JP2000067412A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JP2000067412A
JP2000067412A JP10237729A JP23772998A JP2000067412A JP 2000067412 A JP2000067412 A JP 2000067412A JP 10237729 A JP10237729 A JP 10237729A JP 23772998 A JP23772998 A JP 23772998A JP 2000067412 A JP2000067412 A JP 2000067412A
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Japan
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magnetic
metal
nonmagnetic
magnetic head
film
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JP10237729A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiko Inoue
喜彦 井上
Seiichi Ogata
誠一 小形
Tadashi Saito
正 斎藤
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance head characteristics by successively forming a nonmagnetic oxidized layer and a nonmagnetic metallic layer from the butted surfaces of magnetic core halves to form a nonmagneitc film. SOLUTION: The magnetic head has nonmagnetic films 8 formed on the joined surfaces 2a, 3a of a pair of magnetic core halves 2, 3 and the nonmagnetic films 8 have functions as the front and back gaps of the magnetic core. A pair of the magnetic core halves 2, 3 are joined into one body by applying metallic dispersion to the nonmagnetic films 8 respectively formed on the joined surface of a pair of the magnetic core halves 2, 3. In the magnetic head, the diffusion of the nonmagnetic metallic layer 8a formed of a metal having a high diffusion coeff. into a metallic magnetic thin film 5 forming the magnetic core is prevented by the nonmagnetic oxidized layer 8b. The magnetic head clearly forms a magnetic interface in the front gap of the magnetic core and the gap length is made to a desired value by controlling the thickness of the metallic nonmagnetic films 8a formed on the joined surfaces 2a, 3a of a pair of the magnetic core halves 2, 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属磁性薄膜によ
り磁路を形成してなる磁気ヘッドに関し、詳しくは、金
属拡散接合により一対の磁気コア半体が接合一体化され
た磁気ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head having a magnetic path formed by a metal magnetic thin film, and more particularly, to a magnetic head in which a pair of magnetic core halves are joined and integrated by metal diffusion bonding.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ヘッドは、例えばビデオテープレコ
ーダ(VTR)等の磁気記録再生装置に搭載されて、磁
気記録媒体に対して情報信号の記録及び/又は再生(以
下、記録再生という。)を行うものである。
2. Description of the Related Art A magnetic head is mounted on a magnetic recording / reproducing device such as a video tape recorder (VTR), and records and / or reproduces information signals on a magnetic recording medium (hereinafter referred to as recording / reproducing). Is what you do.

【0003】磁気ヘッドにおいては、単結晶フェライト
等からなる一対の磁気コア半体のそれぞれの磁気ギャッ
プ形成面に金属磁性薄膜を成膜し、この一対の磁気コア
半体を磁気ギャップ形成面を突き合わせて接合一体化し
てなる、いわゆるメタル・イン・ギャップ(MIG)型
磁気ヘッドや、非磁性セラミック基板で金属磁性薄膜を
挟み込んだ形の、いわゆる積層型磁気ヘッドが提案さ
れ、実用化されている。
In a magnetic head, a metal magnetic thin film is formed on each magnetic gap forming surface of a pair of magnetic core halves made of single crystal ferrite or the like, and the pair of magnetic core halves are joined to the magnetic gap forming surfaces. A so-called metal-in-gap (MIG) type magnetic head, which is integrated by bonding together, and a so-called laminated type magnetic head in which a metal magnetic thin film is sandwiched between nonmagnetic ceramic substrates have been proposed and put into practical use.

【0004】磁気ヘッドは、磁気記録の分野における記
録信号の高密度化やデジタル化に対応するために、より
高周波帯域で良好な電磁変換特性を示すことができるも
のが望まれている。また、VTR用の磁気ヘッドとして
は、小さなドラムに複数個搭載して装置の小型化・高性
能化に対応するために、小型化されることが望まれてい
る。
[0004] In order to cope with higher density and digitization of a recording signal in the field of magnetic recording, a magnetic head that can exhibit good electromagnetic conversion characteristics in a higher frequency band is desired. Further, it is desired that a magnetic head for a VTR be miniaturized in order to cope with miniaturization and high performance of the apparatus by mounting a plurality of magnetic heads on a small drum.

【0005】上述したMIG型磁気ヘッドは、インピー
ダンスが大きく高周波帯域での使用に適さない。また、
積層型磁気ヘッドは、記録信号の高密度化によるトラッ
ク幅の減少に伴い、磁路を構成する金属磁性薄膜の膜厚
を減少させる必要があるため、再生効率が低下してしま
う上に、ヘッドの小型化にも限界がある。
The above-described MIG type magnetic head has a large impedance and is not suitable for use in a high frequency band. Also,
The stacked magnetic head requires a reduction in the thickness of the metal magnetic thin film forming the magnetic path with a decrease in the track width due to an increase in the density of the recording signal. There is a limit to miniaturization.

【0006】そこで、磁気ヘッドにおいては、高周波帯
域で良好な電磁変換特性を示すことのできる磁気ヘッド
として、例えば特開平6−259717号公報「磁気ヘ
ッド及びその製造方法」に記載されているように、薄膜
形成工程により作製して磁気コアの磁路を短くすること
によりインピーダンスを小さくした、いわゆるバルク薄
膜型磁気ヘッドが提案されている。
Therefore, as a magnetic head capable of exhibiting good electromagnetic conversion characteristics in a high frequency band, for example, as described in JP-A-6-259717, "Magnetic head and its manufacturing method". A so-called bulk thin-film magnetic head has been proposed in which the impedance is reduced by shortening the magnetic path of a magnetic core manufactured by a thin-film forming process.

【0007】このバルク薄膜型磁気ヘッドは、非磁性基
板に磁気コアとして金属磁性薄膜が形成されてなる一対
の磁気コア半体が、非磁性膜を介して金属磁性薄膜同士
を接合一体化され、これら金属磁性薄膜間に磁気ギャッ
プが形成されてなる。そして、このバルク薄膜型磁気ヘ
ッドは、一対の磁気コア半体のうち少なくとも一方の磁
気コア半体の接合面にコイル形成用凹部が形成され、こ
のコイル形成用凹部に薄膜コイルが形成されてなる。
In this bulk thin film type magnetic head, a pair of magnetic core halves each having a metal magnetic thin film formed as a magnetic core on a nonmagnetic substrate are joined and integrated with each other via the nonmagnetic film. A magnetic gap is formed between these metal magnetic thin films. In this bulk thin-film magnetic head, a coil-forming recess is formed on a joining surface of at least one of the pair of magnetic core halves, and a thin-film coil is formed in the coil-forming recess. .

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、一対の磁気
コア半体は、上述した非磁性膜を非磁性金属原子により
形成されて、この非磁性金属原子により金属拡散接合さ
れることにより接合一体化される。言い換えると、この
非磁性膜は、磁気コアにおける磁気ギャップとしての機
能を有するとともに、一対の磁気コア半体を金属拡散接
合する際の接着剤としての機能を有している。
By the way, a pair of magnetic core halves are formed by forming the above-mentioned non-magnetic film with non-magnetic metal atoms and performing metal diffusion bonding with the non-magnetic metal atoms to form a joint. Is done. In other words, this non-magnetic film has a function as a magnetic gap in the magnetic core, and also has a function as an adhesive when the pair of magnetic core halves is subjected to metal diffusion bonding.

【0009】そのため、この非磁性膜を形成する非磁性
金属原子は、低温での金属拡散接合に好適であるよう
に、拡散係数が大きく、且つ表面に酸化層が形成されに
くい金属が選択され、具体的にはAu,Pt等の貴金属
が選択される。
Therefore, as the nonmagnetic metal atoms forming the nonmagnetic film, a metal having a large diffusion coefficient and hardly forming an oxide layer on the surface is selected so as to be suitable for metal diffusion bonding at a low temperature. Specifically, a noble metal such as Au or Pt is selected.

