JPH0589429A - Thin-film coil type magnetic head and production thereof - Google Patents

Thin-film coil type magnetic head and production thereof

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JPH0589429A
JPH0589429A JP27329291A JP27329291A JPH0589429A JP H0589429 A JPH0589429 A JP H0589429A JP 27329291 A JP27329291 A JP 27329291A JP 27329291 A JP27329291 A JP 27329291A JP H0589429 A JPH0589429 A JP H0589429A
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Japan
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coil
magnetic
ferrite core
ferrite
magnetic head
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JP27329291A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuhiro Terada
伸大 寺田
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NGK Insulators Ltd
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NGK Insulators Ltd
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    • G11INFORMATION STORAGE
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    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3109Details
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Abstract

PURPOSE:To improve a high-frequency characteristic while assuring good head efficiency by spirally forming a coil of conductive film via insulating layers around a ferrite core formed to a prescribed thickness. CONSTITUTION:A thin planar core chip 14 as the 1st ferrite core and a slider body 10 as the 2nd ferrite core are butted and joined to constitute a magnetic circuit. A magnetic gap 26 of a above-mentioned spacing is formed between the butt surfaces of these chips 14, 10 and the coil 18 is provided on the 1st ferrite core 14. The 1st ferrite core 14 is formed at 10 to 100mum thickness and the coil 18 is spirally formed of the conductive thin film via the insulating layers 20, 21 around this core 14, by which the thin-film coil type magnetic head is spirally formed. A magnetic metallic film 28 is provided on at least either of the opposite surfaces of the two cores 14, 10 in the part where the magnetic gap 26 is formed. The low inductance characteristic and low magnetic resistance are compatibly obtd. in this way and the high-frequency characteristic is improved while the good head efficiency is assured.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【技術分野】本発明は、薄膜コイル型磁気ヘッドおよび
その製造方法に係り、特に磁気記録媒体における高記録
密度化に有利に対処することのできる薄膜コイル型の磁
気ヘッドと、その製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film coil type magnetic head and a method for manufacturing the same, and more particularly to a thin film coil type magnetic head capable of advantageously dealing with an increase in recording density in a magnetic recording medium and a method for manufacturing the same. Is.

【0002】[0002]

【背景技術】従来から、RDDやHDD,FDD,VT
R等に用いられる磁気ヘッドとしては、第一のフェライ
トコアと第二のフェライトコアとを、突き合わせて接合
することにより磁気回路を構成し、更に、それらの突合
せ面間に所定間隙の磁気ギャップを形成すると共に、第
一のフェライトコアに巻線コイルを装着せしめて成る、
所謂バルクタイプのものが用いられている。
BACKGROUND ART Conventionally, RDD, HDD, FDD, VT
As a magnetic head used for R or the like, a first ferrite core and a second ferrite core are butted and joined to each other to form a magnetic circuit, and a magnetic gap having a predetermined gap is provided between the butted surfaces. It is formed by mounting the winding coil on the first ferrite core,
A so-called bulk type is used.

【0003】ところが、このバルクタイプの磁気ヘッド
においては、フェライト材が脆弱であることに加えて、
コイルの巻線乃至は装着の際の強度確保のために、第一
のフェライトコアを薄肉化することが難しく、通常、2
00μm以上の厚さで形成されていた。そのために、イ
ンダクタンスが大きくなることが避けられず、20MHz
以上の高周波で電気的共振を生じ易いことから、近年の
磁気記録媒体における高記録密度化、即ち線密度の増大
に伴う高周波数化に対処できないという問題を有してい
た。
However, in this bulk type magnetic head, in addition to the fragile ferrite material,
It is difficult to reduce the thickness of the first ferrite core in order to secure the strength when winding or mounting the coil.
It was formed with a thickness of 00 μm or more. For that reason, it is unavoidable that the inductance becomes large, and 20MHz
Since electric resonance is likely to occur at the above high frequencies, there has been a problem that it is not possible to cope with the recent increase in recording density of magnetic recording media, that is, increase in frequency accompanying increase in linear density.

【0004】一方、近年、磁気回路およびコイルを、そ
れぞれ、フォトエッチング等の薄膜プロセスによって形
成した磁性膜および導電性膜にて構成せしめて成る、所
謂薄膜タイプの磁気ヘッドが、提案されている。この薄
膜タイプの磁気ヘッドでは、低インダクタンス特性が有
利に実現され得ることから、磁気記録媒体における記録
密度の増大に伴う高周波数化に、有利に対応することが
可能となる。
On the other hand, in recent years, a so-called thin film type magnetic head has been proposed in which a magnetic circuit and a coil are respectively composed of a magnetic film and a conductive film formed by a thin film process such as photoetching. In this thin film type magnetic head, low inductance characteristics can be advantageously realized, so that it is possible to advantageously cope with higher frequencies accompanying the increase in recording density in the magnetic recording medium.

【0005】しかしながら、かかる薄膜タイプの磁気ヘ
ッドにおいては、磁路を構成する磁性板が薄過ぎるため
に、前述のバルクタイプに比して、磁気抵抗の増大に起
因するヘッド効率の低下が避けられず、十分な信号の応
答性が得られ難いという問題があった。けだし、薄膜タ
イプの磁気ヘッドにおける磁性板は、一般にスパッタリ
ング法で形成されることから、厚肉化しようとすると、
製作時間の長大化や膜ストレスによる剥離の問題が惹起
されることとなり、実際には、厚さを5μm以下とせざ
るを得ないからである。
However, in such a thin-film type magnetic head, since the magnetic plate forming the magnetic path is too thin, it is possible to avoid a decrease in head efficiency due to an increase in magnetic resistance as compared with the bulk type described above. However, there is a problem that it is difficult to obtain sufficient signal responsiveness. The magnetic plate in a thin film type magnetic head is generally formed by a sputtering method, so if one tries to increase the thickness,
This is because problems such as prolongation of manufacturing time and peeling due to film stress are caused, and in reality, the thickness must be 5 μm or less.

【0006】要するに、従来から知られているバルクタ
イプや薄膜タイプの磁気ヘッドに関する技術では、磁気
記録媒体における記録密度の増大に伴う高周波数化に対
処するための低インダクタンス特性と、良好なヘッド効
率を得るための低磁気抵抗特性とを、共に妥当なところ
で満足せしめ得る磁気ヘッドを実現することが、極めて
困難であったのである。
[0006] In short, in the conventionally known technology relating to the bulk type or thin film type magnetic head, a low inductance characteristic for coping with an increase in frequency accompanying an increase in recording density in a magnetic recording medium, and a good head efficiency. It has been extremely difficult to realize a magnetic head which can satisfy both the low magnetic resistance characteristic for obtaining the desired value at a reasonable place.

【0007】[0007]

【解決課題】ここにおいて、本発明は、上述の如き事情
を背景として為されたものであって、その解決課題とす
るところは、良好なヘッド効率を確保しつつ、低インダ
クタンス特性を達成することのできる新規な構造の磁気
ヘッドおよび該磁気ヘッドの有利な製造方法を提供する
ことにある。
The present invention has been made in view of the circumstances as described above, and the problem to be solved is to achieve a low inductance characteristic while ensuring good head efficiency. It is an object of the present invention to provide a magnetic head having a novel structure capable of achieving the above and an advantageous manufacturing method of the magnetic head.

【0008】[0008]

【解決手段】そして、かかる課題を解決するために、本
発明にあっては、第一のフェライトコアと第二のフェラ
イトコアとを、突き合わせて接合することにより磁気回
路を構成し、それらの突合せ面間に所定間隙の磁気ギャ
ップを形成すると共に、該第一のフェライトコアにコイ
ルを設けて成る磁気ヘッドにおいて、少なくとも前記第
一のフェライトコアを、10〜100μmの厚さで形成
すると共に、該第一のフェライトコアの周りに、絶縁層
を介して、前記コイルを、導電性薄膜によって螺旋状に
形成した薄膜コイル型磁気ヘッドを、その特徴とするも
のである。
In order to solve such a problem, in the present invention, a first ferrite core and a second ferrite core are butted and joined together to form a magnetic circuit, and the butted parts are joined together. In a magnetic head in which a magnetic gap having a predetermined gap is formed between surfaces and a coil is provided on the first ferrite core, at least the first ferrite core is formed to have a thickness of 10 to 100 μm, and The thin-film coil type magnetic head is characterized in that the coil is spirally formed of a conductive thin film around the first ferrite core with an insulating layer interposed therebetween.

【0009】また、本発明は、そのような薄膜コイル型
磁気ヘッドにおいて、前記磁気ギャップ形成部位におけ
る前記第一のフェライトコアと前記第二のフェライトコ
アとの対向面の少なくとも一方に、金属磁性層を設けた
薄膜コイル型磁気ヘッドも、その特徴とするものであ
る。
Further, according to the present invention, in such a thin film coil type magnetic head, a metal magnetic layer is formed on at least one of the facing surfaces of the first ferrite core and the second ferrite core in the magnetic gap forming portion. A thin film coil type magnetic head provided with is also one of its features.

【0010】更にまた、本発明は、前記第二のフェライ
トコアが、10〜100μmの厚さで形成されていると
共に、所定の保持部材に設けられた凹溝内に、非磁性層
を介して、埋め込まれている、前述の如き薄膜コイル型
磁気ヘッドをも、その特徴とするものである。
Furthermore, according to the present invention, the second ferrite core is formed to have a thickness of 10 to 100 μm, and a non-magnetic layer is interposed in a groove provided in a predetermined holding member. The thin-film coil type magnetic head as described above, which is embedded, is also a feature.

