JP2000293812A - Magnetic head and its production - Google Patents

Magnetic head and its production

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JP2000293812A
JP2000293812A JP11101850A JP10185099A JP2000293812A JP 2000293812 A JP2000293812 A JP 2000293812A JP 11101850 A JP11101850 A JP 11101850A JP 10185099 A JP10185099 A JP 10185099A JP 2000293812 A JP2000293812 A JP 2000293812A
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Japan
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magnetic
thin film
magnetic head
metal
pair
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JP11101850A
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Japanese (ja)
Inventor
Tadashi Saito
正 斎藤
Seiichi Ogata
誠一 小形
Yuka Monma
由香 門馬
Koji Suzuki
浩二 鈴木
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To narrowly form the track width with a high precision. SOLUTION: A metallic magnetic film 4 formed on a pair of magnetic core half bodies 2 is notched downward from a butting face 2a of these magnetic core half bodies 2. Thus, a track width Tw of a magnetic head 1 is formed more narrowly than a track width Tw0 obtained by producing the magnetic head without notching the metallic magnetic film. In this case, the angle of incidence of an ion beam is set to 24 to 35 deg.C in the etching process.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属磁性薄膜によ
り磁路を形成してなる磁気ヘッド及びその製造方法に関
する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a magnetic head having a magnetic path formed by a metal magnetic thin film and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ヘッドは、例えばビデオテープレコ
ーダ(VTR)等の磁気記録再生装置に搭載されて、磁
気記録媒体に対して情報信号の記録及び/又は再生(以
下、記録再生という。)を行うものである。磁気ヘッド
としては、メタル・イン・ギャップ(MIG)型磁気ヘ
ッドや積層型磁気ヘッド等の各種が提案され、実用化さ
れている。
2. Description of the Related Art A magnetic head is mounted on a magnetic recording / reproducing device such as a video tape recorder (VTR), and records and / or reproduces information signals on a magnetic recording medium (hereinafter referred to as recording / reproducing). Is what you do. Various types of magnetic heads such as a metal-in-gap (MIG) type magnetic head and a laminated magnetic head have been proposed and put into practical use.

【0003】磁気ヘッドは、高記録密度化やデジタル化
に対応するために、より高周波帯域で良好な電磁変換特
性を示すことができるものが望まれている。また、VT
R用の磁気ヘッドとしては、装置の小型化・高性能化に
対応するために、小さなドラムに複数個搭載する必要か
ら、小型化されることが望まれている。
[0003] In order to cope with higher recording density and digitization, a magnetic head that can exhibit good electromagnetic conversion characteristics in a higher frequency band is desired. Also, VT
Since the magnetic head for R needs to be mounted on a small drum in order to cope with miniaturization and high performance of the device, it is desired to reduce the size.

【0004】上述したMIG型磁気ヘッドは、インピー
ダンスが大きいために、高周波帯域での使用に適さな
い。また、積層型磁気ヘッドは、高記録密度化に伴うト
ラック幅の減少に伴い、磁路を構成する金属磁性薄膜の
膜厚を減少させる必要があるために、再生効率が減少し
てしまう上に、ヘッドの小型化にも限界がある。
The above-mentioned MIG type magnetic head is not suitable for use in a high frequency band because of its large impedance. In addition, in the stacked magnetic head, as the track width decreases with the increase in recording density, it is necessary to reduce the thickness of the metal magnetic thin film constituting the magnetic path, so that the reproduction efficiency is reduced. Also, there is a limit to the miniaturization of the head.

【0005】そこで、高周波帯域でも良好な電磁変換特
性を示すことができる磁気ヘッドとして、例えば特開平
6−259717号公報「磁気ヘッド及びその製造方
法」に記載されているように、薄膜形成工程で作製して
磁気コアの磁路を短くすることによりインピーダンスを
小さくした、いわゆるバルク薄膜型磁気ヘッドが提案さ
れている。
Therefore, as a magnetic head capable of exhibiting good electromagnetic conversion characteristics even in a high frequency band, for example, as described in JP-A-6-259717, "Magnetic head and its manufacturing method", a thin film forming step is performed. A so-called bulk thin-film magnetic head has been proposed in which the impedance is reduced by shortening the magnetic path of the magnetic core after fabrication.

【0006】このバルク薄膜型磁気ヘッドは、非磁性基
板上に金属磁性薄膜が形成されてなる一対の磁気コア半
体が、非磁性膜を介して金属磁性薄膜同士を接合一体化
されてなる。これにより、バルク薄膜型磁気ヘッドで
は、これら金属磁性薄膜が磁気コアを構成するととも
に、非磁性膜によって磁気ギャップが形成される。そし
て、バルク薄膜型磁気ヘッドは、一対の磁気コア半体の
うち、少なくとも一方の磁気コア半体の接合面にコイル
形成用凹部が形成され、このコイル形成用凹部に薄膜コ
イルが形成されてなる。
In this bulk thin film magnetic head, a pair of magnetic core halves each having a metal magnetic thin film formed on a nonmagnetic substrate are joined and integrated with each other via the nonmagnetic film. Thus, in the bulk thin film magnetic head, these metal magnetic thin films constitute a magnetic core, and a magnetic gap is formed by the nonmagnetic film. The bulk thin-film magnetic head has a coil-forming recess formed on a joining surface of at least one of the pair of magnetic core halves, and a thin-film coil is formed in the coil-forming recess. .

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、磁気
記録の分野においては、磁気信号の高記録密度化がより
一層進められている。そのため、磁気ヘッドは、高記録
密度化に対応して、微細な磁気信号を正確に記録再生す
ることが益々求められてきており、磁気ギャップのトラ
ック幅を高精度に狭く形成されることが要求されてい
る。
By the way, in recent years, in the field of magnetic recording, higher recording density of magnetic signals has been further promoted. For this reason, magnetic heads are increasingly required to accurately record and reproduce fine magnetic signals in response to higher recording densities. Have been.

【0008】従来のバルク薄膜型磁気ヘッドでは、磁気
ギャップのトラック幅を狭く形成するために、一対の磁
気コア半体の接合面で露出する金属磁性薄膜に対して、
機械的な研削加工を施していた。しかしながら、この機
械的な研削加工による手法では、トラック幅を13μm
程度とすることが限界であった。
In the conventional bulk thin film type magnetic head, in order to form a magnetic gap with a narrow track width, a metal magnetic thin film exposed at a joint surface between a pair of magnetic core halves is required.
It had been subjected to mechanical grinding. However, according to this mechanical grinding method, the track width is 13 μm.
Was the limit.

【0009】また、バルク薄膜型磁気ヘッドの製造工程
では、一般に、基板材上に多数の磁気ヘッドをマトリク
ス状に形成し、薄膜形成技術を用いて大量の磁気ヘッド
を一度に加工・製造することによって生産効率を向上さ
せている。しかしながら、上述したような機械的な研削
加工では、各磁気ヘッドに対して個別に加工処理を施す
必要があることから、これら大量の磁気ヘッドに対する
加工時間が増大してしまうといった問題があった。ま
た、各磁気ヘッドに対して均一な研削加工を施すことが
困難であり、トラック幅を高精度に狭く形成された磁気
ヘッドを効率よく製造することが困難であるといった問
題があった。
In the manufacturing process of a bulk thin film magnetic head, generally, a large number of magnetic heads are formed in a matrix on a substrate material, and a large number of magnetic heads are processed and manufactured at a time by using a thin film forming technique. This improves production efficiency. However, in the mechanical grinding as described above, since it is necessary to individually perform processing on each magnetic head, there has been a problem that the processing time for such a large number of magnetic heads increases. Further, there is a problem that it is difficult to perform uniform grinding on each magnetic head, and it is difficult to efficiently manufacture a magnetic head having a narrow track width with high accuracy.

【0010】そこで、本発明は、トラック幅を高精度に
狭く形成されたことにより、高記録密度化に対応した磁
気ヘッドを提供することを目的とする。また、本発明
は、トラック幅を高精度に狭く形成するとともに、優れ
た生産効率を有する磁気ヘッドの製造方法を提供するこ
とを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a magnetic head adapted to a high recording density by forming a track width to be narrow with high precision. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a magnetic head having a narrow track width with high precision and excellent production efficiency.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ヘッド
は、基板上に金属磁性薄膜が斜めに成膜されるととも
に、薄膜コイルが形成された凹部を有し、非磁性材料に
より突合せ面が平坦化されてなる一対の磁気コア半体を
備える。また、これら一対の磁気コア半体は、上記金属
磁性薄膜の前部突合せ面同士が非磁性薄膜を介して対向
するように突き合わされて磁気ギャップを形成する。さ
らに、上記金属磁性薄膜のうち少なくとも一方は、上記
突合せ面に露出するトラック幅方向の両側部のうち少な
くとも一方側を、上記突合せ面から下方に切り欠かれて
形成されてなる。
A magnetic head according to the present invention has a metal magnetic thin film formed obliquely on a substrate, a concave portion in which a thin film coil is formed, and an abutting surface made of a nonmagnetic material. A pair of flat magnetic core halves is provided. The pair of magnetic core halves abut each other such that the front butting surfaces of the metal magnetic thin films face each other via the nonmagnetic thin film to form a magnetic gap. Further, at least one of the metal magnetic thin films is formed by cutting out at least one side of both side portions in the track width direction exposed to the abutting surface from the abutting surface.

【0012】以上のように構成された磁気ヘッドは、少
なくとも一方の金属磁性薄膜が突合せ面でトラック幅方
向に切り欠かれて形成されていることによって、磁気ギ
ャップのトラック方向の幅を狭く形成されてなる。これ
により、磁気ヘッドは、高記録密度化に対応して、微細
な磁気信号を正確に記録再生することが可能となる。
In the magnetic head configured as described above, the width of the magnetic gap in the track direction is narrowed because at least one of the metal magnetic thin films is cut out in the track width direction at the abutting surface. It becomes. This enables the magnetic head to accurately record and reproduce fine magnetic signals in response to the increase in recording density.

【0013】また、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法
は、基板上に金属磁性薄膜を斜めに成膜するとともに、
薄膜コイルを形成し、非磁性材料によりより突合せ面を
平坦化してなる一対の磁気コア半体を、上記金属磁性薄
膜の前部突合せ面同士が非磁性薄膜を介して対向するよ
うに突き合わせて磁気ギャップを形成する磁気ヘッドの
製造方法である。そして、レジスト形成工程と、エッチ
ング工程とを経ることによって、上記金属磁性薄膜を上
記突合せ面でトラック幅方向に幅狭に形成する。レジス
ト形成工程では、上記一対の磁気コア半体のうち少なく
とも一方に対して、上記突合せ面に露出する上記金属磁
性薄膜上に、この金属磁性薄膜よりも幅狭にレジスト膜
を形成する。エッチング工程では、上記金属磁性薄膜に
対して、上記レジスト膜の幅でエッチング処理を施す。
Further, according to the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, a metal magnetic thin film is formed obliquely on a substrate,
A pair of magnetic core halves formed by forming a thin-film coil and flattening the butted surface with a non-magnetic material are joined together such that the front butted surfaces of the metal magnetic thin film face each other via the non-magnetic thin film. This is a method for manufacturing a magnetic head for forming a gap. Then, through a resist forming step and an etching step, the metal magnetic thin film is formed narrow in the track width direction on the abutting surface. In the resist forming step, a resist film is formed on at least one of the pair of magnetic core halves on the metal magnetic thin film exposed at the abutting surface so as to be narrower than the metal magnetic thin film. In the etching step, the metal magnetic thin film is subjected to an etching process with the width of the resist film.

