JP2891817B2 - Magnetic head manufacturing method - Google Patents
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
等の磁気記録再生装置において、情報の記録再生等に用
いられる磁気ヘッドの製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic head used for recording and reproducing information in a magnetic recording and reproducing apparatus such as a video tape recorder.
【０００２】[0002]
【従来の技術】磁気記録技術の高密度化にともなって、
例えばメタルテープ等の高保持力媒体が主流になってき
た現在、磁気ヘッドに使用されるコア材料は高い飽和磁
束密度を有するものが要求されている。2. Description of the Related Art As the density of magnetic recording technology increases,
For example, at present, high coercivity media such as metal tapes have become mainstream, and core materials used in magnetic heads are required to have high saturation magnetic flux density.
【０００３】そこで、現在、ビデオテープレコーダ等に
多く使用されている磁気ヘッドには、図１３（ａ）に示
すように、例えば感光性結晶化ガラス、結晶化ガラスあ
るいは、セラミクス等の非磁性材料あるいは、軟磁性フ
ェライト等の酸化物磁性材料からなる基板１と、基板１
に積層成膜された高飽和磁束密度を有する磁性薄膜部２
と、磁性薄膜部２を覆う低融点ガラス３とを有する一対
のコア片１６・１６からなる磁気ヘッドチップ１０’が
使用されている。[0003] Therefore, as shown in FIG. 13 (a), magnetic heads which are currently often used in video tape recorders and the like include non-magnetic materials such as photosensitive crystallized glass, crystallized glass, and ceramics. Alternatively, a substrate 1 made of an oxide magnetic material such as soft magnetic ferrite and a substrate 1
Thin film part 2 having high saturation magnetic flux density, which is laminated on the substrate
A magnetic head chip 10 ′ including a pair of core pieces 16 and 16 having a low melting point glass 3 covering the magnetic thin film portion 2 is used.
【０００４】また、近年、長時間録画再生等に対応する
ためにトラック幅が狭くなる傾向にある。この狭トラッ
ク化に対応して、上記磁気ヘッドチップ１０’の磁性薄
膜部２の厚さを薄くすると、磁気コアとしての磁気断面
積が減少することにより、磁気抵抗が大きくなる。この
ため、このような磁気ヘッドを使用すれば、記録・再
生、特に再生効率が低下するという問題が生じている。In recent years, track widths have tended to be narrow in order to cope with long-time recording and reproduction. If the thickness of the magnetic thin film portion 2 of the magnetic head chip 10 'is reduced in response to the narrowing of the track, the magnetic cross section of the magnetic core is reduced, and the magnetic resistance is increased. Therefore, if such a magnetic head is used, there arises a problem that recording / reproducing, in particular, reproducing efficiency is reduced.
【０００５】そこで、上記問題点を回避するために、図
１３（ｂ）に示すように、磁気ギャップ１５近傍の磁性
薄膜部２の膜厚を薄くすることにより、狭トラック化に
対応させ、一方、磁気ギャップ１５近傍以外の磁性薄膜
部２の膜厚を厚くして磁気断面積を増やし、磁気抵抗を
低減した上記磁気ヘッドチップ１０’が使用されてい
る。Therefore, in order to avoid the above problem, as shown in FIG. 13B, the thickness of the magnetic thin film portion 2 near the magnetic gap 15 is reduced to cope with the narrow track. The magnetic head chip 10 'in which the thickness of the magnetic thin film portion 2 other than the vicinity of the magnetic gap 15 is increased to increase the magnetic sectional area and reduce the magnetic resistance is used.
【０００６】上記磁気ヘッドチップ１０’を構成する一
対のコア片１６・１６は、図１３（ｂ）に示すように、
基板１・１上の磁性薄膜部２・２が磁気ギャップ１５を
有するヘッドコアを形成するように、磁性薄膜部２・２
の断面を対向させて、ギャップ面１３にて接合されてい
る。また、上記磁気ギャップ１５近傍の磁性薄膜部２の
膜厚が薄くなっており、狭トラック化に対応している。
そして、磁気ギャップ１５近傍以外の磁性薄膜部２の膜
厚を厚くすることで、磁気抵抗を低減している。一方、
磁気ギャップ１５と磁気テープ等の磁気記録媒体とを滑
らかに接触するように摺動面１７を所定の面粗度になる
ように研磨仕上げが行われている。As shown in FIG. 13 (b), a pair of core pieces 16
The magnetic thin film portions 2.2 are formed such that the magnetic thin film portions 2.2 on the substrate 1.1 form a head core having a magnetic gap 15.
Are joined at the gap surface 13 with their cross sections facing each other. In addition, the thickness of the magnetic thin film portion 2 near the magnetic gap 15 is small, which corresponds to a narrow track.
The magnetic resistance is reduced by increasing the thickness of the magnetic thin film portion 2 other than in the vicinity of the magnetic gap 15. on the other hand,
The sliding surface 17 is polished so as to have a predetermined surface roughness so that the magnetic gap 15 and a magnetic recording medium such as a magnetic tape are in smooth contact with each other.
【０００７】上記構成の磁気ヘッドチップ１０’の製造
方法について、本発明の説明図である図１・図２・図５
ないし図９および図１１ないし図１３を参照して以下に
説明する。FIGS. 1, 2, and 5, which are explanatory views of the present invention, relate to a method of manufacturing the magnetic head chip 10 'having the above-described structure.
9 and FIG. 11 to FIG.
