JP2942156B2 - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JP2942156B2
JP2942156B2 JP27783394A JP27783394A JP2942156B2 JP 2942156 B2 JP2942156 B2 JP 2942156B2 JP 27783394 A JP27783394 A JP 27783394A JP 27783394 A JP27783394 A JP 27783394A JP 2942156 B2 JP2942156 B2 JP 2942156B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドに関するも
のであり、特にVTR用磁気ヘッドに用いて好適な磁気
ヘッドに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head, and more particularly to a magnetic head suitable for use in a VTR magnetic head.

【0002】[0002]

【従来の技術】今日、ビデオテープレコーダ(以下、V
TR)は、画像圧縮技術や磁気記録の進歩によりディジ
タル化が始まり、民生機器への普及も現実的になってき
た。
2. Description of the Related Art Video tape recorders (hereinafter referred to as V
TR) has begun to be digitized due to advances in image compression technology and magnetic recording, and has become practically spread to consumer equipment.

【0003】ディジタルVTRの磁気記録では、高転送
レート要求によるヘッドに対するテープの高速摺動性と
信号の広帯域化が必要となり、磁気ヘッドは、高周波で
の出力対ノイズ特性(以下、C/N特性)をいかに稼ぐ
かが課題となる。
[0003] In magnetic recording of a digital VTR, a high-speed sliding property of a tape with respect to a head due to a demand for a high transfer rate and a wide band of a signal are required. The challenge is how to earn).

【0004】これらの特性を満たす磁気ヘッドとして、
主要部を図11に示す磁気ヘッド100が考えられる。
この図11に示される磁気ヘッド100は、ハードディ
スクドライブ用に実用化されている薄膜磁気ヘッド(以
下、TFH)であり、不図示の基板上に、下部磁性膜1
01、薄膜コイル102、上部磁性膜104およびター
ミナル106が不図示の絶縁膜を介して積層されて構成
されている。なお、下部磁性膜101と上部磁性膜10
4の間には磁気ギャップGが形成されている。このよう
なTFH100は、磁路が短く、また、インダクタンス
が低く押さえられるため、C/N特性は良いと言える。
[0004] As a magnetic head satisfying these characteristics,
A magnetic head 100 whose main part is shown in FIG. 11 can be considered.
The magnetic head 100 shown in FIG. 11 is a thin-film magnetic head (TFH) practically used for a hard disk drive, and a lower magnetic film 1 is formed on a substrate (not shown).
1, a thin-film coil 102, an upper magnetic film 104, and a terminal 106 are laminated via an insulating film (not shown). The lower magnetic film 101 and the upper magnetic film 10
4, a magnetic gap G is formed. Such a TFH 100 can be said to have good C / N characteristics because the magnetic path is short and the inductance is kept low.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、記
録媒体の高速な摺動による摩耗に対し、十分なギャップ
デプスDが確保できない問題があり、仮にギャップデプ
スDを大きくしても、上部および下部磁性膜101,1
04の断面積が小さいことで、記録時の磁気飽和の問題
が生ずる。
However, there is a problem that a sufficient gap depth D cannot be secured against abrasion due to high-speed sliding of the recording medium, and even if the gap depth D is increased, the upper and lower magnetic films cannot be secured. 101,1
The small cross-sectional area of 04 causes a problem of magnetic saturation during recording.

【0006】また、従来のアナログVTRでは、メタル
テープ対応で摺動特性に優れた図12に示す磁気ヘッド
110が主流となっている。この磁気ヘッド110は、
一般に、MIG(Metal In Gap)ヘッドと呼ばれてお
り、一対のコアハーフ111のそれぞれの磁気ギャップ
形成面に高飽和磁束密度金属膜112が形成され、磁気
ギャップGを介して突合されて構成されている。このM
IGヘッド110は、ギャップデプスDを大きくでき、
記録時の磁気飽和の問題も生じないが、ディジタルVT
R用の磁気ヘッドとして高周波の信号に対応すべく磁路
の小型化を考えた場合、実用的な巻線材の直径を考慮す
ると、巻線窓114の大きさ(X×Y)は、最低でも
0.25×0.25〔mm2 〕程度以上のサイズは必要
となり、前述したTFH100並に小型化することは明
らかに困難である。
In a conventional analog VTR, a magnetic head 110 shown in FIG. 12 which is compatible with a metal tape and has excellent sliding characteristics is mainly used. This magnetic head 110
In general, this is called a MIG (Metal In Gap) head, and a high saturation magnetic flux density metal film 112 is formed on each magnetic gap forming surface of a pair of core halves 111 and is abutted through a magnetic gap G. I have. This M
The IG head 110 can increase the gap depth D,
Although there is no problem of magnetic saturation during recording, digital VT
When considering the miniaturization of the magnetic path as a magnetic head for R to cope with a high-frequency signal, the size (X × Y) of the winding window 114 is at least at least considering the diameter of a practical winding material. A size of about 0.25 × 0.25 [mm 2 ] or more is required, and it is obviously difficult to reduce the size to the above-mentioned TFH100.

【0007】上記課題を考慮して、本発明は、記録時の
磁気飽和の問題を解決するとともに、磁路を小型化した
C/N特性の良い磁気ヘッドを提供することを目的とす
る。
In view of the above problems, an object of the present invention is to solve the problem of magnetic saturation during recording and to provide a magnetic head having a small magnetic path and excellent C / N characteristics.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】従来抱えている課題を解
決し、上記目的を達成するために、本発明の磁気ヘッド
は、磁気ギャップを介して接合される磁性体を有する第
1のコアと、磁性体を有する第2のコアとを備え、前記
第1のコアと前記第2のコアとの磁気的接合部の周囲に
薄膜形成法により形成されるコイルが配され、前記第2
のコアの接合部は、一対の第1の規制溝と、この第1の
規制溝に交叉して形成される一対の第2の溝とにより接
合面積が規制され、前記第2のコアの接合部の前記第1
の規制溝によって規制される部分に導電膜が配されると
ともに、この導電膜の一部が前記コイルの一部に接続し
て構成される。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the conventional problems and achieve the above object, a magnetic head according to the present invention comprises a first core having a magnetic body joined via a magnetic gap. And a second core having a magnetic material, wherein a coil formed by a thin film forming method is disposed around a magnetic junction between the first core and the second core,
The joint area of the core is restricted by a pair of first regulating grooves and a pair of second grooves formed to intersect with the first regulating grooves, and the joining of the second cores is performed. Part of the first
A conductive film is disposed in a portion regulated by the regulating groove, and a part of the conductive film is connected to a part of the coil.