【0014】以上のような磁気ヘッドの製造方法によれ
ば、薄膜形成技術であるレジスト工程及びエッチング工
程によって、磁気ギャップのトラック幅方向の幅を高精
度に狭く形成することができる。また、これにより、例
えば基板上に多数の磁気ヘッドが形成する場合にも一度
に加工を施すことができ、短時間で多数の磁気ヘッドに
対して加工を施すことができる。したがって、高記録密
度化に対応して微細な磁気信号を正確に記録再生するこ
とが可能な磁気ヘッドを効率よく生産することができ
る。
According to the method of manufacturing a magnetic head as described above, the width of the magnetic gap in the track width direction can be narrowed with high precision by the resist process and the etching process, which are thin film forming techniques. In addition, thereby, for example, when a large number of magnetic heads are formed on a substrate, processing can be performed at once, and processing can be performed on a large number of magnetic heads in a short time. Therefore, it is possible to efficiently produce a magnetic head capable of accurately recording and reproducing a fine magnetic signal corresponding to a higher recording density.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。以下では、図
1及び図2に示すような磁気ヘッド1について説明する
こととする。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. Hereinafter, the magnetic head 1 as shown in FIGS. 1 and 2 will be described.

【0016】本発明を適用した磁気ヘッド1は、金属拡
散接合により接合された一対の磁気コア半体2から構成
されている。一対の磁気コア半体2は、MnO−NiO
系の非磁性材料からなる非磁性基板3と、この非磁性基
板3の傾斜面3a上に形成された金属磁性薄膜4と、こ
の非磁性基板3上に金属磁性薄膜4を覆うように形成さ
れた低融点ガラス5とからそれぞれ形成されている。ま
た、一対の磁気コア半体2は、少なくとも一方に、励磁
用及び/又は誘導起電圧検出用の薄膜コイル6が形成さ
れてなる。
A magnetic head 1 to which the present invention is applied comprises a pair of magnetic core halves 2 joined by metal diffusion bonding. The pair of magnetic core halves 2 are made of MnO—NiO
A non-magnetic substrate 3 made of a non-magnetic material, a metal magnetic thin film 4 formed on an inclined surface 3a of the non-magnetic substrate 3, and a metal magnetic thin film 4 formed on the non-magnetic substrate 3 so as to cover the metal magnetic thin film 4. And low melting point glass 5. Further, at least one of the pair of magnetic core halves 2 is formed with a thin-film coil 6 for excitation and / or detection of an induced electromotive voltage.

【0017】磁気ヘッド1においては、一対の磁気コア
半体2が非磁性薄膜7を介して接合された状態で、金属
磁性薄膜4が、図2に示すように、磁気コア8を形成す
る。なお、図2においては、薄膜コイル6を図示してい
ない。磁気ヘッド1は、図2中矢印Aで示す方向に磁気
記録媒体が摺動することにより、磁気記録媒体に記録さ
れた信号磁界を再生し、又は信号磁界を磁気記録媒体に
記録する。
In the magnetic head 1, the metal magnetic thin film 4 forms a magnetic core 8 as shown in FIG. 2 in a state where the pair of magnetic core halves 2 are joined via the nonmagnetic thin film 7. In FIG. 2, the thin-film coil 6 is not shown. The magnetic head 1 reproduces a signal magnetic field recorded on the magnetic recording medium or records the signal magnetic field on the magnetic recording medium by sliding the magnetic recording medium in a direction indicated by an arrow A in FIG.

【0018】また、この磁気ヘッド1は、磁気記録媒体
との当たり状態を調節するために、磁気記録媒体の摺動
面9が、図2中矢印Aで示した磁気記録媒体の摺動方向
と平行に、円弧状に形成される。また、この磁気ヘッド
1は、磁気記録媒体との接触面積を調節するために、当
たり幅規制溝10が形成されている。この当たり幅規制
溝10は、磁気記録媒体の摺動方向Aと平行に、磁気ヘ
ッド1の両側面に形成されている。
In order to adjust the contact state of the magnetic head 1 with the magnetic recording medium, the sliding surface 9 of the magnetic recording medium is moved in the sliding direction of the magnetic recording medium indicated by an arrow A in FIG. It is formed in an arc shape in parallel. In addition, the magnetic head 1 is provided with a contact width regulating groove 10 for adjusting the contact area with the magnetic recording medium. The contact width regulating grooves 10 are formed on both side surfaces of the magnetic head 1 in parallel with the sliding direction A of the magnetic recording medium.

【0019】この磁気ヘッド1において、金属磁性薄膜
4は、センダスト(Fe−Al−Si合金)等の軟磁性
を示す材料により形成されている。金属磁性薄膜4は、
非磁性基板3上に所定の角度を以て斜めに形成された傾
斜面3a上に形成されている。このため、磁気コア8
は、金属磁性薄膜4が形成された一対の磁気コア半体2
が非磁性薄膜7を介して接合されると、図2に示すよう
に、磁気記録媒体の摺動方向Aに対して斜めに配される
こととなる。
In the magnetic head 1, the metal magnetic thin film 4 is formed of a material exhibiting soft magnetism such as Sendust (Fe-Al-Si alloy). The metal magnetic thin film 4
The non-magnetic substrate 3 is formed on an inclined surface 3 a which is formed obliquely at a predetermined angle. For this reason, the magnetic core 8
Are a pair of magnetic core halves 2 on which a metal magnetic thin film 4 is formed.
Are joined obliquely to the sliding direction A of the magnetic recording medium as shown in FIG.

【0020】また、この金属磁性薄膜4は、磁気コア半
体2の接合される面側の端面の略中央部が凹部4aとさ
れている。このため、金属磁性薄膜4は、磁気コア半体
2の接合面2aで、凹部4aに充填された低融点ガラス
5によって分断されて露出する前部突合せ面11と後部
突合せ面12とを有することとなる。そして、一対の磁
気コア半体2の前部突合せ面11同士は、非磁性薄膜7
を介して突き合わされてフロントギャップ13を構成す
る。また、一対の磁気コア半体2の後部突合せ面12同
士は、非磁性薄膜7を介して突き合わされてバックギャ
ップ14を構成する。
The metal magnetic thin film 4 has a concave portion 4a at a substantially central portion of the end surface on the side to which the magnetic core half 2 is bonded. For this reason, the metal magnetic thin film 4 has a front butting surface 11 and a rear butting surface 12 which are separated and exposed by the low melting point glass 5 filled in the concave portion 4a at the joining surface 2a of the magnetic core half 2. Becomes The front butting surfaces 11 of the pair of magnetic core halves 2 are
To form a front gap 13. The rear butting surfaces 12 of the pair of magnetic core halves 2 are butted with the non-magnetic thin film 7 therebetween to form a back gap 14.

【0021】また、金属磁性薄膜4には、接合面2a
に、後部突合せ面12を略中心とした薄膜コイル7が内
部に形成されたコイル形成用凹部15を有する。このコ
イル形成用凹部15には、後部突合せ面12の近傍にコ
イル接続用端子16が形成されている。薄膜コイル6
は、コイル形成用凹部15内に形成されて、中心側の端
部がコイル接続用端子16に接続されている。
The metal magnetic thin film 4 has a bonding surface 2a
And a coil forming recess 15 in which the thin film coil 7 having the rear butting surface 12 substantially at the center is formed. A coil connection terminal 16 is formed in the coil forming recess 15 near the rear butting surface 12. Thin film coil 6
Is formed in the coil forming recess 15, and the end on the center side is connected to the coil connection terminal 16.

【0022】コイル接続用端子16は、一対の磁気コア
半体2の接合面2aと同一面を構成するようにそれぞれ
高さを調節して形成されている。そして、磁気ヘッド1
においては、一対の磁気コア半体2が接合されると、一
対のコイル接続用端子16も接合されることとなる。こ
れにより、この磁気ヘッド1においては、一対の磁気コ
ア半体2が接合されると、一対の薄膜コイル6が電気的
に接続されることとなる。
The coil connection terminals 16 are formed with their heights adjusted so as to form the same surfaces as the joint surfaces 2a of the pair of magnetic core halves 2. And the magnetic head 1
In the above, when the pair of magnetic core halves 2 are joined, the pair of coil connection terminals 16 are also joined. Thus, in the magnetic head 1, when the pair of magnetic core halves 2 are joined, the pair of thin-film coils 6 are electrically connected.

【0023】また、薄膜コイル6の外周側の端部は、磁
気記録媒体の摺動面9とは反対側へ導出されている。一
対の磁気コア半体2には、この薄膜コイル6が導出され
た部位に、外部接続用端子17がそれぞれ形成されてい
る。そして、薄膜コイル6の外周側の端部は、それぞれ
この外部接続用端子17に接続されている。
The outer peripheral end of the thin film coil 6 is led out to the side opposite to the sliding surface 9 of the magnetic recording medium. External connection terminals 17 are formed on the pair of magnetic core halves 2 at portions where the thin film coil 6 is led out. The outer peripheral ends of the thin film coil 6 are connected to the external connection terminals 17, respectively.

【0024】これら外部接続用端子17は、磁気ヘッド
1の側面に露出することによって、外部と薄膜コイル6
とを電気的に接続する機能を有している。また、これら
一対の外部接続用端子17は、短絡が生じないように、
一対の磁気コア半体2を接合した際に互いに接触しない
位置にそれぞれ形成されている。
These external connection terminals 17 are exposed to the side surface of the magnetic head 1 so that
Has the function of electrically connecting The pair of external connection terminals 17 are connected to each other so that a short circuit does not occur.
They are formed at positions where they do not contact each other when the pair of magnetic core halves 2 are joined.

【0025】ところで、磁気ヘッド1においては、図3
に示すように、フロントギャップ13の摺動面からの深
さであるデプスBが、ヘッド特性を決定する重要な要素
の一つとされている。磁気ヘッド1は、このデプスBを
正確且つ容易に読み取るために、フロントギャップ13
のデプス零位置13aを決めるデプスマーカーとしての
溝部18が形成されている。
Incidentally, in the magnetic head 1, FIG.
As shown in (1), the depth B, which is the depth of the front gap 13 from the sliding surface, is one of the important factors that determine the head characteristics. The magnetic head 1 uses a front gap 13 to accurately and easily read the depth B.
Is formed as a depth marker for determining the zero depth position 13a.