【０００８】先ず、図２に示すように、例えば結晶化ガ
ラス等からなる略長方体形状の基板１の表面に、所定ピ
ッチ寸法Ａとなる略Ｖ字状の溝５…が平行して形成され
る。この溝５…は、基板１の一端から他端まで直線的に
形成され、一定深さを持つ形状となっている。次に、図
１（ａ）に示すように、上記各溝５…の片側斜面に例え
ば真空蒸着あるいはスパッタリング法等により、所定の
膜厚を有する磁性薄膜部２を形成する。First, as shown in FIG. 2, substantially V-shaped grooves 5 having a predetermined pitch A are formed in parallel on the surface of a substantially rectangular substrate 1 made of, for example, crystallized glass. Is done. The grooves 5 are formed linearly from one end to the other end of the substrate 1 and have a shape having a certain depth. Next, as shown in FIG. 1A, a magnetic thin film portion 2 having a predetermined thickness is formed on one slope of each of the grooves 5 by, for example, vacuum evaporation or sputtering.
【０００９】この磁性薄膜部２は、例えばセンダスト
（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ）等の高飽和磁束密度を有するもの
からなる軟磁性薄膜２ａとＳｉＯ2 等の非磁性非導体か
らなる層間絶縁膜２ｂとが所定の膜厚で交互に積層状態
となるように形成されている。つまり、上記のようなセ
ンダスト合金や、あるいは非晶質合金を磁気ヘッドコア
材として使用した場合、これら材料自身の比抵抗が７０
〜１２０μΩ・ｃｍと低いために、高周波領域では過電
流による損失が大きくなる。そこで、上記のような積層
構造とすることで、高周波領域での特性の改善を行って
いる。[0009] The magnetic thin film part 2, for example, sendust and (Fe-Al-Si) interlayer insulating film 2b made of nonmagnetic conductor such as soft magnetic thin film 2a and SiO 2 consisting of those having a high saturation magnetic flux density such as Are alternately laminated at a predetermined film thickness. That is, when the above-mentioned sendust alloy or amorphous alloy is used as a magnetic head core material, the specific resistance of these materials themselves is 70%.
Since it is as low as about 120 μΩ · cm, loss due to overcurrent is large in a high frequency region. Therefore, the characteristics in the high frequency region are improved by adopting the above-described laminated structure.
【００１０】次に、上記磁性薄膜部２は、狭トラック化
に対応させるために、図１１に示すように、片側斜面５
ａの頂点近傍から頂点にいたる磁性薄膜部２の上端部７
を、例えば研削加工やエッチングにより所定膜厚になる
ように加工し（以下、磁性薄膜部２の絞り込み加工と称
する）、磁性薄膜部２からなる磁気ギャップの幅の寸法
をａ’とする。この寸法ａ’は、磁気ヘッドにおけるト
ラック幅に相当するものである。Next, as shown in FIG. 11, the magnetic thin film portion 2 has a one-sided slope 5 to cope with a narrow track.
The upper end 7 of the magnetic thin film portion 2 from the vicinity of the vertex of a to the vertex
Is processed to a predetermined film thickness by, for example, grinding or etching (hereinafter, referred to as narrowing-down processing of the magnetic thin film portion 2), and the width of the magnetic gap formed by the magnetic thin film portion 2 is defined as a '. This dimension a 'corresponds to the track width of the magnetic head.
【００１１】上記のように、磁性薄膜部２の絞り込み加
工を施した後、図５に示すように、基板１上に低融点ガ
ラス３を十分に充填する。そして、図６に示すように、
この低融点ガラス３が固化した後、溝５…の頂点部分ま
で磁性薄膜部２が露出するように低融点ガラス３を平面
状に研磨し、その表面にＳｉＯ2 等のギャップ材を成膜
し、また、図７に示すように、内部巻線溝１１・外部巻
線溝１２をそれぞれ形成して、片側コアブロック１８と
して作製する。その後、図８に示すように、一対の上記
コアブロック１８・１８を相対する磁性薄膜部２・２同
士が上記ギャップ材により規定される磁気ギャップ１５
を中央に挟んで互いに直線状に連なるように当接させて
加圧固定する。これにより、低融点ガラス３によって一
対のコアブロック１８・１８が溶着接合して、一体化さ
れたコアブロック１９が作製される。上記コアブロック
１９において、図１０に示すように、磁気ギャップ１５
を挟んで所定の寸法Ｂで切断することにより、図１３
（ａ）に示すような磁気ヘッドチップ１０’を得る。After the magnetic thin film portion 2 is narrowed down as described above, the substrate 1 is sufficiently filled with the low melting point glass 3 as shown in FIG. And, as shown in FIG.
After the low-melting glass 3 is solidified, the low-melting glass 3 is polished in a planar shape so that the magnetic thin film portion 2 is exposed up to the apexes of the grooves 5, and a gap material such as SiO 2 is formed on the surface. Further, as shown in FIG. 7, the internal winding groove 11 and the external winding groove 12 are respectively formed to manufacture the one-side core block 18. Thereafter, as shown in FIG. 8, the magnetic thin film portions 2 facing the pair of core blocks 18 are connected to each other by a magnetic gap 15 defined by the gap material.
Are sandwiched in the center so as to abut on each other so as to be linearly connected to each other and fixed by pressure. As a result, the pair of core blocks 18 are welded and joined by the low-melting glass 3 to form the integrated core block 19. In the core block 19, as shown in FIG.
13 is cut to a predetermined size B with the
A magnetic head chip 10 'as shown in FIG.
