JPH08147619A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JPH08147619A
JPH08147619A JP27783394A JP27783394A JPH08147619A JP H08147619 A JPH08147619 A JP H08147619A JP 27783394 A JP27783394 A JP 27783394A JP 27783394 A JP27783394 A JP 27783394A JP H08147619 A JPH08147619 A JP H08147619A
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Abstract

PURPOSE: To obtain a magnetic head in which a magnetic path is miniaturized and whose output-to-noise characteristic is good by a method wherein a coil which is formed by a thin-film formation method is arranged around the magnetic coupling part of an upper-part core to a lower-part core. CONSTITUTION: In a magnetic head 10, a closed magnetic circuit is formed of an upper-part core 12 provided with a sliding face comprising a magnetic gap and of a lower-part coil comprising a thin-film coil 13 which is formed by a thin-film formation method. In a core 14, two pairs of regulation grooves 19A, 19B, 20A, 20B which regulate the width and the thickness of a base 18 are formed. The coil 13 is derived to the outside of the head 10 in such a way that a derivation line 25 which is composed of a conductive film is formed inside the grooves 19A, 19B, and the coil 13 and the derivation line 25 are connected directly in coil connection points 13A, 13B. Thereby, it is possible to obtain the magnetic head in which a magnetic path is made short, whose cross-sectional area can be reduced and whose characteristic is enhanced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドに関するも
のであり、特にVTR用磁気ヘッドに用いて好適な磁気
ヘッドに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head, and more particularly to a magnetic head suitable for use in a VTR magnetic head.

【0002】[0002]

【従来の技術】今日、ビデオテープレコーダ(以下、V
TR)は、画像圧縮技術や磁気記録の進歩によりディジ
タル化が始まり、民生機器への普及も現実的になってき
た。
2. Description of the Related Art Today, a video tape recorder (hereinafter referred to as V
(TR) has started to be digitized by the progress of image compression technology and magnetic recording, and has become popular in consumer devices.

【0003】ディジタルVTRの磁気記録では、高転送
レート要求によるヘッドに対するテープの高速摺動性と
信号の広帯域化が必要となり、磁気ヘッドは、高周波で
の出力対ノイズ特性(以下、C/N特性)をいかに稼ぐ
かが課題となる。
In magnetic recording of a digital VTR, high-speed slidability of the tape with respect to the head due to a high transfer rate requirement and wide band of the signal are required, and the magnetic head has an output-noise characteristic at high frequency (hereinafter, C / N characteristic). ) Is an issue.

【0004】これらの特性を満たす磁気ヘッドとして、
主要部を図11に示す磁気ヘッド100が考えられる。
この図11に示される磁気ヘッド100は、ハードディ
スクドライブ用に実用化されている薄膜磁気ヘッド(以
下、TFH)であり、不図示の基板上に、下部磁性膜1
01、薄膜コイル102、上部磁性膜104およびター
ミナル106が不図示の絶縁膜を介して積層されて構成
されている。なお、下部磁性膜101と上部磁性膜10
4の間には磁気ギャップGが形成されている。このよう
なTFH100は、磁路が短く、また、インダクタンス
が低く押さえられるため、C/N特性は良いと言える。
As a magnetic head satisfying these characteristics,
A magnetic head 100 whose main part is shown in FIG. 11 can be considered.
The magnetic head 100 shown in FIG. 11 is a thin film magnetic head (hereinafter referred to as TFH) which has been put to practical use for a hard disk drive, and has a lower magnetic film 1 on a substrate (not shown).
01, the thin film coil 102, the upper magnetic film 104, and the terminal 106 are laminated via an insulating film (not shown). The lower magnetic film 101 and the upper magnetic film 10
A magnetic gap G is formed between the four. Since such a TFH 100 has a short magnetic path and a low inductance, it can be said that the TFH 100 has good C / N characteristics.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、記
録媒体の高速な摺動による摩耗に対し、十分なギャップ
デプスDが確保できない問題があり、仮にギャップデプ
スDを大きくしても、上部および下部磁性膜101,1
04の断面積が小さいことで、記録時の磁気飽和の問題
が生ずる。
However, there is a problem that a sufficient gap depth D cannot be secured against abrasion due to high-speed sliding of the recording medium. Even if the gap depth D is increased, the upper and lower magnetic films are not formed. 101,1
The small cross-sectional area of 04 causes a problem of magnetic saturation during recording.

【0006】また、従来のアナログVTRでは、メタル
テープ対応で摺動特性に優れた図12に示す磁気ヘッド
110が主流となっている。この磁気ヘッド110は、
一般に、MIG(Metal In Gap)ヘッドと呼ばれてお
り、一対のコアハーフ111のそれぞれの磁気ギャップ
形成面に高飽和磁束密度金属膜112が形成され、磁気
ギャップGを介して突合されて構成されている。このM
IGヘッド110は、ギャップデプスDを大きくでき、
記録時の磁気飽和の問題も生じないが、ディジタルVT
R用の磁気ヘッドとして高周波の信号に対応すべく磁路
の小型化を考えた場合、実用的な巻線材の直径を考慮す
ると、巻線窓114の大きさ(X×Y)は、最低でも
0.25×0.25〔mm2 〕程度以上のサイズは必要
となり、前述したTFH100並に小型化することは明
らかに困難である。
In the conventional analog VTR, the magnetic head 110 shown in FIG. 12 which is compatible with a metal tape and has an excellent sliding characteristic is predominant. This magnetic head 110 is
Generally, it is called an MIG (Metal In Gap) head, and a high saturation magnetic flux density metal film 112 is formed on each magnetic gap forming surface of a pair of core halves 111, and is abutted via the magnetic gap G. There is. This M
The IG head 110 can increase the gap depth D,
The problem of magnetic saturation during recording does not occur, but digital VT
When considering the miniaturization of the magnetic path as a magnetic head for R to cope with a high frequency signal, the size (X × Y) of the winding window 114 is at least in consideration of the diameter of the practical winding material. A size of about 0.25 × 0.25 [mm 2 ] or more is required, and it is obviously difficult to make the size as small as the TFH100 described above.