【0010】ところで、上述したように構成された磁気
ヘッドでは、磁気ギャップのギャップ長を所望の値に制
御することが困難であり、特に、金属拡散接合の際に用
いられる金属膜をギャップ材として用いた場合には所定
のギャップ長を有する磁気ギャップを形成することが困
難であった。このため、従来の磁気ヘッドでは、ヘッド
特性が劣化してしまうといった問題があった。
In the magnetic head configured as described above, it is difficult to control the gap length of the magnetic gap to a desired value. In particular, a metal film used in metal diffusion bonding is used as a gap material. When used, it was difficult to form a magnetic gap having a predetermined gap length. Therefore, the conventional magnetic head has a problem that the head characteristics are deteriorated.

【0011】そこで、本発明は、ヘッド特性を向上した
磁気ヘッドを提供することを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a magnetic head having improved head characteristics.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ため、本発明者らが鋭意検討した結果、非磁性膜の非磁
性金属原子が金属磁性薄膜に拡散することによって、こ
れらの界面が不明瞭となることを解明した。また、本発
明者らは、非磁性膜を非磁性金属層と非磁性酸化層とに
より形成し、金属磁性薄膜との間に非磁性酸化層を配設
することによって、この非磁性金属層が金属磁性薄膜に
拡散することを防止することができ、記録再生特性を向
上させることができるといった知見を得るに至った。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the present inventors have conducted intensive studies. As a result, the diffusion of non-magnetic metal atoms of the non-magnetic film into the metal magnetic thin film caused these interfaces to become non-conductive. Clarified that it becomes clear. Further, the present inventors have formed a non-magnetic film by a non-magnetic metal layer and a non-magnetic oxide layer, and by disposing the non-magnetic oxide layer between the non-magnetic metal thin film, this non-magnetic metal layer It has been found that it is possible to prevent the metal magnetic thin film from diffusing, and to improve the recording / reproducing characteristics.

【0013】すなわち、本発明に係る磁気ヘッドは、基
板上に金属磁性薄膜が斜めに成膜されるとともに、薄膜
コイルが形成された凹部を有し、非磁性材料により突合
せ面が平坦化されてなる一対の磁気コア半体を備え、上
記金属磁性薄膜の端面同士が非磁性膜を介して対向する
ように突き合わされて磁気ギャップが形成された磁気ヘ
ッドにおいて、上記非磁性膜は、上記磁気コア半体の突
合せ面側から、非磁性酸化層と、非磁性金属層とがこの
順で形成されてなる。
That is, a magnetic head according to the present invention has a metal magnetic thin film formed obliquely on a substrate, a concave portion in which a thin film coil is formed, and a butted surface made flat by a nonmagnetic material. A magnetic head comprising a pair of magnetic core halves, wherein a magnetic gap is formed by abutting the end faces of the metal magnetic thin film so as to face each other via a nonmagnetic film. A non-magnetic oxide layer and a non-magnetic metal layer are formed in this order from the butted surface side of the half.

【0014】以上のように構成された本発明に係る磁気
ヘッドは、非磁性膜の非磁性酸化層によって、磁気コア
半体上に成膜された金属磁性薄膜への非磁性金属層の拡
散が防止される。したがって、係る磁気ヘッドは、磁気
ギャップにおける磁気的な界面が明瞭となる。
In the magnetic head according to the present invention configured as described above, the diffusion of the nonmagnetic metal layer into the metal magnetic thin film formed on the magnetic core half by the nonmagnetic oxide layer of the nonmagnetic film. Is prevented. Therefore, in such a magnetic head, the magnetic interface in the magnetic gap becomes clear.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。以下では、図
1及び図2に示すような磁気ヘッド1について説明する
こととする。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. Hereinafter, the magnetic head 1 as shown in FIGS. 1 and 2 will be described.

【0016】本発明に係る磁気ヘッド1は、金属拡散接
合により接合された一対の磁気コア半体2,3から構成
されている。一対の磁気コア半体2,3は、MnO−N
iO系の非磁性材料からなる非磁性基板4と、この非磁
性基板4の傾斜面4a上に形成された金属磁性薄膜5
と、この非磁性基板4上に金属磁性薄膜5を覆うように
形成された低融点ガラス6とからそれぞれ形成されてい
る。また、一対の磁気コア半体2,3は、少なくとも一
方に、励磁用及び/又は誘導起電圧検出用の薄膜コイル
7が形成されてなる。
The magnetic head 1 according to the present invention comprises a pair of magnetic core halves 2 and 3 joined by metal diffusion bonding. The pair of magnetic core halves 2 and 3 are made of MnO—N
a non-magnetic substrate 4 made of an iO-based non-magnetic material, and a metal magnetic thin film 5 formed on an inclined surface 4a of the non-magnetic substrate 4
And a low melting point glass 6 formed on the non-magnetic substrate 4 so as to cover the metal magnetic thin film 5. Further, at least one of the pair of magnetic core halves 2 and 3 is formed with a thin-film coil 7 for excitation and / or detection of an induced electromotive force.

【0017】磁気ヘッド1においては、一対の磁気コア
半体2,3が非磁性膜8を介して接合された状態で、金
属磁性薄膜5が、図2(ただし、図2においては、薄膜
コイル7を図示しない。)に示すように、磁気コア9を
形成する。磁気ヘッド1は、図2中矢印Aで示す方向に
磁気記録媒体が摺動することにより、磁気記録媒体に記
録された信号磁界を磁気コア9が再生し、又は信号磁界
を磁気コア9が磁気記録媒体に記録して動作する。
In the magnetic head 1, in a state where the pair of magnetic core halves 2 and 3 are joined via the non-magnetic film 8, the metal magnetic thin film 5 is connected to the thin film coil shown in FIG. The magnetic core 9 is formed as shown in FIG. In the magnetic head 1, when the magnetic recording medium slides in a direction indicated by an arrow A in FIG. 2, the magnetic core 9 reproduces the signal magnetic field recorded on the magnetic recording medium, or the magnetic core 9 generates the signal magnetic field. It operates by recording on a recording medium.

【0018】また、この磁気ヘッド1は、磁気記録媒体
との当たり状態を調節するために、磁気記録媒体の摺動
面10が、図2中矢印Aで示した磁気記録媒体の摺動方
向と平行に、円弧状に形成される。また、この磁気ヘッ
ド1は、磁気記録媒体との接触面積を調節するために、
当たり幅規制溝11が形成されている。この当たり幅規
制溝11は、磁気記録媒体の摺動方向Aと平行に、磁気
ヘッド1の両側面に形成されている。
In order to adjust the contact state of the magnetic head 1 with the magnetic recording medium, the sliding surface 10 of the magnetic recording medium is moved in the sliding direction of the magnetic recording medium indicated by an arrow A in FIG. It is formed in an arc shape in parallel. The magnetic head 1 is used to adjust the contact area with the magnetic recording medium.
A contact width regulating groove 11 is formed. The contact width regulating grooves 11 are formed on both side surfaces of the magnetic head 1 in parallel with the sliding direction A of the magnetic recording medium.

【0019】この磁気ヘッド1において、金属磁性薄膜
5は、Fe−Ta−N合金等の軟磁性を示す材料により
成膜される。金属磁性薄膜5は、非磁性基板4上に所定
の角度を以て斜めに形成された傾斜面4a上に形成され
ている。このため、磁気コア9は、金属磁性薄膜5が形
成された一対の磁気コア半体2,3が非磁性膜8を介し
て接合されると、図2に示すように、磁気記録媒体の摺
動方向Aに対して斜めに配されることとなる。
In this magnetic head 1, the metal magnetic thin film 5 is formed of a material exhibiting soft magnetism such as an Fe-Ta-N alloy. The metal magnetic thin film 5 is formed on an inclined surface 4 a formed obliquely at a predetermined angle on the non-magnetic substrate 4. Therefore, when the pair of magnetic core halves 2 and 3 on which the metal magnetic thin film 5 is formed are joined via the non-magnetic film 8, the magnetic core 9 slides on the magnetic recording medium as shown in FIG. It is arranged obliquely to the moving direction A.