【0026】溝部18は、一対の磁気コア半体2の接合
面2a上で、金属磁性薄膜4の凹部4aのフロントギャ
ップ13側の頂部に位置して形成されている。また、溝
部18は、その両端部を磁気ヘッド1の両側面に臨むよ
うに形成され、摺動面9に対して平行に形成されてい
る。したがって、溝部18は、一対の磁気コア半体2に
おいて、前部突合せ面11の摺動面9と反対側の端部を
切り欠くように形成されている。そのため、溝部18の
摺動面9側の側縁18aは、フロントギャップ13のデ
プス零位置13aに必ず一致することになる。言い換え
ると、この磁気ヘッド1では、摺動面9から溝部18の
側縁18aまでの距離がデプスBの長さとなる。
The groove 18 is formed on the joint surface 2a of the pair of magnetic core halves 2 at the top of the recess 4a of the metal magnetic thin film 4 on the front gap 13 side. The groove 18 is formed so that both ends face both side surfaces of the magnetic head 1, and is formed parallel to the sliding surface 9. Therefore, the groove portion 18 is formed so as to cut out the end of the pair of magnetic core halves 2 opposite to the sliding surface 9 of the front butting surface 11. Therefore, the side edge 18 a of the groove 18 on the sliding surface 9 side always coincides with the zero depth position 13 a of the front gap 13. In other words, in the magnetic head 1, the distance from the sliding surface 9 to the side edge 18a of the groove 18 is the depth B.

【0027】したがって、磁気ヘッド1においては、摺
動面9から溝部18の側縁18aまでの距離を側面から
確認しながら摺動面9を研磨することにより、フロント
ギャップ13のデプスBを高精度に調節することができ
る。そのため、磁気ヘッド1は、フロントギャップ13
のデプスBが小さくなるように摺動面9に対して研磨加
工を施すことにより、ヘッド効率を向上させることがで
きる。
Therefore, in the magnetic head 1, the depth B of the front gap 13 can be adjusted with high precision by polishing the sliding surface 9 while checking the distance from the sliding surface 9 to the side edge 18a of the groove 18 from the side. Can be adjusted. Therefore, the magnetic head 1 has the front gap 13
The head efficiency can be improved by polishing the sliding surface 9 so that the depth B becomes smaller.

【0028】なお、本実施の形態において、溝部18
は、摺動面9側の側縁18aと前部突合せ面11の摺動
面9と反対側の端部との距離が15μm以下であること
が望ましく、さらには7μm以下であることが望まし
い。この距離が15μmを超える場合は、溝部18によ
って切り欠かれる前部突合せ面11の長さが増加するた
めに、コア効率にあまり寄与しない部分であるフロント
ギャップ13の下側部分で、磁気コア8の堆積が増加し
てしまう。このためインダクタンス当たりのコア効率が
劣化してしまう虞がある。
In this embodiment, the groove 18
Preferably, the distance between the side edge 18a on the sliding surface 9 side and the end of the front abutting surface 11 on the side opposite to the sliding surface 9 is preferably 15 μm or less, and more preferably 7 μm or less. If this distance exceeds 15 μm, the length of the front butting surface 11 cut out by the groove 18 increases, so that the lower part of the front gap 13 which does not significantly contribute to the core efficiency, Deposition increases. For this reason, the core efficiency per inductance may be degraded.

【0029】また、溝部18は、基板21側への深さが
2〜15μmであることが望ましく、さらには5〜10
μmであることが望ましい。磁気ヘッド1は、溝部18
の深さが2μm未満である場合には、この溝部18にお
ける磁束のリークの影響により、コア効率が劣化してし
まう虞がある。また、磁気ヘッド1は、溝部18の深さ
が15μmを超えた場合には、この溝部18によって磁
気コア8が切り欠かれることによって、コア効率が劣化
してしまう虞がある。
The depth of the groove 18 toward the substrate 21 is preferably 2 to 15 μm, and more preferably 5 to 10 μm.
μm is desirable. The magnetic head 1 has a groove 18
Is less than 2 μm, the core efficiency may be deteriorated due to the influence of the leakage of the magnetic flux in the groove 18. Further, in the magnetic head 1, when the depth of the groove 18 exceeds 15 μm, the magnetic core 8 may be cut off by the groove 18, and the core efficiency may be deteriorated.

【0030】また、磁気ヘッド1においては、図4に示
すように、フロントギャップ13における磁気記録媒体
の摺動方向Aに対して垂直な方向の幅がトラック幅Tw
とされている。言い換えると、一対の磁気コア半体2に
形成された金属磁性薄膜4同士は、これら磁気コア半体
2の突合せ面2aで対向するように突き合わされてお
り、フロントギャップ13を構成する前部突合せ面11
における、磁気記録媒体の摺動方向Aに対して垂直な方
向の幅がトラック幅Twとされている。なお、図4は、
磁気ヘッド1を磁気記録媒体の摺動面9側からみたフロ
ントギャップ13近傍の要部拡大図である。
In the magnetic head 1, as shown in FIG. 4, the width of the front gap 13 in the direction perpendicular to the sliding direction A of the magnetic recording medium is the track width Tw.
It has been. In other words, the metal magnetic thin films 4 formed on the pair of magnetic core halves 2 are butted against each other at the butting surfaces 2 a of the magnetic core halves 2, and the front butt forming the front gap 13 is formed. Face 11
Is a track width Tw in the direction perpendicular to the sliding direction A of the magnetic recording medium. In addition, FIG.
FIG. 2 is an enlarged view of a main part near a front gap 13 when the magnetic head 1 is viewed from a sliding surface 9 side of a magnetic recording medium.

【0031】また、金属磁性薄膜4は、磁気コア半体2
の突合せ面2aに露出するトラック幅Tw方向の両側部
を、この突合せ面2aから下方に切り欠かれて形成され
ている。これにより、磁気ヘッド1のトラック幅Tw
は、金属磁性薄膜4を切り欠かずに形成した場合のトラ
ック幅Tw0と比較して、幅狭に形成されている。した
がって、磁気ヘッド1は、高記録密度化に対応して、微
細な磁気信号を正確に記録再生することが可能となる。
The metal magnetic thin film 4 is made of the magnetic core half 2
Both sides in the track width Tw direction exposed to the butting surface 2a are cut out downward from the butting surface 2a. Thereby, the track width Tw of the magnetic head 1 is obtained.
, Compared to the track width Tw 0 in the case of forming without notching the metal magnetic thin film 4 is formed in a narrow. Therefore, the magnetic head 1 can accurately record and reproduce fine magnetic signals in response to the increase in recording density.

【0032】磁気ヘッド1では、上述したように金属磁
性薄膜4を切り欠いて構成された切欠部19に、非磁性
絶縁材料が充填されている。これにより、摺動面9を摺
動する磁気記録媒体が、切欠部19のエッジで傷ついて
しまうことを防止することができる。切欠部19を充填
する非磁性絶縁材料としては、例えば、Al23,Si
2,Ta25,Cr23,TiO2等の酸化物、Cr,
Pr,Au,Ag等の金属等を用いることができる。
In the magnetic head 1, the notch 19 formed by cutting the metal magnetic thin film 4 as described above is filled with a non-magnetic insulating material. Thereby, it is possible to prevent the magnetic recording medium sliding on the sliding surface 9 from being damaged by the edge of the notch 19. As the non-magnetic insulating material filling the notch 19, for example, Al 2 O 3 , Si
Oxides such as O 2 , Ta 2 O 5 , Cr 2 O 3 , TiO 2 , Cr,
Metals such as Pr, Au, and Ag can be used.

【0033】なお、図4においては、一対の磁気コア半
体2に形成された金属磁性薄膜4が、互いに異なる幅を
有して突き合わされている場合を示している。この場合
に、磁気ヘッド1においては、幅狭に形成された方の金
属磁性薄膜4における、磁気記録媒体の摺動方向Aに対
して垂直な方向の幅がトラック幅Twとなる。
FIG. 4 shows a case where the metal magnetic thin films 4 formed on the pair of magnetic core halves 2 are butted with different widths from each other. In this case, in the magnetic head 1, the track width Tw is the width of the thinner metal magnetic thin film 4 in the direction perpendicular to the sliding direction A of the magnetic recording medium.

【0034】磁気ヘッド1では、一対の磁気コア半体2
に形成された金属磁性薄膜4が同一の幅を有するように
形成されて、段差なく突き合わされていることが望まし
い。これにより、記録再生特性を向上させることができ
る。しかしながら、同一の幅を有する金属磁性薄膜4を
正確に位置合わせを行って接合するのは困難であり、僅
かでもズレが生じた場合に、そのズレの分だけトラック
幅が減少してしまう。
In the magnetic head 1, a pair of magnetic core halves 2
It is desirable that the metal magnetic thin films 4 formed at the same time are formed so as to have the same width and butted without any step. Thereby, the recording / reproducing characteristics can be improved. However, it is difficult to accurately align and join the metal magnetic thin films 4 having the same width, and even if there is a slight deviation, the track width is reduced by the deviation.

【0035】したがって、磁気ヘッド1では、図4に示
すように、互いに僅かに異なる幅を有する金属磁性薄膜
4を突き合わせてフロントギャップ13を構成すること
により、確実に所望のトラック幅Twを得ることができ
る。
Therefore, in the magnetic head 1, as shown in FIG. 4, the front gap 13 is formed by abutting the metal magnetic thin films 4 having widths slightly different from each other, so that the desired track width Tw can be reliably obtained. Can be.

【0036】また、磁気ヘッド1においては、一対の磁
気コア半体2に形成された金属磁性薄膜4のうち、一方
のみを上述したように切り欠いて形成してもよい。これ
により、一対の磁気コア半体2の位置合わせをさらに容
易とすることができる。また、本実施の形態では、金属
磁性薄膜4のトラック幅Tw方向の両側部が切り欠かれ
ているとしたが、どちらか一方の側部だけを切り欠かれ
ているとしてもよい。
In the magnetic head 1, only one of the metal magnetic thin films 4 formed on the pair of magnetic core halves 2 may be cut out as described above. Thereby, the alignment of the pair of magnetic core halves 2 can be further facilitated. Further, in the present embodiment, both sides in the track width Tw direction of the metal magnetic thin film 4 are cut, but only one of the sides may be cut.

【0037】なお、この磁気ヘッド1において、非磁性
基板3は、MnO−NiO系の非磁性材料からなるとし
たが、本発明はこのような構成に限定されるものではな
い。非磁性基板3は、チタン酸カルシウム、チタン酸バ
リウム、酸化ジルコニウム(ジルコニア)、アルミナ、
アルミナチタンカーバイド、SiO2、Znフェライ
ト、結晶化ガラス又は高硬度ガラス等からなるものであ
ってもよい。
In the magnetic head 1, the non-magnetic substrate 3 is made of a MnO-NiO-based non-magnetic material, but the present invention is not limited to such a configuration. The non-magnetic substrate 3 is made of calcium titanate, barium titanate, zirconium oxide (zirconia), alumina,
It may be made of alumina titanium carbide, SiO 2 , Zn ferrite, crystallized glass, high hardness glass, or the like.