【0011】さらに、本発明は、前述の如き本発明に係
る薄膜コイル型磁気ヘッドの製造方法であって、(a)
所定の支持部材の表面に、導電性薄膜によってコイル半
体を形成する工程と、(b)該コイル半体が形成された
支持部材の表面に、絶縁層を介して、フェライト基板を
固着せしめる工程と、(c)該フェライト基板を、10
〜100μmの厚さにまで、研磨すると共に、所定形状
に整形することにより、前記第一のフェライトコアを形
成する工程と、(d)該第一のフェライトコアが形成さ
れた前記支持部材の表面に、絶縁層を介して、導電性薄
膜によってコイル半体を形成し、前記支持部材の表面に
形成されたコイル半体と接続することにより、前記コイ
ルを形成する工程とを、含む薄膜コイル型磁気ヘッドの
製造方法をも、その特徴とするものである。
Further, the present invention is a method for manufacturing a thin film coil type magnetic head according to the present invention as described above, which comprises (a)
A step of forming a coil half with a conductive thin film on the surface of a predetermined support member; and (b) a step of fixing a ferrite substrate to the surface of the support member on which the coil half is formed via an insulating layer. And (c) the ferrite substrate
A step of forming the first ferrite core by polishing and shaping into a predetermined shape to a thickness of up to 100 μm, and (d) the surface of the support member on which the first ferrite core is formed. And a step of forming a coil half by forming a coil half with a conductive thin film via an insulating layer and connecting the coil half with the coil half formed on the surface of the support member. The method of manufacturing a magnetic head is also a feature thereof.

【0012】また、本発明に係る薄膜コイル型磁気ヘッ
ドの製造方法においては、例えば、前記支持部材に形成
された前記第一のフェライトコアを、前記第二のフェラ
イトコアに接合せしめた後、かかる支持部材が除去され
ることとなる。
In the method of manufacturing a thin film coil type magnetic head according to the present invention, for example, after the first ferrite core formed on the supporting member is joined to the second ferrite core, The support member will be removed.

【0013】或いはまた、本発明に係る薄膜コイル型磁
気ヘッドの製造方法においては、例えば、前記支持部材
が、前記第二のフェライトコアを構成する部材によって
形成される。
Alternatively, in the method of manufacturing a thin film coil type magnetic head according to the present invention, for example, the support member is formed of a member forming the second ferrite core.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明を更に具体的に明らかにするた
めに、本発明の実施例について、図面を参照しつつ、詳
細に説明することとする。
The embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings in order to clarify the present invention more specifically.

【0015】先ず、本発明に従う構造とされた、RDD
用モノリシック型磁気ヘッドの一具体例が、図1に示さ
れている。また、その要部の拡大平面図及び断面図が、
図2及び図3に、更に、その要部の保護膜を除去した状
態の斜視説明図が、図4に示されている。
First, the RDD having the structure according to the present invention is formed.
A specific example of a monolithic magnetic head for a magnetic disk is shown in FIG. In addition, an enlarged plan view and a cross-sectional view of the main part are
2 and 3, a perspective explanatory view of the state in which the protective film of the main part is further removed is shown in FIG.

【0016】これらの図において、10は、Ni−Zn
フェライトやMn−Znフェライトの如き、フェライト
からなるスライダ本体である。また、このスライダ本体
10には、磁気ディスク等の磁気記録媒体に対向せしめ
られる側の面上に、従来と同様、所定高さの一対の空気
ベアリング部12,12が設けられている。
In these figures, 10 is Ni-Zn.
A slider body made of ferrite such as ferrite or Mn-Zn ferrite. Further, the slider body 10 is provided with a pair of air bearing portions 12, 12 having a predetermined height on the surface facing the magnetic recording medium such as a magnetic disk as in the conventional case.

【0017】また、かかるスライダ本体10のトレーリ
ング側の端面には、厚さ方向中央部分を幅方向に延びる
凹溝16が形成されており、この凹溝16を厚さ方向に
跨ぐようにして、第一のフェライトコアとしての薄肉板
状のコアチップ14が配設され、凹溝16を挟んだ両側
部分に対して、ガラス等の非磁性の接合材により、一体
的に接合されている。なお、このコアチップ14の材質
としては、前記スライダ本体10と同様なものが、採用
される。
Further, a groove 16 extending in the widthwise direction at the central portion in the thickness direction is formed on the trailing side end surface of the slider body 10, and the groove 16 is formed so as to straddle the thicknesswise direction. A thin plate-shaped core chip 14 serving as a first ferrite core is provided, and is integrally joined to both side portions sandwiching the concave groove 16 with a non-magnetic joining material such as glass. As the material of the core chip 14, the same material as that of the slider body 10 is adopted.

【0018】そして、これらスライダ本体10とコアチ
ップ14とによって、磁気回路としての環状の閉磁路が
構成されていると共に、それらスライダ本体10とコア
チップ14との接合面間に、空気ベアリング部12に露
出する所定間隙の磁気ギャップ26が、形成されてい
る。なお、このことから明らかなように、本実施例で
は、スライダ本体10が、第二のフェライトコアとして
形成されているのである。また、本実施例では、磁気ギ
ャップ26を形成するスライダ本体10とコアチップ1
4との対向面に対して、それぞれセンダスト等からなる
金属磁性層28,29が設けられており、所謂メタルイ
ンギャップ(MIG)構造とされている。
The slider body 10 and the core chip 14 form an annular closed magnetic circuit as a magnetic circuit, and are exposed to the air bearing portion 12 between the joint surfaces of the slider body 10 and the core chip 14. A magnetic gap 26 having a predetermined gap is formed. As is clear from this, in the present embodiment, the slider body 10 is formed as the second ferrite core. Further, in this embodiment, the slider body 10 and the core chip 1 that form the magnetic gap 26 are formed.
Metal magnetic layers 28 and 29 made of sendust or the like are provided on the surface facing the surface 4, respectively, and have a so-called metal in gap (MIG) structure.

【0019】さらに、前記コアチップ14の周囲には、
絶縁層20,21によって電気的に絶縁された状態で、
その外周を螺旋状に取り巻くようにして延びるコイル1
8が、設けられている。ここにおいて、このコイル18
は、スパッタリング法やメッキ法、フォトエッチング法
等の手法を用いた薄膜プロセスによって形成された導電
性薄膜によって形成されている。なお、このコイル18
の両端部には、それぞれリード端子22が設けられてお
り、これらのリード端子22を通じて、コイル18に対
して、記録電流の給電或いは再生電流の取出しが行なわ
れるようになっている。
Further, around the core chip 14,
In a state of being electrically insulated by the insulating layers 20 and 21,
Coil 1 that extends so as to surround its outer periphery in a spiral shape
8 are provided. Here, this coil 18
Is formed of a conductive thin film formed by a thin film process using a method such as a sputtering method, a plating method, or a photo etching method. In addition, this coil 18
Lead terminals 22 are provided at both ends of the coil 18, respectively, and a recording current is supplied to the coil 18 or a reproducing current is taken out through the lead terminals 22.

【0020】また、かくの如く、コアチップ14やコイ
ル18等が設けられてなるスライダ本体10の端面上に
は、それらを保護するために、所定厚さの保護層30が
設けられている。そして、この保護層30により、表面
上には、コイル18のリード端子22,22のみが、露
呈されている。
Further, as described above, a protective layer 30 having a predetermined thickness is provided on the end surface of the slider body 10 provided with the core chip 14 and the coil 18 to protect them. Then, only the lead terminals 22, 22 of the coil 18 are exposed on the surface by the protective layer 30.

【0021】さらに、このような構造の磁気ヘッドにお
いて、前記磁気回路を構成するコアチップ14は、その
厚さ:dが、10〜100μm、好ましくは10〜50
μmとなるように設定されている。換言すれば、磁気ヘ
ッドを、上述の如き構造にて構成したが故に、コアチッ
プ14の厚さ:dを、そのように設定することが可能と
なったのであり、それによって、良好なるヘッド効率を
確保しつつ、低インダクタンス特性が、有利に実現され
得ることとなったのである。
Further, in the magnetic head having such a structure, the core chip 14 constituting the magnetic circuit has a thickness d of 10 to 100 μm, preferably 10 to 50 μm.
It is set to be μm. In other words, since the magnetic head has the structure as described above, it is possible to set the thickness d of the core chip 14 in such a manner, thereby improving the head efficiency. Thus, the low inductance characteristic can be advantageously realized while ensuring.

【0022】より詳細には、コアチップ14を、従来の
薄膜タイプの磁気ヘッドの如き金属磁性膜でなく、フェ
ライトにて形成したことによって、膜ストレスによる剥
離等の問題を伴うことなく、10μm以上の肉厚を、有
利に且つ容易に確保することが可能となったのであり、
また、コイル18を、従来のバルクタイプの磁気ヘッド
の如き手巻きコイルでなく薄膜コイルにて構成したこと
によって、コイルの装着のためにコアチップ14に要求
される強度の低下が有利に図られ得ることから、その厚
さを100μm以下に設定することが可能となったので
ある。
More specifically, since the core chip 14 is formed of ferrite instead of a metal magnetic film such as the conventional thin film type magnetic head, the core chip 14 has a thickness of 10 μm or more without causing a problem such as peeling due to film stress. It has become possible to secure the wall thickness in an advantageous and easy manner.
In addition, since the coil 18 is configured by a thin film coil instead of a hand-wound coil such as the conventional bulk type magnetic head, the strength required for the core chip 14 for mounting the coil can be advantageously reduced. Therefore, the thickness can be set to 100 μm or less.