【0020】また、この金属磁性薄膜5は、その断面形
状が略コ字状を呈するように構成されている。すなわ
ち、金属磁性薄膜5は、磁気コア半体2,3の接合面2
a,3a側の端面の略中心部が凹部5aとされてなる。
The metal magnetic thin film 5 is configured so that its cross section has a substantially U-shape. That is, the metal magnetic thin film 5 is formed on the joining surface 2 of the magnetic core halves 2 and 3.
A substantially central portion of the end surfaces on the sides a and 3a is formed as a concave portion 5a.

【0021】このため、金属磁性薄膜5は、磁気コア半
体2,3の接合面2a,3aに前後方向に分断されて低
融点ガラス6から露出する、前部突合せ面12と後部突
合せ面13とを有することとなる。そして、一方の磁気
コア半体2の前部突合せ面12と、他方の磁気コア半体
3の前部突合せ面12とは、非磁性膜8を介して突き合
わされてフロントギャップ14を構成する。また、一方
の磁気コア半体2の後部突合せ面13と、他方の磁気コ
ア半体3の後部突合せ面13とは、非磁性膜8を介して
突き合わされてバックギャップ15を構成する。
For this reason, the metal magnetic thin film 5 is divided by the joining surfaces 2 a and 3 a of the magnetic core halves 2 and 3 in the front-rear direction and is exposed from the low-melting glass 6. And has the following. The front butting surface 12 of one magnetic core half 2 and the front butting surface 12 of the other magnetic core half 3 are butted with the nonmagnetic film 8 interposed therebetween to form a front gap 14. Also, the rear butting surface 13 of one magnetic core half 2 and the rear butting surface 13 of the other magnetic core half 3 are butted via the nonmagnetic film 8 to form a back gap 15.

【0022】また、金属磁性薄膜5には、接合面2a,
3aに、後部突合せ面13を略中心とした薄膜コイル7
が内部に形成されたコイル形成用凹部16を有する。こ
のコイル形成用凹部16には、後部突合せ面13の近傍
にコイル接続用端子17が形成されている。薄膜コイル
7は、このコイル形成用凹部16内に形成されて、中心
側の端部がコイル接続用端子17に接続されている。
The metal magnetic thin film 5 has a bonding surface 2a,
3a, the thin film coil 7 having the rear butting surface 13 substantially at the center.
Has a coil forming recess 16 formed therein. A coil connection terminal 17 is formed in the coil forming recess 16 near the rear butting surface 13. The thin-film coil 7 is formed in the coil-forming recess 16, and the end on the center side is connected to the coil connection terminal 17.

【0023】コイル接続用端子17は、一対の磁気コア
半体2,3の接合面2a,3aと同一面を構成するよう
にそれぞれ高さ調節されて形成されている。そして、磁
気ヘッド1においては、一対の磁気コア2,3が接合さ
れると、一対のコイル接続用端子17も接合されること
となる。これにより、この磁気ヘッド1においては、一
対の磁気コア半体2,3が接合されると、一対の薄膜コ
イル7が電気的に接続されることとなる。
The coil connection terminals 17 are formed with their heights adjusted so as to form the same surfaces as the joining surfaces 2a, 3a of the pair of magnetic core halves 2, 3. Then, in the magnetic head 1, when the pair of magnetic cores 2 and 3 are joined, the pair of coil connecting terminals 17 are also joined. Thus, in the magnetic head 1, when the pair of magnetic core halves 2 and 3 are joined, the pair of thin-film coils 7 are electrically connected.

【0024】また、薄膜コイル7の外周側の端部は、記
録媒体の摺動面10とは反対側へ導出されている。一対
の磁気コア半体2,3には、記録媒体の摺動面10とは
反対側に、外部接続用端子18がそれぞれ形成されてい
る。そして、薄膜コイル7の外周側の端部は、この外部
接続用端子18と接続されている。
The outer peripheral end of the thin-film coil 7 is led out to the side opposite to the sliding surface 10 of the recording medium. External connection terminals 18 are formed on the pair of magnetic core halves 2 and 3 on the side opposite to the sliding surface 10 of the recording medium. The outer peripheral end of the thin-film coil 7 is connected to the external connection terminal 18.

【0025】これら外部接続用端子18は、磁気ヘッド
1の側面に露出することによって、外部と薄膜コイル7
とを電気的に接続することができる。これら一対の外部
接続用端子18は、一対の磁気コア半体2,3を接合し
た際に短絡を発生させないように、一対の磁気コア半体
の2,3における高さが異なる位置にそれぞれ形成され
ている。
These external connection terminals 18 are exposed to the side surface of the magnetic head 1 so that they can be connected to the outside by the thin film coil 7.
And can be electrically connected. The pair of external connection terminals 18 are formed at positions where the heights of the pair of magnetic core halves 2 and 3 are different so that a short circuit does not occur when the pair of magnetic core halves 2 and 3 are joined. Have been.

【0026】ところで、磁気ヘッド1は、図3に示すよ
うに、一対の磁気コア半体2,3の接合面2a,3aに
それぞれ成膜された非磁性膜8有している。この非磁性
膜8は、非磁性金属層8aと、非磁性酸化層8bとから
構成される。
As shown in FIG. 3, the magnetic head 1 has a non-magnetic film 8 formed on the joint surfaces 2a and 3a of the pair of magnetic core halves 2 and 3, respectively. The non-magnetic film 8 includes a non-magnetic metal layer 8a and a non-magnetic oxide layer 8b.

【0027】非磁性膜8は、磁気ヘッド1において、上
述したように、一対の磁気コア半体2,3の前部突合せ
面12同士と後部突合せ面13同士との間に成膜されて
いることにより、磁気コア9のフロントギャップ14と
バックギャップ15としての機能を果たしている。ま
た、非磁性膜8は、一対の磁気コア半体2,3の接合面
2a,3aにそれぞれ成膜されて、後述するように金属
拡散接合を施されることにより、一対の磁気コア半体
2,3を接合一体化する機能を果たしている。
The nonmagnetic film 8 is formed between the front butting surfaces 12 and the rear butting surfaces 13 of the pair of magnetic core halves 2 and 3 in the magnetic head 1 as described above. Thereby, the magnetic core 9 functions as the front gap 14 and the back gap 15. The non-magnetic film 8 is formed on the bonding surfaces 2a and 3a of the pair of magnetic core halves 2 and 3, respectively, and is subjected to metal diffusion bonding, as described later, to thereby form the pair of magnetic core halves. It has the function of joining and integrating the two and three.

【0028】非磁性金属層8aは、低温での金属拡散接
合に好適であるように、拡散係数が大きく、且つ表面に
酸化層が形成されにくい金属により形成されており、具
体的には、例えばAu等の金属が100nm程度の厚み
で形成されている。非磁性金属層8aは、非磁性基板4
に対して非磁性膜8の最も外側にそれぞれ形成されてお
り、互いに突き合わされて金属拡散接合を施されること
により接合一体化している。
The non-magnetic metal layer 8a is made of a metal having a large diffusion coefficient and a surface on which an oxide layer is hardly formed so as to be suitable for metal diffusion bonding at a low temperature. A metal such as Au is formed with a thickness of about 100 nm. The non-magnetic metal layer 8a is formed on the non-magnetic substrate 4
Are formed on the outermost sides of the non-magnetic film 8, respectively, and are joined to each other by metal diffusion bonding to be joined and integrated.