【0007】上記課題を考慮して、本発明は、記録時の
磁気飽和の問題を解決するとともに、磁路を小型化した
C/N特性の良い磁気ヘッドを提供することを目的とす
る。
In view of the above problems, it is an object of the present invention to solve the problem of magnetic saturation during recording and to provide a magnetic head having a small magnetic path and good C / N characteristics.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】従来抱えている課題を解
決し、上記目的を達成するために、本発明の磁気ヘッド
は、磁気ギャップを介して接合される磁性体を有する第
1のコアと、磁性体を有する第2のコアとを備え、前記
第1のコアと前記第2のコアとの磁気的接合部の周囲に
薄膜形成法により形成されるコイルが配されて構成され
る。
In order to solve the problems conventionally held and to achieve the above-mentioned object, a magnetic head of the present invention comprises a first core having a magnetic body joined through a magnetic gap. And a second core having a magnetic material, and a coil formed by a thin film forming method is arranged around a magnetic junction between the first core and the second core.

【0009】また、上記構成において、前記第2のコア
の接合部は、一対の第1の規制溝と、この第1の規制溝
に交叉して形成される一対の第2の溝とにより、接合面
積が規制される。
Further, in the above structure, the joint portion of the second core includes a pair of first restricting grooves and a pair of second grooves formed so as to intersect with the first restricting grooves. The joint area is regulated.

【0010】さらに、この構成において、前記第2のコ
アの接合部の前記第1の規制溝によって規制される部分
に導電膜が配される。
Further, in this structure, the conductive film is arranged in a portion of the joint portion of the second core regulated by the first regulating groove.

【0011】さらに、この構成において、前記導電膜の
一部が、前記コイルの一部に接続される。
Further, in this structure, a part of the conductive film is connected to a part of the coil.

【0012】さらに、この構成において、前記導電膜の
一部が、前記磁気ヘッドの側面もしくは底面に露出して
いる。
Further, in this structure, a part of the conductive film is exposed on the side surface or the bottom surface of the magnetic head.

【0013】また、先の構成において、前記第2のコア
は、前記第1および第2の規制溝によって除去された部
分にガラスが充填されている。
Further, in the above structure, the second core is filled with glass in a portion removed by the first and second restriction grooves.

【0014】さらに、この構成において、コイルは、前
記ガラスの前記第1のコアとの接合面に設けられてい
る。
Further, in this structure, the coil is provided on the surface of the glass which is joined to the first core.

【0015】また、先の構成において、前記第1のコア
は、2つのコアハーフがギャップを介して接合されるこ
とにより形成され、前記第1のコアと第2のコアとの接
合部は、2つ設けられている。
Further, in the above structure, the first core is formed by joining two core halves with a gap therebetween, and the joining portion between the first core and the second core is two. One is provided.

【0016】さらに、この構成において、前記接合部の
一方の面積が、1×10-2mm2 以下に構成されてい
る。
Further, in this structure, the area of one of the joints is set to 1 × 10 -2 mm 2 or less.

【0017】[0017]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings.

【0018】図1は、本発明の第1の実施例を示す磁気
ヘッドの斜視図である。本実施例の磁気ヘッド10は、
磁気ギャップGを有する摺動面を有する上部コア12と
薄膜形成法で形成された薄膜コイル13を有する下部コ
ア14とで閉磁路を形成している。上部コア12は、M
n−Znフェライトからなるコアハーフ12A,12B
と、コアハーフ12A,12Bのギャップ形成面にそれ
ぞれ積層されたセンダスト,パーマロイ等の高飽和磁束
密度金属合金膜(以下、磁性膜)16と、これらコアハ
ーフ12A,12Bを、磁性膜16同士を対向して接合
するガラス18とを有するMIG構造となっている。な
お、磁性膜16,16の間には磁気ギャップGが形成さ
れている。上部コア12の厚さHは、厚すぎると下部コ
ア14とで形成される磁路が大きくなるので、H=0.
2mm以下に抑えることが好ましい。上部コア12のト
ラック幅の規制方法は、従来のMIGヘッドと同様に行
うことができる。図1に示した実施例では、磁気ギャッ
プGと平行な磁性膜を有する、いわゆる平行MIGタイ
プを示しており、傾斜面を有するトラック規制溝により
トラック幅を規制されている。その他、図2(a),
(b),(c)に示すMIGタイプの磁気ヘッドにも適
応可能である。図2(a)に示す磁気ヘッドも平行MI
Gタイプであり、トラック規制溝によりコアハーフ21
A,21Bに形成された一方の傾斜面21aに連続した
磁性膜16を有している。図2(b)に示す磁気ヘッド
は、磁気ギャップGが磁気ギャップGと非平行な磁性膜
16によって形成されているMIGタイプである。図2
(c)に示す磁気ヘッドは、磁気ギャップGの両側のみ
に磁性膜16を持つ平行MIGタイプである。
FIG. 1 is a perspective view of a magnetic head showing a first embodiment of the present invention. The magnetic head 10 of this embodiment is
A closed magnetic circuit is formed by the upper core 12 having the sliding surface having the magnetic gap G and the lower core 14 having the thin film coil 13 formed by the thin film forming method. The upper core 12 is M
Core halves 12A, 12B made of n-Zn ferrite
And a high saturation magnetic flux density metal alloy film (hereinafter referred to as a magnetic film) 16 such as sendust, permalloy, etc., which are respectively laminated on the gap forming surfaces of the core halves 12A, 12B, and the core halves 12A, 12B, with the magnetic films 16 facing each other. It has a MIG structure including the glass 18 to be joined together. A magnetic gap G is formed between the magnetic films 16 and 16. If the thickness H of the upper core 12 is too thick, the magnetic path formed with the lower core 14 becomes large, so H = 0.
It is preferable to suppress it to 2 mm or less. The method of restricting the track width of the upper core 12 can be the same as that of the conventional MIG head. The embodiment shown in FIG. 1 shows a so-called parallel MIG type having a magnetic film parallel to the magnetic gap G, and the track width is restricted by a track restriction groove having an inclined surface. In addition, FIG.
It is also applicable to the MIG type magnetic heads shown in (b) and (c). The magnetic head shown in FIG.
G type, core half 21 due to track restriction groove
It has a magnetic film 16 continuous to one inclined surface 21a formed on A and 21B. The magnetic head shown in FIG. 2B is a MIG type in which the magnetic gap G is formed by the magnetic film 16 which is not parallel to the magnetic gap G. Figure 2
The magnetic head shown in (c) is a parallel MIG type having magnetic films 16 only on both sides of the magnetic gap G.