【００１２】[0012]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
磁気ヘッド製造方法において、磁気コアを形成する軟磁
性薄膜２ａを研削加工することにより、磁性薄膜部２の
絞り込み加工が施されるので、図１２に示すように、加
工誤差により磁気ギャップを形成する部分の寸法ａ’に
バラツキが生じる。また、この磁気ギャップを形成する
部分の寸法ａ’は、磁気ヘッドにおけるトラック幅の寸
法に相当するものであり、この寸法ａ’にバラツキが生
じることにより、磁気ヘッドのトラック成形精度に悪影
響を与える。このため、磁気ヘッドにおける記録再生特
性を著しく低下させるという問題が生じている。However, in the above-described conventional magnetic head manufacturing method, the magnetic thin film portion 2 is narrowed by grinding the soft magnetic thin film 2a forming the magnetic core. As shown in FIG. 12, the processing error causes a variation in the dimension a ′ of the portion where the magnetic gap is formed. The dimension a 'of the portion forming the magnetic gap is equivalent to the dimension of the track width in the magnetic head. Variations in the dimension a' adversely affect the track forming accuracy of the magnetic head. . For this reason, there is a problem that the recording / reproducing characteristics of the magnetic head are significantly reduced.
【００１３】また、積層された磁性薄膜部２の絞り込み
加工を施すとき、成膜時の応力により、積層膜部分の剥
がれや裂けが生じるため、磁気ヘッドの磁気特性を低下
させるという問題が生じている。Further, when the laminated magnetic thin film portion 2 is subjected to the narrowing process, the laminated film portion is peeled or torn due to the stress at the time of film formation, which causes a problem of deteriorating the magnetic characteristics of the magnetic head. I have.
【００１４】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
であって、その目的は、磁性薄膜部の絞り込み加工を施
すときのトラック幅に相当する部分の寸法誤差をなく
し、磁気ヘッドの記録再生特性を向上させ、また、磁性
薄膜部の絞り込み加工を施すときの積層膜部分の剥がれ
や裂けを防止し、磁気ヘッドの磁気特性を向上させるよ
うな磁気ヘッド製造方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above problems, and has as its object to eliminate a dimensional error of a portion corresponding to a track width when a narrowing process of a magnetic thin film portion is performed, thereby reducing the recording and reproducing of a magnetic head. It is an object of the present invention to provide a magnetic head manufacturing method that improves characteristics and prevents the laminated film portion from peeling or tearing when a magnetic thin film portion is narrowed, thereby improving the magnetic characteristics of the magnetic head.
【００１５】[0015]
【課題を解決するための手段】請求項１の磁気ヘッド製
造方法は、基板の表面に略Ｖ字状の複数の溝を形成し、
各溝の片側斜面に沿って軟磁性薄膜と層間絶縁膜とを交
互に積層して磁性薄膜部を設けるとともに、上記磁性薄
膜部の斜面頂点近傍を、研削加工又はエッチングによっ
てトラック幅に相当する膜厚となるように絞り込み加工
を行い、その後、一対の上記基板の各々の加工された磁
性薄膜部頂部を対向させて、磁気ギャップを形成して接
合し、コアブロックを作製した後、ギャップ面を挟んで
上記コアブロックを切断することにより得られる磁気ヘ
ッドチップを形成する磁気ヘッド製造方法において、上
記磁性薄膜部では、上記トラック幅に相当する膜厚とな
るように軟磁性薄膜と層間絶縁膜とを交互に積層した
後、非磁性非導体薄膜を上記絞り込み加工の加工誤差に
対応した膜厚に成膜し、その上に引き続き、軟磁性薄膜
と層間絶縁膜とを交互に積層成膜することを特徴とする
ものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided a magnetic head manufacturing method, wherein a plurality of substantially V-shaped grooves are formed on a surface of a substrate.
A soft magnetic thin film and an interlayer insulating film are alternately laminated along one slope of each groove to provide a magnetic thin film portion, and the vicinity of the slope apex of the magnetic thin film portion is a film corresponding to a track width by grinding or etching. Narrowing down to a thickness
Was carried out, then, we are opposed to processed magnetic thin film portion the top of each of the pair of the substrates, and bonding to form a magnetic gap, after preparing a core block, cutting the core block across the gap surface in the magnetic head manufacturing method of forming a magnetic head chip obtained by, in the magnetic thin film part, after alternately laminated soft magnetic thin film and the interlayer insulating film to a thickness corresponding to the track width The non-magnetic non-conductive thin film to the processing error of the above-mentioned narrowing process
It is characterized in that a soft magnetic thin film and an interlayer insulating film are alternately laminated and formed thereon in a film having a corresponding thickness.
【００１６】請求項２の磁気ヘッド製造方法は、請求項
１記載の磁気ヘッド製造方法において、上記非磁性非導
体薄膜に代えて、非磁性金属薄膜を用いることを特徴と
するものである。According to a second aspect of the present invention, in the method of manufacturing a magnetic head according to the first aspect, the non-magnetic non-conductive
A non-magnetic metal thin film is used in place of the body thin film .
【００１７】[0017]
【作用】請求項１の構成によれば、磁性薄膜部の成膜終
了後、該磁性薄膜部の斜面頂点近傍をトラック幅寸法に
絞り込み加工を施すときの加工誤差が、該磁性薄膜部中
間部分に成膜された非磁性非導体薄膜の膜厚によって吸
収できるので、磁性薄膜部の膜厚の寸法精度が向上す
る。従って、磁気ヘッドにおけるトラック幅寸法に影響
を与えることがなくなるので、磁気テープ上での記録パ
ターンの位置認識も向上し、記録再生特性が向上する。According to the structure of the first aspect, the completion of the film formation of the magnetic thin film portion is completed.