【0023】そうして、かくの如く、磁気回路を構成す
るコアチップ14の厚さ:dを、10μm以上としたこ
とによって、磁気抵抗の著しい増大を回避し、良好なる
ヘッド効率を得ることが可能となったのであり、また、
該コアチップ14の厚さ:dを、100μm以下とした
ことによって、高インダクタンス化を回避し、良好なる
高周波特性を得ることが可能となったのである。そし
て、それによって、磁気記録媒体の高密度化に対して極
めて有利に対処し得る磁気ヘッドが、実現され得ること
となったのである。
By thus setting the thickness d of the core chip 14 constituting the magnetic circuit to be 10 μm or more, a significant increase in magnetic resistance can be avoided and good head efficiency can be obtained. And, again,
By setting the thickness d of the core chip 14 to 100 μm or less, it is possible to avoid high inductance and obtain good high frequency characteristics. As a result, it is possible to realize a magnetic head that can cope with high density of the magnetic recording medium extremely advantageously.

【0024】しかも、かかる磁気ヘッドにおいては、磁
気回路を構成するコアチップ14がフェライトで形成さ
れていることから、金属磁性膜にて磁気回路が構成され
る薄膜タイプのものに比して、渦電流損の軽減が、極め
て効果的に図られ得るのであり、上述の如きコアチップ
14の厚さに基づく効果と相俟って、より一層優れたヘ
ッド効率が発揮され得るのである。
Moreover, in such a magnetic head, since the core chip 14 constituting the magnetic circuit is made of ferrite, the eddy current is larger than that of the thin film type magnetic circuit in which the magnetic circuit is constituted by the metal magnetic film. The loss can be reduced extremely effectively, and in combination with the effect based on the thickness of the core chip 14 as described above, even more excellent head efficiency can be exhibited.

【0025】また、本実施例の磁気ヘッドにあっては、
磁気ギャップ26の形成部位に金属磁性層28を設けて
なるメタルインギャップ構造が採用されており、磁気ギ
ャップ26における漏れ磁界の磁束密度を効果的に得る
ことができることから、高保持力の磁気記録媒体に対し
ても、良好に適用され得ることとなり、上述の如き優れ
た高周波特性と相俟って、磁気記録媒体の高密度化に対
して、より有利に対処し得ることとなる。
In the magnetic head of this embodiment,
Since the metal-in-gap structure in which the metal magnetic layer 28 is provided in the portion where the magnetic gap 26 is formed is employed, and the magnetic flux density of the leakage magnetic field in the magnetic gap 26 can be effectively obtained, magnetic recording with high coercive force is achieved. It can be favorably applied to a medium, and in combination with the excellent high frequency characteristics as described above, it is possible to more advantageously cope with the high density of the magnetic recording medium.

【0026】ところで、かくの如き本発明に従う薄膜コ
イル型磁気ヘッドは、公知の手法を採用して容易に製造
し得るものであるが、特に、以下に述べる如き手法に従
って、有利に製造することができる。
By the way, the thin film coil type magnetic head according to the present invention as described above can be easily manufactured by adopting a known method, but particularly, it can be advantageously manufactured by the method described below. it can.

【0027】それには、先ず、図5に示されるように、
後述する第一のフェライトコアとしてのコアチップ42
を与える第一のフェライト基板32を準備する。なお、
この第一のフェライト基板32には、前述の如く、Mn
−ZnフェライトやNi−Znフェライトの単結晶材が
好適に用いられる。そして、この第一のフェライト基板
32の一面に鏡面加工を施した後、その面に、SiO2
やAl2 3 等の絶縁層34を、スパッタリングによ
り、1μm程度の厚さで形成する。
First, as shown in FIG.
Core chip 42 as a first ferrite core described later
A first ferrite substrate 32 that provides In addition,
As described above, Mn is added to the first ferrite substrate 32.
A single crystal material of -Zn ferrite or Ni-Zn ferrite is preferably used. Then, after mirror-finishing one surface of the first ferrite substrate 32, SiO 2 is formed on the surface.
An insulating layer 34 such as Al 2 O 3 or the like is formed by sputtering to have a thickness of about 1 μm.

【0028】次いで、図6に示されるように、第一のフ
ェライト基板32における絶縁層34の上に、銅や銅合
金等の導電性薄膜により、後述するコイル48を与える
コイル半体36を、複数本の平行な直線形態をもって形
成する。このコイル半体36は、薄膜プロセスによって
形成され、例えば、絶縁層34上の全面に、スパッタリ
ングにて銅膜を形成した後、レジストのパタニングを行
ない、その後、エッチングし、更にレジストを剥離する
方法によって、4〜10μm程度の厚さで形成される。
Then, as shown in FIG. 6, on the insulating layer 34 of the first ferrite substrate 32, a coil half body 36 for providing a coil 48 to be described later is formed by a conductive thin film such as copper or copper alloy. It is formed with a plurality of parallel straight lines. The coil half body 36 is formed by a thin film process, for example, a method of forming a copper film on the entire surface of the insulating layer 34 by sputtering, patterning the resist, and then etching and further peeling the resist. Is formed with a thickness of about 4 to 10 μm.

【0029】さらに、図7に示されるように、コイル半
体36を覆うように、SiO2 やAl2 3 等の絶縁層
38を、スパッタリングにより、形成する。なお、図7
は、第一のフェライト基板32の要部のみを示す拡大断
面図である。
Further, as shown in FIG. 7, an insulating layer 38 such as SiO 2 or Al 2 O 3 is formed by sputtering so as to cover the coil half body 36. Note that FIG.
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing only a main part of the first ferrite substrate 32.

【0030】また、図8に示されるように、支持部材と
しての支持基板40を準備する。なお、この支持基板4
0は、磁気ヘッドを構成するものでないから、その材質
は特に限定されるものではないが、第一のフェライト基
板32との接着力の確保や後の除去の容易さ等の点か
ら、例えば、単結晶乃至は多結晶のフェライトが、好適
に用いられる。そして、この支持基板40の一面を鏡面
加工して接着面とした後、該接着面と上記第一のフェラ
イト基板32における絶縁層38の形成面との、少なく
とも何れか一方に、接合用ガラス層を、スパッタリング
によって形成する。そして、この接合用ガラス層を介し
て、第一のフェライト基板32と支持基板40とを突き
合わせ、例えば500〜600℃に加熱することによ
り、それらを接合する。
Further, as shown in FIG. 8, a supporting substrate 40 as a supporting member is prepared. The supporting substrate 4
Since 0 does not constitute a magnetic head, its material is not particularly limited, but from the viewpoint of securing adhesive force with the first ferrite substrate 32 and ease of subsequent removal, for example, Single crystal or polycrystalline ferrite is preferably used. Then, after one surface of the support substrate 40 is mirror-finished to form an adhesive surface, a bonding glass layer is formed on at least one of the adhesive surface and the surface on which the insulating layer 38 is formed on the first ferrite substrate 32. Are formed by sputtering. Then, the first ferrite substrate 32 and the supporting substrate 40 are butted against each other through the bonding glass layer and heated to, for example, 500 to 600 ° C. to bond them.

【0031】次いで、この得られた接合体の第一のフェ
ライト基板32に対して、研磨加工を施し、薄肉化す
る。ここにおいて、かかる研磨加工は、第一のフェライ
ト基板32の厚さが、10〜100μmの範囲内に目的
とする寸法となるように、行なわれることとなる。その
後、図9に示されるように、この薄肉化した第一のフェ
ライト基板32に整形操作を加えることにより、所定形
状のコアチップ42を形成する。なお、かかる整形操作
は、例えば、第一のフェライト基板32上において、目
的とするコアチップの形状に、レジストをパタニングし
た後、リン酸水溶液中で、絶縁層34を介してコイル半
体36が見えるようになるまで、即ち不要部分のフェラ
イトが完全に除去されるまで、エッチングし、その後、
レジストを剥離する方法によって、行なわれる。
Next, the first ferrite substrate 32 of the obtained joined body is subjected to polishing to reduce the thickness. Here, the polishing process is performed such that the thickness of the first ferrite substrate 32 becomes a target dimension within the range of 10 to 100 μm. Then, as shown in FIG. 9, a shaping operation is applied to the thinned first ferrite substrate 32 to form a core chip 42 having a predetermined shape. The shaping operation is performed, for example, by patterning the resist into the desired shape of the core chip on the first ferrite substrate 32, and then viewing the coil half body 36 in the phosphoric acid aqueous solution through the insulating layer 34. Etching until the unnecessary parts of ferrite are completely removed, and then
This is performed by the method of removing the resist.

【0032】さらに、図10に示されるように、支持基
板40におけるコアチップ42が固着された面に対し
て、該コアチップ42の表面を含む全面を覆うように、
SiO2 やAl2 3 等の絶縁層44を、スパッタリン
グにより、1μm程度の厚さで形成する。その後、コア
チップ42における、後述する第二のフェライト基板5
2との接合部a,b、およびコイル半体36における、
後述するコイル半体46との各接続部cにおいて、それ
ぞれ、絶縁層44を取り除く。この絶縁層44の除去
は、一般に、レジストのパタニングを行なった後、エッ
チングし、その後、レジストを剥離することによって行
なわれる。
Further, as shown in FIG. 10, with respect to the surface of the support substrate 40 to which the core chip 42 is fixed, the entire surface including the surface of the core chip 42 is covered.
An insulating layer 44 such as SiO 2 or Al 2 O 3 is formed by sputtering to have a thickness of about 1 μm. After that, the second ferrite substrate 5 described later in the core chip 42 is formed.
At the joints a and b with 2 and the coil half 36,
The insulating layer 44 is removed at each connection portion c with the coil half body 46 described later. Generally, the insulating layer 44 is removed by patterning the resist, etching the resist, and then peeling the resist.