【0009】[0009]

【0010】[0010]

【0011】[0011]

【0012】さらに、この構成において、前記導電膜の
一部が、前記磁気ヘッドの側面もしくは底面に露出して
いる。
Further, in this configuration, a part of the conductive film is exposed on a side surface or a bottom surface of the magnetic head.

【0013】また、先の構成において、前記第2のコア
は、前記第1および第2の規制溝によって除去された部
分にガラスが充填されている。
In the above structure, the second core is filled with glass in a portion removed by the first and second regulating grooves.

【0014】さらに、この構成において、コイルは、前
記ガラスの前記第1のコアとの接合面に設けられてい
る。
[0014] Further, in this configuration, the coil is provided on a joint surface of the glass with the first core.

【0015】また、先の構成において、前記第1のコア
は、2つのコアハーフがギャップを介して接合されるこ
とにより形成され、前記第1のコアと第2のコアとの接
合部は、2つ設けられている。
In the above structure, the first core is formed by joining two core halves through a gap, and a joint between the first core and the second core is formed by two halves. One is provided.

【0016】さらに、この構成において、前記接合部の
一方の面積が、1×10-2mm2 以下に構成されてい
る。
Further, in this configuration, one area of the joining portion is set to 1 × 10 −2 mm 2 or less.

【0017】[0017]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0018】図1は、本発明の第1の実施例を示す磁気
ヘッドの斜視図である。本実施例の磁気ヘッド10は、
磁気ギャップGを有する摺動面を有する上部コア12と
薄膜形成法で形成された薄膜コイル13を有する下部コ
ア14とで閉磁路を形成している。上部コア12は、M
n−Znフェライトからなるコアハーフ12A,12B
と、コアハーフ12A,12Bのギャップ形成面にそれ
ぞれ積層されたセンダスト,パーマロイ等の高飽和磁束
密度金属合金膜(以下、磁性膜)16と、これらコアハ
ーフ12A,12Bを、磁性膜16同士を対向して接合
するガラス18とを有するMIG構造となっている。な
お、磁性膜16,16の間には磁気ギャップGが形成さ
れている。上部コア12の厚さHは、厚すぎると下部コ
ア14とで形成される磁路が大きくなるので、H=0.
2mm以下に抑えることが好ましい。上部コア12のト
ラック幅の規制方法は、従来のMIGヘッドと同様に行
うことができる。図1に示した実施例では、磁気ギャッ
プGと平行な磁性膜を有する、いわゆる平行MIGタイ
プを示しており、傾斜面を有するトラック規制溝により
トラック幅を規制されている。その他、図2(a),
(b),(c)に示すMIGタイプの磁気ヘッドにも適
応可能である。図2(a)に示す磁気ヘッドも平行MI
Gタイプであり、トラック規制溝によりコアハーフ21
A,21Bに形成された一方の傾斜面21aに連続した
磁性膜16を有している。図2(b)に示す磁気ヘッド
は、磁気ギャップGが磁気ギャップGと非平行な磁性膜
16によって形成されているMIGタイプである。図2
(c)に示す磁気ヘッドは、磁気ギャップGの両側のみ
に磁性膜16を持つ平行MIGタイプである。
FIG. 1 is a perspective view of a magnetic head showing a first embodiment of the present invention. The magnetic head 10 of the present embodiment
A closed magnetic path is formed by an upper core 12 having a sliding surface having a magnetic gap G and a lower core 14 having a thin film coil 13 formed by a thin film forming method. The upper core 12 is
Core halves 12A and 12B made of n-Zn ferrite
A high saturation magnetic flux density metal alloy film (hereinafter referred to as a magnetic film) 16 such as Sendust or Permalloy laminated on the gap forming surfaces of the core halves 12A and 12B, respectively. And a glass 18 to be joined. Note that a magnetic gap G is formed between the magnetic films 16. If the thickness H of the upper core 12 is too large, the magnetic path formed by the lower core 14 becomes large.
It is preferable to keep it to 2 mm or less. The method of regulating the track width of the upper core 12 can be performed in the same manner as the conventional MIG head. In the embodiment shown in FIG. 1, a so-called parallel MIG type having a magnetic film parallel to the magnetic gap G is shown, and the track width is regulated by a track regulating groove having an inclined surface. In addition, FIG.
The present invention is also applicable to MIG type magnetic heads shown in (b) and (c). The magnetic head shown in FIG.
G type, core half 21
The magnetic film 16 is continuous with one of the inclined surfaces 21a formed on the A and 21B. The magnetic head shown in FIG. 2B is of the MIG type in which the magnetic gap G is formed by the magnetic film 16 that is not parallel to the magnetic gap G. FIG.
The magnetic head shown in (c) is a parallel MIG type having a magnetic film 16 only on both sides of the magnetic gap G.

