより低下することはない。ま
た、気流安定装置17を設置することにより、X軸用の
送受光系5の本体から移動鏡11bに至るレーザビーム
の光路24上の気流が影響されることはなく、X軸用の
送受光系5による計測精度も高精度に保たれる。
【0032】次に、本発明の気流安定装置の他の実施例
について、図4を参照して説明する。本例は、図1の実
施例の円柱状の回転体18a,18bの代わりに円錐台
形の回転体19a,19bを用いたもので、その他の構
成は図1の実施例と同様であり、同様箇所には、同一符
号を付しその説明を省略する。
【0033】図4は、本例の気流安定装置の周辺構成を
示し、図4において、図1の実施例の回転体18a,1
8bと同様な大きさを有する一対の円錐台形の回転体1
9a,19bが、送受光系6の前面側に図1の実施例の
回転体18a,18bと同様にレーザビームの光路23
を挟むようにして配置されている。回転体19a,19
bは、図4中一点鎖線で示される回転体19a,19b
のそれぞれの回転中心軸28a,28bが、送受光系6
からの光路23とほぼ垂直になるように配置されてお
り、回転体19a,19bは、回転中心軸28a,28
bを中心として上面が光路23の方向(時計回り)に回
転する。また、円錐台形の回転体19a,19bは、共
に円錐台の径の小さい方の面が光路23側に来るように
配置されている。
【0034】次に、本例の気流安定装置の動作につき説
明する。送受光系6を迂回して、送受光系6の前方に回
り込むように流れてきた空気は、気流16の流れで示さ
れるように、気流16の方向に回転する回転体19a,
19bの回転面に接し、空気の粘性に基づく作用により
回転体19a,19bの回転面に沿って時計回りの方向
に流れ、図1の実施例同様にレーザビームの光路23上
の中心平面より下部で渦流が生じる。更に、回転体19
a,19bは共に、光路23側の面の径が小さく、もう
一方の外側の面の径が大きい。そのため、外側から内側
に向けて(レーザビームの光路23から遠い位置から近
い位置に向けて)気流が生じ、レーザビームの光路23
上の気流が層流になる範囲21Bの起点が図1の実施例
の回転体18a,18bを用いた場合より、送受光系6
に近い上流側に移動する。従って、光路23のより広い
範囲で気流が安定して、計測精度が向上する。
【0035】次に、本発明の気流安定装置の別の実施例
について、図5を参照して説明する。本例は、図1の実
施例の円筒体の回転体18a,18bと同様な回転体2
0a,20bを用いているが、回転体20a,20bの
回転中心軸29a,29bを図1の場合と異なり、レー
ザビームの光路23と垂直な面34に対して対称に傾け
て配置したもので、その他の構成は図1の実施例と同様
であり、同様箇所には、同一符号を付しその説明を省略
する。
【0036】図5は、本例の気流安定装置の周辺構成を
示し、図5において、図1の実施例の回転体18a,1
8bと同様な一対の円柱状の回転体20a,20bが、
送受光系6の前面側に配置されている。回転体20a,
20bのそれぞれの回転中心軸29a,29bは、XY
平面内でそれぞれレーザの光路23と垂直な面34(一
点鎖線で示す)に対して対称に所定の角度θで交差し、
互いに近接して光路23を挟む形で、且つ、光路23に
対して対称的に配置されている。回転体20a,20b
は、それぞれの回転中心軸29a,29bを中心として
気流16の方向にそれぞれ時計方向に角度θ及び反時計
方向に角度θだけ傾いた方向に回転する。その他回転体
の高さ等の配置は図1の実施例と同様である。
【0037】次に、本例の気流安定装置の動作につき説
明する。送受光系6を迂回して、送受光系6の前方に回
り込むように流れてきた空気は、気流16の流れで示さ
れるように、気流16の方向に回転する回転体20a,
20bの回転面に接し、空気の粘性に基づく作用により
回転体20a,20bの回転面に沿って時計回りの方向
に流れる。図1の実施例同様にレーザビームの光路23
上の中心平面より下部で渦流が生じる。更に、回転体2
0a,20bはそれぞれ、気流16の方向に角度−θ及
び角度θだけ傾いた方向に回転しており、図4の実施例
同様に外側から内側に向けて気流が生じ、レーザビーム
の光路23上の気流が層流になる範囲21Cの起点が図
1の実施例の回転体18a,18bを用いた場合より、
送受光系6に近い上流側に移動する。従って、図1の実
施例に比べて、光路23のより広い範囲で気流が安定し
て、計測精度が向上する。
【0038】次に、図1の本発明の気流安定装置の実施
例の変形例について、図6を参照して説明する。本例
は、図1の実施例の円筒体の回転体18a,18bと同
様な回転体30a,30bを用いているが、回転体30
a,30bの回転面に凹凸を形成している点が異なり、
その他の構成は図1の実施例と同様であり、同様箇所に
は、同一符号を付しその説明を省略する。