【0033】次いで、図11に示されるように、絶縁層
44が形成された面に対し、複数本の平行な略直線状形
態をもって、コアチップ42を跨いで延びるコイル半体
46を形成し、前記コイル半体36における各接続部c
に接続する。それによって、全体としてコアチップ42
の周りを螺旋状に延びるコイル48が形成される。な
お、かかるコイル半体46は、前記コイル半体36と同
様、例えば、銅膜のスパッタリングと、フォトエッチン
グ操作によって、形成される。また、このコイル半体4
6は、コアチップ42に対して、前記絶縁層34,44
により、電気的に絶縁されている。
Next, as shown in FIG. 11, a coil half body 46 extending over the core chip 42 is formed in a plurality of parallel and substantially linear shapes on the surface on which the insulating layer 44 is formed. Each connection part c in the coil half 36
Connect to. Thereby, the core chip 42 as a whole
A coil 48 is formed that extends spirally around the. The coil half body 46 is formed by, for example, sputtering a copper film and performing a photoetching operation, like the coil half body 36. Also, this coil half 4
6 is the insulating layer 34, 44 with respect to the core chip 42.
Are electrically insulated by.

【0034】更にその後、図12に示されるように、コ
アチップ42における、前記接合部a,bに対して、そ
れぞれ、センダスト等の金属磁性層50を形成する。な
お、かかる金属磁性層50の形成は、例えば、上記コイ
ル半体46の形成と同様、金属磁性層のスパッタリング
と、フォトエッチング操作によって、2〜4μm程度の
厚さとなるように、行なわれる。また、その際には、か
かるエッチング操作によってコイル半体46(コイル4
8)が除去されるのを防ぐために、金属磁性層50のス
パッタリングの前に、コイル半体46を保護するレジス
トを塗布する等の処理が必要となる。
Thereafter, as shown in FIG. 12, a metal magnetic layer 50 of sendust or the like is formed on each of the joint portions a and b in the core chip 42. The metal magnetic layer 50 is formed, for example, by sputtering the metal magnetic layer and performing a photoetching operation so as to have a thickness of about 2 to 4 μm, similar to the formation of the coil half body 46. At that time, the coil half body 46 (coil 4
In order to prevent 8) from being removed, it is necessary to perform a process such as applying a resist for protecting the coil half body 46 before the sputtering of the metal magnetic layer 50.

【0035】一方、支持基板40上におけるコアチップ
42やコイル48等の形成工程とは別途、図13に示さ
れるように、第二のフェライトコアとしてのスライダ本
体を与える第二のフェライト基板52を準備する。な
お、この第二のフェライト基板52としては、前述の如
く、Mn−ZnフェライトやNi−Znフェライトの単
結晶材が好適に用いられる。そして、この第二のフェラ
イト基板52の一面(前記コアチップ42が接合される
べきトレーリング側の面)に、鏡面加工を施した後、そ
の面の厚さ方向中央部分に、幅方向に延びる凹溝54を
形成する。なお、この凹溝54は、例えば、フォトリソ
グラフィ手法により、第二のフェライト基板52の端面
における厚さ方向両端縁部に、それぞれ、レジスト膜を
形成後、リン酸等を用いた化学エッチング操作を施すこ
とにより行なわれる。また、かかる凹溝54の深さは、
後述する如く、その形成面に接合されるコアチップ42
およびコイル48に対して、十分な電気的および磁気的
絶縁性が得られるような程度とされ、通常、10〜30
μm程度の深さで形成される。
On the other hand, separately from the step of forming the core chip 42, the coil 48, etc. on the support substrate 40, as shown in FIG. 13, a second ferrite substrate 52 which provides a slider body as a second ferrite core is prepared. To do. As the second ferrite substrate 52, a single crystal material of Mn-Zn ferrite or Ni-Zn ferrite is preferably used as described above. Then, after mirror-finishing one surface of the second ferrite substrate 52 (the surface on the trailing side to which the core chip 42 is to be joined), a concave portion extending in the width direction is formed in the central portion in the thickness direction of the surface. The groove 54 is formed. The concave groove 54 is formed by, for example, a photolithography method on both end portions in the thickness direction of the end surface of the second ferrite substrate 52, after forming a resist film, and then performing a chemical etching operation using phosphoric acid or the like. It is performed by applying. The depth of the concave groove 54 is
As will be described later, the core chip 42 joined to the forming surface
And the coil 48 to such an extent that sufficient electric and magnetic insulation is obtained, and usually 10 to 30
It is formed with a depth of about μm.

【0036】次いで、図14に示されるように、第二の
フェライト基板52における凹溝54が形成された面に
対して、その少なくとも磁気ギャップの形成部位に、セ
ンダスト等の金属磁性層56を形成する。なお、かかる
金属磁性層56の形成は、例えば、前記コアチップ42
における金属磁性層50の形成と同様、金属磁性層のス
パッタリングと、フォトエッチング操作によって、2〜
4μm程度の厚さとなるように、行なわれる。また、本
実施例では、かかる金属磁性層56が、前記コアチップ
42に略対応した形状をもって、凹溝54の底部とバッ
クギャップ形成部位とを含んで形成されている。
Next, as shown in FIG. 14, a metal magnetic layer 56 of sendust or the like is formed on at least the magnetic gap forming portion of the surface of the second ferrite substrate 52 on which the concave groove 54 is formed. To do. The metal magnetic layer 56 is formed, for example, by the core chip 42.
Similarly to the formation of the metal magnetic layer 50 in FIG.
The thickness is set to about 4 μm. Further, in the present embodiment, the metal magnetic layer 56 is formed in a shape substantially corresponding to the core chip 42, including the bottom of the groove 54 and the back gap forming portion.

【0037】その後、この第二のフェライト基板52に
おける金属磁性層56の形成面と、前記支持基板40に
おけるコアチップ42の形成面との、少なくとも何れか
一方の面、好ましくは第二のフェライト基板52側の面
に対して、SiO2 等から成る磁気ギャップ形成用の絶
縁層を形成し、更に、接合用ガラス層を、スパッタリン
グ等によって所定厚さで形成する。そして、図15及び
図16に示されるように、この接合用ガラス層によっ
て、それら第二のフェライト基板52と支持基板40に
おけるコアチップ42とを接合せしめる。また、かかる
接合操作と同時に、第二のフェライト基板52と支持基
板40におけるコアチップ42との突き合わせ面以外の
部分に、ガラス60を流し込んで充填、固着せしめる。
After that, at least one of the surface of the second ferrite substrate 52 on which the metal magnetic layer 56 is formed and the surface of the support substrate 40 on which the core chip 42 is formed, preferably the second ferrite substrate 52. An insulating layer made of SiO 2 or the like for forming a magnetic gap is formed on the side surface, and a bonding glass layer is further formed to a predetermined thickness by sputtering or the like. Then, as shown in FIGS. 15 and 16, the second ferrite substrate 52 and the core chip 42 on the support substrate 40 are joined by this joining glass layer. Simultaneously with the bonding operation, the glass 60 is poured into a portion other than the abutting surface of the second ferrite substrate 52 and the support substrate 40 with respect to the core chip 42 to be filled and fixed.

【0038】さらに、かかる接合操作後、コアチップ4
2に接合された支持基板40を除去する。この支持基板
40の除去は、例えば、リン酸等を用いた化学エッチン
グによって、有利に為され得る。なお、その際、コアチ
ップ42と支持基板40との間に形成されたSiO2
から成る前記絶縁層38が、エッチング停止用のストッ
パとして機能し、コイル48等が保護され得る。
Further, after such joining operation, the core chip 4 is
The support substrate 40 bonded to 2 is removed. The removal of the support substrate 40 can be advantageously performed by, for example, chemical etching using phosphoric acid or the like. At this time, the insulating layer 38 made of SiO 2 or the like formed between the core chip 42 and the support substrate 40 functions as a stopper for stopping etching, and the coil 48 and the like can be protected.

【0039】すなわち、この支持基板40の除去によ
り、第二のフェライト基板52とコアチップ42とが一
体的に接合され、それらによって磁気回路が構成されて
成る接合体が得られるのであり、且つそれらの接合面に
形成された金属磁性層50,56が、絶縁層62を介し
て、互いに対向して接合されることにより、かかる金属
磁性層50,56の接合面間において、所定間隔の磁気
ギャップ64が形成されるのである。
That is, by removing the supporting substrate 40, the second ferrite substrate 52 and the core chip 42 are integrally joined, and a joined body is obtained in which a magnetic circuit is constituted by them, and these are joined together. The metal magnetic layers 50 and 56 formed on the bonding surfaces are bonded to face each other with the insulating layer 62 interposed therebetween, so that the magnetic gap 64 at a predetermined interval is formed between the bonding surfaces of the metal magnetic layers 50 and 56. Is formed.