【0019】図1に戻り、下部コア14は、磁路を短
く、かつ断面積を小さくするため、フェライトからなる
基台18の磁路の幅(磁気ヘッド10に対する媒体摺動
方向における長さ)と厚さ(媒体摺動方向に対して直交
する方向における長さ)を規制する2対の規制溝19
A,19B,20A,20Bが形成されている。この規
制溝19A,19B,20A,20Bに関しては、後の
工程の説明にて詳述する。ここで、磁路を形成するため
に下部コア14に形成される上部コア12との接続面
は、大きくすると比抵抗の大きい薄膜コイルの長さが長
くなることによる抵抗分が増加し、また磁路の断面積が
増すことによるインダクタンスも増加するため、その面
積を0.1×0.1=1×10-2〔mm2 〕以下に押さ
える必要がある。また、逆に小さくしすぎると磁束密度
が高くなるため磁気飽和の影響が大きくなる。この影響
が及ぼさないようにするためには、接続面積は、0.0
2×0.02=4×10-2〔mm2 〕以上が必要であ
る。
Returning to FIG. 1, the lower core 14 has a magnetic path width (length in the medium sliding direction with respect to the magnetic head 10) of the base 18 made of ferrite in order to shorten the magnetic path and reduce the cross-sectional area. And two pairs of regulating grooves 19 for regulating the thickness (length in a direction orthogonal to the medium sliding direction).
A, 19B, 20A, and 20B are formed. The restriction grooves 19A, 19B, 20A, and 20B will be described in detail in the description of the subsequent steps. Here, when the connection surface with the upper core 12 formed on the lower core 14 to form a magnetic path increases, the resistance component increases due to the lengthening of the thin-film coil having a large specific resistance. Since the inductance due to the increase in the cross-sectional area of the road also increases, it is necessary to keep its area to 0.1 × 0.1 = 1 × 10 −2 [mm 2 ] or less. On the other hand, if it is too small, the magnetic flux density becomes high, so that the influence of magnetic saturation becomes large. To avoid this effect, the connection area should be 0.0
2 × 0.02 = 4 × 10 −2 [mm 2 ] or more is required.

【0020】薄膜コイル13のヘッド10外部への引き
出しは、下部コア14の磁路幅を規制する規制溝19
A,19B内に導電膜からなる引出線25を設けること
で行われ、コイル接続点13A,13Bで薄膜コイル1
3と引出線25とが直接接続されている。
The thin-film coil 13 is drawn out of the head 10 by regulating grooves 19 for regulating the magnetic path width of the lower core 14.
A, 19B is provided by providing a lead wire 25 made of a conductive film in the thin film coil 1 at the coil connection points 13A, 13B.
3 and the lead wire 25 are directly connected.

【0021】この薄膜コイル13と引出線25との接続
に関して、詳細には後の製造方法で述べるが、下部コア
14に薄膜コイル10を形成する際に自動的に行われ、
薄膜コイル13のヘッド10外部への引き出しを簡略化
することができる。この構造により、薄膜コイル13の
引出線25は、下部コア14の側面に導かれるため、規
制溝19A,19Bの形状を工夫すれば、比較的自由な
場所から引き出しが可能である。
The connection between the thin film coil 13 and the lead wire 25 will be described in detail in a later manufacturing method, but is automatically performed when the thin film coil 10 is formed on the lower core 14,
Extraction of the thin film coil 13 to the outside of the head 10 can be simplified. With this structure, the lead wire 25 of the thin-film coil 13 is guided to the side surface of the lower core 14, so that if the shape of the restriction grooves 19A and 19B is devised, it can be pulled out from a relatively free place.

【0022】次に、図3(a)〜(f),図4(g)〜
(k)を用いて、下部コア14の製造方法について説明
する。
Next, FIGS. 3 (a) to 3 (f) and FIGS.
A method of manufacturing the lower core 14 will be described with reference to (k).

【0023】まず、図3(a)に示すように、強磁性酸
化物磁性材であるフェライトプレート30の表面を研磨
する。
First, as shown in FIG. 3A, the surface of a ferrite plate 30 which is a ferromagnetic oxide magnetic material is polished.

【0024】次に、図3(b)に示すように、下部コア
14の磁路幅を規制する溝19A,19Bを平行に複数
本入れる。ただし、加工上は規制溝19A,19Bが1
本の溝として研削加工により形成される。
Next, as shown in FIG. 3B, a plurality of grooves 19A and 19B for regulating the magnetic path width of the lower core 14 are inserted in parallel. However, on processing, the regulation grooves 19A and 19B are 1
It is formed as a book groove by grinding.

【0025】その後、図3(c)の要部断面に示すよう
に、プレート30の表面にSiO2,Cr23 ,Ti
2 等からなる絶縁膜31を真空成膜技術等で形成し、
さらに続けて、この絶縁膜31上にCr等の下地膜32
を形成する。この下地膜32は、次の導電膜33の積層
を良好に行うために形成されるものである。導電膜33
は、Cu,Ni,Au等からなり、下地膜32上にメッ
キで形成される。この導電膜33は、ヘッド10の完成
時に薄膜コイル13の引出線25(図1)となるもの
で、抵抗値が好ましくは1Ω以下になるよう厚さを設定
する。メッキ後は、導電膜33が酸化しないように、導
電膜33の表面にSiO2 ,Cr2 O3,TiO2 等真
空成膜技術等で保護膜34を形成する。この工程におい
て導電膜33は、5〜10μm程度必要であること、成
膜時間を短縮したいことから、メッキによって形成した
が、スパッタリング、蒸着等真空成膜方法で形成しても
構わない。
[0025] Thereafter, as shown in fragmentary cross-sectional view of FIG. 3 (c), SiO 2, Cr 2 O 3 on the surface of the plate 30, Ti
An insulating film 31 made of O 2 or the like is formed by a vacuum film forming technique or the like,
Subsequently, a base film 32 of Cr or the like is formed on the insulating film 31.
To form The base film 32 is formed in order to satisfactorily laminate the next conductive film 33. Conductive film 33
Is made of Cu, Ni, Au or the like, and is formed on the base film 32 by plating. The conductive film 33 becomes the lead 25 (FIG. 1) of the thin film coil 13 when the head 10 is completed, and has a thickness set so that the resistance value is preferably 1 Ω or less. After plating, a protective film 34 is formed on the surface of the conductive film 33 by a vacuum film forming technique such as SiO 2 , Cr 2 O 3 or TiO 2 so that the conductive film 33 is not oxidized. In this step, the conductive film 33 is formed by plating because it needs to be about 5 to 10 μm and it is desired to shorten the film forming time.