After the completion, the processing error when performing narrowing processing slopes near the apex of the magnetic thin film portion in the track width dimension, can be absorbed by the thickness of the nonmagnetic conductive thin film formed on the magnetic thin portion intermediate section, The dimensional accuracy of the thickness of the magnetic thin film portion is improved. Therefore, since the track width of the magnetic head is not affected, the position recognition of the recording pattern on the magnetic tape is improved, and the recording / reproducing characteristics are improved.
【００１８】請求項２の構成によれば、請求項１の作用
に加えて、上記絞り込み加工を施すとき、非磁性金属薄
膜は、軟磁性薄膜と同様な膨張係数の値を示し、成膜時
の応力を緩和することができるので、積層膜の裂けや剥
がれを防ぐことができ、磁気ヘッドの磁気特性劣化を防
ぐことが可能となる。According to the second aspect, in addition to the operation of claim 1, when subjected to the narrowing process, the non-magnetic metal thin film, shows a value similar expansion coefficient and a soft magnetic thin film, during the deposition Can be alleviated, so that the laminated film can be prevented from being torn or peeled, and the magnetic characteristics of the magnetic head can be prevented from deteriorating.
【００１９】[0019]
【実施例】〔実施例１〕 本発明の製造方法の一実施例について図１ないし図１０
に基づいて説明すれば、以下の通りである。[Embodiment 1] FIGS. 1 to 10 show an embodiment of the manufacturing method of the present invention.
This will be described below.
【００２０】本実施例の製造方法を適用した磁気ヘッド
チップ１０について図１０（ａ）を参照しながら説明す
る。磁気ヘッドチップ１０は、例えば感光性結晶化ガラ
ス、結晶化ガラスあるいは、セラミックス等の非磁性材
料あるいは軟磁性フェライト等の酸化物磁性材料からな
る基板１と、基板１に成膜された積層構造の磁性薄膜部
２、磁性薄膜部２を覆う低融点ガラス３とを有する一対
のコア片１６・１６からなる。この一対のコア片１６・
１６は、基板１・１上の磁性薄膜部２・２が磁気ギャッ
プ１５を有するヘッドコアを形成するように、磁性薄膜
部２・２の端面を対向させて、ギャップ面１３にて接合
されている。また、磁気ギャップ１５と磁気テープ等の
磁気記録媒体とを滑らかに接触するように、摺動面１７
を所定の面粗度になるように研磨仕上げが行われてい
る。A magnetic head chip 10 to which the manufacturing method of this embodiment is applied will be described with reference to FIG. The magnetic head chip 10 has, for example, a substrate 1 made of a non-magnetic material such as photosensitive crystallized glass, crystallized glass or ceramics, or an oxide magnetic material such as soft magnetic ferrite, and a laminated structure formed on the substrate 1. It comprises a pair of core pieces 16 having a magnetic thin film portion 2 and a low melting point glass 3 covering the magnetic thin film portion 2. This pair of core pieces 16
Numeral 16 is joined at the gap surface 13 with the end surfaces of the magnetic thin film portions 2 facing each other so that the magnetic thin film portions 2 on the substrate 1 form a head core having a magnetic gap 15. . Also, the sliding surface 17 is provided so that the magnetic gap 15 and the magnetic recording medium such as a magnetic tape are in smooth contact with each other.
Is polished so as to have a predetermined surface roughness.
【００２１】上記コア片１６において、磁性薄膜部２
は、基板１に形成された略Ｖ字状の溝５の片側斜面に沿
って、例えばセンダスト（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ）等の高飽
和磁束密度を有する軟磁性薄膜２ａと、ＳｉＯ2 等の非
磁性非導体からなる層間絶縁膜２ｂとを交互に積層して
構成されている。また、磁性薄膜部２は、図１０（ｂ）
に示すように、トラック幅を狭くするため、磁気ギャッ
プ１５から溝５底面方向にかけて絞りこみがなされてい
る。そして、磁気ヘッドチップ１０には、ヘッドコア１
６・１６に図示しないヘッドコイルを巻回するために、
基板１のギャップ面１３に内部巻線溝１１・１１を形成
し、また、ギャップ面１３と反対側の面に外部巻線溝１
２・１２を形成する。そして、内部巻線溝１１・１１に
より内部巻線穴１４を形成している。また、磁性薄膜部
２は、図１０（ｂ）に示すように、トラック幅を狭くす
るため、磁気ギャップ１５近傍が絞り込み状態となって
いる。In the core piece 16, the magnetic thin film 2
Along one side inclined surface of the substantially V-shaped groove 5 formed on the substrate 1, for example, Sendust (Fe-Al-Si) and a soft magnetic thin film 2a having a high saturation magnetic flux density such as, SiO 2, etc. Non of It is configured by alternately laminating an interlayer insulating film 2b made of a magnetic non-conductor. Further, the magnetic thin film portion 2 is formed as shown in FIG.
As shown in (1), in order to reduce the track width, the aperture is narrowed from the magnetic gap 15 to the bottom of the groove 5. The magnetic head chip 10 includes the head core 1
In order to wind a head coil (not shown) on 6.16,
Internal winding grooves 11 are formed on the gap surface 13 of the substrate 1, and the external winding grooves 1 are formed on the surface opposite to the gap surface 13.