【0040】また、かかる後、図17に示されるよう
に、第二のフェライト基板52とコアチップ42との接
合体におけるコイル48の両端部を、それぞれ、フェト
エッチング操作等によって露出させて、そこに銅メッキ
を施すことにより、それら両端部を厚肉化してリード端
子66,66を形成する。
After that, as shown in FIG. 17, both ends of the coil 48 in the bonded body of the second ferrite substrate 52 and the core chip 42 are exposed by a feto-etching operation or the like, and are exposed there. By applying copper plating, the both ends are thickened to form the lead terminals 66, 66.

【0041】その後、図18に示されるように、接合体
におけるコアチップ42側の面に、コアチップ42やコ
イル48等を覆う保護膜68を、Al2 3 等によっ
て、所定厚さで形成し、その表面を研磨することによっ
て、リード端子66,66のみを、表面に露呈させる。
After that, as shown in FIG. 18, a protective film 68 for covering the core chip 42, the coil 48, etc. is formed on the surface of the bonded body on the core chip 42 side with Al 2 O 3 or the like to have a predetermined thickness. By polishing the surface, only the lead terminals 66, 66 are exposed on the surface.

【0042】さらに、かかる接合体に対して、従来と同
様に、その磁気ギャップが露呈された面を研磨してギャ
ップデプス長を目的値に合わせ、引き続き空気ベアリン
グ部を機械加工又はフォトエッチングにて形成すると共
に、リーディングランプ加工を行なう。
Further, as in the conventional case, the surface exposed with the magnetic gap of the bonded body is polished to adjust the gap depth length to a target value, and then the air bearing portion is machined or photoetched. Along with the formation, a leading ramp process is performed.

【0043】そして、かくの如くして、コアチップ4
2、コイル48、リード端子66,66等の、磁気ヘッ
ドを構成する全ての部品が形成された接合体は、適当な
幅で切り出され、それぞれにチャンハー加工等の最終仕
上げが加えられることとなり、それによって、目的とす
る磁気ヘッドを、得ることができるのである。なお、こ
のようにして得られた磁気ヘッドは、図1乃至図3に示
されている如き構造を有するものである。
Then, as described above, the core chip 4
2. The joined body formed with all the components constituting the magnetic head, such as the coil 48, the lead terminals 66, 66, etc., is cut out with an appropriate width, and a final finish such as chamfer processing is added to each. As a result, the desired magnetic head can be obtained. The magnetic head thus obtained has a structure as shown in FIGS.

【0044】従って、上述の如き製造手法によれば、コ
アチップ42を形成する第一のフェライト基板32が、
支持基板40に対して固着、支持されており、該第一の
フェライト基板32を研磨する際における補強部材とし
て有効に機能し得ることから、かかる第一のフェライト
基板32を、欠損や折損等を回避しつつ、10〜100
μmの目的とする厚さにまで、容易に研削することがで
きるのであり、それによって、コアチップ42、延いて
は目的とする磁気ヘッドを有利に得ることができるので
ある。
Therefore, according to the manufacturing method as described above, the first ferrite substrate 32 forming the core chip 42 is
Since the first ferrite substrate 32 is fixed and supported by the support substrate 40 and can effectively function as a reinforcing member when polishing the first ferrite substrate 32, the first ferrite substrate 32 is not damaged or broken. 10-100 while avoiding
It is possible to easily grind to a desired thickness of μm, whereby the core chip 42 and thus the desired magnetic head can be obtained advantageously.

【0045】また、かかる製造手法によれば、フォトエ
ッチング等の薄膜プロセスによって、導電性薄膜から成
るコイルを、有利に形成することができるのであり、し
かも、一般的な薄膜コイルの製造工程に比して、薄膜形
成工程が簡単であることから、優れた磁気ヘッドの生産
性が、発揮され得るのである。
Further, according to such a manufacturing method, a coil made of a conductive thin film can be advantageously formed by a thin film process such as photoetching, and moreover, compared with a general thin film coil manufacturing process. Since the thin film forming process is simple, excellent productivity of the magnetic head can be exhibited.

【0046】なお、前記実施例における磁気ヘッドの製
造方法では、コアチップ42を構成する第一のフェライ
ト基板32が、単結晶フェライトのみから形成されてい
たが、それに代えて、図19に示されている如く、磁気
ギャップ形成部側が、ガラス等の非磁性材72にて形成
されて成る複合構造の第一のフェライト基板70を用い
ることも可能である。
In the method of manufacturing the magnetic head in the above-described embodiment, the first ferrite substrate 32 forming the core chip 42 was made of only single crystal ferrite. Instead, it is shown in FIG. As described above, it is possible to use the first ferrite substrate 70 having a composite structure in which the magnetic gap forming portion side is formed of the non-magnetic material 72 such as glass.

【0047】このような複合構造の第一のフェライト基
板70を用いると、図20及び図21に示されるよう
に、磁気ギャップ64の形成部位に位置する金属磁性層
50が、非磁性材72上に形成されることから、かかる
磁気ギャップ64の形成部位における磁束の漏れが、効
果的に防止され得るのである。
When the first ferrite substrate 70 having such a composite structure is used, as shown in FIGS. 20 and 21, the metal magnetic layer 50 located at the site where the magnetic gap 64 is formed is formed on the non-magnetic material 72. Therefore, the leakage of the magnetic flux at the portion where the magnetic gap 64 is formed can be effectively prevented.

【0048】すなわち、前述の如く、コアチップ42上
に、金属磁性層50を、スパッタリングとフォトエッチ
ング操作によって形成する場合には、該金属磁性層50
を、コアチップ42の表面形状と完全に同一形状で形成
することは、現実に不可能であり、コアチップ42の表
面形状よりも小さくなってしまうことが避けられない。
そのために、前記第一の方法で形成された磁気ヘッドで
は、コアチップ42が、金属磁性層50の周りにおい
て、第二のフェライト基板52(スライダ本体)側の金
属磁性層56と直接対向位置することとなり(図16参
照)、そこに磁束の漏れが発生する恐れがあるが、本実
施例では、コアチップ42における、第二のフェライト
基板52側の金属磁性層56と直接対向位置する部分
が、非磁性材72にて形成される(図21参照)ことか
ら、そのような磁束の漏れが、極めて有効に防止され得
るのである。
That is, as described above, when the metal magnetic layer 50 is formed on the core chip 42 by the sputtering and photoetching operations, the metal magnetic layer 50 is formed.
Is actually impossible to form with the same shape as the surface shape of the core chip 42, and is inevitably smaller than the surface shape of the core chip 42.
Therefore, in the magnetic head formed by the first method, the core chip 42 is positioned directly around the metal magnetic layer 50 so as to directly face the metal magnetic layer 56 on the second ferrite substrate 52 (slider body) side. (See FIG. 16), magnetic flux may leak there. However, in the present embodiment, the portion of the core chip 42 that is directly opposed to the metal magnetic layer 56 on the second ferrite substrate 52 side is a non-contact portion. Since it is formed of the magnetic material 72 (see FIG. 21), such leakage of magnetic flux can be prevented very effectively.

【0049】また、前記第一の実施例方法に従って磁気
ヘッドを製造するに際して、コアチップ42上に、金属
磁性層50を、スパッタリングとフォトエッチング操作
によって形成した後(図12参照)、図22に示されて
いる如く、レーザ誘起エッチングによって、かかる金属
磁性層50の両側縁部50a,50aを、コアチップ4
2と共に、トリミングして揃えるようにしても良い。
Further, in manufacturing the magnetic head according to the method of the first embodiment, the metal magnetic layer 50 is formed on the core chip 42 by the sputtering and photoetching operations (see FIG. 12), and then shown in FIG. As described above, the both side edges 50a, 50a of the metal magnetic layer 50 are removed by the laser-induced etching.
Along with 2, trimming may be performed.

【0050】すなわち、このようなトリミング加工を施
せば、図示されているように、コアチップ42におけ
る、第二のフェライト基板52側の金属磁性層56と直
接対向位置する部分が、有利に除去されることから、磁
気ギャップの形成部位におけるトラック幅が有利に規定
され得ると共に、磁束の漏れも効果的に防止され得るの
である。
That is, if such a trimming process is performed, as shown in the figure, the portion of the core chip 42 that directly faces the metal magnetic layer 56 on the second ferrite substrate 52 side is advantageously removed. Therefore, the track width at the magnetic gap forming portion can be advantageously defined, and the leakage of magnetic flux can be effectively prevented.

【0051】或いはまた、前記第一の実施例方法に従っ
て磁気ヘッドを製造するに際し、第二のフェライト基板
52とコアチップ42とを接合した接合体に対して、デ
プス長設定のための研磨を施し、空気ベアリング部を形
成し、リーディングランプ加工を行なった後、図23に
示されるように、磁気ギャップ64を形成する部位64
a,64aに対して、レーザによるトリミング加工を施
し、コアチップ42,第二のフェライト基板52および
金属磁性層50,56の幅を揃えるようにしても良い。
Alternatively, in manufacturing the magnetic head according to the method of the first embodiment, the bonded body in which the second ferrite substrate 52 and the core chip 42 are bonded is polished for setting the depth length, After forming the air bearing portion and performing the leading ramp processing, as shown in FIG. 23, a portion 64 where the magnetic gap 64 is formed.
The a and 64a may be trimmed with a laser so that the core chip 42, the second ferrite substrate 52, and the metal magnetic layers 50 and 56 have the same width.