【0026】次の工程では、図3(d)に示すように、
薄膜コイル13の形成のための巻線溝35を前述の磁路
幅を規制されたプレート30のそれぞれの凸部30aの
中央に平行に形成する。この溝35の加工は研削により
行う。その溝35の深さは、深すぎると磁路の拡大とな
るため50μm以下が望ましい。
In the next step, as shown in FIG.
A winding groove 35 for forming the thin film coil 13 is formed in parallel with the center of each of the projections 30a of the plate 30 whose magnetic path width is regulated. The processing of the groove 35 is performed by grinding. The depth of the groove 35 is desirably 50 μm or less because if it is too deep, the magnetic path is enlarged.

【0027】さらに次の工程では、図3(e)に示すよ
うに、磁路の厚さを規制する規制溝20A,20Bを複
数本平行に、かつ規制溝19A,19Bに対して直交さ
せて形成する。この規制溝20A,20Bは、規制溝1
9A,19Bに対しては段差を設け、加工上は1本の溝
として研削加工により形成される。
In the next step, as shown in FIG. 3E, a plurality of regulating grooves 20A and 20B for regulating the thickness of the magnetic path are formed in parallel and perpendicular to the regulating grooves 19A and 19B. Form. The restricting grooves 20A and 20B correspond to the restricting grooves 1
Steps are provided for 9A and 19B, and are formed by grinding as a single groove in processing.

【0028】なお、磁気ギャップGがアジマス角θを有
する場合には、規制溝20A,20Bを上記の場合に比
べアジマス角θだけ傾けて形成する。すなわち、図3
(e’)に示すように、規制溝19A,19Bに対して
α(=90°−θ)だけ傾けて規制溝20A,20Bを
形成すればよい。なお、磁気ギャップGがアジマス角θ
を有する場合には、規制溝20A,20Bをアジマス角
θだけ傾けて形成するのは、以下の理由による。すなわ
ち、図3(e )に示すような磁気ギャップGがアジ
マス角を有しない場合のコアの厚さをTとすれば、図3
(e )に示すように、磁気ギャップGが大きなアジ
マス角を有する場合に、前述したコア厚Tでコアを切断
した際に薄膜コイル13も切断してしまう可能性があ
る。その場合には所定の特性が得られなくなってしまっ
たり、薄膜コイル13を完全に絶縁することができない
ことになる。このように、磁気ギャップGが大きなアジ
マス角を有する場合に、前述したように、規制溝20
A,20Bをアジマス角θだけ傾けて形成すれば、図3
(e )に示すように、接合部30b,30cが平行
四辺形状に形成される違いはあるものの、薄膜コイル1
3を切断することなく、所定のコア厚Tに形成すること
ができる。
When the magnetic gap G has the azimuth angle θ, the regulating grooves 20A and 20B are formed to be inclined by the azimuth angle θ as compared with the above case. That is, FIG.
As shown in (e '), the regulating grooves 20A, 20B may be formed at an angle of α (= 90 ° −θ) with respect to the regulating grooves 19A, 19B. Note that the magnetic gap G is determined by the azimuth angle θ.
Is formed, the regulating grooves 20A and 20B are formed to be inclined by the azimuth angle θ for the following reason. That is, if the thickness of the core when no magnetic gap G azimuth angle as shown in FIG. 3 (e 1) is T, 3
As shown in (e 2 ), when the magnetic gap G has a large azimuth angle, the thin film coil 13 may be cut when the core is cut with the core thickness T described above. In that case, predetermined characteristics cannot be obtained, or the thin film coil 13 cannot be completely insulated. As described above, when the magnetic gap G has a large azimuth angle, as described above,
If A and 20B are formed at an angle of azimuth angle θ, FIG.
As shown in (e 3 ), although there is a difference that the joining portions 30b and 30c are formed in a parallelogram shape, the thin film coil 1
3 can be formed to a predetermined core thickness T without cutting.

【0029】その後、図3(f)に示すように、ガラス
棒36を加工した溝19A,19Bの上にセットし加熱
させ、プレート30上に加工した溝19A,19B,2
0A,20Bすべてをガラスで埋め込む。ここで使用す
るガラス棒36は、後の上部コア12の接合を考える
と、高融点ガラスの使用が望ましい。
Then, as shown in FIG. 3 (f), the glass rod 36 is set on the processed grooves 19A, 19B and heated, and the grooves 19A, 19B, 2 formed on the plate 30 are heated.
All of 0A and 20B are embedded with glass. The glass rod 36 used here is desirably made of high-melting glass in consideration of bonding of the upper core 12 later.

【0030】次に、図4(g)に示すように、プレート
30の表面の不要なガラスを平面研削にて除去する。こ
れにより、詳しくは図3(h)に示すように、2つの磁
路接続部30b,30cおよび導電膜33が露出する。
Next, as shown in FIG. 4G, unnecessary glass on the surface of the plate 30 is removed by surface grinding. Thereby, as shown in detail in FIG. 3H, the two magnetic path connecting portions 30b and 30c and the conductive film 33 are exposed.

【0031】そして、図4(h),(h’)に示すよう
に、薄膜コイル13(図1)を形成するために、ガラス
36’の表面に不図示のフォトレジストを塗布し、薄膜
コイル13のパターン(図4(h’))を露光後、フォ
トレジストの部分を除去し、さらに、露光された部分を
イオンミリングにより加工し、ガラス表面上に渦巻き状
のコイルパターンの凹部37を形成する。凹み量は4〜
5μm程度である。薄膜コイル13のパターンは、表面
に露出する2つの磁路接続部30b,30cを包囲する
バランス巻形状であり、凹部37の両端37a,37b
は、磁路接続部30b,30cに隣接する導電膜33の
露出部と重なっている。これにより、薄膜コイル13を
凹部37に形成した際に、薄膜コイル13と導電膜33
が自動的に接続される。
As shown in FIGS. 4 (h) and 4 (h '), a photoresist (not shown) is applied to the surface of the glass 36' to form the thin film coil 13 (FIG. 1). After exposing the pattern No. 13 (FIG. 4 (h ')), the photoresist portion is removed, and the exposed portion is processed by ion milling to form a spiral coil pattern concave portion 37 on the glass surface. I do. The amount of dent is 4 ~
It is about 5 μm. The pattern of the thin-film coil 13 has a balanced winding shape surrounding the two magnetic path connecting portions 30b and 30c exposed on the surface, and both ends 37a and 37b of the concave portion 37.
Overlap with the exposed portion of the conductive film 33 adjacent to the magnetic path connection portions 30b and 30c. Thereby, when the thin film coil 13 is formed in the concave portion 37, the thin film coil 13 and the conductive film 33 are formed.
Is automatically connected.