【0039】図6は、本例の気流安定装置の周辺構成の
斜視図を示し、図6において、気流16で示されるよう
に、送受光系6の後方からウエハホルダ15が搭載され
たX軸ステージ1に向けて、空気が送風されている。レ
ーザ干渉計の前面側には、図1の実施例の回転体18
a,18bと同様な円柱状の一対の回転体30a,30
bが配置されている。回転体30a,30bは、互いに
レーザビームの光路23を挟むようにして配置されてい
る。回転体30a,30bのそれぞれの回転軸32a,
32bは、それぞれ軸受け台33a,33bにより支持
されており、回転体30a,30bは、回転軸32a,
32bを中心として光路23の方向に不図示の駆動モー
タにより回転する。
【0040】更に、回転体30a,30bの回転表面に
は無数の凹凸が形成されており、凹部分をくぼみ31で
示す。これらの凹凸は、本例では回転体30a,30b
の回転表面の全体に形成されているが、その回転表面の
一部分に形成されるだけでもよい。但し、回転方向にほ
ぼ均等に形成されることが好ましい。また、凹凸の形及
び凹部分の深さに特に制限はなく、例えばくぼみ31は
刻み目のようなものでもよい。また、くぼみ31の深さ
は、あまり浅くならない程度に形成すればよい。
【0041】次に、本例の気流安定装置の動作につき、
回転体30a,30bの作用を中心に説明する。なお、
説明は回転体30aについて説明する。回転体30bに
ついても同様である。送受光系6を迂回して、送受光系
6の前方に回り込むように流れてきた空気は、気流16
の流れで示されるように、気流16の方向に回転する回
転体30aの回転面に接し、空気の粘性に基づく作用に
より、気流16に示されるように回転体30aの回転面
に沿って流れ、図1の実施例同様にレーザビームの光路
23上の中心平面より下部で渦流16bが生じる。
【0042】回転体30aの表面が滑らかな場合は、空
気の流れが剥離する特異点の位置が安定せず変動が生じ
るが、回転体表面に刻み目やくぼみを設けることで安定
させることができる。回転体30aの表面に形成された
無数のくぼみ31の作用は、例えばゴルフボールの表面
に形成されている無数のくぼみと同様の作用に基づくも
のであり、ゴルフボールの表面に無数のくぼみを形成す
ると、ゴルフボールの後流側の気流が安定した方向に流
れるため、飛ぶ方向が安定し、飛距離が長くなる。くぼ
みのないゴルフボールでは、飛ぶ方向が定まらず、飛距
離が極端に短くなる。
【0043】回転体30aの表面に形成された無数のく
ぼみ31は、ゴルフボールに形成されたくぼみと同様の
作用により回転体30aの周辺の気流16を安定化する
作用があり、気流16の淀み及び渦流16bが発生する
位置が安定化する。従って回転体30a,30bの回転
により、気流16の淀み及び渦流16bは回転体30a
の後流側で、レーザビームの光路23を外れた光路23
の下部に安定した形で生じるため、レーザビーム光路2
3上の気流は層流となり、送受光系6の精度は気流によ
って乱されることはない。
【0044】以上説明した全ての実施例の回転体を用い
て実験を行った。回転体がない状態及び回転体を設置し
て静止させた場合には、レーザ干渉計の測定値が変動し
たが、回転体を回転させた場合にはレーザ干渉計の測定
値の変動が減少した。なお、以上のすべての実施例にお
いて回転体は気流の方向に回転させているが、気流と逆
方向に回転させてもよい。また、回転体の中心軸をレー
ザビームの光路とほぼ同じ高さに配置したが、回転体の
中心軸とレーザビームの光路との高さが異なっていても
よい。
【0045】また、本発明の気流安定装置は上述のレー
ザ干渉計に限らず、光ビームを用いる全ての観測装置及
び計測装置等に適用することができる。このように本発
明は上述実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲で種々の構成を取り得る。
【0046】
【発明の効果】本発明の気流安定装置によれば、物体の
風下側に設けた回転体を回転させることにより、気体の
流れが淀み、又は渦になる部分が光ビームの光路外に移
動し、光ビームの光路上の気体の流れが安定化する。例
えば露光装置のステージ位置を計測するレーザ干渉計等
の気流安定装置として用いた場合には、レーザ光路の気
体の流れが層流になり、測定精度が向上し、計測結果の
再現性が高まる。
【0047】また、回転体が、光ビームの光路を挟むよ
うにして配置され、且つその光ビームの光路にほぼ直交
する回転軸を有する一対の回転体である場合には、例え
ば回転体を同一方向に回転させれば、光ビームの光路の
両側の気体の流れが同一方向になるため、気体の渦や淀
みの分布が多い位置が光ビームの光路からより遠くに移
動し、光ビームの光路上の気体の流れが更に安定する。
【0048】また、回転体が軸対称性を有する回転体で
ある場合には、回転体の回転面の回転方向の速度にむら