【0052】すなわち、このようなトリミング加工を施
すことによっても、磁気ギャップの形成部位におけるト
ラック幅が有利に規定され得ると共に、磁束の漏れも効
果的に防止され得るのである。
That is, by performing such a trimming process, the track width at the magnetic gap forming portion can be advantageously defined, and the leakage of magnetic flux can be effectively prevented.

【0053】また、前記第一の実施例方法においては、
支持基板40を用い、該支持基板40に対して第一のフ
ェライト基板32を固着、支持せしめた状態で、第一の
フェライト基板32を研磨加工することによってコアチ
ップ42を形成したが、かかる支持基板40の代わり
に、凹溝54が形成された第二のフェライト基板52を
用い、該第二のフェライト基板上に、コアチップ42や
コイル48等を形成することも可能である。
In the method of the first embodiment,
The core chip 42 was formed by polishing the first ferrite substrate 32 using the support substrate 40 with the first ferrite substrate 32 fixed and supported to the support substrate 40. Instead of 40, it is also possible to use the second ferrite substrate 52 in which the concave groove 54 is formed and to form the core chip 42, the coil 48, etc. on the second ferrite substrate.

【0054】そして、そのような方法によれば、支持基
板40を用いる必要がなく、また、該支持基板40の除
去工程も不要となることから、製造工程の簡略化が、一
層効果的に図られ得ることとなる。
According to such a method, since it is not necessary to use the supporting substrate 40 and the removing step of the supporting substrate 40 is unnecessary, the simplification of the manufacturing process can be achieved more effectively. Can be done.

【0055】更にまた、前記第一の実施例においては、
磁気ギャップを挟んで対向する両側面に、それぞれセン
ダスト等の金属磁性層が配された、所謂MIG型磁気ヘ
ッドと、その製造方法に関する実施例について説明した
が、本発明は、そのような金属磁性層が設けられていな
い磁気ヘッドに対しても、同様に、適用され得るもので
ある。
Furthermore, in the first embodiment,
The so-called MIG type magnetic head in which the metal magnetic layers such as sendust are arranged on both side surfaces facing each other across the magnetic gap and the embodiment of the manufacturing method thereof have been described. The same can be applied to a magnetic head having no layer.

【0056】さらに、前記第一の実施例方法において
は、スライダ本体が第二のフェライト基板52にて形成
され、該スライダ本体によって、コアチップ42と協働
して磁気回路を形成する第二のフェライトコアが構成さ
れていたが、かかる第二のフェライトコアも、薄肉のコ
アチップ構造と為すことが可能である。そのための一具
体例が、図24〜29に示されている。
Further, in the method of the first embodiment, the slider body is formed by the second ferrite substrate 52, and the slider body cooperates with the core chip 42 to form the magnetic circuit. Although the core is configured, the second ferrite core can also have a thin core chip structure. One specific example for that is shown in FIGS.

【0057】すなわち、先ず、前記第一の実施例方法と
同様な工程により、第一のフェライト基板32を用い、
支持基板40上に、コアチップ42,コイル48等を形
成する(図5〜12参照)。
That is, first, the first ferrite substrate 32 is used by the same steps as in the method of the first embodiment,
The core chip 42, the coil 48, and the like are formed on the support substrate 40 (see FIGS. 5 to 12).

【0058】一方、そのような工程とは別途、図24に
示されるように、スライダ本体を形成する保持部材とし
ての保持ブロック74を準備する。この保持ブロック7
4は、磁気回路を形成するものでないことから、その材
質は特に限定されるものではなく、フェライト等の磁性
材の他、CaTiO3 の如き非磁性材も用いることがで
きる。そして、かかる保持ブロック74における、磁気
ギャップ形成側の面に、厚さ方向に延びる複数本の溝7
6を、機械加工によって形成する。
On the other hand, separately from such steps, as shown in FIG. 24, a holding block 74 as a holding member for forming the slider body is prepared. This holding block 7
Since 4 does not form a magnetic circuit, its material is not particularly limited, and a magnetic material such as ferrite or a non-magnetic material such as CaTiO 3 can be used. A plurality of grooves 7 extending in the thickness direction are formed on the surface of the holding block 74 on the magnetic gap formation side.
6 is formed by machining.

【0059】また、かかる保持ブロック74とは別途、
図25に示されるように、第二のフェライトコアを形成
する第二のフェライト基板78を準備する。なお、この
第二のフェライト基板78としては、前記第一の実施例
方法において用いられている第二のフェライト基板52
と同様、Mn−ZnフェライトやNi−Znフェライト
の単結晶材が好適に用いられる。そして、かかる第二の
フェライト基板78の一面に対して、目的とするコアチ
ップ形状の凸部80を、上記保持ブロック74に設けら
れた溝76に対応する位置に、複数個形成する。なお、
これらの凸部80の形成は、フォトエッチング法によっ
て、有利に形成され得る。
Separately from the holding block 74,
As shown in FIG. 25, a second ferrite substrate 78 forming a second ferrite core is prepared. As the second ferrite substrate 78, the second ferrite substrate 52 used in the method of the first embodiment is used.
Similarly to, the single crystal material of Mn-Zn ferrite or Ni-Zn ferrite is preferably used. Then, a plurality of target core chip-shaped protrusions 80 are formed on one surface of the second ferrite substrate 78 at positions corresponding to the grooves 76 provided in the holding block 74. In addition,
The formation of these convex portions 80 can be advantageously formed by a photoetching method.

【0060】そして、図26に示されるように、これら
保持ブロック74と第二のフェライト基板78とを、保
持ブロック74の溝76内に第二のフェライト基板78
の凸部80が入り込むように突き合わせた状態で、接合
用ガラスを用いて一体的に接合する。また、かかる接合
操作と同時に、保持ブロック74の溝76内の隙間に、
非磁性材としてのガラス82を、流し込んで充填する。
Then, as shown in FIG. 26, the holding block 74 and the second ferrite substrate 78 are placed in the groove 76 of the holding block 74 in the second ferrite substrate 78.
In the state where the convex portions 80 are butted so as to enter, they are integrally joined using the joining glass. Further, at the same time as the joining operation, the gap in the groove 76 of the holding block 74 is
Glass 82 as a non-magnetic material is poured and filled.

【0061】その後、図27に示されるように、第二の
フェライト基板78に対して研削加工を施し、該第二の
フェライト基板78を、各凸部80を除いて除去せしめ
る。即ち、それによって、各凸部80にて、それぞれ、
第二のフェライトコアとしての第二のコアチップ84
が、形成されるのであり、また、かかる第二のコアチッ
プ84は、それぞれ、保持ブロック74に対して、磁気
的に絶縁された状態で、一体的に組み込まれるのであ
る。
After that, as shown in FIG. 27, the second ferrite substrate 78 is subjected to grinding to remove the second ferrite substrate 78 except for the convex portions 80. That is, thereby, at each convex portion 80,
Second core chip 84 as second ferrite core
The second core chips 84 are integrally formed with the holding block 74 in a magnetically insulated state.

【0062】なお、第二のコアチップ84の厚さは、特
に限定されるものではないが、例えば、10〜100μ
m、より好ましくは10〜50μmの厚さで形成するこ
とが、低インダクタンス特性と低磁気抵抗との両立のた
めに、望ましい。また、かかる第二のコアチップ84
は、ガラス82を介して保持ブロック74に固着、支持
されており、該保持ブロック74が、第二のコアチップ
84の補強部材として有効に機能し得ることから、第二
のフェライト基板78を、欠損や折損等を回避しつつ、
目的とする厚さにまで、容易に研削することができるの
であり、それによって、第二のコアチップ84を有利に
得ることができるのである。
The thickness of the second core chip 84 is not particularly limited, but is, for example, 10 to 100 μm.
It is desirable to form it with a thickness of m, more preferably 10 to 50 μm, in order to achieve both low inductance characteristics and low magnetic resistance. In addition, the second core chip 84
Are fixed to and supported by the holding block 74 via the glass 82. Since the holding block 74 can effectively function as a reinforcing member for the second core chip 84, the second ferrite substrate 78 is damaged. While avoiding breakage etc.
The target core can be easily ground to a desired thickness, and the second core chip 84 can be advantageously obtained.

【0063】そして、その後、保持ブロック74に対し
て、第二のコアチップ84が露呈された面に鏡面加工を
施した後、かかる面の厚さ方向中央部分に、幅方向に延
びる凹溝86を形成する。なお、この凹溝86の形成
は、前記第一の実施例における第二のフェライト基板5
2への凹溝54の形成と同様、フォトエッチング法等に
よって為されることとなる。また、かかる凹溝86は、
第二のコアチップ84が切断されないように、該第二の
コアチップ84の厚さよりも浅い深さで形成される。
Then, after the holding block 74 is mirror-finished on the surface on which the second core chip 84 is exposed, a groove 86 extending in the width direction is formed in the central portion in the thickness direction of the surface. Form. The formation of the concave groove 86 is performed by forming the second ferrite substrate 5 in the first embodiment.
Similar to the formation of the concave groove 54 in the second groove, it is performed by the photoetching method or the like. Further, the concave groove 86 is
The second core chip 84 is formed with a depth shallower than the thickness of the second core chip 84 so as not to be cut.

【0064】さらに、かかる第二のコアチップ84にお
ける、少なくとも磁気ギャップの形成部位に対して、ス
パッタリングとフォトエッチング加工とによって、セン
ダスト等の金属磁性層88を形成する。
Further, a metal magnetic layer 88 of sendust or the like is formed by sputtering and photo-etching on at least the magnetic gap forming portion of the second core chip 84.