【0029】また、非磁性酸化層8bは、大きな拡散係
数を有する金属により形成された非磁性金属層8aが磁
気コア9を構成している金属磁性薄膜5へ拡散すること
を防止するために、非磁性基板4に対して非磁性膜8の
最も内側に位置して形成されている。言い換えると、非
磁性酸化層8bは、接合面2a,3a上、すなわち、金
属磁性薄膜5上に形成されている。非磁性酸化層8b
は、具体的には、例えばSiO2等の材料により10n
m程度の厚みで形成されている。
The non-magnetic oxide layer 8b is formed to prevent the non-magnetic metal layer 8a formed of a metal having a large diffusion coefficient from diffusing into the metal magnetic thin film 5 constituting the magnetic core 9. It is formed on the innermost side of the nonmagnetic film 8 with respect to the nonmagnetic substrate 4. In other words, the nonmagnetic oxide layer 8b is formed on the bonding surfaces 2a and 3a, that is, on the metal magnetic thin film 5. Non-magnetic oxide layer 8b
Specifically, for example, 10n is formed of a material such as SiO 2.
It is formed with a thickness of about m.

【0030】磁気ヘッド1においては、上述したよう
に、一対の磁気コア半体2,3の接合面2a,3aにお
いて、非磁性基板4側から非磁性酸化層8bと非磁性金
属層8aとがこの順で形成されて、非磁性膜8を構成し
てなる。
In the magnetic head 1, as described above, the non-magnetic oxide layer 8 b and the non-magnetic metal layer 8 a are formed from the non-magnetic substrate 4 side at the joining surfaces 2 a and 3 a of the pair of magnetic core halves 2 and 3. The non-magnetic film 8 is formed in this order.

【0031】したがって、磁気ヘッド1においては、大
きな拡散係数を有する金属により形成された非磁性金属
層8aが磁気コア9を形成する金属磁性薄膜5へ拡散し
てしまうことを、非磁性酸化層8bによって防止してい
る。また、非磁性酸化層8bは、SiO2等からなるた
め、金属磁性薄膜5に拡散するようなことはない。
Therefore, in the magnetic head 1, the fact that the nonmagnetic metal layer 8 a formed of a metal having a large diffusion coefficient diffuses into the metal magnetic thin film 5 forming the magnetic core 9 is determined by the fact that the nonmagnetic oxide layer 8 b It is prevented by. Since the nonmagnetic oxide layer 8b is made of SiO 2 or the like, it does not diffuse into the metal magnetic thin film 5.

【0032】そのため、磁気ヘッド1は、磁気コア9の
フロントギャップ14における磁気的な界面を明瞭に形
成することができる。このため、この磁気ヘッド1にお
いては、一対の磁気コア半体2,3に形成された金属磁
性薄膜5のそれぞれの端面間の距離がギャップ長とな
る。したがって、この磁気ヘッド1においては、一対の
磁気コア半体2,3の接合面2a,3aに形成された非
磁性膜8の厚みを制御することにより、ギャップ長を正
確に所望の値とすることができる。このことにより、磁
気ヘッド1は、記録再生特性が向上したものとなる。
Therefore, the magnetic head 1 can clearly form a magnetic interface in the front gap 14 of the magnetic core 9. For this reason, in the magnetic head 1, the gap length is the distance between the respective end faces of the metal magnetic thin film 5 formed on the pair of magnetic core halves 2 and 3. Therefore, in the magnetic head 1, by controlling the thickness of the non-magnetic film 8 formed on the joint surfaces 2a and 3a of the pair of magnetic core halves 2 and 3, the gap length is accurately set to a desired value. be able to. As a result, the magnetic head 1 has improved recording and reproduction characteristics.

【0033】なお、この磁気ヘッド1において、非磁性
基板4は、MnO−NiO系の非磁性材料からなるとし
たが、係る構成に限定されるものではない。非磁性基板
4は、チタン酸カルシウム、チタン酸バリウム、酸化ジ
ルコニウム(ジルコニア)、アルミナ、アルミナチタン
カーバイド、SiO2、Znフェライト、結晶化ガラス
又は高硬度ガラス等からなるものであればよい。
In the magnetic head 1, the non-magnetic substrate 4 is made of a MnO-NiO-based non-magnetic material, but the present invention is not limited to such a configuration. The nonmagnetic substrate 4 may be made of calcium titanate, barium titanate, zirconium oxide (zirconia), alumina, alumina titanium carbide, SiO 2 , Zn ferrite, crystallized glass, high hardness glass, or the like.

【0034】また、この磁気ヘッド1において、非磁性
基板4には、傾斜面4aが所定の角度を以て斜めに形成
されるとしたが、この傾斜面4aを、例えば円形状や多
角形状に形成してもよい。ただし、傾斜面4aは、45
度程度の角度を以て形成されることが望ましい。これに
より、磁気ヘッド1は、トラック幅精度が向上する。
In the magnetic head 1, the non-magnetic substrate 4 has the inclined surface 4a formed at a predetermined angle, but the inclined surface 4a is formed in, for example, a circular or polygonal shape. You may. However, the slope 4a is 45
It is desirable to form at an angle of about degrees. Thereby, the track width accuracy of the magnetic head 1 is improved.

【0035】さらに、この磁気ヘッド1において、金属
磁性薄膜5は、Fe−Ta−N合金等の軟磁性を示す材
料により成膜されるとしたが、係る構成に限定されるも
のではない。金属磁性薄膜5は、例えば、センダスト
(Fe−Al−Si合金)、Fe−Al合金、Fe−S
i−Co合金、Fe−Ga−Si合金、Fe−Ga−S
i−Ru合金、Fe−Al−Ge合金、Fe−Ga−G
e合金、Fe−Si−Ge合金、Fe−Co−Si−A
l合金、Fe−Ni合金等の結晶質合金からなるもので
あればよい。あるいは、金属磁性薄膜5は、Fe,C
o,Niのうちの1以上の元素とP,C,B,Siのう
ちの1以上の元素とからなる合金、又はこれを主成分と
しAl,Ge,Be,Sn,In,Mo,W,Ti,M
n,Cr,Zr,Hf,Nb等を含んだ合金等に代表さ
れるメタル−メタロイド系アモルファス合金や、Co,
Hf,Zr等の遷移金属と希土類元素を主成分とするメ
タル−メタル系アモルファス合金等の非晶質合金からな
るようなものであってもよい。さらに、金属磁性薄膜5
は、窒化系軟磁性合金又は炭化系軟磁性合金等であって
もよい。
Further, in the magnetic head 1, the metal magnetic thin film 5 is formed of a material exhibiting soft magnetism such as an Fe-Ta-N alloy, but the present invention is not limited to this configuration. The metal magnetic thin film 5 is made of, for example, Sendust (Fe-Al-Si alloy), Fe-Al alloy, Fe-S
i-Co alloy, Fe-Ga-Si alloy, Fe-Ga-S
i-Ru alloy, Fe-Al-Ge alloy, Fe-Ga-G
e alloy, Fe-Si-Ge alloy, Fe-Co-Si-A
Any material may be used as long as it is made of a crystalline alloy such as a 1 alloy or an Fe-Ni alloy. Alternatively, the metal magnetic thin film 5 is made of Fe, C
alloy consisting of one or more elements of o and Ni and one or more elements of P, C, B and Si, or Al, Ge, Be, Sn, In, Mo, W, Ti, M
metal-metalloid amorphous alloys typified by alloys containing n, Cr, Zr, Hf, Nb, etc .;
It may be made of an amorphous alloy such as a metal-metal amorphous alloy containing a transition metal such as Hf or Zr and a rare earth element as main components. Further, the metal magnetic thin film 5
May be a nitrided soft magnetic alloy or a carbonized soft magnetic alloy.