がなく、回転面に沿って流れる気体に対して均一な影響
を与えるため、気体の流れがより安定する。また、回転
体がその表面の一部又は全体に凹凸が形成されたもので
ある場合には、気体の流れが安定すると共に、気体の淀
みや渦が生じる位置が安定する。
【0049】また、気体が温度制御されている場合に
は、例えば本発明の気流安定装置をステージ位置を計測
するレーザ干渉計等の気流安定装置として用いた場合に
は、レーザ光路上の気体の温度が一定の温度に安定に維
持されるため、レーザビームの屈折率等の変動が抑えら
れる。従って、レーザ干渉計の測定精度が向上する利点
がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による気流安定装置の一実施例が適用さ
れた露光装置の要部を示す斜視図である。
【図2】図1の気流安定装置を示す拡大図である。
【図3】図2の気流安定装置の詳細を示す平面図であ
る。
【図4】本発明による気流安定装置の他の実施例を示す
平面図である。
【図5】本発明による気流安定装置の更に他の実施例を
示す平面図である。
【図6】図1の気流安定装置の変形例が適用された露光
装置の要部を示す斜視図である。
【図7】従来のレーザ干渉計のレーザビームの光路周辺
の気流の状態を示す側面図である。
【符号の説明】
1 X軸ステージ 2 Y軸ステージ 5 X軸用のレーザ干渉計の送受光系 6 Y軸用のレーザ干渉計の送受光系 7 中央制御系 8 ベース 11a,11b 移動鏡 12a 回転体18aの回転中心軸 12b 回転体18bの回転中心軸 14 ウエハ 15 ウエハホルダー 16 気流 16a,16b 渦流 17 気流安定装置 18a,18b,20a,20b 円柱状の回転体 19a,19b 円錐台状の回転体 21A,21B,21C レーザ光路上の層流領域 23,24 レーザビームの光路 30a,30b 表面に凹凸を形成した円柱状の回転体 31 くぼみ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ビームの光路上に送風される気体の流
    れを妨げる物体の風下側に、前記光ビームの光路に近接
    させて回転体を設けたことを特徴とする気流安定装置。
  2. 【請求項2】 前記回転体は、前記光ビームの光路を挟
    むようにして配置され、且つ前記光ビームの光路にほぼ
    直交する回転軸を有する一対の回転体であることを特徴
    とする請求項1記載の気流安定装置。
  3. 【請求項3】 前記回転体は、軸対称性を有する回転体
    であることを特徴とする請求項1又は2記載の気流安定
    装置。
  4. 【請求項4】 前記回転体は、その表面の一部又は全体
    に凹凸が形成されたものであることを特徴とする請求項
    1、2又は3記載の気流安定装置。
  5. 【請求項5】 前記気体は、温度制御されていることを
    特徴とする請求項1、2、3又は4記載の気流安定装
    置。
JP6310500A 1994-12-14 1994-12-14 気流安定装置 Withdrawn JPH08166207A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP1098226A2 (en) * 1999-11-05 2001-05-09 Asm Lithography B.V. Lithographic apparatus with gas flushing system
US6555834B1 (en) 1999-11-05 2003-04-29 Asml Netherlands B.V. Gas flushing system for use in lithographic apparatus
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WO2005083758A1 (ja) * 2004-03-02 2005-09-09 Nikon Corporation ステ−ジ装置及び投影露光装置

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US6933513B2 (en) 1999-11-05 2005-08-23 Asml Netherlands B.V. Gas flushing system for use in lithographic apparatus
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WO2005083758A1 (ja) * 2004-03-02 2005-09-09 Nikon Corporation ステ−ジ装置及び投影露光装置

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