【0065】その後、この保持ブロック74の第二のコ
アチップ84が前記支持基板40のコアチップ42に対
して対向する状態で、それら保持ブロック74と支持基
板40とを突き合わせ、少なくとも何れか一方の面に形
成された磁気ギャップ形成用の絶縁層を介して、接合用
ガラスにより、一体的に接合する。そして、この得られ
た接合体に対して、前記第一の実施例方法と同様、支持
基板40の除去、コイル48の形成、リード端子66,
66の形成、保護膜68の形成等(図16〜18参照)
を行ない、更に、ギャップデプス長の研磨、空気ベアリ
ング部の形成、リーディングランプ加工を行なった後、
かかる接合体を、適当な幅で切り出すことにより、目的
とする磁気ヘッドを得る。
Thereafter, with the second core chip 84 of the holding block 74 facing the core chip 42 of the support substrate 40, the holding block 74 and the support substrate 40 are butted against each other and at least one of the surfaces is brought into contact. Through the formed insulating layer for forming the magnetic gap, the glass for bonding is integrally bonded. Then, with respect to the obtained joined body, the support substrate 40 is removed, the coil 48 is formed, the lead terminal 66,
Formation of 66, formation of protective film 68, etc. (see FIGS. 16 to 18)
After further performing the polishing of the gap depth length, the formation of the air bearing portion, and the leading ramp processing,
The desired magnetic head is obtained by cutting out such a bonded body with an appropriate width.

【0066】すなわち、本実施例の方法にて製造された
磁気ヘッドにあっては、図29に示されているように、
第一のフェライトコアとしてのコアチップ42と協働し
て磁気回路を形成する、第二のフェライトコアとしての
第二のコアチップ84も、薄肉構造をもって形成されて
いることから、前記第一の実施例の方法にて製造された
磁気ヘッドよりも、低インダクタンス特性が、より一層
有利に達成され得るのであり、それによって、より優れ
た高周波特性が発揮され得ることとなるのである。
That is, in the magnetic head manufactured by the method of this embodiment, as shown in FIG.
Since the second core chip 84 as the second ferrite core, which forms a magnetic circuit in cooperation with the core chip 42 as the first ferrite core, is also formed with a thin structure, the first embodiment The low-inductance characteristic can be achieved more advantageously than that of the magnetic head manufactured by the method (1), and thereby the superior high-frequency characteristic can be exhibited.

【0067】しかも、かかる第二のコアチップ84も、
コアチップ42と同様、薄膜ヘッドにおける磁気回路に
比して、その厚さを十分に且つ容易に確保することがで
きることから、著しい磁気抵抗の増大が有効に回避され
得るのであり、それによって、十分なヘッド効率を得る
ことができるのである。
Moreover, the second core chip 84 is also
Similar to the core chip 42, its thickness can be ensured sufficiently and easily as compared with the magnetic circuit in the thin film head, so that a significant increase in the magnetic resistance can be effectively avoided, and as a result, a sufficient increase can be achieved. The head efficiency can be obtained.

【0068】以上、本発明に係る磁気ヘッドとその製造
方法の代表的な実施例に加えて、その幾つかの変形的実
施例について、詳述してきたが、本発明は、これらの実
施例の記載によって限定的に解釈されるものでは決して
ない。
As described above, in addition to the representative examples of the magnetic head and the method of manufacturing the same according to the present invention, some modified examples thereof have been described in detail. The description is in no way intended to be limiting.

【0069】例えば、本発明は、例示の如き、スライダ
を備えたRDD用やHDD用の磁気ヘッドのみならず、
FDD用やVTR用の磁気ヘッド等に対しても、適用可
能である。なお、VTR用の磁気ヘッドに適用する場合
には、例えば、前記第一の実施例方法において得られ
る、図15及び図16に示されている如き接合体を、所
定幅で切り出すことにより、支持基板40をも含んで、
磁気ヘッドを構成せしめるようにすることが、可能であ
る。
For example, the present invention is not limited to the magnetic head for an RDD or HDD equipped with a slider as illustrated, and
It is also applicable to magnetic heads for FDD and VTR. When applied to a magnetic head for a VTR, for example, the joined body as shown in FIGS. 15 and 16 obtained in the method of the first embodiment is cut into a predetermined width to support it. Including the substrate 40,
It is possible to configure the magnetic head.

【0070】その他、一々列挙はしないが、本発明は、
当業者の知識に基づいて、前記実施例に記載されていな
い種々なる変更、修正、改良等を加えた態様において
も、実施され得るものであり、また、そのような実施態
様が、本発明の趣旨を逸脱しない限り、何れも、本発明
の範囲内に含まれるものであることは、言うまでもない
ところである。
Although not listed one by one, the present invention is
Based on the knowledge of those skilled in the art, the present invention can be carried out in a mode in which various alterations, modifications, improvements, etc., which are not described in the above-mentioned examples, are carried out, and such a mode is also applicable. It goes without saying that all of them are included in the scope of the present invention without departing from the spirit.

【0071】[0071]

【発明の効果】上述の説明から明らかなように、本発明
に従う構造とされた薄膜コイル型磁気ヘッドにあって
は、薄膜構造のコイルを採用し、該コイルが設けられる
第一のフェライトコアを10〜100μmの厚さで形成
したことによって、従来のバルクタイプや薄膜タイプの
磁気ヘッドでは実現され得なかった、低インダクタンス
特性と低磁気抵抗との両立が有利に達成され得たのであ
り、それによって、良好なるヘッド効率を確保しつつ、
高周波特性の向上が、有効に達成され得ることとなった
のである。
As is apparent from the above description, in the thin film coil type magnetic head having the structure according to the present invention, a coil having a thin film structure is adopted and the first ferrite core provided with the coil is used. By forming it with a thickness of 10 to 100 μm, it was possible to advantageously achieve both low inductance characteristics and low magnetic resistance, which could not be realized with conventional bulk type or thin film type magnetic heads. While ensuring good head efficiency,
The improvement of the high frequency characteristics can be effectively achieved.

【0072】また、磁気ギャップ形成部位の対向面に金
属磁性層を設けて成る請求項2に記載の本発明に係る薄
膜コイル型磁気ヘッドにあっては、上述の如き優れた高
周波特性と、金属磁性層による磁束密度の向上効果との
相乗的作用によって、磁気記録媒体の高密度化に対する
対応性が、極めて有利に発揮され得るのである。
Further, in the thin film coil type magnetic head according to the present invention according to claim 2 in which a metal magnetic layer is provided on the surface opposite to the magnetic gap forming portion, the above-mentioned excellent high frequency characteristics and metal are provided. Due to the synergistic action with the effect of improving the magnetic flux density by the magnetic layer, the adaptability to the high density of the magnetic recording medium can be extremely advantageously exhibited.

【0073】更にまた、第一のフェライトコアに加え
て、第二のフェライトコアも、10〜100μmの厚さ
で形成されて成る請求項3に記載の本発明に係る薄膜コ
イル型磁気ヘッドにあっては、より一層優れた低インダ
クタンス特性が実現され得るのである。
Furthermore, in addition to the first ferrite core, the second ferrite core is also formed to have a thickness of 10 to 100 μm. As a result, an even better low inductance characteristic can be realized.

【0074】また一方、本発明の製造方法に従えば、フ
ェライト基板が支持部材にて補強されることから、該フ
ェライト基板の研磨時における欠損や折損が効果的に防
止され得て、10〜100μmの厚さの、目的とする第
一のフェライトコアを、有利に形成することができるの
である。
On the other hand, according to the manufacturing method of the present invention, since the ferrite substrate is reinforced by the supporting member, it is possible to effectively prevent breakage and breakage of the ferrite substrate during polishing, and the ferrite substrate is 10 to 100 μm. The desired first ferrite core having a thickness of 1 can be advantageously formed.

【0075】そして、かかる支持部材としては、第一及
び第二のフェライトコアとは別体の支持部材や、第二の
フェライトコアを構成する部材が、何れも、好適に用い
られ得る。
As the supporting member, a supporting member separate from the first and second ferrite cores and a member constituting the second ferrite core can be preferably used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例としての薄膜コイル型磁気ヘ
ッドを示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a thin film coil type magnetic head as one embodiment of the present invention.

【図2】図1に示された磁気ヘッドの要部を拡大して示
す平面図である。
FIG. 2 is an enlarged plan view showing a main part of the magnetic head shown in FIG.

【図3】図2における III−III 断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III in FIG.

【図4】図1に示された磁気ヘッドの要部を拡大して示
す斜視説明図である。
FIG. 4 is a perspective explanatory view showing an enlarged main part of the magnetic head shown in FIG. 1.

【図5】図1に示された磁気ヘッドの一製造工程であ
る、第一のフェライト基板への絶縁層の形成を説明する
ための説明図である。
5 is an explanatory diagram for explaining formation of an insulating layer on a first ferrite substrate, which is one manufacturing process of the magnetic head shown in FIG. 1. FIG.

【図6】図5に示された第一のフェライト基板における
絶縁層上へのコイル半体の形成を説明するための説明図
である。
6 is an explanatory diagram for explaining formation of coil halves on an insulating layer in the first ferrite substrate shown in FIG.

【図7】図6に示された第一のフェライト基板における
コイル半体上への絶縁層の形成を説明するための説明図
である。
FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining formation of an insulating layer on the coil half body in the first ferrite substrate shown in FIG.