【0032】次に、図4(i)に示すように、渦巻き状
の凹部37に6μm程度の厚さで、Cu,Au等の導電
性に優れた金属膜38が埋め込まれるように、メッキに
て成膜する。この場合も、真空薄膜形成技術で成膜を行
っても構わない。
Next, as shown in FIG. 4 (i), plating is performed so that a metal film 38 of excellent conductivity such as Cu or Au is buried in the spiral recess 37 with a thickness of about 6 μm. To form a film. Also in this case, the film may be formed by the vacuum thin film forming technique.

【0033】次に、図4(j),(j’)に示すよう
に、金属膜38を研磨加工により除去し、その後、Si
2 ,Cr23 等からなる絶縁膜39を1μm以下の
厚さで真空成膜技術により形成する。絶縁膜39を1μ
m以下の厚さで形成するのは、上部コア12と接合して
磁気ヘッド10を構成した際に、磁気特性に影響を与え
ないためである。ここまでの工程で図4(j’)に示す
ような薄膜コイル13のパターンが形成され、導電膜3
3とのコイル接続点13A,13Bを経てに簡単に端子
(引出線25)が引き出される。
Next, as shown in FIGS. 4 (j) and 4 (j '), the metal film 38 is removed by polishing.
An insulating film 39 made of O 2 , Cr 2 O 3 or the like is formed to a thickness of 1 μm or less by a vacuum film forming technique. 1 μm of insulating film 39
The reason why the magnetic head 10 is formed with a thickness of not more than m is that the magnetic characteristics are not affected when the magnetic head 10 is formed by joining the upper core 12. In the steps up to this point, the pattern of the thin film coil 13 as shown in FIG.
The terminal (lead wire 25) is easily drawn out through the coil connection points 13A and 13B with the terminal 3.

【0034】そして、図4(k)に示す破線に沿って切
断することにより、下部コアのブロック40が得られ
る。
Then, by cutting along the broken line shown in FIG. 4 (k), a block 40 of the lower core is obtained.

【0035】次に、上部コア12の加工方法を図5
(a)〜(f)を用いて説明する。ここで説明する製造
方法は、従来のMIGヘッドの製造方法に基本的に準ず
るが、摺動部の部分だけを取り出せば良いので、従来と
同じ大きさのフェライト材からの取り個数は増える。
Next, a method of processing the upper core 12 is shown in FIG.
This will be described with reference to (a) to (f). The manufacturing method described here basically conforms to the conventional MIG head manufacturing method. However, since only the sliding portion needs to be taken out, the number of ferrite materials having the same size as that of the conventional MIG head increases.

【0036】まず、図5(a)に示すように、フェライ
トからなるプレート42の表面を平面研磨する。
First, as shown in FIG. 5A, the surface of the plate 42 made of ferrite is polished flat.

【0037】そして、図5(b)に示すように、ギャッ
プデプスを規制する台形状の規制溝43を複数本平行に
プレート42に形成する。
Then, as shown in FIG. 5B, a plurality of trapezoidal regulating grooves 43 for regulating the gap depth are formed on the plate 42 in parallel.

【0038】さらに、図5(c)に示すように、規制溝
43に対して垂直方向から、プレート42の表面に、ト
ラック幅を規制する規制溝44を等間隔で平行に形成す
る。
Further, as shown in FIG. 5C, regulating grooves 44 for regulating the track width are formed at regular intervals on the surface of the plate 42 in a direction perpendicular to the regulating grooves 43.

【0039】次に、図5(d)に示すように、プレート
42の表面上に、真空成膜技術により拡散防止膜となる
不図示の下地膜を成膜した後に、センダスト,パーマロ
イ等磁性膜16を成膜する。
Next, as shown in FIG. 5D, a base film (not shown) serving as a diffusion prevention film is formed on the surface of the plate 42 by a vacuum film forming technique, and then a magnetic film such as Sendust or Permalloy is formed. 16 is formed.

【0040】そして、図5(e)に示すように、SiO
2 等の不図示のギャップ材を表面に形成した後に、反対
側に同様に加工されたプレート42’を突き合わせ、ガ
ラス棒45を用いて溶着にて突き合わせ接合を行う。
Then, as shown in FIG.
After a gap material (not shown) such as 2 is formed on the surface, a similarly processed plate 42 ′ is butted against the opposite side, and a butt joint is performed by welding using a glass rod 45.

【0041】その後、図5(f)に示すように、破線で
示した個所で切断し、A,B,Cで示すような上部コア
のブロック46を取り出す。
Thereafter, as shown in FIG. 5 (f), cutting is performed at the locations indicated by broken lines, and blocks 46 of the upper core as indicated by A, B and C are taken out.

【0042】以上図3,図4,図5を用いて説明した工
程により得られた下部コアのブロック40および上部コ
アのブロック46を図6に示すように加工することで、
磁気ヘッド10が得られる。
The lower core block 40 and the upper core block 46 obtained by the steps described with reference to FIGS. 3, 4, and 5 are processed as shown in FIG.
The magnetic head 10 is obtained.

【0043】図6(a)に示す工程では、下部コアブロ
ック40の接合面に低融点ガラス48を真空成膜技術に
より成膜し、両ブロック40,46を位置合わせした
後、加熱接合する。他の接合手段としては、耐環境が満
足されれば樹脂接着を行ったり、両ブロック接合面に金
属膜を付着させ低温接合する方法も有効である。
In the step shown in FIG. 6A, a low-melting glass 48 is formed on the bonding surface of the lower core block 40 by a vacuum film forming technique, the blocks 40 and 46 are aligned, and then heated and bonded. As other joining means, it is also effective to perform resin bonding if the environment resistance is satisfied, or to attach a metal film to both block joining surfaces and join them at low temperature.