2 · 12 are formed. An internal winding hole 14 is formed by the internal winding grooves 11. Further, as shown in FIG. 10B, the magnetic thin film portion 2 has a narrowed state near the magnetic gap 15 in order to reduce the track width.
【００２２】上記構成の磁気ヘッドの製造方法について
図１ないし図１０を参照しながら説明する。A method of manufacturing the magnetic head having the above configuration will be described with reference to FIGS.
【００２３】先ず、図２に示すように、非磁性体または
酸化物磁性体からなる基板１の表面に、所定の深さを有
する断面略Ｖ字状の複数の溝５…を、所定のピッチ寸法
Ａで相互に隣接して、基板１の一端から他端まで直線的
に、連続して形成する。続いて、図１（ａ）に示すよう
に、各溝５…の片側斜面５ａ…に、例えば真空蒸着法あ
るいはスパッタリング法等により、例えばセンダスト
（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ）等の高飽和磁束密度を有する軟磁
性薄膜２ａを所定膜厚で成膜し、次に、その上に例えば
ＳｉＯ2 等の非磁性非導体からなる層間絶縁膜２ｂを所
定膜厚で成膜する。以下同様に、要求されるトラック幅
に相当する膜厚になるまで交互に軟磁性薄膜２ａと層間
絶縁膜２ｂを成膜する。First, as shown in FIG. 2, a plurality of grooves 5 of a substantially V-shaped cross section having a predetermined depth are formed on a surface of a substrate 1 made of a non-magnetic material or an oxide magnetic material at a predetermined pitch. They are formed adjacent to each other with a dimension A linearly and continuously from one end to the other end of the substrate 1. Subsequently, as shown in FIG. 1A, a high saturation magnetic flux density such as Sendust (Fe-Al-Si) is applied to one slope 5a of each groove 5 by, for example, a vacuum evaporation method or a sputtering method. A soft magnetic thin film 2a having a predetermined thickness is formed, and an interlayer insulating film 2b made of a nonmagnetic non-conductor such as SiO 2 is formed thereon with a predetermined thickness. Similarly, the soft magnetic thin film 2a and the interlayer insulating film 2b are alternately formed until the film thickness becomes equivalent to the required track width.
【００２４】さらに、トラック幅に相当する膜厚まで積
層された軟磁性薄膜２ａと層間絶縁膜２ｂから形成され
た薄膜部の上に、例えばＳｉＯ2 等の非磁性非導体薄膜
２ｃを約２μｍになるように成膜する。そして、その上
から磁性薄膜部２が所定の膜厚となるように、さらに軟
磁性薄膜２ａと層間絶縁膜２ｂを積層成膜する。Furthermore, on the thin film portion formed from laminated soft magnetic thin film 2a and the interlayer insulating film 2b to a thickness corresponding to the track width, for example, a non-magnetic non-conductive thin film 2c of SiO 2 or the like at about 2μm The film is formed as follows. Then, a soft magnetic thin film 2a and an interlayer insulating film 2b are further laminated thereon so that the magnetic thin film portion 2 has a predetermined thickness.
【００２５】次いで、図３に示すように、非磁性非導体
薄膜２ｃより後に積層された部分に対し、例えば研削加
工あるいはエッチングにより絞り込み加工を施す。続い
て、図５に示すように、磁性薄膜部２が形成された各溝
５…に低融点ガラス３を充填する。このとき、低融点ガ
ラス３は、基板１に設けられた溝５…の頂点を覆うよう
に十分に充填される。そして、低融点ガラス３が固化し
た後、図６に示すように、溝５…の頂点まで低融点ガラ
ス３を平面状に研磨する。Next, as shown in FIG. 3, the portion laminated after the non-magnetic non-conductive thin film 2c is subjected to a narrowing process by, for example, grinding or etching. Subsequently, as shown in FIG. 5, the low melting point glass 3 is filled in each groove 5 in which the magnetic thin film portion 2 is formed. At this time, the low melting point glass 3 is sufficiently filled so as to cover the vertices of the grooves 5 provided in the substrate 1. Then, after the low-melting glass 3 is solidified, the low-melting glass 3 is polished into a planar shape up to the tops of the grooves 5, as shown in FIG.
【００２６】この後、図７に示すように、磁気ヘッドチ
ップ１０には、磁性薄膜部２・２からなるヘッドコア１
６・１６に図示しないヘッドコイルを形成するために、
基板１のギャップ面１３に内部巻線溝１１を形成し、ま
た、ギャップ面１３と反対側の面に外部巻線溝１２を形
成する。さらに、図示しないＳｉＯ2 等の非磁性ギャッ
プ材を真空蒸着法あるいはスパッタリング法等の方法で
所定のギャップとなるようにギャップ面１３に均一に形
成し、これを基板ブロック１８とする。Thereafter, as shown in FIG. 7, the magnetic head chip 10 includes a head core 1 comprising magnetic thin film portions 2.
In order to form a head coil (not shown) on 6.16,
The internal winding groove 11 is formed on the gap surface 13 of the substrate 1, and the external winding groove 12 is formed on the surface opposite to the gap surface 13. Further, a nonmagnetic gap material such as SiO 2 ( not shown) is uniformly formed on the gap surface 13 so as to form a predetermined gap by a method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method.