【図8】図7に示された第一のフェライト基板に対する
支持基板の接合を説明するための説明図である。
8 is an explanatory diagram for explaining joining of the support substrate to the first ferrite substrate shown in FIG. 7. FIG.

【図9】図8に示された第一フェライト基板に対する研
磨加工(コアチップの形成)を説明するための説明図で
ある。
9 is an explanatory diagram for explaining a polishing process (formation of a core chip) on the first ferrite substrate shown in FIG.

【図10】図9に示された支持基板に接合されたコアチ
ップ上への絶縁層の形成を説明するための説明図であ
る。
10 is an explanatory diagram for explaining formation of an insulating layer on a core chip bonded to the supporting substrate shown in FIG.

【図11】図10に示された支持基板に設けられた絶縁
層上へのコイル半体の形成を説明するための説明図であ
る。
11 is an explanatory diagram for explaining formation of coil halves on an insulating layer provided on the support substrate shown in FIG.

【図12】図11に示された支持基板に接合されたコア
チップ上への金属磁性層の形成を説明するための説明図
である。
12 is an explanatory diagram for explaining formation of a metal magnetic layer on the core chip bonded to the supporting substrate shown in FIG.

【図13】図1に示された磁気ヘッドの一製造工程であ
る、第二のフェライト基板に対する溝入れを説明するた
めの説明図である。
FIG. 13 is an explanatory diagram for explaining grooving for the second ferrite substrate, which is one manufacturing process of the magnetic head shown in FIG. 1.

【図14】図13に示された第二のフェライト基板に対
する金属磁性層の形成を説明するための説明図である。
14 is an explanatory diagram for explaining formation of a metal magnetic layer on the second ferrite substrate shown in FIG.

【図15】図12に示された支持基板の図14に示され
た第二のフェライト基板に対する接合を説明するための
説明図である。
15 is an explanatory diagram for explaining bonding of the support substrate shown in FIG. 12 to the second ferrite substrate shown in FIG. 14.

【図16】図15に示された接合体の要部を拡大して示
す平面図である。
16 is an enlarged plan view showing a main part of the joined body shown in FIG. 15. FIG.

【図17】図15に示された接合体における支持基板4
0の除去を説明するための説明図である。
FIG. 17 is a support substrate 4 in the bonded body shown in FIG.
It is explanatory drawing for demonstrating removal of 0.

【図18】図17に示された接合体におけるコアチップ
上への保護膜の形成を説明するための説明図である。
FIG. 18 is an explanatory diagram for explaining formation of a protective film on the core chip in the joined body shown in FIG. 17.

【図19】本発明方法の別の実施例において用いられる
第一のフェライト基板を示す斜視図である。
FIG. 19 is a perspective view showing a first ferrite substrate used in another embodiment of the method of the present invention.

【図20】図19に示されたフェライト基板を用いて形
成された磁気ヘッドの要部を示す斜視説明図である。
20 is a perspective explanatory view showing a main part of a magnetic head formed using the ferrite substrate shown in FIG.

【図21】図20に示された磁気ヘッドの平面図であ
る。
21 is a plan view of the magnetic head shown in FIG. 20. FIG.

【図22】本発明方法の別の実施例において形成された
磁気ヘッドの要部を示す平面説明図である。
FIG. 22 is a plan explanatory view showing a main part of a magnetic head formed in another embodiment of the method of the present invention.

【図23】本発明方法の別の実施例において形成された
磁気ヘッドの要部を示す平面説明図である。
FIG. 23 is an explanatory plan view showing a main part of a magnetic head formed in another embodiment of the method of the present invention.

【図24】本発明方法の別の実施例において用いられる
保持ブロックを示す斜視説明図である。
FIG. 24 is a perspective explanatory view showing a holding block used in another embodiment of the method of the present invention.

【図25】図24に示された保持ブロックと別途形成さ
れる第二のフェライト基板を示す斜視説明図である。
FIG. 25 is a perspective explanatory view showing a second ferrite substrate separately formed from the holding block shown in FIG. 24.

【図26】図24に示された保持ブロックと図25に示
された第二のフェライト基板との接合を説明するための
説明図である。
FIG. 26 is an explanatory diagram for explaining bonding between the holding block shown in FIG. 24 and the second ferrite substrate shown in FIG. 25.

【図27】図26に示された第二のフェライト基板に対
する研磨加工(コアチップの形成)を説明するための説
明図である。
FIG. 27 is an explanatory diagram for explaining the polishing process (formation of core chip) for the second ferrite substrate shown in FIG. 26.

【図28】図27に示された保持ブロックに対する溝入
れを説明するための説明図である。
28 is an explanatory diagram for explaining grooving for the holding block shown in FIG. 27. FIG.

【図29】本発明方法の別の実施例において形成された
磁気ヘッドの要部を示す平面説明図である。
FIG. 29 is a plan view showing a main part of a magnetic head formed in another embodiment of the method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 スライダ本体 14,42 コアチップ 18,48 コイル 26,64 磁気ギャップ 28,56,88 金属磁性層 32,70 第一のフェライト基板 36,46 コイル半体 40 支持基板 52,78 第二のフェライト基板 74 保持ブロック 84 第二のコアチップ 10 slider body 14,42 core chip 18,48 coil 26,64 magnetic gap 28,56,88 metal magnetic layer 32,70 first ferrite substrate 36,46 coil half 40 support substrate 52,78 second ferrite substrate 74 Holding block 84 Second core chip

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第一のフェライトコアと第二のフェライ
トコアとを、突き合わせて接合することにより磁気回路
を構成し、それらの突合せ面間に所定間隙の磁気ギャッ
プを形成すると共に、該第一のフェライトコアにコイル
を設けて成る磁気ヘッドにおいて、 少なくとも前記第一のフェライトコアを、10〜100
μmの厚さで形成すると共に、該第一のフェライトコア
の周りに、絶縁層を介して、前記コイルを、導電性薄膜
によって螺旋状に形成したことを特徴とする薄膜コイル
型磁気ヘッド。
1. A magnetic circuit is formed by butting and joining a first ferrite core and a second ferrite core, and a magnetic gap having a predetermined gap is formed between the butting surfaces, and the first ferrite core and the second ferrite core are formed. In a magnetic head comprising a ferrite core and a coil, at least the first ferrite core is
A thin film coil type magnetic head characterized in that the coil is formed with a thickness of μm, and the coil is spirally formed of a conductive thin film around the first ferrite core via an insulating layer.
【請求項2】 前記磁気ギャップ形成部位における前記
第一のフェライトコアと前記第二のフェライトコアとの
対向面の少なくとも一方に、金属磁性層が設けられてい
る請求項1に記載の薄膜コイル型磁気ヘッド。
2. The thin-film coil type according to claim 1, wherein a metal magnetic layer is provided on at least one of the facing surfaces of the first ferrite core and the second ferrite core in the magnetic gap forming portion. Magnetic head.
【請求項3】 前記第二のフェライトコアが、10〜1
00μmの厚さで形成されていると共に、所定の保持部
材に設けられた凹溝内に、非磁性層を介して、埋め込ま
れている請求項1又は2に記載の薄膜コイル型磁気ヘッ
ド。
3. The second ferrite core is 10 to 1
The thin film coil type magnetic head according to claim 1 or 2, wherein the thin film coil type magnetic head is formed to have a thickness of 00 μm and is embedded in a groove provided in a predetermined holding member via a non-magnetic layer.
【請求項4】 請求項1に記載された薄膜コイル型磁気
ヘッドの製造方法であって、 所定の支持部材の表面に、導電性薄膜によってコイル半
体を形成する工程と、 該コイル半体が形成された支持部材の表面に、絶縁層を
介して、フェライト基板を固着せしめる工程と、 該フェライト基板を、10〜100μmの厚さにまで、
研磨すると共に、所定形状に整形することにより、前記
第一のフェライトコアを形成する工程と、 該第一のフェライトコアが形成された前記支持部材の表
面に、絶縁層を介して、導電性薄膜によってコイル半体
を形成し、前記支持部材の表面に形成されたコイル半体
と接続することにより、前記コイルを形成する工程と
を、 含むことを特徴とする薄膜コイル型磁気ヘッドの製造方
法。
4. The method of manufacturing a thin film coil type magnetic head according to claim 1, wherein a coil half body is formed on the surface of a predetermined supporting member with a conductive thin film, and the coil half body is formed. A step of fixing a ferrite substrate to the surface of the formed supporting member via an insulating layer, and the ferrite substrate having a thickness of 10 to 100 μm,
A step of forming the first ferrite core by polishing and shaping into a predetermined shape, and a conductive thin film on the surface of the support member on which the first ferrite core is formed via an insulating layer. Forming a coil half, and forming the coil by connecting the coil half to the coil half formed on the surface of the supporting member, and a method of manufacturing a thin-film coil magnetic head.
【請求項5】 前記支持部材に形成された前記第一のフ
ェライトコアを、前記第二のフェライトコアに接合せし
めた後、かかる支持部材を除去する請求項4に記載の薄
膜コイル型磁気ヘッドの製造方法。
5. The thin-film coil magnetic head according to claim 4, wherein after the first ferrite core formed on the support member is bonded to the second ferrite core, the support member is removed. Production method.
【請求項6】 前記支持部材が、前記第二のフェライト
コアを構成する部材によって形成されている請求項4に
記載の薄膜コイル型磁気ヘッドの製造方法。
6. The method of manufacturing a thin-film coil magnetic head according to claim 4, wherein the support member is formed of a member that constitutes the second ferrite core.
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