【0038】また、この磁気ヘッド1において、金属磁
性薄膜4は、センダスト(Fe−Al−Si合金)等の
軟磁性を示す材料により成膜されるとしたが、本発明は
このような構成に限定されるものではない。金属磁性薄
膜4は、例えば、Fe−Ta−N合金、Fe−Al合
金、Fe−Si−Co合金、Fe−Ga−Si合金、F
e−Ga−Si−Ru合金、Fe−Al−Ge合金、F
e−Ga−Ge合金、Fe−Si−Ge合金、Fe−C
o−Si−Al合金、Fe−Ni合金等の結晶質合金か
らなるものであってもよい。あるいは、金属磁性薄膜4
は、Fe,Co,Niのうちの1以上の元素とP,C,
B,Siのうちの1以上の元素とからなる合金、又はこ
れを主成分としAl,Ge,Be,Sn,In,Mo,
W,Ti,Mn,Cr,Zr,Hf,Nb等を含んだ合
金等に代表されるメタル−メタロイド系アモルファス合
金や、Co,Hf,Zr等の遷移金属と希土類元素を主
成分とするメタル−メタル系アモルファス合金等の非晶
質合金からなるようなものであってもよい。さらに、金
属磁性薄膜4は、窒化系軟磁性合金又は炭化系軟磁性合
金等であってもよい。
In the magnetic head 1, the metal magnetic thin film 4 is formed of a soft magnetic material such as Sendust (Fe-Al-Si alloy). It is not limited. The metal magnetic thin film 4 is made of, for example, an Fe-Ta-N alloy, an Fe-Al alloy, an Fe-Si-Co alloy, an Fe-Ga-Si alloy,
e-Ga-Si-Ru alloy, Fe-Al-Ge alloy, F
e-Ga-Ge alloy, Fe-Si-Ge alloy, Fe-C
It may be made of a crystalline alloy such as an o-Si-Al alloy or an Fe-Ni alloy. Alternatively, metal magnetic thin film 4
Represents one or more elements of Fe, Co, Ni and P, C,
Alloy consisting of one or more elements of B and Si, or Al, Ge, Be, Sn, In, Mo,
Metal-metalloid amorphous alloys typified by alloys containing W, Ti, Mn, Cr, Zr, Hf, Nb, etc .; It may be made of an amorphous alloy such as a metal-based amorphous alloy. Further, the metal magnetic thin film 4 may be a nitride-based soft magnetic alloy or a carbide-based soft magnetic alloy.

【0039】さらに、金属磁性薄膜4は、単一層からな
る金属磁性薄膜により構成されてもよいが、非磁性薄膜
層と磁性薄膜層とを交互に積層した構成にすることが望
ましい。このことにより、磁気ヘッド1は、より高周波
領域において、感度が高いものとすることができる。
Further, the metal magnetic thin film 4 may be constituted by a metal magnetic thin film composed of a single layer, but it is preferable that a nonmagnetic thin film layer and a magnetic thin film layer are alternately laminated. Thus, the magnetic head 1 can have high sensitivity in a higher frequency range.

【0040】また、この磁気ヘッド1においては、溝部
18を一対の磁気コア半体2のそれぞれに形成したが、
このような構成に限定されるものではない。溝部18
は、一対の磁気コア半体2のうちの少なくとも一方に形
成されていればよい。
In the magnetic head 1, the groove 18 is formed in each of the pair of magnetic core halves 2.
It is not limited to such a configuration. Groove 18
May be formed on at least one of the pair of magnetic core halves 2.

【0041】さらに、溝部18には、非磁性材料が充填
されていることが望ましい。磁気ヘッド1は、溝部18
を空隙のまま形成されると、ヘッド使用時の摩耗等によ
りフロントギャップ13のデプスBがすり減って、溝部
18が摺動面9に表出してしまう。このとき、摺動面9
に溝部18の鋭利なエッジが形成されてしまい、摺動面
9を摺動する磁気記録媒体を傷つけてしまう。磁気ヘッ
ド1は、溝部18に非磁性材料が充填されていることに
よって、このように磁気記録媒体を傷つけてしまうこと
を防止することができる。
Further, it is desirable that the groove 18 be filled with a non-magnetic material. The magnetic head 1 has a groove 18
Is formed as a gap, the depth B of the front gap 13 is worn out due to wear or the like during use of the head, and the groove 18 is exposed on the sliding surface 9. At this time, the sliding surface 9
In this case, a sharp edge of the groove 18 is formed, and the magnetic recording medium sliding on the sliding surface 9 is damaged. The magnetic head 1 can prevent such damage to the magnetic recording medium by filling the groove portion 18 with a non-magnetic material.

【0042】この溝部18に充填する非磁性材料として
は、溝部18と低融点ガラス5との境界を識別可能とす
るために、低融点ガラス5とは異なる材料を用いるのが
望ましい。具体的には、上述した切欠部19を充填する
非磁性材料と同様な材料を用いることができる。
As the nonmagnetic material to be filled in the groove 18, it is desirable to use a material different from the low-melting glass 5 so that the boundary between the groove 18 and the low-melting glass 5 can be identified. Specifically, a material similar to the above-described non-magnetic material filling the notch 19 can be used.

【0043】また、本実施の形態においては、一対の磁
気コア半体2にそれぞれ形成される溝部18の断面を半
円形状としたが、例えば多角形状としてもよい。
In the present embodiment, the cross section of the groove 18 formed in each of the pair of magnetic core halves 2 has a semicircular shape, but may have a polygonal shape, for example.

【0044】以上のように構成された磁気ヘッド1は、
磁気記録媒体に記録された磁気信号を再生する際に、磁
気記録媒体からの信号磁界がフロントギャップ13の周
辺に印加される。そして、印加される信号磁界の方向が
変化することによって、磁気コア8に流れる磁束の方向
が変化する。その結果、磁気ヘッド1では、電磁誘導が
生じ、薄膜コイル6に信号磁界に応じた電流が流れる。
磁気ヘッド1は、この薄膜コイル6に生じた電流を、外
部接続用端子17を介して検出することによって、磁気
記録媒体からの信号磁界を読み取る。
The magnetic head 1 configured as described above
When reproducing a magnetic signal recorded on the magnetic recording medium, a signal magnetic field from the magnetic recording medium is applied around the front gap 13. When the direction of the applied signal magnetic field changes, the direction of the magnetic flux flowing through the magnetic core 8 changes. As a result, in the magnetic head 1, electromagnetic induction occurs, and a current corresponding to the signal magnetic field flows through the thin-film coil 6.
The magnetic head 1 reads the signal magnetic field from the magnetic recording medium by detecting the current generated in the thin film coil 6 via the external connection terminal 17.

【0045】また、この磁気ヘッド1を用いて磁気記録
媒体に磁気信号を記録する際には、記録信号に応じた電
流を、外部接続用端子17を介して薄膜コイル6に供給
する。これにより、薄膜コイル6から発生する磁界によ
って、記録信号に応じた磁束が磁気コア8に流れ、磁気
コア8のフロントギャップ13を挟んで漏れ磁界が生じ
る。磁気ヘッド1は、この漏れ磁界を磁気記録媒体に印
加することにより、磁気信号を記録する。
When recording a magnetic signal on a magnetic recording medium using the magnetic head 1, a current corresponding to the recording signal is supplied to the thin-film coil 6 via the external connection terminal 17. As a result, the magnetic field generated from the thin-film coil 6 causes a magnetic flux corresponding to the recording signal to flow through the magnetic core 8, and a leakage magnetic field is generated across the front gap 13 of the magnetic core 8. The magnetic head 1 records a magnetic signal by applying the leakage magnetic field to a magnetic recording medium.

【0046】つぎに、本発明に係る磁気ヘッドの製造方
法について、図面を参照しながら詳細に説明する。以下
では、上述した磁気ヘッド1を製造する際の製造方法を
説明することとする。
Next, a method for manufacturing a magnetic head according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Hereinafter, a method of manufacturing the above-described magnetic head 1 will be described.

【0047】磁気ヘッド1を製造する際には、先ず、複
数個の磁気コア半体2を複数列に連ねて同一基板上に作
製する。次に、この基板を、複数個の磁気コア半体2が
形成された列毎に切り離して磁気コア半体ブロックを作
製する。次に、磁気コア半体ブロックを、金属拡散結合
によって接合一体化することで磁気ヘッドブロックを作
製する。そして、この磁気ヘッドブロックを個々の磁気
ヘッド1に切り離すことによって磁気ヘッド1が完成す
る。以下では、これら工程について順を追って説明す
る。
When manufacturing the magnetic head 1, first, a plurality of magnetic core halves 2 are formed on the same substrate in a plurality of rows. Next, the substrate is separated for each row in which the plurality of magnetic core halves 2 are formed, and a magnetic core half block is manufactured. Next, a magnetic head block is manufactured by joining and integrating the magnetic core half blocks by metal diffusion bonding. Then, the magnetic head block is cut into individual magnetic heads 1 to complete the magnetic head 1. Hereinafter, these steps will be described step by step.

【0048】先ず、図5に示すように、略平板状の基板
21を用意する。この基板21は、磁気ヘッド1の非磁
性基板3となるものであり、例えば、MnO−NiO等
の非磁性材料からなる。この基板21は、例えば、厚み
が約2mmとされ、長さ及び幅が約30mmとされる。
First, as shown in FIG. 5, a substantially flat substrate 21 is prepared. The substrate 21 is to be the non-magnetic substrate 3 of the magnetic head 1, and is made of a non-magnetic material such as MnO-NiO. The substrate 21 has, for example, a thickness of about 2 mm and a length and a width of about 30 mm.

【0049】次に、図6に示すように、上述した基板2
1の一主面21aに対して、砥石等により、例えば45
゜の角度を有するように、複数の磁気コア形成溝24を
互いに平行に形成する。これにより、基板21には、こ
の第1の溝加工で形成された磁気コア形成溝24によっ
て、複数の傾斜面21bが形成されることとなる。
Next, as shown in FIG.
For example, 45 is applied to one main surface 21a by a grindstone or the like.
A plurality of magnetic core forming grooves 24 are formed parallel to each other so as to have an angle of ゜. Thus, a plurality of inclined surfaces 21b are formed in the substrate 21 by the magnetic core forming grooves 24 formed by the first groove processing.

【0050】なお、ここで形成される傾斜面21bは、
円弧状や多角形状であってもよい。また、傾斜面21b
は、基板21の主面に対して、25〜60゜程度の傾斜
角を有することが望ましいが、疑似ギャップ防止やトラ
ック幅精度を考慮すると、35〜50゜程度の傾斜角を
有することがより望ましい。また、本実施の形態におい
ては、磁気コア形成溝24の深さを130μmとし、幅
を150μmとした。
The inclined surface 21b formed here is:
The shape may be an arc or a polygon. Also, the inclined surface 21b
Preferably has an inclination angle of about 25 to 60 ° with respect to the main surface of the substrate 21, but it is more preferable to have an inclination angle of about 35 to 50 ° in consideration of prevention of pseudo gap and track width accuracy. desirable. In the present embodiment, the depth of the magnetic core forming groove 24 is set to 130 μm and the width is set to 150 μm.

【0051】次に、図7に示すように、傾斜面21bが
形成された基板21上の全面に対して、金属磁性薄膜2
7を成膜する。この成膜工程においては、金属磁性薄膜
27を、非磁性層を介して3層の金属磁性材料が積層さ
れてなるように成膜する。金属磁性薄膜27は、例え
ば、マグネトロンスパッタリング法、MBE(Molecula
r Beam Epitaxy)法、蒸着法等のPVD(Physical Vap
or Deposition)法又はCVD(Chemical Vapor Deposi
tion)法によって成膜する。
Next, as shown in FIG. 7, the metal magnetic thin film 2 is formed on the entire surface of the substrate 21 on which the inclined surface 21b is formed.
7 is formed. In this film forming step, the metal magnetic thin film 27 is formed such that three layers of metal magnetic materials are laminated via a nonmagnetic layer. The metal magnetic thin film 27 is formed, for example, by magnetron sputtering, MBE (Molecula).
PVD (Physical Vap) such as r Beam Epitaxy method and evaporation method
or Deposition) or CVD (Chemical Vapor Deposi)
) method.