【0019】図1に戻り、下部コア14は、磁路を短
く、かつ断面積を小さくするため、フェライトからなる
基台18の磁路の幅(磁気ヘッド10に対する媒体摺動
方向における長さ)と厚さ(媒体摺動方向に対して直交
する方向における長さ)を規制する2対の規制溝19
A,19B,20A,20Bが形成されている。この規
制溝19A,19B,20A,20Bに関しては、後の
工程の説明にて詳述する。ここで、磁路を形成するため
に下部コア14に形成される上部コア12との接続面
は、大きくすると比抵抗の大きい薄膜コイルの長さが長
くなることによる抵抗分が増加し、また磁路の断面積が
増すことによるインダクタンスも増加するため、その面
積を0.1×0.1=1×10-2〔mm2 〕以下に押さ
える必要がある。また、逆に小さくしすぎると磁束密度
が高くなるため磁気飽和の影響が大きくなる。この影響
が及ぼさないようにするためには、接続面積は、0.0
2×0.02=4×10-2〔mm2 〕以上が必要であ
る。
Returning to FIG. 1, the width of the magnetic path of the base 18 made of ferrite (the length in the medium sliding direction with respect to the magnetic head 10) is set so that the lower core 14 has a short magnetic path and a small cross-sectional area. And a pair of regulation grooves 19 for regulating the thickness (length in the direction orthogonal to the medium sliding direction)
A, 19B, 20A and 20B are formed. The restriction grooves 19A, 19B, 20A, 20B will be described later in detail. Here, if the connecting surface of the lower core 14 for forming the magnetic path with the upper core 12 is made large, the resistance component increases due to the length of the thin-film coil having a large specific resistance, and the magnetic component also increases. Since the inductance increases as the cross-sectional area of the path increases, it is necessary to keep the area below 0.1 × 0.1 = 1 × 10 -2 [mm 2 ]. On the contrary, if it is made too small, the magnetic flux density becomes high and the influence of magnetic saturation becomes large. In order to prevent this effect, the connection area is 0.0
2 × 0.02 = 4 × 10 -2 [mm 2 ] or more is required.

【0020】薄膜コイル13のヘッド10外部への引き
出しは、下部コア14の磁路幅を規制する規制溝19
A,19B内に導電膜からなる引出線25を設けること
で行われ、コイル接続点13A,13Bで薄膜コイル1
3と引出線25とが直接接続されている。
The thin film coil 13 is pulled out to the outside of the head 10 by a regulating groove 19 for regulating the magnetic path width of the lower core 14.
This is performed by providing a lead wire 25 made of a conductive film in A and 19B, and at the coil connection points 13A and 13B.
3 and the lead wire 25 are directly connected.

【0021】この薄膜コイル13と引出線25との接続
に関して、詳細には後の製造方法で述べるが、下部コア
14に薄膜コイル10を形成する際に自動的に行われ、
薄膜コイル13のヘッド10外部への引き出しを簡略化
することができる。この構造により、薄膜コイル13の
引出線25は、下部コア14の側面に導かれるため、規
制溝19A,19Bの形状を工夫すれば、比較的自由な
場所から引き出しが可能である。
The connection between the thin film coil 13 and the lead wire 25 will be described in detail later in a manufacturing method, but is automatically performed when the thin film coil 10 is formed on the lower core 14,
It is possible to simplify the drawing of the thin film coil 13 to the outside of the head 10. With this structure, the lead wire 25 of the thin-film coil 13 is guided to the side surface of the lower core 14. Therefore, if the shape of the restriction grooves 19A and 19B is devised, it can be drawn from a relatively free place.

【0022】次に、図3(a)〜(f),図4(g)〜
(k)を用いて、下部コア14の製造方法について説明
する。
Next, FIGS. 3 (a) to 3 (f) and 4 (g) to
A method of manufacturing the lower core 14 will be described with reference to (k).

【0023】まず、図3(a)に示すように、強磁性酸
化物磁性材であるフェライトプレート30の表面を研磨
する。
First, as shown in FIG. 3A, the surface of the ferrite plate 30, which is a ferromagnetic oxide magnetic material, is polished.

【0024】次に、図3(b)に示すように、下部コア
14の磁路幅を規制する溝19A,19Bを平行に複数
本入れる。ただし、加工上は規制溝19A,19Bが1
本の溝として研削加工により形成される。
Next, as shown in FIG. 3B, a plurality of grooves 19A and 19B for restricting the magnetic path width of the lower core 14 are inserted in parallel. However, the restriction grooves 19A and 19B are 1 in processing.
The groove of the book is formed by grinding.

【0025】その後、図3(c)の要部断面に示すよう
に、プレート30の表面にSiO2,Cr23 ,Ti
2 等からなる絶縁膜31を真空成膜技術等で形成し、
さらに続けて、この絶縁膜31上にCr等の下地膜32
を形成する。この下地膜32は、次の導電膜33の積層
を良好に行うために形成されるものである。導電膜33
は、Cu,Ni,Au等からなり、下地膜32上にメッ
キで形成される。この導電膜33は、ヘッド10の完成
時に薄膜コイル13の引出線25(図1)となるもの
で、抵抗値が好ましくは1Ω以下になるよう厚さを設定
する。メッキ後は、導電膜33が酸化しないように、導
電膜33の表面にSiO2 ,Cr2 O3,TiO2 等真
空成膜技術等で保護膜34を形成する。この工程におい
て導電膜33は、5〜10μm程度必要であること、成
膜時間を短縮したいことから、メッキによって形成した
が、スパッタリング、蒸着等真空成膜方法で形成しても
構わない。
Then, as shown in the cross section of the main part of FIG. 3 (c), SiO 2 , Cr 2 O 3 and Ti are formed on the surface of the plate 30.
An insulating film 31 made of O 2 or the like is formed by a vacuum film forming technique,
Further, subsequently, a base film 32 such as Cr is formed on the insulating film 31.
To form. The base film 32 is formed to favorably stack the next conductive film 33. Conductive film 33
Is made of Cu, Ni, Au or the like, and is formed on the base film 32 by plating. The conductive film 33 becomes the lead wire 25 (FIG. 1) of the thin film coil 13 when the head 10 is completed, and the thickness is set so that the resistance value is preferably 1Ω or less. After plating, a protective film 34 is formed on the surface of the conductive film 33 by a vacuum film forming technique such as SiO 2 , Cr 2 O 3, TiO 2 or the like so that the conductive film 33 is not oxidized. In this step, the conductive film 33 is formed by plating because it requires about 5 to 10 μm and it is desired to shorten the film forming time, but it may be formed by a vacuum film forming method such as sputtering or vapor deposition.