【0044】その後、図6(b)に示すように、上部コ
アブロック46の摺動面46a側に円筒研削を行い、そ
の次に,破線に沿って切断を行えば、図1に示す磁気ヘ
ッド10が得られる。
Thereafter, as shown in FIG. 6 (b), cylindrical grinding is performed on the sliding surface 46a side of the upper core block 46, and then cutting is performed along a broken line to obtain the magnetic head shown in FIG. 10 is obtained.

【0045】図9に、以上のようにして構成した磁気ヘ
ッド10の磁路70を示す。この図9により、磁路接続
部30b,30cを介して接続されている上部コア12
と下部コア14とにおいて形成される磁路70が、非常
に短くなっていることが理解できる。したがって、磁路
を小型化したC/N特性の良い磁気ヘッドを供給するこ
とが可能となる。
FIG. 9 shows a magnetic path 70 of the magnetic head 10 configured as described above. According to FIG. 9, the upper core 12 connected via the magnetic path connecting portions 30b and 30c is formed.
It can be seen that the magnetic path 70 formed between the magnetic path 70 and the lower core 14 is very short. Therefore, it is possible to supply a magnetic head having a small magnetic path and good C / N characteristics.

【0046】また、磁気ヘッド10は、上部コア12と
下部コア14とに分けて構成し、下部コア14の上部コ
ア12との接合面に薄膜形成法により形成したコイルを
設けるようにしたので、コイルと引出線の接続を容易に
し、磁路を小型化したC/N特性の良い磁気ヘッドの生
産性を高めることができる。
Further, since the magnetic head 10 is constituted by being divided into an upper core 12 and a lower core 14, a coil formed by a thin film forming method is provided on a joint surface of the lower core 14 with the upper core 12. The connection between the coil and the lead wire is facilitated, and the productivity of the magnetic head having a small magnetic path and excellent C / N characteristics can be improved.

【0047】また、上記実施例においては、薄膜コイル
13は、形成される位置決めを確実にしかも容易にする
ため、下部コア14のガラス36’上に形成したが、上
部コア12側に形成して、下部コア14と接合すること
も可能である。
In the above embodiment, the thin-film coil 13 is formed on the glass 36 'of the lower core 14 in order to surely and easily form the positioning, but is formed on the upper core 12 side. , And the lower core 14.

【0048】なお、磁気ヘッド10のヘッドベースへの
組立工程の説明は省略するが、図7に示すように、ヘッ
ドベース50に取り付けられた磁気ヘッド10における
プリント基板52への端子引き出しは、Au線を用いた
ワイヤーボンディング等で、磁気ヘッド10の側面に露
出する引出部(導電膜)25とプリント基板52上の端
子52aとが接続されることにより行われる。
Although the description of the process of assembling the magnetic head 10 to the head base is omitted, as shown in FIG. 7, the terminals of the magnetic head 10 attached to the head base 50 to the printed circuit board 52 are pulled out of Au. The connection is performed by connecting the lead portion (conductive film) 25 exposed on the side surface of the magnetic head 10 and the terminal 52 a on the printed board 52 by wire bonding using a wire or the like.

【0049】以上のようにして得られた磁気ヘッド10
の特性と、従来例で説明したMIGタイプの磁気ヘッド
との比較を行ったデータを表1に示す。機械特性は、ト
ラック幅を14〔μm〕,ギャップ幅を0.2〔μ
m〕,ギャップデプスを12〔μm〕に設定して行っ
た。磁性膜16,112は、両者ともセンダストを使用
した。また、出力測定は、記録媒体として保持力Hc=
1600〔Oe〕の蒸着テープを用い、媒体相対速度を
10.2〔m/s〕,周波数を21〔MHz〕として行
った。
The magnetic head 10 obtained as described above
Table 1 shows data obtained by comparing the characteristics described above with the MIG type magnetic head described in the conventional example. The mechanical characteristics were as follows: track width was 14 [μm] and gap width was 0.2 [μm].
m], and the gap depth was set to 12 [μm]. Sendust was used for both the magnetic films 16 and 112. Further, the output was measured by using a holding force Hc =
Using a vapor deposition tape of 1600 [Oe], the relative speed of the medium was 10.2 [m / s], and the frequency was 21 [MHz].

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】コイルの巻数は、インダクタンスを同じ
0.45〔μH〕程度にするために、従来の磁気ヘッド
では14ターンに対し、上記実施例の構成では6ターン
余分に巻くことができ、明らかに低インダクタンスとな
っている。直流(DC)抵抗は薄膜コイルの採用で大き
くなるものの影響はほとんどなく、C/N特性は、2.
5〔dB〕向上した。この結果の差は、両者の摺動部が
同じ構造をしていることから、巻線の薄膜化と下部コア
の磁路の小型化の効果として評価できる。
In order to make the inductance about 0.45 [μH], the number of turns of the coil can be increased by 6 turns in the configuration of the above embodiment, compared to 14 turns in the conventional magnetic head. Low inductance. Although the direct current (DC) resistance is increased by the use of the thin film coil, there is almost no influence, and the C / N characteristic is 2.
5 [dB] improved. The difference between the results can be evaluated as an effect of reducing the thickness of the winding and reducing the size of the magnetic path of the lower core since the two sliding portions have the same structure.

【0052】次に、他の実施例について図8(a),
(b),(c)を用いて説明する。図8(a)に示す構
成は、下部コア10の基台18の形状が、図1に示す実
施例のの構成のように逆T字状ではなく、磁路幅のまま
下端まで延ばしたI字状に形成されている。このように
構成することで、薄膜コイル13の引出部25を下部コ
ア14の底面14aに露出させることも可能である。
Next, another embodiment will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to (b) and (c). In the configuration shown in FIG. 8A, the shape of the base 18 of the lower core 10 is not an inverted T-shape as in the configuration of the embodiment shown in FIG. It is formed in a character shape. With this configuration, it is possible to expose the drawer 25 of the thin-film coil 13 to the bottom surface 14a of the lower core 14.