【0036】また、金属磁性薄膜5は、単一層からなる
金属磁性薄膜により構成されてもよいが、非磁性薄膜層
と磁性薄膜層とを交互に積層した構成にすることが望ま
しい。このことにより、磁気ヘッド1は、より高周波領
域において、感度が高いものとすることができる。
The metal magnetic thin film 5 may be constituted by a metal magnetic thin film having a single layer. However, it is preferable that a nonmagnetic thin film layer and a magnetic thin film layer are alternately laminated. Thus, the magnetic head 1 can have high sensitivity in a higher frequency range.

【0037】さらに、上述した本実施の形態において
は、非磁性膜8の非磁性金属層8aをAuにより形成し
たが、例えば、Ag,Pd,Pt等の金属拡散接合に好
適な貴金属から選ばれる少なくとも一種によって形成し
てもよい。また、上述した本実施の形態においては、非
磁性膜8の非磁性酸化層8bをSiO2により形成した
が、例えば、Al23,TiO2等の材料から選ばれる
少なくとも一種により形成してもよい。
Further, in the above-described embodiment, the non-magnetic metal layer 8a of the non-magnetic film 8 is formed of Au. It may be formed by at least one kind. In the above-described embodiment, the non-magnetic oxide layer 8b of the non-magnetic film 8 is formed of SiO 2. However, for example, the non-magnetic oxide layer 8b is formed of at least one selected from materials such as Al 2 O 3 and TiO 2. Is also good.

【0038】また、上述した本実施の形態においては、
非磁性膜8を非磁性金属層8aと非磁性酸化層8bとに
より形成したが、これら非磁性金属層8aと非磁性酸化
層8bとの間に非磁性下地層を設けることで非磁性膜8
を形成してもよい。磁気ヘッド1においては、この非磁
性下地層を例えばCr,Ti,Cu等により形成するこ
とによって、非磁性金属層8aと非磁性酸化層8bとの
接合力を高めることができる。したがって、磁気ヘッド
1においては、一対の磁気コア半体2,3を確実に接合
一体化することができる。
In the above-described embodiment,
The non-magnetic film 8 is formed by the non-magnetic metal layer 8a and the non-magnetic oxide layer 8b, but by providing a non-magnetic underlayer between the non-magnetic metal layer 8a and the non-magnetic oxide layer 8b,
May be formed. In the magnetic head 1, by forming the nonmagnetic underlayer with, for example, Cr, Ti, Cu, or the like, the bonding strength between the nonmagnetic metal layer 8a and the nonmagnetic oxide layer 8b can be increased. Therefore, in the magnetic head 1, the pair of magnetic core halves 2 and 3 can be securely joined and integrated.

【0039】なお、非磁性下地層は、非磁性酸化層8b
を介して金属磁性薄膜5上に形成されるため、この金属
磁性薄膜5へ拡散するようなことがない。したがって、
磁気ヘッド1は、非磁性膜8が非磁性下地層を有する場
合であっても、磁気コア9のフロントギャップ14にお
ける磁気的な界面を明瞭に形成することができる。この
ため、この場合であっても、磁気ヘッド1においては、
一対の磁気コア半体2,3に形成された金属磁性薄膜5
のそれぞれの端面間の距離がギャップ長となる。したが
って、この磁気ヘッド1においては、一対の磁気コア半
体2,3の接合面2a,3aに形成された非磁性膜8の
厚みを制御することにより、ギャップ長を正確に所望の
値とすることができる。このことにより、磁気ヘッド1
は、記録再生特性が向上したものとなる。
The non-magnetic underlayer is a non-magnetic oxide layer 8b.
Is formed on the metal magnetic thin film 5 through the metal film, and therefore, does not diffuse into the metal magnetic thin film 5. Therefore,
The magnetic head 1 can clearly form a magnetic interface in the front gap 14 of the magnetic core 9 even when the nonmagnetic film 8 has a nonmagnetic underlayer. Therefore, even in this case, in the magnetic head 1,
Metal magnetic thin film 5 formed on a pair of magnetic core halves 2 and 3
Is the gap length. Therefore, in the magnetic head 1, by controlling the thickness of the non-magnetic film 8 formed on the joint surfaces 2a and 3a of the pair of magnetic core halves 2 and 3, the gap length is accurately set to a desired value. be able to. This allows the magnetic head 1
Means that the recording and reproduction characteristics are improved.

【0040】以上のように構成された磁気へッド1は、
磁気記録媒体に記録された磁気信号を再生する際に、磁
気記録媒体からの信号磁界がフロントギャップ14の周
辺に印加される。そして、印加される信号磁界の方向が
変化することによって、磁気コア9に流れる磁束の方向
が変化する。その結果、磁気ヘッド1では、電磁誘導が
起こり、薄膜コイル7に所定の電流が流れる。
The magnetic head 1 configured as described above is
When reproducing a magnetic signal recorded on the magnetic recording medium, a signal magnetic field from the magnetic recording medium is applied around the front gap 14. When the direction of the applied signal magnetic field changes, the direction of the magnetic flux flowing through the magnetic core 9 changes. As a result, in the magnetic head 1, electromagnetic induction occurs, and a predetermined current flows through the thin-film coil 7.

【0041】また、この磁気ヘッド1を用いて磁気記録
媒体に磁気信号を記録する際には、薄膜コイル7に対し
て所定の電流が供給される。そして、この磁気ヘッド1
では、薄膜コイル7から発生する磁界により磁気コア9
に所定の磁束が流れる。これにより、この磁気ヘッド1
では、フロントギャップ14を挟んで漏れ磁界を発生す
る。磁気ヘッド1は、この漏れ磁界を磁気記録媒体に印
加することにより磁気信号を記録する。
When a magnetic signal is recorded on a magnetic recording medium using the magnetic head 1, a predetermined current is supplied to the thin-film coil 7. And this magnetic head 1
Then, the magnetic core 9 is generated by the magnetic field generated from the thin film coil 7.
A predetermined magnetic flux flows through the. Thereby, this magnetic head 1
Then, a leakage magnetic field is generated across the front gap 14. The magnetic head 1 records a magnetic signal by applying the leakage magnetic field to a magnetic recording medium.

【0042】次に、上述した磁気ヘッド1を製造する際
の製造方法を説明する。
Next, a method of manufacturing the above-described magnetic head 1 will be described.

【0043】磁気ヘッド1は、上述したような磁気コア
半体2,3が複数列に連なって同一基板上に形成され
る。そして、この基板は、複数個の磁気コア半体2,3
が形成された列毎に切り離されて磁気コア半体ブロック
を形成する。磁気コア半体ブロックは、金属拡散接合に
より接合一体化されることで磁気ヘッドブロックを形成
する。磁気ヘッド1は、この磁気ヘッドブロックが個々
の磁気ヘッド1に切り離されることにより完成する。
The magnetic head 1 is formed on the same substrate with the magnetic core halves 2 and 3 connected in a plurality of rows. The substrate is provided with a plurality of magnetic core halves 2, 3
Are separated for each row in which is formed, to form a magnetic core half block. The magnetic core half blocks are joined and integrated by metal diffusion bonding to form a magnetic head block. The magnetic head 1 is completed by separating the magnetic head block into individual magnetic heads 1.

【0044】先ず、この磁気ヘッド1を製造するには、
図4に示すように、略平板状の基板21を用意する。こ
の基板21は、磁気ヘッド1の非磁性基板4となるもの
であり、例えば、MnO−NiO等の非磁性材料からな
る。この基板21は、例えば、厚みが約2mmとされ、
長さ及び幅が約30mmとされてなる。
First, to manufacture the magnetic head 1,
As shown in FIG. 4, a substantially flat substrate 21 is prepared. This substrate 21 is to be the non-magnetic substrate 4 of the magnetic head 1, and is made of a non-magnetic material such as MnO-NiO. The substrate 21 has a thickness of about 2 mm, for example.
The length and width are set to about 30 mm.