【0026】次の工程では、図3(d)に示すように、
薄膜コイル13の形成のための巻線溝35を前述の磁路
幅を規制されたプレート30のそれぞれの凸部30aの
中央に平行に形成する。この溝35の加工は研削により
行う。その溝35の深さは、深すぎると磁路の拡大とな
るため50μm以下が望ましい。
In the next step, as shown in FIG.
A winding groove 35 for forming the thin film coil 13 is formed in parallel with the center of each convex portion 30a of the plate 30 whose magnetic path width is restricted. The groove 35 is processed by grinding. The depth of the groove 35 is preferably 50 μm or less because the magnetic path is enlarged if it is too deep.

【0027】さらに次の工程では、図3(e)に示すよ
うに、磁路の厚さを規制する規制溝20A,20Bを複
数本平行に、かつ規制溝19A,19Bに対して直交さ
せて形成する。この規制溝20A,20Bは、規制溝1
9A,19Bに対しては段差を設け、加工上は1本の溝
として研削加工により形成される。
In the next step, as shown in FIG. 3 (e), a plurality of regulating grooves 20A, 20B for regulating the thickness of the magnetic path are arranged in parallel and perpendicular to the regulating grooves 19A, 19B. Form. The restriction grooves 20A and 20B are the restriction grooves 1
Steps are provided for 9A and 19B, and one groove is formed by grinding in terms of processing.

【0028】なお、磁気ギャップGがアジマス角θを有
する場合には、規制溝20A,20Bを上記の場合に比
べアジマス角θだけ傾けて形成する。すなわち、図3
(e’)に示すように、規制溝19A,19Bに対して
α(=90°−θ)だけ傾けて規制溝20A,20Bを
形成すればよい。なお、磁気ギャップGがアジマス角θ
を有する場合には、規制溝20A,20Bをアジマス角
θだけ傾けて形成するのは、以下の理由による。すなわ
ち、図3(e )に示すような磁気ギャップGがアジ
マス角を有しない場合のコアの厚さをTとすれば、図3
(e )に示すように、磁気ギャップGが大きなアジ
マス角を有する場合に、前述したコア厚Tでコアを切断
した際に薄膜コイル13も切断してしまう可能性があ
る。その場合には所定の特性が得られなくなってしまっ
たり、薄膜コイル13を完全に絶縁することができない
ことになる。このように、磁気ギャップGが大きなアジ
マス角を有する場合に、前述したように、規制溝20
A,20Bをアジマス角θだけ傾けて形成すれば、図3
(e )に示すように、接合部30b,30cが平行
四辺形状に形成される違いはあるものの、薄膜コイル1
3を切断することなく、所定のコア厚Tに形成すること
ができる。
When the magnetic gap G has an azimuth angle θ, the regulation grooves 20A and 20B are formed to be inclined by the azimuth angle θ as compared with the above case. That is, FIG.
As shown in (e ′), the restriction grooves 20A and 20B may be formed by inclining the restriction grooves 19A and 19B by α (= 90 ° −θ). The magnetic gap G has an azimuth angle θ.
In the case of having the above, the reason why the restriction grooves 20A and 20B are formed by inclining by the azimuth angle θ is as follows. That is, if the thickness of the core when the magnetic gap G does not have an azimuth angle as shown in FIG. 3 (e 1 ) is T,
As shown in (e 2 ), when the magnetic gap G has a large azimuth angle, the thin film coil 13 may be cut when the core is cut with the core thickness T described above. In that case, predetermined characteristics may not be obtained, or the thin film coil 13 may not be completely insulated. Thus, when the magnetic gap G has a large azimuth angle, as described above, the restriction groove 20
If A and 20B are formed by inclining by azimuth angle θ,
As shown in (e 3 ), the thin film coil 1 has a difference in that the joint portions 30 b and 30 c are formed in a parallelogram shape.
It is possible to form a predetermined core thickness T without cutting 3.

【0029】その後、図3(f)に示すように、ガラス
棒36を加工した溝19A,19Bの上にセットし加熱
させ、プレート30上に加工した溝19A,19B,2
0A,20Bすべてをガラスで埋め込む。ここで使用す
るガラス棒36は、後の上部コア12の接合を考える
と、高融点ガラスの使用が望ましい。
After that, as shown in FIG. 3 (f), the glass rod 36 is set on the processed grooves 19A, 19B and heated, and the processed grooves 19A, 19B, 2 on the plate 30.
All of 0A and 20B are embedded with glass. The glass rod 36 used here is preferably made of high melting point glass in consideration of the later joining of the upper core 12.

【0030】次に、図4(g)に示すように、プレート
30の表面の不要なガラスを平面研削にて除去する。こ
れにより、詳しくは図3(h)に示すように、2つの磁
路接続部30b,30cおよび導電膜33が露出する。
Next, as shown in FIG. 4G, unnecessary glass on the surface of the plate 30 is removed by surface grinding. As a result, the two magnetic path connecting portions 30b and 30c and the conductive film 33 are exposed as shown in detail in FIG.

【0031】そして、図4(h),(h’)に示すよう
に、薄膜コイル13(図1)を形成するために、ガラス
36’の表面に不図示のフォトレジストを塗布し、薄膜
コイル13のパターン(図4(h’))を露光後、フォ
トレジストの部分を除去し、さらに、露光された部分を
イオンミリングにより加工し、ガラス表面上に渦巻き状
のコイルパターンの凹部37を形成する。凹み量は4〜
5μm程度である。薄膜コイル13のパターンは、表面
に露出する2つの磁路接続部30b,30cを包囲する
バランス巻形状であり、凹部37の両端37a,37b
は、磁路接続部30b,30cに隣接する導電膜33の
露出部と重なっている。これにより、薄膜コイル13を
凹部37に形成した際に、薄膜コイル13と導電膜33
が自動的に接続される。
Then, as shown in FIGS. 4 (h) and 4 (h '), in order to form the thin film coil 13 (FIG. 1), a photoresist (not shown) is applied to the surface of the glass 36' to form the thin film coil. After exposing the 13 patterns (FIG. 4 (h ′)), the photoresist portion is removed, and the exposed portion is processed by ion milling to form a spiral coil pattern recess 37 on the glass surface. To do. Depression amount is 4 ~
It is about 5 μm. The pattern of the thin-film coil 13 has a balance winding shape surrounding the two magnetic path connection portions 30b and 30c exposed on the surface, and both ends 37a and 37b of the recess 37.
Overlaps the exposed portion of the conductive film 33 adjacent to the magnetic path connecting portions 30b and 30c. Thereby, when the thin film coil 13 is formed in the recess 37, the thin film coil 13 and the conductive film 33 are formed.
Is automatically connected.