【0053】また、図8(b)に示すように、薄膜コイ
ル13の引出部25の厚さを厚くしたり図8(c)に示
すように、導電膜33(引出部25)に導電性のある金
属ワイヤ60等を接触させてガラス36’内に埋め込む
ことで、端子の引き出しを容易にすることも可能であ
る。
Further, as shown in FIG. 8B, the thickness of the lead portion 25 of the thin-film coil 13 is increased, and as shown in FIG. By embedding the metal wire 60 or the like having a contact in the glass 36 ′, the terminal can be easily pulled out.

【0054】また、図9に、上記実施例の構成における
磁路70を示す。この図9により、磁路接続部30b,
30cを介して接続されている上部コア12と下部コア
14とにおいて形成される磁路70が、非常に短くなっ
ていることが理解できる。したがって、磁路を小型化し
たC/N特性の良い磁気ヘッドを供給することが可能と
なる。なお、72で示す漏れ磁束の回り込みによりイン
ダクタンスの増加や再生効率低下の影響が考えられる場
合は、図10に示すように、上部コア12におけるコア
ハーフ12A,12Bが接合されて形成される長さWを
下部コア14の磁路幅Lとほぼ同じにすることで改善で
きる。この場合、コアハーフ12A,12Bの媒体摺を
方向における両端部には、非磁性材であるセラミック7
4を接合して設けるのがよい。このセラミック74には
Al23,TiO2,Ca−Ti系セラミック等を用い
るのが良い。セラミック74は摩耗を考慮して設けたも
のであるが、ガラスにても実施可能である。
FIG. 9 shows a magnetic path 70 in the configuration of the above embodiment. According to FIG. 9, the magnetic path connecting portion 30b,
It can be seen that the magnetic path 70 formed between the upper core 12 and the lower core 14 connected via 30c is very short. Therefore, it is possible to supply a magnetic head having a small magnetic path and good C / N characteristics. When the leakage magnetic flux shown by 72 may cause an increase in inductance or a decrease in reproduction efficiency, as shown in FIG. 10, a length W formed by joining the core halves 12A and 12B of the upper core 12 is formed. Is substantially the same as the magnetic path width L of the lower core 14. In this case, non-magnetic ceramics 7 are provided at both ends of the core halves 12A and 12B in the direction of medium sliding.
4 is preferably provided by bonding. The ceramic 74 is preferably made of Al 2 O 3 , TiO 2 , Ca—Ti based ceramic, or the like. Although the ceramic 74 is provided in consideration of abrasion, it can be applied to glass.

【0055】以上説明した実施例によれば、上部コア1
2の厚さを薄くし、下部コア14の磁路の長さおよび断
面積を小さくすることにより、磁気ヘッド10全体の磁
路を小型化することができる。
According to the embodiment described above, the upper core 1
2, the magnetic path of the entire magnetic head 10 can be miniaturized by reducing the thickness and the cross-sectional area of the magnetic path of the lower core 14.

【0056】また、下部コア14(基台18)は、Mn
−Znフェライト等の強磁性酸化物磁性材から形成され
ているため、磁路の幅と厚さを、直交する2組の一対の
規制溝19A,19B,20A,20Bで規制すること
により、磁路の小型化を図ることができる。基台18に
フェライトを使用する理由は、加工形状に自由度が有
り、多数個取りに適していることである。
The lower core 14 (base 18) is made of Mn.
-Since it is made of a ferromagnetic oxide magnetic material such as Zn ferrite, the width and the thickness of the magnetic path are regulated by a pair of orthogonal regulating grooves 19A, 19B, 20A, and 20B, so that The size of the road can be reduced. The reason for using ferrite for the base 18 is that there is a degree of freedom in the processing shape and it is suitable for multi-cavity.

【0057】また、薄膜コイル13の引き出しは、下部
コア14の磁路の幅を規制する溝19A,19Bが形成
された部分に導電膜33を形成しておくことで、薄膜コ
イル13形成時に容易に導電膜33と薄膜コイル13の
接続が行われるので、生産性に優れている。従来の薄膜
ヘッドでは、下部磁性膜,薄膜コイル,ターミナル,上
部磁性膜等と複数の層で構成され、薄膜コイル形成の部
分だけ見ても多くの工程を有するが、本実施例における
薄膜コイル13の層は、ターミナル形成が不要なために
一層で形成でき、明らかに生産性が高い。
The thin-film coil 13 can be easily pulled out by forming the conductive film 33 in the portion where the grooves 19A and 19B for regulating the width of the magnetic path of the lower core 14 are formed. Since the connection between the conductive film 33 and the thin-film coil 13 is made, the productivity is excellent. The conventional thin-film head is composed of a lower magnetic film, a thin-film coil, a terminal, an upper magnetic film, and a plurality of layers, and has many steps even if only the thin-film coil forming portion is viewed. Can be formed in one layer because terminal formation is unnecessary, and the productivity is clearly high.

【0058】また、端子の取り出しは、下部コア14側
面あるいは底面に露出する導電膜33の断面を利用し
て、プリント基板52に設けられた端子52aに接続さ
れるが、下部コア14の磁路幅を規制する溝19A,1
9Bの形状を工夫すれば、導電膜の引き出しは自由に対
応できる。
The terminals are connected to the terminals 52a provided on the printed circuit board 52 by using the cross section of the conductive film 33 exposed on the side surface or the bottom surface of the lower core 14. Grooves 19A, 1 for regulating width
If the shape of 9B is devised, the conductive film can be freely drawn.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の磁気ヘッドによれば、上部コアと下部コアとに分けて
構成し、下部コアの上部コアとの磁気的接合部の周囲に
薄膜形成法により形成されるコイルを設けるようにした
ので、コイルの引出線の接続を容易にし、磁路を小型化
した出力対ノイズ(C/N)特性の良い磁気ヘッドの生
産性を高めることができる。
As is apparent from the above description, according to the magnetic head of the present invention, the magnetic head is divided into an upper core and a lower core, and a thin film is formed around a magnetic junction between the lower core and the upper core. Since the coil formed by the forming method is provided, the connection of the lead wire of the coil is facilitated, and the productivity of the magnetic head having a small magnetic path and excellent output-to-noise (C / N) characteristics is improved. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の磁気ヘッドの一実施例を示す斜視図で
ある。
FIG. 1 is a perspective view showing one embodiment of a magnetic head according to the present invention.