【0052】また、金属磁性薄膜27は、複数の金属磁
性層を有するものに限定されず、単層の金属磁性層から
なるような構成であってもよいが、より高周波帯域で高
い感度を得るために、金属磁性層を複数に分断した積層
構造であることが望ましい。これにより、金属磁性薄膜
27は、渦電流損失が低減されて、より高周波帯域で高
い感度を得ることができる。
Further, the metal magnetic thin film 27 is not limited to the one having a plurality of metal magnetic layers, and may be configured to have a single metal magnetic layer. However, high sensitivity is obtained in a higher frequency band. For this reason, it is desirable that the metal magnetic layer has a laminated structure divided into a plurality. Thereby, the metal magnetic thin film 27 can reduce the eddy current loss and obtain high sensitivity in a higher frequency band.

【0053】本実施の形態において、金属磁性薄膜27
は、Fe−Al−Si合金(センダスト)4μmとアル
ミナ0.15μmとを交互に積層し、3層のFe−Al
−Si合金層を有する構成とした。また、金属磁性薄膜
27を複数層からなるように成膜する場合、非磁性層と
しては、アルミナ、SiO2及びSiO等の材料が単独
で又は混合して用いられる。この非磁性層の膜厚は、隣
接して配される金属磁性層間の絶縁をとれる程度とす
る。
In this embodiment, the metal magnetic thin film 27
Is composed of three layers of Fe-Al-Si alloy (Sendust) 4 μm and alumina 0.15 μm alternately laminated,
-It has the structure which has a Si alloy layer. When the metal magnetic thin film 27 is formed into a plurality of layers, materials such as alumina, SiO 2, and SiO are used alone or in combination as the non-magnetic layer. The thickness of the non-magnetic layer is set to such an extent that insulation between adjacent metal magnetic layers can be obtained.

【0054】次に、図8に示すように、金属磁性薄膜2
7が形成された面に対して磁気コア形成溝24と略直交
する方向に第2の溝加工を施す。この第2の溝加工で
は、所定の大きさの磁気コア8を分離するために形成す
る分離溝28と、この分離溝28により分離された各磁
気コア8に薄膜コイル6を形成するための巻線溝29と
を形成する。
Next, as shown in FIG.
A second groove is formed on the surface on which the groove 7 is formed in a direction substantially orthogonal to the magnetic core forming groove 24. In the second groove processing, a separation groove 28 formed for separating the magnetic core 8 having a predetermined size and a winding for forming the thin film coil 6 on each magnetic core 8 separated by the separation groove 28 are formed. A line groove 29 is formed.

【0055】また、このとき、傾斜面21b以外の部分
に形成された金属磁性薄膜27、すなわち、磁気コア形
成溝24の底部に形成された金属磁性薄膜27を研削加
工により除去する。
At this time, the metal magnetic thin film 27 formed on the portion other than the inclined surface 21b, that is, the metal magnetic thin film 27 formed on the bottom of the magnetic core forming groove 24 is removed by grinding.

【0056】ここで、分離溝28は、磁気コア8を基板
21上で前後方向に磁気的に分離して各磁気コア8を形
成し、各磁気コア8に平時路を構成するための溝であ
る。また、この分離溝28は、図8の例示では2本形成
されているが、形成される磁気コア半体2の列の数だけ
設ける必要がある。また、この分離溝28は、前後方向
に並んで配される各磁気コア8を磁気的に分離するため
に、金属磁性薄膜27を完全に切断する程度の深さを有
するように形成される必要がある。具体的には、分離溝
28は、磁気コア形成溝24の底辺から150μmの深
さ、すなわち、基板21の主面21aから280μmの
深さとした。
Here, the separation groove 28 is a groove for forming each magnetic core 8 by magnetically separating the magnetic core 8 in the front-rear direction on the substrate 21 and forming a normal time path in each magnetic core 8. is there. Although two separation grooves 28 are formed in the example of FIG. 8, the separation grooves 28 need to be provided by the number of rows of the magnetic core halves 2 to be formed. In order to magnetically separate the magnetic cores 8 arranged side by side in the front-rear direction, the separation grooves 28 need to be formed to have a depth enough to completely cut the metal magnetic thin film 27. There is. Specifically, the separation groove 28 has a depth of 150 μm from the bottom of the magnetic core formation groove 24, that is, a depth of 280 μm from the main surface 21 a of the substrate 21.

【0057】一方、巻線溝29は、上述した磁気ヘッド
1において、磁気コア8における凹部5aを金属磁性薄
膜27に対して形成するものである。したがって、巻線
溝29は、前部突合せ面11と後部突合せ面12とを有
する磁気コア8を形成し、コイル形成用凹部15を形成
するために、金属磁性薄膜27を切断しない程度の深さ
で形成する必要がある。このため、巻線溝29の表面に
は、金属磁性薄膜27の断面が露出することとなる。
On the other hand, the winding groove 29 is for forming the concave portion 5 a in the magnetic core 8 in the magnetic head 1 in the magnetic magnetic thin film 27. Therefore, the winding groove 29 forms a magnetic core 8 having the front butting surface 11 and the rear butting surface 12, and has such a depth that the metal magnetic thin film 27 is not cut to form the coil forming recess 15. It is necessary to form with. Therefore, the cross section of the metal magnetic thin film 27 is exposed on the surface of the winding groove 29.

【0058】また、この巻線溝29は、その形状が前部
突合せ面11及び後部突合せ面12の長さに応じて決定
されるが、本実施の形態においては、幅を約140μm
として、前部突合せ面11の長さが30μmとなり、後
部突合せ面12の長さが85μmとなるように形成し
た。なお、巻線溝29は、金属磁性薄膜27を切断する
ことのない程度の深さでよいが、深すぎると磁路長が長
くなって磁束伝達の効率が低下する虞がある。また、巻
線溝29の深さは、後述する工程で形成される薄膜コイ
ル6の厚みに依存するが、本実施の形態では20μmと
した。
The shape of the winding groove 29 is determined according to the lengths of the front butting surface 11 and the rear butting surface 12. In the present embodiment, the width of the winding groove 29 is about 140 μm.
The length of the front butting surface 11 was 30 μm, and the length of the rear butting surface 12 was 85 μm. The winding groove 29 may have such a depth that the metal magnetic thin film 27 is not cut. However, if the winding groove 29 is too deep, the magnetic path length becomes longer and the efficiency of magnetic flux transmission may be reduced. The depth of the winding groove 29 depends on the thickness of the thin-film coil 6 formed in a step described later, but is set to 20 μm in the present embodiment.

【0059】さらに、巻線溝29は、その形状が限定さ
れるものではないが、本実施の形態では、前部突合せ面
11側の側面を45゜の角度を有する傾斜面29aとし
た。これにより、磁気コア8は、摺動面9に磁束が集中
する構造となり、磁気ヘッド1の感度を向上させること
ができる。
Further, the shape of the winding groove 29 is not limited, but in the present embodiment, the side surface on the front butting surface 11 side is an inclined surface 29a having an angle of 45 °. Thereby, the magnetic core 8 has a structure in which the magnetic flux is concentrated on the sliding surface 9, and the sensitivity of the magnetic head 1 can be improved.

【0060】次に、図9に示すように、磁気コア形成溝
24、分離溝28及び巻線溝29が形成された基板21
の主面21aに対して溶融した低融点ガラス30を充填
する。その後、低融点ガラス30を冷却固化させ、固化
した低融点ガラス30の表面に対して平坦化処理を施
す。
Next, as shown in FIG. 9, the substrate 21 on which the magnetic core forming groove 24, the separation groove 28 and the winding groove 29 are formed.
Is filled with the molten low-melting glass 30. Thereafter, the low-melting glass 30 is cooled and solidified, and the surface of the solidified low-melting glass 30 is subjected to a flattening process.

【0061】低融点ガラス30は、金属磁性薄膜27が
良好な軟磁気特性を示す熱温度での粘性が、102〜1
6Pa・sであることが望ましく、さらには103〜1
5Pa・sであることが望ましい。これにより、基板
21に溶融した低融点ガラス30を充填する際に、金属
磁性薄膜27が軟磁気特性を失ってしまうことを防止す
ることができる。
The low melting point glass 30 has a viscosity at a temperature of 10 2 to 1 at which the metal magnetic thin film 27 exhibits good soft magnetic properties.
0 6 Pa · s, more preferably 10 3 to 1
It is desirable that a 0 5 Pa · s. Thereby, when the substrate 21 is filled with the molten low melting point glass 30, it is possible to prevent the metal magnetic thin film 27 from losing soft magnetic properties.

【0062】また、低融点ガラス30に対して平坦化処
理を施す際には、基板21を露出させる幅を薄膜コイル
6の最内周の幅よりも狭くすることが望ましい。これに
より、後の工程でエッチング処理を施す際に、基板21
と低融点ガラス30とのエッチングレートが異なること
による段差の発生を防止することができる。
When flattening the low-melting glass 30, it is desirable that the width of exposing the substrate 21 be smaller than the width of the innermost circumference of the thin-film coil 6. Thereby, when performing an etching process in a later step, the substrate 21
And the low melting point glass 30 can prevent generation of a step due to a difference in etching rate.

【0063】次に、図10に示すように、固化した低融
点ガラス30に対して砥石等を用いて研削加工を施すこ
とにより、端子溝31を形成する。この端子溝31は、
上述した分離溝28の直上に位置するように形成する。
また、本実施の形態では、端子溝31の幅及び深さを1
00μmとした。そして、この端子溝31内にCu等の
良導体を鍍金法等によって充填する。その後、再び平坦
化処理を行う。この端子溝31に充填されたCu等の良
導体は、上述した磁気ヘッド1における外部接続用端子
17となるものである。
Next, as shown in FIG. 10, a terminal groove 31 is formed by subjecting the solidified low-melting glass 30 to grinding using a grindstone or the like. This terminal groove 31
It is formed so as to be located directly above the above-mentioned separation groove 28.
Further, in the present embodiment, the width and the depth of the terminal groove 31 are set to 1
It was set to 00 μm. Then, a good conductor such as Cu is filled in the terminal groove 31 by plating or the like. After that, the flattening process is performed again. The good conductor such as Cu filled in the terminal groove 31 becomes the external connection terminal 17 in the magnetic head 1 described above.

【0064】次に、図11に示すように、金属磁性薄膜
27が露出する低融点ガラス30上に、レジスト膜32
を成膜する。なお、図11(a)は基板21の低融点ガ
ラス30側からみた平面図であり、図11(b)は図1
1(a)のC−C線での断面図である。また、レジスト
膜32は、後述するエッチング工程で、金属磁性薄膜2
7の前部突合せ面11を細く整形するために成膜するも
のである。
Next, as shown in FIG. 11, a resist film 32 is formed on the low melting point glass 30 where the metal magnetic thin film 27 is exposed.
Is formed. FIG. 11A is a plan view of the substrate 21 as viewed from the low melting point glass 30 side, and FIG.
It is sectional drawing in CC line of 1 (a). Further, the resist film 32 is formed by the metal magnetic thin film 2 in an etching step described later.
7 is formed in order to form the front butting surface 11 into a thin shape.