【0045】次に、図5に示すように、上述した基板2
1の一主面21aに対して、砥石等により、例えば、約
45度の角度を有するように複数の磁気コア形成溝24
を平行に形成する。そして、基板21には、この第1の
溝加工に形成された磁気コア形成溝24によって、複数
の傾斜面21bが形成されることとなる。傾斜面21b
は、磁気ヘッド1において、傾斜面4aとなるものであ
る。
Next, as shown in FIG.
For example, a plurality of magnetic core forming grooves 24 are formed with a grindstone or the like so as to have an angle of about 45 degrees with respect to one main surface 21a.
Are formed in parallel. Then, a plurality of inclined surfaces 21b are formed in the substrate 21 by the magnetic core forming grooves 24 formed in the first groove processing. Inclined surface 21b
Are the inclined surfaces 4a in the magnetic head 1.

【0046】なお、ここで形成される傾斜面21bは、
円形状や多角形状であってもよい。また、傾斜面21b
は、基板21の平面に対して25〜60度程度の傾斜角
が望ましいが、疑似ギャップ防止やトラック幅精度を考
慮すると、35〜50度程度の傾斜角がより好ましい。
また、この第1の溝加工により形成する磁気コア形成溝
24は、その深さを130μmとし、幅を150μmと
して形成した。
The inclined surface 21b formed here is
It may be circular or polygonal. Also, the inclined surface 21b
Is preferably about 25 to 60 degrees with respect to the plane of the substrate 21, but is more preferably about 35 to 50 degrees in consideration of prevention of pseudo gap and track width accuracy.
The magnetic core forming groove 24 formed by the first groove processing had a depth of 130 μm and a width of 150 μm.

【0047】次に、図6に示すように、基板21の傾斜
面21bが形成された全面に対して金属磁性薄膜27を
成膜する。この成膜工程においては、金属磁性薄膜27
を、非磁性層を介して3層の金属磁性材料が積層されて
なるように成膜する。この金属磁性薄膜27は、例え
ば、マグネトロンスパッタリング法等のPVD法又はC
VD法等により成膜される。
Next, as shown in FIG. 6, a metal magnetic thin film 27 is formed on the entire surface of the substrate 21 on which the inclined surface 21b is formed. In this film forming step, the metal magnetic thin film 27
Is formed so that three metallic magnetic materials are laminated via a nonmagnetic layer. This metal magnetic thin film 27 is formed, for example, by a PVD method such as a magnetron sputtering method or the like.
The film is formed by a VD method or the like.

【0048】また、金属磁性薄膜27は、複数層の金属
磁性層を有するものに限定されず、単層の金属磁性層か
らなるような構成であってもよいが、より高周波帯域で
高い感度を得るために、金属磁性層を複数に分断した積
層構造であることが望ましい。これにより、金属磁性薄
膜27は、渦電流損失が低減されて、より高周波帯域で
高い感度を得ることができる。
Further, the metal magnetic thin film 27 is not limited to the one having a plurality of metal magnetic layers, and may be configured to have a single metal magnetic layer. In order to obtain, it is desirable that the metal magnetic layer has a laminated structure in which the metal magnetic layer is divided into a plurality. Thereby, the metal magnetic thin film 27 can reduce the eddy current loss and obtain high sensitivity in a higher frequency band.

【0049】本実施の形態において、金属磁性薄膜27
は、例えば、Fe−Ta−N合金4μmとアルミナ0.
15μmとが交互に積層され、3層のFe−Ta−N合
金層を有するような構成とした。また、金属磁性薄膜2
7を複数層からなるように成膜する場合、非磁性層とし
ては、アルミナ、SiO2及びSiO等の材料が単独又
は混合して用いられる。この非磁性層の膜厚は、隣接し
て配される金属磁性層間の絶縁を取れる程度とされる。
In this embodiment, the metal magnetic thin film 27
Is, for example, 4 μm of Fe—Ta—N alloy and 0.1 μm of alumina.
15 μm are alternately laminated, and have a configuration having three Fe—Ta—N alloy layers. The metal magnetic thin film 2
When the film 7 is formed into a plurality of layers, materials such as alumina, SiO 2, and SiO are used alone or as a mixture for the nonmagnetic layer. The thickness of the non-magnetic layer is set to such an extent that insulation between adjacent metal magnetic layers can be obtained.

【0050】次に、図7に示すように、金属磁性薄膜2
7が形成された面に対して磁気コア形成溝24と略直交
する方向に第2の溝加工を施す。この第2の溝加工で
は、所定の大きさの磁気コア9に分離するために形成さ
れる分離溝28と、この分離溝28により分離された各
磁気コア9に磁気ギャップを形成するための巻線溝29
とを形成する。
Next, as shown in FIG.
A second groove is formed on the surface on which the groove 7 is formed in a direction substantially orthogonal to the magnetic core forming groove 24. In the second groove processing, a separation groove 28 formed for separating the magnetic core 9 into a predetermined size, and a winding for forming a magnetic gap in each magnetic core 9 separated by the separation groove 28. Wire groove 29
And are formed.

【0051】また、このとき、傾斜面21b上に形成さ
れた金属磁性薄膜27以外の部分、すなわち、磁気コア
形成溝24の底部に形成された金属磁性薄膜27を研削
加工により除去する。
At this time, portions other than the metal magnetic thin film 27 formed on the inclined surface 21b, that is, the metal magnetic thin film 27 formed on the bottom of the magnetic core forming groove 24 are removed by grinding.

【0052】ここで、分離溝28は、磁気コア9を基板
21上で前後方向に磁気的に分離して各磁気コア9を形
成し、各磁気コア9に閉磁路を構成するための溝であ
る。また、この分離溝28は、図7の例示では2本形成
されているが、形成される磁気コア半体2,3の列の数
だけ設ける必要がある。また、この分離溝28は、前後
方向に並んで配される各磁気コア9を磁気的に分離する
ため、金属磁性薄膜27を完全に切断する程度の深さを
有するように形成される必要がある。具体的には、分離
溝28は、磁気コア形成溝24の底辺から150μmの
深さ、すなわち、基板21の主面21aから280μm
の深さとした。
Here, the separation groove 28 is a groove for forming each magnetic core 9 by magnetically separating the magnetic core 9 in the front-back direction on the substrate 21 and forming a closed magnetic path in each magnetic core 9. is there. Although two separation grooves 28 are formed in the example of FIG. 7, the separation grooves 28 need to be provided by the number of rows of the magnetic core halves 2 and 3 to be formed. In addition, the separation groove 28 must be formed to have a depth that can completely cut the metal magnetic thin film 27 in order to magnetically separate the magnetic cores 9 arranged in the front-rear direction. is there. Specifically, the separation groove 28 has a depth of 150 μm from the bottom of the magnetic core formation groove 24, that is, 280 μm from the main surface 21 a of the substrate 21.
And the depth.

【0053】一方、巻線溝29は、上述した磁気ヘッド
1において、金属磁性薄膜27に形成された凹部5aを
形成するものである。したがって、巻線溝29は、前部
突合せ面12と後部突合せ面13とを有する磁気コア9
を形成し、コイル形成用凹部16を形成するために、金
属磁性薄膜27を切断しない程度の深さで形成する必要
がある。このため、巻線溝29は、その表面に金属磁性
薄膜27の断面が露出してなる。
On the other hand, the winding groove 29 forms a concave portion 5 a formed in the metal magnetic thin film 27 in the magnetic head 1 described above. Therefore, the winding groove 29 is formed on the magnetic core 9 having the front butting surface 12 and the rear butting surface 13.
In order to form the recess 16 for forming the coil, it is necessary to form the metal magnetic thin film 27 at a depth that does not cut it. Therefore, the cross section of the metal magnetic thin film 27 is exposed on the surface of the winding groove 29.