【図2】(a),(b),(c)は、それぞれ本発明の
磁気ヘッドに適用できるMIGタイプの磁気ギャップ形
成部の例を示している。
FIGS. 2A, 2B, and 2C show examples of a MIG type magnetic gap forming portion applicable to the magnetic head of the present invention.

【図3】(a)〜(f)は、図1に示す磁気ヘッドの下
部コアの製造工程を、図4(g)〜(k)とともに示し
ている。(e’)は、(e)の変形例を示し、(e1
〜(e3)は、その説明図である。
FIGS. 3A to 3F show a manufacturing process of a lower core of the magnetic head shown in FIG. 1 together with FIGS. 4G to 4K. (E ′) shows a modification of (e), and (e 1 )
(E 3 ) are explanatory diagrams thereof.

【図4】(g)〜(k)は、図1に示す磁気ヘッドの下
部コアの製造工程を、図3(a)〜(f)とともに示し
ている。(h’)および(j’)は、(h)および
(j)のそれぞれ上面図を示している。
FIGS. 4 (g) to (k) show the manufacturing steps of the lower core of the magnetic head shown in FIG. 1 together with FIGS. 3 (a) to 3 (f). (H ') and (j') show top views of (h) and (j), respectively.

【図5】(a)〜(f)は、図1に示す磁気ヘッドの上
部コアの製造工程を示している。
5 (a) to 5 (f) show a process of manufacturing an upper core of the magnetic head shown in FIG.

【図6】(a),(b)は、上部コアと下部コアから磁
気ヘッドが得られる工程を示している。
FIGS. 6A and 6B show a process in which a magnetic head is obtained from an upper core and a lower core.

【図7】磁気ヘッドがプリント基板に形成された端子に
接続された構成を示している。
FIG. 7 shows a configuration in which a magnetic head is connected to terminals formed on a printed circuit board.

【図8】(a)〜(c)は、それぞれ本発明の磁気ヘッ
ドの他の実施例を示す図である。
FIGS. 8A to 8C are diagrams showing other embodiments of the magnetic head of the present invention.

【図9】本発明の磁気ヘッドにおける磁路を示す図であ
る。
FIG. 9 is a diagram showing a magnetic path in the magnetic head of the present invention.

【図10】本発明の磁気ヘッドのさらに他の実施例を示
す図である。
FIG. 10 is a view showing still another embodiment of the magnetic head of the present invention.

【図11】従来の磁気ヘッドの一例を示す図である。FIG. 11 is a diagram illustrating an example of a conventional magnetic head.

【図12】従来の磁気ヘッドの一例を示す図である。FIG. 12 is a diagram illustrating an example of a conventional magnetic head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 磁気ヘッド 12 上部コア 13 薄膜コイル 14 下部コア 16 磁性膜 18 基台 19A,19B 規制溝 20A,20B 規制溝 25 引出部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Magnetic head 12 Upper core 13 Thin film coil 14 Lower core 16 Magnetic film 18 Base 19A, 19B Regulatory groove 20A, 20B Regulatory groove 25 Leader

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 磁気ギャップを介して接合される磁性体
を有する第1のコアと、磁性体を有する第2のコアとを
備え、 前記第1のコアと前記第2のコアとの磁気的接合部の周
囲に薄膜形成法により形成されるコイルが配され、 前記第2のコアの接合部は、一対の第1の規制溝と、こ
の第1の規制溝に交叉して形成される一対の第2の溝と
により接合面積が規制され、 前記第2のコアの接合部の前記第1の規制溝によって規
制される部分に導電膜が配されるとともに、この導電膜
の一部が前記コイルの一部に接続していることを特徴と
する磁気ヘッド。
A first core having a magnetic body joined through a magnetic gap; and a second core having a magnetic body, wherein a magnetic force between the first core and the second core is provided. A coil formed by a thin-film forming method is disposed around the joint, and the joint of the second core is formed of a pair of first regulating grooves and a pair of first regulating grooves intersecting with the first regulating grooves. The joint area is regulated by the second groove, and a conductive film is disposed in a portion of the joint portion of the second core regulated by the first regulating groove. A magnetic head connected to a part of a coil.
【請求項2】 請求項1において、前記導電膜の一部
が、前記磁気ヘッドの側面に露出していることを特徴と
する磁気ヘッド。
2. The magnetic head according to claim 1, wherein a part of the conductive film is exposed on a side surface of the magnetic head.
【請求項3】 請求項1において、前記導電膜の一部
が、前記磁気ヘッドの底面に露出していることを特徴と
する磁気ヘッド。
3. The magnetic head according to claim 1, wherein a part of the conductive film is exposed on a bottom surface of the magnetic head.
【請求項4】 請求項1において、前記第2のコアは、
前記第1および第2の規制溝によって除去された部分に
ガラスが充填されていることを特徴とする磁気ヘッド。
4. The method according to claim 1, wherein the second core includes:
A magnetic head, wherein a portion removed by the first and second regulating grooves is filled with glass.
【請求項5】 請求項4において、コイルは、前記ガラ
スの前記第1のコアとの接合面に設けられていることを
特徴とする磁気ヘッド。
5. The magnetic head according to claim 4, wherein the coil is provided on a bonding surface of the glass with the first core.
【請求項6】 請求項1において、前記第1のコアは、
2つのコアハーフがギャップを介して接合されることに
より形成され、 前記第1のコアと第2のコアとの接合部は、2つあるこ
とを特徴とする磁気ヘッド。
6. The method according to claim 1, wherein the first core comprises:
A magnetic head, formed by joining two core halves via a gap, wherein there are two joints between the first core and the second core.
【請求項7】 請求項6において、前記接合部の一方の
面積が、1×10-2mm2以下であることを特徴とする
磁気ヘッド。
7. The magnetic head according to claim 6, wherein one area of the joint is 1 × 10 −2 mm 2 or less.
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