【0032】次に、図4(i)に示すように、渦巻き状
の凹部37に6μm程度の厚さで、Cu,Au等の導電
性に優れた金属膜38が埋め込まれるように、メッキに
て成膜する。この場合も、真空薄膜形成技術で成膜を行
っても構わない。
Next, as shown in FIG. 4 (i), plating is performed so that the metal film 38 of Cu, Au or the like having excellent conductivity is embedded in the spiral recess 37 with a thickness of about 6 μm. To form a film. Also in this case, the film may be formed by the vacuum thin film forming technique.

【0033】次に、図4(j),(j’)に示すよう
に、金属膜38を研磨加工により除去し、その後、Si
2 ,Cr23 等からなる絶縁膜39を1μm以下の
厚さで真空成膜技術により形成する。絶縁膜39を1μ
m以下の厚さで形成するのは、上部コア12と接合して
磁気ヘッド10を構成した際に、磁気特性に影響を与え
ないためである。ここまでの工程で図4(j’)に示す
ような薄膜コイル13のパターンが形成され、導電膜3
3とのコイル接続点13A,13Bを経てに簡単に端子
(引出線25)が引き出される。
Next, as shown in FIGS. 4 (j) and 4 (j '), the metal film 38 is removed by polishing, and then Si is removed.
An insulating film 39 made of O 2 , Cr 2 O 3 or the like is formed with a thickness of 1 μm or less by a vacuum film forming technique. Insulating film 39 1μ
The reason why it is formed with a thickness of m or less is that it does not affect the magnetic characteristics when the magnetic head 10 is formed by joining with the upper core 12. Through the steps up to this point, the pattern of the thin-film coil 13 as shown in FIG.
The terminal (lead wire 25) can be easily drawn out via the coil connection points 13A and 13B with respect to 3.

【0034】そして、図4(k)に示す破線に沿って切
断することにより、下部コアのブロック40が得られ
る。
Then, the block 40 of the lower core is obtained by cutting along the broken line shown in FIG. 4 (k).

【0035】次に、上部コア12の加工方法を図5
(a)〜(f)を用いて説明する。ここで説明する製造
方法は、従来のMIGヘッドの製造方法に基本的に準ず
るが、摺動部の部分だけを取り出せば良いので、従来と
同じ大きさのフェライト材からの取り個数は増える。
Next, a method of processing the upper core 12 will be described with reference to FIG.
A description will be given using (a) to (f). The manufacturing method described here basically conforms to the conventional manufacturing method of the MIG head, but since only the sliding portion needs to be taken out, the number of ferrite materials of the same size as the conventional one increases.

【0036】まず、図5(a)に示すように、フェライ
トからなるプレート42の表面を平面研磨する。
First, as shown in FIG. 5A, the surface of the plate 42 made of ferrite is flat-polished.

【0037】そして、図5(b)に示すように、ギャッ
プデプスを規制する台形状の規制溝43を複数本平行に
プレート42に形成する。
Then, as shown in FIG. 5B, a plurality of trapezoidal restriction grooves 43 for restricting the gap depth are formed in the plate 42 in parallel.

【0038】さらに、図5(c)に示すように、規制溝
43に対して垂直方向から、プレート42の表面に、ト
ラック幅を規制する規制溝44を等間隔で平行に形成す
る。
Further, as shown in FIG. 5C, the regulation grooves 44 for regulating the track width are formed in parallel at equal intervals on the surface of the plate 42 in the direction perpendicular to the regulation grooves 43.

【0039】次に、図5(d)に示すように、プレート
42の表面上に、真空成膜技術により拡散防止膜となる
不図示の下地膜を成膜した後に、センダスト,パーマロ
イ等磁性膜16を成膜する。
Next, as shown in FIG. 5D, a base film (not shown) to be a diffusion prevention film is formed on the surface of the plate 42 by a vacuum film forming technique, and then a magnetic film such as sendust and permalloy is formed. 16 is deposited.

【0040】そして、図5(e)に示すように、SiO
2 等の不図示のギャップ材を表面に形成した後に、反対
側に同様に加工されたプレート42’を突き合わせ、ガ
ラス棒45を用いて溶着にて突き合わせ接合を行う。
Then, as shown in FIG.
After forming a gap material (not shown) such as 2 on the surface, a plate 42 ′ similarly processed on the opposite side is butted, and the glass rod 45 is used for butt joining by welding.

【0041】その後、図5(f)に示すように、破線で
示した個所で切断し、A,B,Cで示すような上部コア
のブロック46を取り出す。
After that, as shown in FIG. 5 (f), the upper core block 46 as indicated by A, B, and C is taken out by cutting at a portion indicated by a broken line.

【0042】以上図3,図4,図5を用いて説明した工
程により得られた下部コアのブロック40および上部コ
アのブロック46を図6に示すように加工することで、
磁気ヘッド10が得られる。
By processing the lower core block 40 and the upper core block 46 obtained by the steps described above with reference to FIGS. 3, 4 and 5, as shown in FIG. 6,
The magnetic head 10 is obtained.

【0043】図6(a)に示す工程では、下部コアブロ
ック40の接合面に低融点ガラス48を真空成膜技術に
より成膜し、両ブロック40,46を位置合わせした
後、加熱接合する。他の接合手段としては、耐環境が満
足されれば樹脂接着を行ったり、両ブロック接合面に金
属膜を付着させ低温接合する方法も有効である。
In the step shown in FIG. 6A, a low melting point glass 48 is formed on the bonding surface of the lower core block 40 by a vacuum film forming technique, the blocks 40 and 46 are aligned, and then heat bonding is performed. As other joining means, if the environment resistance is satisfied, resin adhesion or a method of attaching a metal film to both block joining surfaces and joining at low temperature is also effective.