【００２７】次いで、図８に示すように、上記構成の二
つの基板ブロック１８・１８のギャップ面１３同士をギ
ャップ材を挟む形で互いに対向するようにし、磁性薄膜
部２・２によって磁気ギャップ１５が形成されるように
位置合わせを行い、加圧固定を行いコアブロック１９を
形成する。さらに、図９に示すコアブロック１９の破線
に沿って所定のピッチ寸法Ｂで切断したものを図１に示
す磁気ヘッドチップ１０とする。Next, as shown in FIG. 8, the gap surfaces 13 of the two substrate blocks 18 having the above structure are opposed to each other with the gap material interposed therebetween. Is formed, and the core block 19 is formed by pressing and fixing. Further, the core block 19 shown in FIG. 9 cut along the broken line at a predetermined pitch dimension B is referred to as a magnetic head chip 10 shown in FIG.
【００２８】そして、この磁気ヘッドチップ１０を図示
しないベース板に接着固定した後、内部巻線溝１１と外
部巻線溝１２とを利用して巻線を行いヘッドコイルを形
成し、磁気テープ等の磁気記録媒体の摺動面１７をテー
プ研磨することにより本実施例の磁気ヘッドが形成され
る。After the magnetic head chip 10 is bonded and fixed to a base plate (not shown), winding is performed using the internal winding groove 11 and the external winding groove 12 to form a head coil, and a magnetic tape or the like is formed. The magnetic head of this embodiment is formed by tape polishing the sliding surface 17 of the magnetic recording medium.
【００２９】このように上記実施例１の方法によれば、
磁性薄膜部２の絞り込み加工部７における加工の影響
が、図４（ａ）に示すように、非磁性非導体薄膜２ｃに
よって吸収されるので、磁性薄膜部２のトラック幅に相
当する部分の寸法ａの成形精度が向上する。従って、磁
気ヘッドトラック成形精度が向上するので、磁気テープ
上での記録パターンの位置精度が向上し、記録再生特性
が良好となる。As described above, according to the method of the first embodiment,
As shown in FIG. 4A, the influence of the processing of the magnetic thin film portion 2 in the narrowing processing portion 7 is absorbed by the non-magnetic non-conductive thin film 2c, so that the dimension of the portion corresponding to the track width of the magnetic thin film portion 2 is measured. The molding accuracy of a is improved. Therefore, since the accuracy of forming the magnetic head track is improved, the positional accuracy of the recording pattern on the magnetic tape is improved, and the recording / reproducing characteristics are improved.
【００３０】〔実施例２〕 実施例１の磁気ヘッド製造方法における磁性薄膜部２を
形成する工程において、図１（ｂ）に示すように、所定
のトラック幅に相当するように軟磁性薄膜２ａと層間絶
縁膜２ｂを交互に成膜し積層構造とした後、例えばＣ
ｕ、Ａｌ等の非磁性金属薄膜２ｄを約２μｍの膜厚とな
るように成膜する。そして、その上に引き続き軟磁性薄
膜２ａと層間絶縁膜２ｂを交互に成膜し積層構造とす
る。[Embodiment 2] In the step of forming the magnetic thin film portion 2 in the magnetic head manufacturing method of Embodiment 1, as shown in FIG. 1B, the soft magnetic thin film 2a is formed so as to correspond to a predetermined track width. And an interlayer insulating film 2b are alternately formed to form a laminated structure.
A non-magnetic metal thin film 2d of u, Al or the like is formed to a thickness of about 2 μm. Then, a soft magnetic thin film 2a and an interlayer insulating film 2b are alternately formed thereon to form a laminated structure.
【００３１】次いで、図４（ｂ）に示すように、非磁性
金属薄膜２ｄより後に積層された部分に対し、例えば研
削加工あるいはエッチングにより絞り込み加工を施す。
以下、実施例１と同様の製造方法にて磁気ヘッドが形成
される。Next, as shown in FIG. 4B, the portion laminated after the non-magnetic metal thin film 2d is subjected to a narrowing process by, for example, grinding or etching.
Hereinafter, a magnetic head is formed by the same manufacturing method as in the first embodiment.
【００３２】このようにして、上記実施例２の方法によ
れば、磁性薄膜部２の絞り込み加工部７における加工の
影響が、非磁性金属薄膜２ｄによって吸収されるので、
磁性薄膜部２のトラック幅に相当する部分の寸法ａの成
形精度が向上する。従って、磁気ヘッドトラック成形精
度が向上するので、磁気テープ上での記録パターンの位
置精度が向上し、記録再生特性が良好となる。さらに、
非磁性金属薄膜は、軟磁性薄膜と同様な熱膨張係数の値
を示すので、成膜時の応力を緩和することができる。従
って、磁性薄膜部に絞り込み加工を施すときに生じる裂
けや剥がれを防止することができるので、磁気ヘッドの
磁気特性劣化を防止することが可能となる。As described above, according to the method of the second embodiment, the influence of the processing of the magnetic thin film portion 2 in the drawing processing portion 7 is absorbed by the nonmagnetic metal thin film 2d.
The molding accuracy of the dimension a of the portion corresponding to the track width of the magnetic thin film portion 2 is improved. Therefore, since the accuracy of forming the magnetic head track is improved, the positional accuracy of the recording pattern on the magnetic tape is improved, and the recording / reproducing characteristics are improved. further,
The non-magnetic metal thin film exhibits the same coefficient of thermal expansion as the soft magnetic thin film, so that the stress during film formation can be reduced. Therefore, it is possible to prevent tearing or peeling that occurs when the magnetic thin film portion is subjected to the narrowing process, so that it is possible to prevent the magnetic characteristics of the magnetic head from deteriorating.