【0054】また、この巻線溝29は、その形状が前部
突合せ面12及び後部突合せ面13の長さに応じて決定
されるが、ここでは、幅を約140μmとし、前部突合
せ面12の長さが30μmとなり、後部突合せ面13の
長さが85μmとなるように形成した。なお、この巻線
溝29は、金属磁性薄膜27を切断することのない程度
の深さでよいが、深すぎると磁路長が長くなって磁束伝
達の効率が低下する虞がある。また、巻線溝29は、そ
の深さが後述する工程で形成される薄膜コイル7の厚み
に依存するが、ここでは、20μmとした。
The shape of the winding groove 29 is determined according to the lengths of the front butting surface 12 and the rear butting surface 13. Here, the width is set to about 140 μm, and And the length of the rear abutting surface 13 was 85 μm. The winding groove 29 may have such a depth that the metal magnetic thin film 27 is not cut. However, if the winding groove 29 is too deep, the magnetic path length becomes longer and the efficiency of magnetic flux transmission may be reduced. The depth of the winding groove 29 depends on the thickness of the thin-film coil 7 formed in a step described later, but is 20 μm here.

【0055】さらに、この巻線溝29は、その形状が限
定されるものではないが、ここでは、前部突合せ面12
側の側面を45度の傾斜面29aとした。これにより、
磁気コア9は、摺動面10に磁束が集中する構造となる
ことによって、感度が向上したものとなる。
Further, the shape of the winding groove 29 is not limited, but here, the front abutting surface 12
The side surface was a 45-degree inclined surface 29a. This allows
The magnetic core 9 has a structure in which the magnetic flux is concentrated on the sliding surface 10 so that the sensitivity is improved.

【0056】次に、図8に示すように、上述したように
磁気コア形成溝24、分離溝28及び巻線溝29が形成
された基板21の一主面21aに対して溶解した低融点
ガラス30を充填させる。その後、低融点ガラス30を
冷却固化させ、固化した低融点ガラス30の表面に対し
て平坦化処理を施す。
Next, as shown in FIG. 8, the low melting point glass melted on one main surface 21a of the substrate 21 on which the magnetic core forming groove 24, the separation groove 28 and the winding groove 29 are formed as described above. 30 is filled. Thereafter, the low-melting glass 30 is cooled and solidified, and the surface of the solidified low-melting glass 30 is subjected to a flattening process.

【0057】次に、図9に示すように、固化した低融点
ガラス30に対して砥石等を用いて研削加工を施すこと
により、端子溝31を形成する。この端子溝31は、上
述した分離溝28の直上に位置するように形成した。端
子溝31は、その形状や幅、深さを限定されるものでは
ないが、ここでは、その幅及び深さを100μmとし
た。そして、この端子溝31内にCu等の良導体を鍍金
法等により充填する。その後、再び平坦化処理を行う。
この端子溝31に充填されたCu等の良導体は、上述し
た磁気ヘッド1における外部接続用端子18となるもの
である。
Next, as shown in FIG. 9, a terminal groove 31 is formed by subjecting the solidified low melting point glass 30 to grinding using a grindstone or the like. The terminal groove 31 was formed so as to be located immediately above the above-described separation groove 28. The shape, width, and depth of the terminal groove 31 are not limited, but here, the width and depth are set to 100 μm. Then, a good conductor such as Cu is filled in the terminal groove 31 by plating or the like. After that, the flattening process is performed again.
The good conductor such as Cu filled in the terminal groove 31 serves as the external connection terminal 18 in the magnetic head 1 described above.

【0058】次に、図10に示すように、低融点ガラス
30に対してエッチング加工を施すことによりコイル形
成用凹部16を形成するとともに、このコイル形成用凹
部16内に薄膜コイル7を薄膜形成する。
Next, as shown in FIG. 10, the low-melting glass 30 is subjected to an etching process to form a coil-forming recess 16 and a thin-film coil 7 is formed in the coil-forming recess 16. I do.

【0059】このコイル形成用凹部16は、後部突合せ
面13を略中心とする略矩形状として、後部突合せ面1
3及びコイル接続用端子17を除く部分に対してエッチ
ング加工を施すことにより形成する。また、このコイル
形成用凹部16は、その一端から端子溝31に達する溝
16aを有している。
The concave portion 16 for forming a coil is formed in a substantially rectangular shape with the rear abutting surface 13 being substantially at the center thereof.
It is formed by performing an etching process on a portion excluding 3 and the coil connection terminal 17. The coil forming recess 16 has a groove 16a extending from one end to the terminal groove 31.

【0060】その後、コイル形成用凹部16内に薄膜コ
イル7を薄膜形成する。この薄膜コイル7は、一方端部
7aをコイル接続用端子17上に配し、後部突合せ面1
3を中心とした円を描くように、多数回巻回された形状
を有する。また、この薄膜コイル7は、コイル形成用凹
部16の一端に形成された溝16a内に引き出され、他
方端部7bを端子溝31に充填された良導体からなる外
部接続用端子18と電気的に接続する。
Thereafter, a thin film coil 7 is formed in the coil forming recess 16. The thin-film coil 7 has one end 7a disposed on a coil connection terminal 17 and a rear abutting surface 1a.
It has a shape wound many times so as to draw a circle centered at 3. The thin-film coil 7 is drawn out into a groove 16 a formed at one end of the coil forming recess 16, and the other end 7 b is electrically connected to an external connection terminal 18 made of a good conductor filled in a terminal groove 31. Connecting.

【0061】この薄膜コイル7を形成する際には、先
ず、フォトレジストにより上述したようなコイル形状を
パターニングする。次に、コイル形成用凹部16にCu
等の良導体を電解鍍金等の手法によって、3μm程度の
厚みとなるように薄膜形成する。そして、フォトレジス
トを除去することによって、パターニングされたコイル
形状とされる薄膜コイル7を形成することができる。な
お、この薄膜コイル7を形成するに際して、上述した電
解鍍金法だけでなく、スパッタリング法や蒸着法等を用
いることができる。
When the thin film coil 7 is formed, first, the above-described coil shape is patterned by a photoresist. Next, Cu is formed in the coil forming recess 16.
Is formed into a thin film to a thickness of about 3 μm by a technique such as electrolytic plating. Then, by removing the photoresist, the thin film coil 7 having a patterned coil shape can be formed. In forming the thin-film coil 7, not only the above-described electrolytic plating method but also a sputtering method or a vapor deposition method can be used.

【0062】次に、薄膜コイル7を外気との接触から保
護するための保護層(図示せず。)を形成する。この保
護層は、上述した薄膜コイル7を形成したコイル形成用
凹部16を埋め込むように形成される。なお、この保護
層は、酸素アッシング処理により除去されないような非
磁性絶縁材料から形成されることが好ましい。
Next, a protective layer (not shown) for protecting the thin-film coil 7 from contact with the outside air is formed. This protective layer is formed so as to bury the coil forming recess 16 in which the above-described thin film coil 7 is formed. The protective layer is preferably formed of a non-magnetic insulating material that is not removed by the oxygen ashing.