【0044】その後、図6(b)に示すように、上部コ
アブロック46の摺動面46a側に円筒研削を行い、そ
の次に,破線に沿って切断を行えば、図1に示す磁気ヘ
ッド10が得られる。
Thereafter, as shown in FIG. 6 (b), cylindrical grinding is performed on the sliding surface 46a side of the upper core block 46, and then cutting is performed along the broken line to obtain the magnetic head shown in FIG. 10 is obtained.

【0045】図9に、以上のようにして構成した磁気ヘ
ッド10の磁路70を示す。この図9により、磁路接続
部30b,30cを介して接続されている上部コア12
と下部コア14とにおいて形成される磁路70が、非常
に短くなっていることが理解できる。したがって、磁路
を小型化したC/N特性の良い磁気ヘッドを供給するこ
とが可能となる。
FIG. 9 shows a magnetic path 70 of the magnetic head 10 constructed as described above. As shown in FIG. 9, the upper core 12 connected through the magnetic path connecting portions 30b and 30c.
It can be seen that the magnetic path 70 formed in the lower core 14 and the lower core 14 is very short. Therefore, it is possible to supply a magnetic head having a small magnetic path and good C / N characteristics.

【0046】また、磁気ヘッド10は、上部コア12と
下部コア14とに分けて構成し、下部コア14の上部コ
ア12との接合面に薄膜形成法により形成したコイルを
設けるようにしたので、コイルと引出線の接続を容易に
し、磁路を小型化したC/N特性の良い磁気ヘッドの生
産性を高めることができる。
Further, the magnetic head 10 is divided into the upper core 12 and the lower core 14, and the coil formed by the thin film forming method is provided on the joint surface of the lower core 14 with the upper core 12. It is possible to facilitate the connection between the coil and the lead wire and improve the productivity of a magnetic head having a small magnetic path and good C / N characteristics.

【0047】また、上記実施例においては、薄膜コイル
13は、形成される位置決めを確実にしかも容易にする
ため、下部コア14のガラス36’上に形成したが、上
部コア12側に形成して、下部コア14と接合すること
も可能である。
Further, in the above embodiment, the thin film coil 13 is formed on the glass 36 'of the lower core 14 in order to surely and easily form the positioning, but it is formed on the upper core 12 side. It is also possible to join with the lower core 14.

【0048】なお、磁気ヘッド10のヘッドベースへの
組立工程の説明は省略するが、図7に示すように、ヘッ
ドベース50に取り付けられた磁気ヘッド10における
プリント基板52への端子引き出しは、Au線を用いた
ワイヤーボンディング等で、磁気ヘッド10の側面に露
出する引出部(導電膜)25とプリント基板52上の端
子52aとが接続されることにより行われる。
Although the description of the process of assembling the magnetic head 10 to the head base is omitted, as shown in FIG. 7, the terminal lead to the printed circuit board 52 in the magnetic head 10 attached to the head base 50 is Au. This is performed by connecting the lead-out portion (conductive film) 25 exposed on the side surface of the magnetic head 10 and the terminal 52a on the printed circuit board 52 by wire bonding using a wire.

【0049】以上のようにして得られた磁気ヘッド10
の特性と、従来例で説明したMIGタイプの磁気ヘッド
との比較を行ったデータを表1に示す。機械特性は、ト
ラック幅を14〔μm〕,ギャップ幅を0.2〔μ
m〕,ギャップデプスを12〔μm〕に設定して行っ
た。磁性膜16,112は、両者ともセンダストを使用
した。また、出力測定は、記録媒体として保持力Hc=
1600〔Oe〕の蒸着テープを用い、媒体相対速度を
10.2〔m/s〕,周波数を21〔MHz〕として行
った。
The magnetic head 10 obtained as described above
Table 1 shows the data obtained by comparing the characteristics of No. 1 with the MIG type magnetic head described in the conventional example. The mechanical characteristics are that the track width is 14 [μm] and the gap width is 0.2 [μm].
m] and the gap depth was set to 12 [μm]. The magnetic films 16 and 112 both used sendust. In addition, the output measurement is performed with a holding force Hc =
Using a vapor deposition tape of 1600 [Oe], the medium relative speed was 10.2 [m / s] and the frequency was 21 [MHz].

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】コイルの巻数は、インダクタンスを同じ
0.45〔μH〕程度にするために、従来の磁気ヘッド
では14ターンに対し、上記実施例の構成では6ターン
余分に巻くことができ、明らかに低インダクタンスとな
っている。直流(DC)抵抗は薄膜コイルの採用で大き
くなるものの影響はほとんどなく、C/N特性は、2.
5〔dB〕向上した。この結果の差は、両者の摺動部が
同じ構造をしていることから、巻線の薄膜化と下部コア
の磁路の小型化の効果として評価できる。
With respect to the number of turns of the coil, in order to make the inductance about 0.45 [μH], the conventional magnetic head can have 14 turns, while the configuration of the above embodiment can have 6 turns extra. It has low inductance. Although the direct current (DC) resistance increases with the use of the thin film coil, it has almost no effect, and the C / N characteristic is 2.
It was improved by 5 [dB]. The difference between these results can be evaluated as an effect of thinning the winding and miniaturizing the magnetic path of the lower core, because the sliding parts of both have the same structure.

【0052】次に、他の実施例について図8(a),
(b),(c)を用いて説明する。図8(a)に示す構
成は、下部コア10の基台18の形状が、図1に示す実
施例のの構成のように逆T字状ではなく、磁路幅のまま
下端まで延ばしたI字状に形成されている。このように
構成することで、薄膜コイル13の引出部25を下部コ
ア14の底面14aに露出させることも可能である。
Next, as for another embodiment, FIG.
This will be described with reference to (b) and (c). In the configuration shown in FIG. 8A, the shape of the base 18 of the lower core 10 is not an inverted T shape like the configuration of the embodiment shown in FIG. It is formed in a letter shape. With this configuration, the lead-out portion 25 of the thin-film coil 13 can be exposed on the bottom surface 14a of the lower core 14.