【0065】レジスト膜32は、低融点ガラス30上の
全面に成膜した後、パターニングを施して、この低融点
ガラス30から露出する各金属磁性薄膜27の近傍で一
対の開口部32aを有するように形成する。また、レジ
スト膜32は、これら一対の開口部32aを隔てる橋状
部32bが、金属磁性薄膜27の前部突合せ面11上に
位置するように形成する。すなわち、一対の開口部32
は、金属磁性薄膜27の前部突合せ面11の両側縁部を
開口する位置に形成する。
The resist film 32 is formed on the entire surface of the low-melting glass 30 and then patterned to have a pair of openings 32 a near each metal magnetic thin film 27 exposed from the low-melting glass 30. Formed. The resist film 32 is formed such that the bridge 32b separating the pair of openings 32a is located on the front butting surface 11 of the metal magnetic thin film 27. That is, the pair of openings 32
Are formed at positions where both side edges of the front butting surface 11 of the metal magnetic thin film 27 are opened.

【0066】また、このレジスト膜32において、橋状
部32bの後部突合せ面12側の端部である第1の付け
根部32cは、後述するエッチング工程で照射されるイ
オンビームが集中し、エッチングが進むにつれてレジス
トパターンが細く変形してしまう。そのため、レジスト
膜32は、第1の付け根部32cが前部突合せ面11の
後部突合せ面12側の端部11aよりもさらに後部突合
せ面11側の位置に形成されることが望ましい。これに
より、後述するエッチング工程で、金属磁性薄膜27を
高精度にエッチングすることができる。
In the resist film 32, an ion beam irradiated in an etching step described later concentrates on a first root portion 32c, which is an end on the side of the rear butting surface 12 of the bridge-like portion 32b. As the process proceeds, the resist pattern is finely deformed. Therefore, it is desirable that the first root portion 32c of the resist film 32 be formed at a position closer to the rear butting surface 11 than the end 11a of the front butting surface 11 closer to the rear butting surface 12. Thus, the metal magnetic thin film 27 can be etched with high precision in an etching step described later.

【0067】なお、このレジスト膜32において、橋状
部32bの後部突合せ面12と反対側、すなわち摺動面
9となる側の端部である第2の付け根部32dは、図1
1(a)に示すように、金属磁性薄膜27の前部突合せ
面11上に形成されていてもよい。この第2の付け根部
32dでも、上述と同様にレジストパターンが変形し
て、エッチング精度が劣化してしまうが、後の工程で基
板21を切断する際に、前部突合せ面11の摺動面9側
が不要となるからである。
In the resist film 32, the second base portion 32d, which is the end opposite to the rear butting surface 12 of the bridge-like portion 32b, that is, the end portion on the side to be the sliding surface 9, is shown in FIG.
As shown in FIG. 1A, the metal magnetic thin film 27 may be formed on the front butting surface 11. The resist pattern is also deformed at the second base portion 32d in the same manner as described above, and the etching accuracy is degraded. However, when the substrate 21 is cut in a later step, the sliding surface of the front abutting surface 11 is reduced. This is because the 9 side becomes unnecessary.

【0068】レジスト膜32は、例えばフォトリソグラ
フィー技術を用いて、上述したような形状のレジストパ
ターンで形成することができる。また、レジスト膜32
に用いるレジスト材料としては、ポジ型又はネガ型のど
ちらであってもよい。
The resist film 32 can be formed with a resist pattern having the above-mentioned shape by using, for example, a photolithography technique. Also, the resist film 32
May be either a positive type or a negative type.

【0069】なお、本実施の形態において、レジスト膜
32は、後述するエッチング工程でエッチングされてし
まう厚さを考慮すると、13μm以上の厚さで形成する
ことが望ましい。また、上述した橋状部32bでの幅精
度を考慮すると、14〜15μm程度の厚さで形成する
ことがさらに望ましい。また、橋状部32bは、低融点
ガラス30から露出する基板21及び金属磁性薄膜27
の境界部から、金属磁性薄膜27側に10〜16μmシ
フトした位置を中心として形成されていることが望まし
い。
In the present embodiment, it is preferable that the resist film 32 be formed to have a thickness of 13 μm or more in consideration of a thickness that will be etched in an etching step described later. In consideration of the width accuracy of the bridge 32b, it is more preferable to form the bridge 32b with a thickness of about 14 to 15 μm. Further, the bridge-like portion 32 b is formed by the substrate 21 and the metal magnetic thin film 27
Is preferably formed around a position shifted by 10 to 16 μm from the boundary portion to the metal magnetic thin film 27 side.

【0070】次に、レジスト膜32が形成された基板2
1に対してエッチング処理を施す。このエッチング工程
では、レジスト膜32の橋状部32bと略同等の幅で、
金属磁性薄膜27の両側縁部を基板21の厚み方向に切
り欠くことを目的としている。これにより、金属磁性薄
膜27は、図12に示すように、前部突合せ面11から
基板21方向に略垂直に切り欠かれた側壁部27aを有
するようになる。また、低融点ガラス30は、エッチン
グされて凹部30aを有するようになる。
Next, the substrate 2 on which the resist film 32 is formed
1 is subjected to an etching process. In this etching step, the width of the resist film 32 is substantially the same as that of the bridge-like portion 32b.
The purpose is to cut both side edges of the metal magnetic thin film 27 in the thickness direction of the substrate 21. As a result, as shown in FIG. 12, the metal magnetic thin film 27 has a side wall 27a cut out substantially perpendicularly to the substrate 21 from the front butting surface 11. Further, the low melting point glass 30 is etched to have the concave portion 30a.

【0071】これにより、最終的に完成する磁気ヘッド
1は、トラック幅Twが幅狭に形成されることとなり、
磁気記録媒体の高記録密度化に対応して、微細な磁気信
号を正確に記録再生することが可能となる。具体的に
は、磁気ヘッド1のトラック幅Twを4.0±0.2μ
m程度まで高精度に形成することができる。したがっ
て、磁気ヘッド1は、従来の機械的な研削加工による手
法で作製された13μm程度のトラック幅を有する磁気
ヘッドと比較して、より微細な磁気信号を正確且つ安定
して記録再生することが可能となる。
As a result, in the magnetic head 1 finally completed, the track width Tw is formed to be narrow.
In response to the increase in the recording density of the magnetic recording medium, it is possible to accurately record and reproduce fine magnetic signals. Specifically, the track width Tw of the magnetic head 1 is set to 4.0 ± 0.2 μm.
m can be formed with high accuracy. Therefore, the magnetic head 1 can accurately and stably record and reproduce finer magnetic signals as compared with a magnetic head having a track width of about 13 μm manufactured by a conventional mechanical grinding method. It becomes possible.

【0072】このエッチング工程では、例えばAr,K
r,Xe,He等の不活性ガスイオンを用いたイオンエ
ッチング法を用いることが望ましい。イオンエッチング
法によれば、直進性に優れたイオンビームによって、金
属磁性薄膜27を、レジスト膜32の橋状部32bの投
影形状を高精度に保って基板21の厚み方向にエッチン
グすることができる。すなわち、金属磁性薄膜27の側
壁部27aが、基板21の厚み方向に略垂直となるよう
に高精度にエッチングすることができる。
In this etching step, for example, Ar, K
It is desirable to use an ion etching method using inert gas ions such as r, Xe, and He. According to the ion etching method, the metal magnetic thin film 27 can be etched in the thickness direction of the substrate 21 by maintaining the projection shape of the bridge-like portion 32b of the resist film 32 with high accuracy by an ion beam having excellent straightness. . That is, the etching can be performed with high precision so that the side wall 27a of the metal magnetic thin film 27 is substantially perpendicular to the thickness direction of the substrate 21.

【0073】このとき、イオンビームの基板21への入
射角度は、25〜35゜程度とすることが望ましい。こ
れにより、レジスト膜32の橋状部32b及び金属磁性
薄膜27の側壁部27aへのバリの再付着レートと、こ
のバリ自体がエッチングされるエッチングレートとをほ
ぼ等しくすることができ、橋状部32b及び金属磁性薄
膜27の側壁部27aの形状が崩れてしまうことがな
い。また、同様な理由から、このエッチング工程で用い
るイオンエッチング装置は、イオンビームの進行角度誤
差が3%以内程度であることが望ましい。
At this time, the angle of incidence of the ion beam on the substrate 21 is desirably about 25 to 35 °. This makes it possible to make the re-attachment rate of burrs to the bridge portions 32b of the resist film 32 and the side wall portions 27a of the metal magnetic thin film 27 substantially equal to the etching rate at which the burrs themselves are etched. The shape of the side wall portion 27a of the metal magnetic thin film 27 does not collapse. For the same reason, the ion etching apparatus used in this etching step desirably has an ion beam traveling angle error of about 3% or less.

【0074】次に、図13に示すように、低融点ガラス
30の凹部30a内に、非磁性材料33を充填する。こ
の凹部30aは、磁気ヘッド1における切欠部19に相
当するものである。したがって、凹部30aに非磁性材
料33を充填することによって、上述したように、摺動
面9を摺動する磁気記録媒体が、切欠部19のエッジで
傷ついてしまうことを防止することができる。
Next, as shown in FIG. 13, the non-magnetic material 33 is filled in the recess 30a of the low-melting glass 30. The recess 30a corresponds to the notch 19 in the magnetic head 1. Therefore, by filling the recess 30a with the non-magnetic material 33, it is possible to prevent the magnetic recording medium sliding on the sliding surface 9 from being damaged by the edge of the notch 19 as described above.

【0075】この非磁性材料33としては、例えば、A
23,SiO2,Ta25,Cr23,TiO2等の酸
化物、Cr,Pr,Au,Ag等の金属等を用いること
ができる。また、非磁性材料33は、スパッタリング法
や鍍金法といった各種PVD法を用いて、凹部30a内
に充填すればよい。
As the non-magnetic material 33, for example, A
Oxides such as l 2 O 3 , SiO 2 , Ta 2 O 5 , Cr 2 O 3 and TiO 2 , and metals such as Cr, Pr, Au and Ag can be used. The non-magnetic material 33 may be filled in the recess 30a by using various PVD methods such as a sputtering method and a plating method.

【0076】次に、凹部30a内に非磁性材料33が充
填された低融点ガラス30の主面に対して、鏡面研磨加
工を施して平坦化を行う。これにより、図13に示すよ
うに、低融点ガラス30の主面から金属磁性薄膜27が
幅狭に露出することとなる。なお、上述した凹部30a
は、基板21全体のサイズと比べて非常に微細に形成さ
れているために、以下で示す図面においては図12で示
す構造を省略して図示することとする。
Next, the main surface of the low-melting glass 30 in which the recess 30a is filled with the non-magnetic material 33 is flattened by mirror polishing. Thereby, as shown in FIG. 13, the metal magnetic thin film 27 is narrowly exposed from the main surface of the low melting point glass 30. Note that the above-described recess 30a
Is very fine compared to the size of the entire substrate 21, so that the structure shown in FIG. 12 is omitted in the drawings shown below.

【0077】次に、図14に示すように、低融点ガラス
30に対してエッチング加工を施すことによりコイル形
成用凹部15と溝部18とを形成するとともに、このコ
イル形成用凹部15内に薄膜コイル6を形成する。
Next, as shown in FIG. 14, the low-melting glass 30 is etched to form the coil-forming recess 15 and the groove 18, and the thin-film coil is formed in the coil-forming recess 15. 6 is formed.