【００３３】[0033]
【発明の効果】請求項１の磁気ヘッド製造方法は、以上
のように、基板の表面に略Ｖ字状の複数の溝を形成し、
各溝の片側斜面に沿って軟磁性薄膜と層間絶縁膜とを交
互に積層して磁性薄膜部を設けるとともに、上記磁性薄
膜部の斜面頂点近傍を、研削加工又はエッチングによっ
てトラック幅に相当する膜厚となるように絞り込み加工
を行い、その後、一対の上記基板の各々の加工された磁
性薄膜部頂部を対向させて、磁気ギャップを形成して接
合し、コアブロックを作製した後、ギャップ面を挟んで
上記コアブロックを切断することにより得られる磁気ヘ
ッドチップを形成する磁気ヘッド製造方法において、上
記磁性薄膜部では、上記トラック幅に相当する膜厚とな
るように軟磁性薄膜と層間絶縁膜とを交互に積層した
後、非磁性非導体薄膜を上記絞り込み加工の加工誤差に
対応した膜厚に成膜し、その上に引き続き、軟磁性薄膜
と層間絶縁膜とを交互に積層成膜することを特徴とする
ものである。According to the first aspect of the present invention, a plurality of substantially V-shaped grooves are formed on the surface of the substrate as described above.
A soft magnetic thin film and an interlayer insulating film are alternately laminated along one slope of each groove to provide a magnetic thin film portion, and the vicinity of the slope apex of the magnetic thin film portion is ground or etched by a film corresponding to a track width. Narrowing down to a thickness
Was carried out, then, we are opposed to processed magnetic thin film portion the top of each of the pair of the substrates, and bonding to form a magnetic gap, after preparing a core block, cutting the core block across the gap surface in the magnetic head manufacturing method of forming a magnetic head chip obtained by, in the magnetic thin film part, after alternately laminated soft magnetic thin film and the interlayer insulating film to a thickness corresponding to the track width The non-magnetic non-conductive thin film to the processing error of the above-mentioned narrowing process
It is characterized in that a soft magnetic thin film and an interlayer insulating film are alternately laminated and formed thereon in a film having a corresponding thickness.
【００３４】これによって、磁性薄膜部の絞り込み加工
の影響が非磁性非導体薄膜によって吸収されるので、ト
ラック幅に相当する磁性薄膜部の厚さの精度が向上し、
磁気ヘッドのトラック成形精度が向上し、磁気テープ上
での記録パターンの位置精度が良くなり記録再生特性も
良好となるという効果を奏する。As a result, the effect of the narrowing process of the magnetic thin film portion is absorbed by the non-magnetic non-conductive thin film, so that the accuracy of the thickness of the magnetic thin film portion corresponding to the track width is improved,
This has the effect of improving the track forming accuracy of the magnetic head, improving the positional accuracy of the recording pattern on the magnetic tape, and improving the recording / reproducing characteristics.
【００３５】請求項２の磁気ヘッド製造方法は、以上の
ように、請求項１記載の磁気ヘッド製造方法において、
上記非磁性非導体薄膜に代えて、非磁性金属薄膜を用い
ることを特徴とするものである。According to a second aspect of the present invention, there is provided a magnetic head manufacturing method according to the first aspect.
Instead of the non-magnetic non-conductive thin film, using a non-magnetic metal film
It is characterized in that that.
【００３６】それゆえ、請求項１の磁気ヘッド製造方法
の効果に加え、非磁性金属薄膜が軟磁性薄膜と同様な熱
膨張係数を示すことにより、磁性薄膜部の絞り込み加工
を施すときの、裂けや剥がれを防止することができるの
で、磁気ヘッドの磁気特性劣化を防止することが可能と
なるという効果を奏する。Therefore, in addition to the effect of the magnetic head manufacturing method of the first aspect, the non-magnetic metal thin film has the same coefficient of thermal expansion as the soft magnetic thin film, so that when the magnetic thin film portion is subjected to the narrowing process, the tearing occurs. And peeling of the magnetic head can be prevented, so that it is possible to prevent the magnetic characteristics of the magnetic head from deteriorating.
【図１】本発明の磁気ヘッド製造方法における磁性薄膜
部を形成する工程を示すものであり、同図（ａ）は積層
構造を有する磁性薄膜部に非磁性非導体薄膜層を成膜す
る工程を示す正面図であり、同図（ｂ）は積層構造を有
する磁性薄膜部に非磁性金属薄膜層を成膜する工程を示
す正面図である。FIG. 1 shows a step of forming a magnetic thin film portion in a method of manufacturing a magnetic head according to the present invention. FIG. 1 (a) shows a process of forming a non-magnetic non-conductive thin film layer on a magnetic thin film portion having a laminated structure. FIG. 2B is a front view showing a step of forming a non-magnetic metal thin film layer on a magnetic thin film portion having a laminated structure.
【図２】本発明の磁気ヘッド製造方法における製造工程
を示すものであり、Ｖ字状の溝を形成する工程を示す斜
視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a manufacturing step in the magnetic head manufacturing method of the present invention, showing a step of forming a V-shaped groove.
【図３】図１で形成された磁性薄膜部の絞り込み加工を
施す工程を示す正面図である。FIG. 3 is a front view showing a process of narrowing down the magnetic thin film portion formed in FIG.
【図４】図３で絞り込みの行われた磁性薄膜部の上端部
を示すものであり、同図（ａ）は非磁性非導体薄膜２ｃ
を成膜したときの要部拡大正面図であり、同図（ｂ）は
非磁性非金属薄膜２ｄを成膜したときの要部拡大正面図
である。FIG. 4 shows the upper end of the magnetic thin film portion narrowed down in FIG. 3, and FIG. 4 (a) shows the non-magnetic non-conductive thin film 2c.