【0053】また、図8(b)に示すように、薄膜コイ
ル13の引出部25の厚さを厚くしたり図8(c)に示
すように、導電膜33(引出部25)に導電性のある金
属ワイヤ60等を接触させてガラス36’内に埋め込む
ことで、端子の引き出しを容易にすることも可能であ
る。
Further, as shown in FIG. 8B, the thickness of the lead-out portion 25 of the thin-film coil 13 is increased, or as shown in FIG. 8C, the conductive film 33 (lead-out portion 25) is made conductive. It is also possible to easily draw out the terminal by bringing the metal wire 60 having a certain shape into contact and embedding it in the glass 36 '.

【0054】また、図9に、上記実施例の構成における
磁路70を示す。この図9により、磁路接続部30b,
30cを介して接続されている上部コア12と下部コア
14とにおいて形成される磁路70が、非常に短くなっ
ていることが理解できる。したがって、磁路を小型化し
たC/N特性の良い磁気ヘッドを供給することが可能と
なる。なお、72で示す漏れ磁束の回り込みによりイン
ダクタンスの増加や再生効率低下の影響が考えられる場
合は、図10に示すように、上部コア12におけるコア
ハーフ12A,12Bが接合されて形成される長さWを
下部コア14の磁路幅Lとほぼ同じにすることで改善で
きる。この場合、コアハーフ12A,12Bの媒体摺を
方向における両端部には、非磁性材であるセラミック7
4を接合して設けるのがよい。このセラミック74には
Al23,TiO2,Ca−Ti系セラミック等を用い
るのが良い。セラミック74は摩耗を考慮して設けたも
のであるが、ガラスにても実施可能である。
FIG. 9 shows the magnetic path 70 in the configuration of the above embodiment. According to this FIG. 9, the magnetic path connecting portion 30b,
It can be seen that the magnetic path 70 formed in the upper core 12 and the lower core 14 connected via 30c is very short. Therefore, it is possible to supply a magnetic head having a small magnetic path and good C / N characteristics. When the influence of the increase in the inductance and the decrease in the reproduction efficiency due to the sneak of the leakage magnetic flux shown by 72 is considered, as shown in FIG. 10, the length W formed by joining the core halves 12A and 12B in the upper core 12 is Can be improved by making the magnetic field width L of the lower core 14 substantially the same. In this case, the core half 12A, 12B has a non-magnetic material such as ceramic 7 at both ends in the direction of medium sliding.
It is preferable to connect 4 together. For this ceramic 74, it is preferable to use Al 2 O 3 , TiO 2 , or Ca-Ti based ceramics. The ceramic 74 is provided in consideration of wear, but it can be implemented with glass.

【0055】以上説明した実施例によれば、上部コア1
2の厚さを薄くし、下部コア14の磁路の長さおよび断
面積を小さくすることにより、磁気ヘッド10全体の磁
路を小型化することができる。
According to the embodiment described above, the upper core 1
The magnetic path of the entire magnetic head 10 can be miniaturized by reducing the thickness of 2 and reducing the length and cross-sectional area of the magnetic path of the lower core 14.

【0056】また、下部コア14(基台18)は、Mn
−Znフェライト等の強磁性酸化物磁性材から形成され
ているため、磁路の幅と厚さを、直交する2組の一対の
規制溝19A,19B,20A,20Bで規制すること
により、磁路の小型化を図ることができる。基台18に
フェライトを使用する理由は、加工形状に自由度が有
り、多数個取りに適していることである。
The lower core 14 (base 18) is made of Mn.
Since the magnetic path is formed of a ferromagnetic oxide magnetic material such as -Zn ferrite, the width and thickness of the magnetic path are regulated by a pair of two regulating grooves 19A, 19B, 20A, and 20B that are orthogonal to each other. It is possible to reduce the size of the road. The reason why ferrite is used for the base 18 is that it has a degree of freedom in processing shape and is suitable for multi-cavity production.

【0057】また、薄膜コイル13の引き出しは、下部
コア14の磁路の幅を規制する溝19A,19Bが形成
された部分に導電膜33を形成しておくことで、薄膜コ
イル13形成時に容易に導電膜33と薄膜コイル13の
接続が行われるので、生産性に優れている。従来の薄膜
ヘッドでは、下部磁性膜,薄膜コイル,ターミナル,上
部磁性膜等と複数の層で構成され、薄膜コイル形成の部
分だけ見ても多くの工程を有するが、本実施例における
薄膜コイル13の層は、ターミナル形成が不要なために
一層で形成でき、明らかに生産性が高い。
Further, the thin film coil 13 can be easily drawn out when the thin film coil 13 is formed by forming the conductive film 33 in the portion where the grooves 19A and 19B for regulating the width of the magnetic path of the lower core 14 are formed. Since the conductive film 33 and the thin film coil 13 are connected to each other, the productivity is excellent. The conventional thin film head is composed of a plurality of layers such as a lower magnetic film, a thin film coil, a terminal and an upper magnetic film, and has many steps even if only the thin film coil formation portion is seen. The layer can be formed as a single layer because it does not require terminal formation, and is obviously high in productivity.

【0058】また、端子の取り出しは、下部コア14側
面あるいは底面に露出する導電膜33の断面を利用し
て、プリント基板52に設けられた端子52aに接続さ
れるが、下部コア14の磁路幅を規制する溝19A,1
9Bの形状を工夫すれば、導電膜の引き出しは自由に対
応できる。
Further, the terminal is taken out by connecting to the terminal 52a provided on the printed board 52 by utilizing the cross section of the conductive film 33 exposed on the side surface or the bottom surface of the lower core 14, and the magnetic path of the lower core 14 is taken out. Grooves 19A, 1 that regulate the width
If the shape of 9B is devised, the conductive film can be drawn out freely.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の磁気ヘッドによれば、上部コアと下部コアとに分けて
構成し、下部コアの上部コアとの磁気的接合部の周囲に
薄膜形成法により形成されるコイルを設けるようにした
ので、コイルの引出線の接続を容易にし、磁路を小型化
した出力対ノイズ(C/N)特性の良い磁気ヘッドの生
産性を高めることができる。
As is apparent from the above description, according to the magnetic head of the present invention, the upper core and the lower core are separately configured, and the thin film is formed around the magnetic junction between the lower core and the upper core. Since the coil formed by the forming method is provided, it is possible to facilitate the connection of the lead wire of the coil and increase the productivity of the magnetic head having a small magnetic path and good output to noise (C / N) characteristics. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の磁気ヘッドの一実施例を示す斜視図で
ある。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a magnetic head of the present invention.