【0078】コイル形成用凹部15は、後部突合せ面1
2を略中心とする略矩形形状として、後部突合せ面12
及びコイル接続用端子16を除く部分に対してエッチン
グ加工を施すことにより形成する。また、このコイル形
成用凹部15は、その一端から端子溝31に達する溝1
5aを有している。
The concave portion 15 for forming the coil is formed on the rear butting surface 1.
2 as a substantially rectangular shape having a substantially center at the rear butting surface 12.
And by etching the portions other than the coil connection terminals 16. The coil forming recess 15 is provided with a groove 1 extending from one end to the terminal groove 31.
5a.

【0079】また、溝部18は、前部突合せ面11の磁
気記録媒体の摺動面9と反対側の端部を切り欠くよう
に、この前部突合せ面11に対して垂直な方向に形成す
る。また、溝部18は、一対の磁気コア半体2が磁気ヘ
ッド1に分離された際に、摺動面9に対して略平行に形
成されて磁気ヘッド1の両側面に臨むように形成する。
The groove 18 is formed in a direction perpendicular to the front butting surface 11 so as to cut out an end of the front butting surface 11 opposite to the sliding surface 9 of the magnetic recording medium. . When the pair of magnetic core halves 2 are separated into the magnetic head 1, the grooves 18 are formed so as to be substantially parallel to the sliding surface 9 and to face both side surfaces of the magnetic head 1.

【0080】また、溝部18には、非磁性材料を充填す
ることが望ましい。これにより、上述したように、フロ
ントギャップ13のデプスBがすり減った場合に形成さ
れる鋭利なエッジで磁気記録媒体を傷つけてしまうこと
を防止することができる。また、溝部18に充填する非
磁性材料としては、上述した非磁性材料33と同様な材
料を用いることができる。
It is desirable that the groove 18 be filled with a non-magnetic material. Thus, as described above, it is possible to prevent the magnetic recording medium from being damaged by the sharp edge formed when the depth B of the front gap 13 is worn. Further, as the non-magnetic material to be filled in the groove 18, a material similar to the above-described non-magnetic material 33 can be used.

【0081】なお、本実施の形態では、後の工程で接合
する一対の磁気コア半体2の両方に溝部18をそれぞれ
形成したが、溝部18は、一対の磁気コア半体2のどち
らか一方に形成してもよい。
In the present embodiment, the grooves 18 are formed in both of the pair of magnetic core halves 2 to be joined in a later step, but the groove 18 is formed in one of the pair of magnetic core halves 2. May be formed.

【0082】次に、図15に示すように、基板21の主
面に並列して臨む前部突合せ面を横切るように角状の溝
であるサイド溝34を形成する。その後、磁気コア半体
2が平行に複数列形成された基板21を、それぞれ一列
毎となるように切断して磁気コア半体ブロック35を形
成する。
Next, as shown in FIG. 15, a side groove 34, which is a square groove, is formed so as to cross the front abutting surface facing the main surface of the substrate 21 in parallel. Thereafter, the magnetic core half blocks 35 are formed by cutting the substrate 21 in which the magnetic core halves 2 are formed in a plurality of parallel rows so as to be aligned in each row.

【0083】このサイド溝34は、研削加工により形成
され、例えば、深さを50μm、幅を400μmとされ
る。このサイド溝34が形成されると、このサイド溝3
4の側面に前部突合せ面11の一部が露出することとな
る。このサイド溝34は、後述するように、一対の磁気
コア半体ブロック35を突き合わせる際に、位置決めの
指標として前部突合せ面11の上端部を露出させるため
に形成される。
The side grooves 34 are formed by grinding, and have a depth of 50 μm and a width of 400 μm, for example. When the side grooves 34 are formed, the side grooves 3
A part of the front abutting surface 11 is exposed on the side surface 4. The side grooves 34 are formed so as to expose the upper end of the front butting surface 11 as a positioning index when the pair of magnetic core half blocks 35 are butted, as described later.

【0084】そして、このサイド溝34が形成された
後、基板21の主面に対して鏡面研磨加工を施して平坦
化を行う。このとき、保護膜によって覆われた前部突合
せ面11及び後部突合せ面12等を外方へと露出させ
る。
After the formation of the side grooves 34, the main surface of the substrate 21 is flattened by mirror polishing. At this time, the front butting surface 11 and the rear butting surface 12 covered with the protective film are exposed to the outside.

【0085】次に、図16に示すように、一対の磁気コ
ア半体ブロック35を正確に位置決めして金属拡散接合
を行う。このとき、一対の磁気コア半体ブロック35
は、接合部にAuのパターニングを施し、サイド溝34
から臨む前部突合せ面11の上端部同士を対向させるこ
とによって、正確に位置決めする。そして、突き合わせ
た一対の磁気コア半体ブロック35に対して所定の温度
及び圧力を印加することにより、金属拡散接合を行い、
磁気ヘッドブロック36を作製する。
Next, as shown in FIG. 16, a pair of magnetic core half blocks 35 is accurately positioned to perform metal diffusion bonding. At this time, the pair of magnetic core half blocks 35
Performs patterning of Au on the joint, and forms the side grooves 34.
The upper ends of the front butting surfaces 11 facing each other are opposed to each other so that accurate positioning is achieved. Then, metal diffusion bonding is performed by applying a predetermined temperature and pressure to the pair of butted magnetic core half blocks 35,
The magnetic head block 36 is manufactured.

【0086】なお、本実施の形態では、Auのパターニ
ングを施して金属拡散接合を行ったが、例えば、接着剤
や水ガラス等を用いて一対の磁気コア半体ブロック35
同士を接合してもよい。
In this embodiment, the metal diffusion bonding is performed by patterning Au. However, for example, a pair of magnetic core half blocks 35 is formed by using an adhesive or water glass.
They may be joined together.

【0087】次に、図17に示すように、磁気ヘッドブ
ロック36を個々の磁気ヘッド1に切断分離する。
Next, as shown in FIG. 17, the magnetic head block 36 is cut and separated into individual magnetic heads 1.

【0088】このとき、先ず、磁気ヘッドブロック36
は、デプスマーカーとしての溝部18を基準として、磁
気記録媒体が摺動する摺動面9となる表面を露出するた
めに、長手方向に切断加工を施す。そして、露出した表
面が円筒形を呈するように円筒切削加工を施すことで、
この表面が摺動面となる。その後、磁気ヘッドブロック
36に対して、当たり幅規制溝10を研削加工する。当
たり幅規制溝10は、磁気ヘッド36から分離される個
々の磁気ヘッド1の摺動面9の両側面に相当する部位に
形成する。
At this time, first, the magnetic head block 36
Is cut in the longitudinal direction with reference to the groove 18 as a depth marker in order to expose the surface serving as the sliding surface 9 on which the magnetic recording medium slides. Then, by performing cylindrical cutting so that the exposed surface has a cylindrical shape,
This surface becomes the sliding surface. Thereafter, the contact width regulating groove 10 is ground on the magnetic head block 36. The contact width regulating grooves 10 are formed at portions corresponding to both side surfaces of the sliding surface 9 of each magnetic head 1 separated from the magnetic head 36.

【0089】そして、磁気ヘッドブロック36を、図1
7中D−D線で示す部分で切断することにより、個々の
磁気ヘッド1に分離する。これにより、磁気ヘッド1が
完成する。
Then, the magnetic head block 36 is
7 are separated into individual magnetic heads 1 by cutting at a portion indicated by a DD line. Thus, the magnetic head 1 is completed.

【0090】上述したように、本発明に係る磁気ヘッド
の製造方法によれば、レジスト工程及びエッチング工程
によって、磁気ギャップのトラック幅方向の幅を高精度
に形成することができる。また、これらレジスト工程及
びエッチング工程は薄膜形成技術であることから、基板
上に多数の磁気ヘッドを形成する場合にも、これら磁気
ヘッドに対して一度に加工を施すことができ、生産効率
を向上することができる。
As described above, according to the magnetic head manufacturing method of the present invention, the width of the magnetic gap in the track width direction can be formed with high precision by the resist process and the etching process. In addition, since the resist process and the etching process are thin film forming technologies, even when a large number of magnetic heads are formed on a substrate, these magnetic heads can be processed at once, thereby improving production efficiency. can do.

【0091】なお、上述したように、一対の磁気コア半
体ブロック35を接合する際には、それぞれの磁気コア
半体ブロック35に形成された金属磁性薄膜27の前部
突合せ面11を略同一の幅としておき、高精度に位置あ
わせを行って接合することが望ましい。これにより、高
記録密度化に対応して記録再生特性が優れた磁気ヘッド
1を製造することができる。ただし、この場合には、磁
気ヘッド1のトラック幅Twの精度が、一対の磁気コア
半体ブロック35の位置合わせの精度に依存してしま
う。すなわり、接合位置に少しでもズレが生じると、ト
ラック幅Twが減少してしまう。
As described above, when joining the pair of magnetic core half blocks 35, the front butting surfaces 11 of the metal magnetic thin films 27 formed on the respective magnetic core half blocks 35 are substantially the same. It is desirable to set the width and to perform the alignment with high precision before joining. Thereby, it is possible to manufacture the magnetic head 1 having excellent recording / reproducing characteristics corresponding to the increase in recording density. However, in this case, the accuracy of the track width Tw of the magnetic head 1 depends on the accuracy of the alignment of the pair of magnetic core half blocks 35. In other words, if any deviation occurs at the joining position, the track width Tw decreases.

【0092】そこで、これら一対の磁気コア半体ブロッ
ク35を接合する際には、それぞれの磁気コア半体ブロ
ック35に形成された金属磁性薄膜27の前部突合せ面
11を、僅かに異なる幅で形成しておいてもよい。磁気
ヘッド1では、幅狭に形成された方の前部突合せ面11
が実効トラック幅Twとなることから、前部突合せ面1
1同士を僅かに異なる幅で形成しておくことにより、位
置合わせが容易とすることができるとともに、所望のト
ラック幅Twを確実に得ることができる。一対の磁気コ
ア半体ブロック35を接合する際には、接合精度が1μ
m程度であれば容易であることから、それぞれの前部突
合せ面11の幅の差は1〜2μmとすることが望まし
い。
Therefore, when joining the pair of magnetic core half blocks 35, the front butting surfaces 11 of the metal magnetic thin films 27 formed on the respective magnetic core half blocks 35 have slightly different widths. It may be formed. In the magnetic head 1, the narrower front butting surface 11 is formed.
Becomes the effective track width Tw.
By forming ones with slightly different widths, alignment can be facilitated and a desired track width Tw can be reliably obtained. When joining the pair of magnetic core half blocks 35, the joining accuracy is 1 μm.
It is desirable that the difference between the widths of the front butting surfaces 11 be 1 to 2 μm, since it is easy if the distance is about m.