FIG. 4B is an enlarged front view of a main part when a film is formed, and FIG. 4B is an enlarged front view of a main part when a non-magnetic nonmetal thin film 2d is formed.
【図５】図３で絞り込みの行われた磁性薄膜部上に低融
点ガラスを充填する工程を示す正面図である。FIG. 5 is a front view showing a step of filling low-melting-point glass on the magnetic thin-film portion narrowed down in FIG. 3;
【図６】図５で充填された低融点ガラスを平面状に研磨
して、ギャップ面を形成する工程を示す正面図である。FIG. 6 is a front view showing a step of forming a gap surface by polishing the low-melting glass filled in FIG. 5 into a planar shape.
【図７】図８の基板の両側面に内部巻線溝と外部巻線溝
とを形成してコアブロックを作製する工程を示す斜視図
である。FIG. 7 is a perspective view showing a process of forming a core block by forming an internal winding groove and an external winding groove on both side surfaces of the substrate of FIG. 8;
【図８】図７で形成されたコアブロックを一対合わせて
磁気ヘッドブロックを形成する工程を示す平面図であ
る。FIG. 8 is a plan view showing a step of forming a magnetic head block by combining a pair of the core blocks formed in FIG. 7;
【図９】図１０で形成された磁気ヘッドブロックの斜視
図である。FIG. 9 is a perspective view of the magnetic head block formed in FIG. 10;
【図１０】本発明の磁気ヘッド製造方法により、製造さ
れた磁気ヘッドチップを示すものであり、同図（ａ）は
斜視図であり、同図（ｂ）は磁気ヘッドチップの平面図
である。10A and 10B show a magnetic head chip manufactured by the magnetic head manufacturing method of the present invention, wherein FIG. 10A is a perspective view and FIG. 10B is a plan view of the magnetic head chip. .
【図１１】従来の磁気ヘッド製造方法における磁性薄膜
部の絞り込み加工を施す工程を示す正面図である。FIG. 11 is a front view showing a step of narrowing down a magnetic thin film portion in a conventional magnetic head manufacturing method.
【図１２】図１１で絞り込みの行われた磁性薄膜部の上
端部の要部拡大正面図である。FIG. 12 is an enlarged front view of a main part of an upper end portion of the magnetic thin film portion narrowed down in FIG. 11;
【図１３】従来の磁気ヘッド製造方法により、製造され
た磁気ヘッドチップを示すものであり、同図（ａ）は斜
視図であり、同図（ｂ）は上記磁気ヘッドチップの平面
図である。13A and 13B show a magnetic head chip manufactured by a conventional magnetic head manufacturing method. FIG. 13A is a perspective view, and FIG. 13B is a plan view of the magnetic head chip. .
２ 磁性薄膜部 ２ａ 軟磁性薄膜 ２ｂ 層間絶縁膜 ２ｃ 非磁性非導体薄膜 ２ｄ 非磁性金属薄膜 2 Magnetic thin film section 2a Soft magnetic thin film 2b Interlayer insulating film 2c Non-magnetic non-conductive thin film 2d Non-magnetic metal thin film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 5/187 G11B 5/31 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) G11B 5/187 G11B 5/31
Claims (2)
し、各溝の片側斜面に沿って軟磁性薄膜と層間絶縁膜と
を交互に積層して磁性薄膜部を設けるとともに、上記磁
性薄膜部の斜面頂点近傍を、研削加工又はエッチングに
よってトラック幅に相当する膜厚となるように絞り込み
加工を行い、その後、一対の上記基板の各々の加工され
た磁性薄膜部頂部を対向させて、磁気ギャップを形成し
て接合し、コアブロックを作製した後、ギャップ面を挟
んで上記コアブロックを切断することにより得られる磁
気ヘッドチップを形成する磁気ヘッド製造方法におい
て、 上記磁性薄膜部では、上記トラック幅に相当する膜厚と
なるように軟磁性薄膜と層間絶縁膜とを交互に積層した
後、非磁性非導体薄膜を上記絞り込み加工の加工誤差に
対応した膜厚に成膜し、その上に引き続き、軟磁性薄膜
と層間絶縁膜とを交互に積層成膜することを特徴とする
磁気ヘッド製造方法。A plurality of substantially V-shaped grooves are formed on the surface of a substrate, and a soft magnetic thin film and an interlayer insulating film are alternately laminated along one slope of each groove to provide a magnetic thin film portion. the slope near the apex of the magnetic thin film part, to narrow down <br/> machining to a thickness corresponding to the track width by grinding or etching, then, processed magnetic thin film portion of each of the pair of the substrates A magnetic head manufacturing method for forming a magnetic head chip obtained by forming a magnetic gap, joining the magnetic heads with the top portions facing each other, forming a core block, and cutting the core block across the gap surface. the magnetic thin film portion, after alternately laminated soft magnetic thin film and the interlayer insulating film to a thickness corresponding to the track width, the non-magnetic non-conductive thin film processing error of the narrowing down processing
Formed in the corresponding thickness, subsequently thereon, the magnetic head manufacturing method characterized by laminating depositing a soft magnetic thin film and the interlayer insulating film alternately.
属薄膜を用いることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘ
ッド製造方法。2. A method according to claim 1, wherein a non-magnetic metal thin film is used in place of said non-magnetic non-conductive thin film .
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