【図2】(a),(b),(c)は、それぞれ本発明の
磁気ヘッドに適用できるMIGタイプの磁気ギャップ形
成部の例を示している。
2 (a), (b) and (c) show examples of MIG type magnetic gap forming portions applicable to the magnetic head of the present invention.

【図3】(a)〜(f)は、図1に示す磁気ヘッドの下
部コアの製造工程を、図4(g)〜(k)とともに示し
ている。(e’)は、(e)の変形例を示し、(e1
〜(e3)は、その説明図である。
3 (a) to 3 (f) show the manufacturing process of the lower core of the magnetic head shown in FIG. 1 together with FIGS. 4 (g) to 4 (k). (E ′) shows a modification of (e), and (e 1 )
(E 3 ) is an explanatory diagram thereof.

【図4】(g)〜(k)は、図1に示す磁気ヘッドの下
部コアの製造工程を、図3(a)〜(f)とともに示し
ている。(h’)および(j’)は、(h)および
(j)のそれぞれ上面図を示している。
4 (g) to (k) show the manufacturing process of the lower core of the magnetic head shown in FIG. 1 together with FIG. 3 (a) to (f). (H ') and (j') show the top views of (h) and (j), respectively.

【図5】(a)〜(f)は、図1に示す磁気ヘッドの上
部コアの製造工程を示している。
5A to 5F show a manufacturing process of an upper core of the magnetic head shown in FIG.

【図6】(a),(b)は、上部コアと下部コアから磁
気ヘッドが得られる工程を示している。
6A and 6B show a process of obtaining a magnetic head from an upper core and a lower core.

【図7】磁気ヘッドがプリント基板に形成された端子に
接続された構成を示している。
FIG. 7 shows a configuration in which a magnetic head is connected to a terminal formed on a printed board.

【図8】(a)〜(c)は、それぞれ本発明の磁気ヘッ
ドの他の実施例を示す図である。
8A to 8C are views showing another embodiment of the magnetic head of the present invention.

【図9】本発明の磁気ヘッドにおける磁路を示す図であ
る。
FIG. 9 is a diagram showing a magnetic path in the magnetic head of the present invention.

【図10】本発明の磁気ヘッドのさらに他の実施例を示
す図である。
FIG. 10 is a diagram showing still another embodiment of the magnetic head of the present invention.

【図11】従来の磁気ヘッドの一例を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing an example of a conventional magnetic head.

【図12】従来の磁気ヘッドの一例を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing an example of a conventional magnetic head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 磁気ヘッド 12 上部コア 13 薄膜コイル 14 下部コア 16 磁性膜 18 基台 19A,19B 規制溝 20A,20B 規制溝 25 引出部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 magnetic head 12 upper core 13 thin film coil 14 lower core 16 magnetic film 18 base 19A, 19B regulation groove 20A, 20B regulation groove 25 extraction part

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁気ギャップを介して接合される磁性体
を有する第1のコアと、 磁性体を有する第2のコアとを備え、 前記第1のコアと前記第2のコアとの磁気的接合部の周
囲に薄膜形成法により形成されるコイルが配されている
ことを特徴とする磁気ヘッド。
1. A first core having a magnetic body and a second core having a magnetic body, which are joined to each other via a magnetic gap, wherein the first core and the second core are magnetic. A magnetic head characterized in that a coil formed by a thin film forming method is arranged around the joint.
【請求項2】 請求項1において、前記第2のコアの接
合部は、一対の第1の規制溝と、この第1の規制溝に交
叉して形成される一対の第2の溝とにより、接合面積が
規制されることを特徴とする磁気ヘッド。
2. The joint portion of the second core according to claim 1, comprising a pair of first restriction grooves and a pair of second grooves formed to intersect with the first restriction grooves. A magnetic head having a joint area regulated.
【請求項3】 請求項2において、前記第2のコアの接
合部の前記第1の規制溝によって規制される部分に導電
膜が配されていることを特徴とする磁気ヘッド。
3. The magnetic head according to claim 2, wherein a conductive film is provided in a portion of the joint portion of the second core regulated by the first regulation groove.
【請求項4】 請求項3において、前記導電膜の一部
が、前記コイルの一部に接続していることを特徴とする
磁気ヘッド。
4. The magnetic head according to claim 3, wherein a part of the conductive film is connected to a part of the coil.
【請求項5】 請求項4において、前記導電膜の一部
が、前記磁気ヘッドの側面に露出していることを特徴と
する磁気ヘッド。
5. The magnetic head according to claim 4, wherein a part of the conductive film is exposed on a side surface of the magnetic head.
【請求項6】 請求項4において、前記導電膜の一部
が、前記磁気ヘッドの底面に露出していることを特徴と
する磁気ヘッド。
6. The magnetic head according to claim 4, wherein a part of the conductive film is exposed at a bottom surface of the magnetic head.
【請求項7】 請求項2において、前記第2のコアは、
前記第1および第2の規制溝によって除去された部分に
ガラスが充填されていることを特徴とする磁気ヘッド。
7. The second core according to claim 2, wherein:
A magnetic head characterized in that the portion removed by the first and second regulating grooves is filled with glass.
【請求項8】 請求項7において、コイルは、前記ガラ
スの前記第1のコアとの接合面に設けられていることを
特徴とする磁気ヘッド。
8. The magnetic head according to claim 7, wherein the coil is provided on a joint surface of the glass with the first core.
【請求項9】 請求項1あるいは2において、前記第1
のコアは、2つのコアハーフがギャップを介して接合さ
れることにより形成され、 前記第1のコアと第2のコアとの接合部は、2つあるこ
とを特徴とする磁気ヘッド。
9. The method according to claim 1, wherein the first
The core is formed by joining two core halves via a gap, and there are two joining portions between the first core and the second core.
【請求項10】 請求項9において、前記接合部の一方
の面積が、1×10-2mm2 以下であることを特徴とす
る磁気ヘッド。
10. The magnetic head according to claim 9, wherein one area of the joint portion is 1 × 10 −2 mm 2 or less.
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