【0093】また、上述したエッチング工程では、金属
磁性薄膜27の両側縁部を切り欠くとしたが、低融点ガ
ラス30から基板21とともに露出する金属磁性薄膜2
7の基板21側の側縁部、あるいは基板21と反対側の
側縁部だけを切り欠くとしてもよい。また、エッチング
工程では、一般にレジスト膜32も僅かずつエッチング
されてしまうことから、金属磁性薄膜27の前部突合せ
面11のトラック幅Tw方向の幅と、前部突合せ面11
から基板21方向に略垂直に切り欠かれた側壁部27a
の高さとの間には、トレードオフの関係がある。したが
って、所望の幅及び高さを得るために、レジスト膜32
の橋状部32bの幅及び高さを調整したり、レジスト膜
32として用いるレジスト材料を適宜選択することが望
ましい。
In the above-described etching step, both side edges of the metal magnetic thin film 27 are cut off. However, the metal magnetic thin film 2 exposed together with the substrate 21 from the low melting glass 30 is formed.
7 may be cut out only on the side edge on the substrate 21 side or on the side edge opposite to the substrate 21. In addition, in the etching step, generally, the resist film 32 is also etched little by little. Therefore, the width of the front abutting surface 11 of the metal magnetic thin film 27 in the track width Tw direction and the front abutting surface 11
Side wall 27a cut out substantially perpendicular to the direction of the substrate 21
There is a trade-off between the height and the height. Therefore, in order to obtain a desired width and height, the resist film 32
It is desirable to adjust the width and height of the bridge-like portion 32b, and to appropriately select a resist material used for the resist film 32.

【0094】また、エッチング工程によって形成された
金属磁性薄膜27の側壁部27aは、その後の平坦化工
程等で徐々に高さが削られてしまう。したがって、この
エッチング工程では、この側壁部27aの高さが5μm
以上となるように金属磁性薄膜27を切り欠くことが望
ましい。
Further, the side wall 27a of the metal magnetic thin film 27 formed by the etching step is gradually reduced in height in the subsequent flattening step and the like. Therefore, in this etching step, the height of side wall portion 27a is 5 μm
It is desirable that the metal magnetic thin film 27 be cut out as described above.

【0095】[0095]

【発明の効果】以上、説明したように、本発明に係る磁
気ヘッドは、一対の磁気コア半体にそれぞれ形成された
金属磁性薄膜のうち少なくとも一方の金属磁性薄膜が、
突合せ面でトラック幅方向に切り欠かれて形成されてな
る。これにより、磁気ギャップのトラック幅方向の幅を
形成されてなる。したがって、本発明に係る磁気ヘッド
は、高記録密度化に対応して、微細な磁気信号を正確に
記録再生することが可能となる。
As described above, in the magnetic head according to the present invention, at least one of the metal magnetic thin films formed on each of the pair of magnetic core halves has:
It is formed by cutting out in the track width direction at the abutting surface. Thereby, the width of the magnetic gap in the track width direction is formed. Therefore, the magnetic head according to the present invention can accurately record and reproduce fine magnetic signals in response to the increase in recording density.

【0096】また、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法
によれば、薄膜形成技術であるレジスト形成工程及びエ
ッチング工程によって、磁気ギャップのトラック幅方向
の幅を高精度に狭く形成することができる。これによ
り、例えば基板材上に形成された多数の磁気ヘッドに対
しても一度に加工を施すことができ、短時間で多数の磁
気ヘッドに対して加工を施すことができる。したがっ
て、高記録密度化に対応して微細な磁気信号を正確に記
録再生することが可能な磁気ヘッドを効率よく生産する
ことができる。
Further, according to the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, the width of the magnetic gap in the track width direction can be narrowed with high precision by the resist forming step and the etching step, which are thin film forming techniques. Thus, for example, a large number of magnetic heads formed on a substrate material can be processed at once, and a large number of magnetic heads can be processed in a short time. Therefore, it is possible to efficiently produce a magnetic head capable of accurately recording and reproducing a fine magnetic signal corresponding to a higher recording density.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る磁気ヘッドを示す分解斜視図であ
る。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing a magnetic head according to the present invention.

【図2】同磁気ヘッドの磁気コア及びその近傍を示す要
部拡大斜視図である。
FIG. 2 is an enlarged perspective view of a main part showing a magnetic core of the magnetic head and its vicinity.

【図3】同磁気ヘッドのデプスを示す要部拡大側面図で
ある。
FIG. 3 is an enlarged side view of a main part showing a depth of the magnetic head.

【図4】同磁気ヘッドの磁気ギャップを示す要部拡大平
面図である。
FIG. 4 is an enlarged plan view of a main part showing a magnetic gap of the magnetic head.

【図5】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であり、基板を示す斜視図である。
FIG. 5 is a view for explaining the method for manufacturing the magnetic head according to the present invention, and is a perspective view showing a substrate.

【図6】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図で
あり、基板上に磁気コア形成溝を形成した状態を示す斜
視図である。
FIG. 6 is a view for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a perspective view showing a state where a magnetic core forming groove is formed on the substrate.

【図7】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図で
あり、金属磁性薄膜を成膜した状態を示す斜視図であ
る。
FIG. 7 is a view for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a perspective view showing a state where a metal magnetic thin film is formed.

【図8】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図で
あり、分離溝及び巻線溝を形成した状態を示す斜視図で
ある。
FIG. 8 is a view for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a perspective view showing a state where the separation groove and the winding groove are formed.

【図9】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図で
あり、低融点ガラスを充填した状態を示す斜視図であ
る。
FIG. 9 is a view for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a perspective view showing a state where low-melting glass is filled.

【図10】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、基板上に端子溝を形成した状態を示す斜視図で
ある。
FIG. 10 is a diagram for explaining the method for manufacturing the same magnetic head, and is a perspective view showing a state where a terminal groove is formed on the substrate.

【図11】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、図11(a)はレジスト膜を成膜した状態を示
す平面図であり、図11(b)は断面図である。
11A and 11B are views for explaining a method of manufacturing the magnetic head, wherein FIG. 11A is a plan view showing a state in which a resist film is formed, and FIG. 11B is a cross-sectional view.

【図12】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、金属磁性薄膜に対してエッチングを施した状態
を示す断面図である。
FIG. 12 is a view for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a cross-sectional view showing a state where the metal magnetic thin film is etched.

【図13】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、エッチングによって形成された凹部に非磁性材
料を充填した状態を示す断面図である。
FIG. 13 is a view for explaining the method for manufacturing the same magnetic head, and is a cross-sectional view showing a state in which a concave portion formed by etching is filled with a non-magnetic material.

【図14】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、薄膜コイルを形成した状態を示す斜視図であ
る。
FIG. 14 is a diagram for explaining the method for manufacturing the same magnetic head, and is a perspective view showing a state where a thin-film coil is formed.

【図15】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、基板を磁気コア半体ブロックに切断分離した状
態を示す斜視図である。
FIG. 15 is a diagram for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a perspective view showing a state where the substrate is cut and separated into magnetic core half blocks.

【図16】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、一対の磁気コア半体ブロックを接合する途中の
状態を示す斜視図である。
FIG. 16 is a view for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a perspective view showing a state in which a pair of magnetic core half blocks is being joined.

【図17】同磁気ヘッドの製造方法を説明するための図
であり、磁気ヘッドブロックを示す斜視図である。
FIG. 17 is a view for explaining the method for manufacturing the magnetic head, and is a perspective view showing the magnetic head block.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 磁気ヘッド、2 磁気コア半体、3 基板、4 金
属磁性薄膜、5 低融点ガラス、7 非磁性薄膜、19
切欠部
REFERENCE SIGNS LIST 1 magnetic head, 2 magnetic core halves, 3 substrate, 4 metal magnetic thin film, 5 low melting point glass, 7 non-magnetic thin film, 19
Notch

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 門馬 由香 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 鈴木 浩二 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5D093 AA01 BB04 BB05 BB18 BD01 BD08 EA02 FA18 FA26 HA16 HA18 JA01 5D111 AA19 AA22 BB12 BB18 BB37 BB48 FF04 GG16 HH16 JJ07 JJ08 KK01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yuka Kadoma 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Koji Suzuki 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation F term (reference) 5D093 AA01 BB04 BB05 BB18 BD01 BD08 EA02 FA18 FA26 HA16 HA18 JA01 5D111 AA19 AA22 BB12 BB18 BB37 BB48 FF04 GG16 HH16 JJ07 JJ08 KK01

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に金属磁性薄膜が斜めに成膜され
るとともに、薄膜コイルが形成された凹部を有し、非磁
性材料により突合せ面が平坦化されてなる一対の磁気コ
ア半体を備え、上記金属磁性薄膜の前部突合せ面同士が
非磁性薄膜を介して対向するように突き合わされて磁気
ギャップが形成された磁気ヘッドであって、 上記金属磁性薄膜のうち少なくとも一方は、上記突合せ
面に露出するトラック幅方向の両側部のうち少なくとも
一方側を、上記突合せ面から下方に切り欠かれて形成さ
れていることを特徴とする磁気ヘッド。
1. A pair of magnetic core halves having a metal magnetic thin film formed obliquely on a substrate, a concave portion in which a thin film coil is formed, and a butted surface flattened by a nonmagnetic material. A magnetic head having a magnetic gap formed by abutting the front butting surfaces of the metal magnetic thin films so as to face each other via a nonmagnetic thin film, wherein at least one of the metal magnetic thin films is A magnetic head characterized in that at least one side of both sides in the track width direction exposed on the surface is cut out downward from the abutting surface.
【請求項2】 基板上に金属磁性薄膜を斜めに成膜する
とともに薄膜コイルを形成し、非磁性材料により突合せ
面を平坦化してなる一対の磁気コア半体を、上記金属磁
性薄膜の前部突合せ面同士が非磁性薄膜を介して対向す
るように突き合わせて磁気ギャップを形成する磁気ヘッ
ドの製造方法であって、 上記一対の磁気コア半体のうち少なくとも一方に対し
て、上記突合せ面に露出する上記金属磁性薄膜上に、こ
の金属磁性薄膜よりも幅狭にレジスト膜を形成するレジ
スト形成工程と、 上記金属磁性薄膜に対して、上記レジスト膜の幅でエッ
チング処理を施すエッチング工程とを経ることによっ
て、上記金属磁性薄膜を上記突合せ面でトラック幅方向
に幅狭に形成することを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。
2. A pair of magnetic core halves having a metal magnetic thin film formed obliquely on a substrate, forming a thin film coil, and flattening an abutting surface with a nonmagnetic material. A method of manufacturing a magnetic head in which a magnetic gap is formed by abutting butting surfaces so as to face each other via a non-magnetic thin film, wherein at least one of the pair of magnetic core halves is exposed to the abutting surface. A resist forming step of forming a resist film narrower than the metal magnetic thin film on the metal magnetic thin film, and an etching step of performing an etching process on the metal magnetic thin film with the width of the resist film. A method of manufacturing a magnetic head, characterized in that the metal magnetic thin film is formed narrow in the track width direction on the abutting surface.
【請求項3】 上記エッチング工程では、イオンエッチ
ング法を用いてエッチング処理を施すことを特徴とする
請求項2記載の磁気ヘッドの製造方法。
3. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 2, wherein in the etching step, an etching process is performed using an ion etching method.
【請求項4】 上記エッチング工程では、イオンビーム
の入射角を25゜以上且つ35゜以下とすることを特徴
とする請求項3記載の磁気ヘッドの製造方法。
4. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 3, wherein, in the etching step, an incident angle of the ion beam is set to 25 ° or more and 35 ° or less.
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