【0063】具体的には、非磁性絶縁材料として、Al
23、Ta25、SiO2、ZrO2、TiO2等の酸化
物又はガラス等の無機物が挙げられる。ここでは、保護
膜としては、Al23をスパッタリングにより0.4μ
mの厚さで基板21全面に形成した。このとき、保護膜
は、基板21の一主面に露出した前部突合せ面12や後
部突合せ面13等も覆ってしまうが、後述する工程でこ
れらを覆う部分は除去される。なお、この保護膜は、い
わゆる、マスクスパッタ法やリフトオフ法を用いること
によって、所定の領域のみに形成することも可能であ
る。また、保護膜の形成法としては、スパッタリング法
の他に蒸着法や塗布型SiO2のスピンコーティング等
を挙げることができる。
Specifically, as a non-magnetic insulating material, Al
Examples thereof include oxides such as 2 O 3 , Ta 2 O 5 , SiO 2 , ZrO 2 , and TiO 2 and inorganic substances such as glass. Here, as the protective film, Al 2 O 3 was sputtered to a thickness of 0.4 μm.
m was formed over the entire surface of the substrate 21. At this time, the protective film also covers the front butting surface 12 and the rear butting surface 13 which are exposed on one main surface of the substrate 21, but the portions covering these portions are removed in a step described later. Note that this protective film can be formed only in a predetermined region by using a so-called mask sputtering method or a lift-off method. Examples of the method for forming the protective film include, besides the sputtering method, an evaporation method and spin coating of coating type SiO 2 .

【0064】次に、図11に示すように、一主面に並列
して臨む前部突合せ面12を横切るように角状の溝であ
るサイド溝32を形成する。その後、磁気コア半体2,
3が平行に複数列形成された基板21を一方の磁気コア
半体2と他方の磁気コア半体3とがそれぞれ一列毎とな
るように切断して磁気コア半体ブロック33を形成す
る。
Next, as shown in FIG. 11, a side groove 32 which is a square groove is formed so as to cross the front butting surface 12 facing the one main surface in parallel. Then, the magnetic core half 2,
The magnetic core half block 33 is formed by cutting the substrate 21 in which a plurality of rows 3 are formed in parallel so that one magnetic core half 2 and the other magnetic core half 3 are arranged in each row.

【0065】このサイド溝32は、研削加工により形成
され、例えばその深さを50μm、幅を400μmとさ
れる。このサイド溝32が形成されると、サイド溝32
の側面に前部突合せ面12の一端が露出することとな
る。このサイド溝32は、後述するように、一対の磁気
コア半体ブロック33を突き合わせる際に、位置決めの
指標として前部突合せ面12の上端部を露出させるため
に形成される。
The side grooves 32 are formed by grinding, and have a depth of 50 μm and a width of 400 μm, for example. When the side grooves 32 are formed, the side grooves 32
One end of the front abutting surface 12 is exposed on the side surface of. The side grooves 32 are formed to expose the upper end of the front butting surface 12 as a positioning index when the pair of magnetic core half blocks 33 are butted, as described later.

【0066】そして、このサイド溝32が形成された
後、磁気コア半体ブロック33の一主面33aに対して
研磨加工を施すことにより、この一主面33aを鏡面化
する。このとき、保護膜により覆われた前部突合せ面1
2や後部突合せ面13を外方へと露出させる。
After the side grooves 32 are formed, the one main surface 33a of the magnetic core half-block 33 is polished to be mirror-finished. At this time, the front butting surface 1 covered with the protective film
2 and the rear butting surface 13 are exposed to the outside.

【0067】次に、図12に示すように、一対の磁気コ
ア半体ブロック33を正確に位置決めして金属拡散接合
を行う。このとき、先ず、一対の磁気コア半体ブロック
33のそれぞれの一主面33aには、磁気コア9のギャ
ップ材となるとともに、金属拡散接合の際の接着剤とな
る非磁性膜8を成膜する。この際、一主面33a上に非
磁性酸化層8bを形成する第1の成膜工程と、非磁性金
属層8aを形成する第2の成膜工程とによって、非磁性
膜8を成膜する。
Next, as shown in FIG. 12, a pair of magnetic core half blocks 33 is accurately positioned to perform metal diffusion bonding. At this time, first, a non-magnetic film 8 serving as a gap material for the magnetic core 9 and an adhesive at the time of metal diffusion bonding is formed on one main surface 33a of each of the pair of magnetic core half blocks 33. I do. At this time, the non-magnetic film 8 is formed by a first film forming step of forming the non-magnetic oxide layer 8b on the one main surface 33a and a second film forming step of forming the non-magnetic metal layer 8a. .

【0068】具体的には、第1の成膜工程において、例
えばスパッタリング法等によってSiO2を10nm程
度の厚みで非磁性酸化層8bを形成する。非磁性酸化層
8bは、一対の磁気コア半体ブロック33の一主面33
aの全面に形成されることが好ましいが、少なくとも前
部突合せ面12を覆うように形成されればよい。これに
より、非磁性酸化層8bは、非磁性酸化層8aが、一主
面33aから露出した金属磁性薄膜5の前部突合せ面1
2へ拡散するのを防止することができる。
Specifically, in the first film forming step, the nonmagnetic oxide layer 8b is formed of SiO 2 to a thickness of about 10 nm by, for example, a sputtering method. The nonmagnetic oxide layer 8b is formed on one main surface 33 of the pair of magnetic core half blocks 33.
Although it is preferable to be formed on the entire surface of a, it may be formed so as to cover at least the front butting surface 12. As a result, the nonmagnetic oxide layer 8b is different from the nonmagnetic oxide layer 8a in that the front butting surface 1 of the metal magnetic thin film 5 exposed from the one main surface 33a.
2 can be prevented.

【0069】なお、非磁性酸化層8bは、SiO2に限
られるものではなく、例えばAl23,TiO2等から
選ばれる少なくとも一種の材料であってもよい。また、
非磁性酸化層8bは、その形成方法として、スパッタリ
ング法に限られるものではなく、例えば蒸着法等を用い
てもよい。さらに、非磁性酸化層8bは、その厚みが限
定されるものではなく、非磁性金属層8aが金属磁性薄
膜5の前部突合せ面12への拡散を防止するに足る厚み
を以て且つギャップ長を考慮して形成されればよい。
The non-magnetic oxide layer 8b is not limited to SiO 2 but may be at least one material selected from, for example, Al 2 O 3 and TiO 2 . Also,
The method of forming the nonmagnetic oxide layer 8b is not limited to the sputtering method, but may be, for example, an evaporation method. Further, the thickness of the nonmagnetic oxide layer 8b is not limited, and the thickness of the nonmagnetic metal layer 8a is sufficient to prevent the metal magnetic thin film 5 from diffusing to the front butting surface 12, and the gap length is taken into consideration. What is necessary is just to form it.

【0070】また、第2の成膜工程においては、例えば
スパッタリング法等によってAu等の貴金属を100n
m程度の厚みで非磁性金属層8aを形成する。このと
き、非磁性金属層8aは、接合強度を考慮して所望の領
域に形成されるが、少なくとも前部突合せ面12及びコ
イル接続用端子17を覆うように形成されればよい。こ
の非磁性金属層8aは、非磁性酸化層8bを介して金属
磁性薄膜5上に形成されるため、この金属磁性薄膜5に
拡散するようなことがない。
In the second film forming step, a noble metal such as Au
The nonmagnetic metal layer 8a is formed with a thickness of about m. At this time, the nonmagnetic metal layer 8a is formed in a desired region in consideration of the bonding strength, but may be formed so as to cover at least the front butting surface 12 and the coil connection terminal 17. Since the nonmagnetic metal layer 8a is formed on the metal magnetic thin film 5 via the nonmagnetic oxide layer 8b, the nonmagnetic metal layer 8a does not diffuse into the metal magnetic thin film 5.

【0071】なお、非磁性金属層8aは、Auに限られ
るものではなく、低温での金属拡散接合に好適であるよ
うに、拡散係数が大きく、且つ表面に酸化層が形成され
にくい金属により形成されればよい。具体的には、例え
ば、Ag,Pd,Pt等の貴金属から選ばれる少なくと
も一種によって形成してもよい。また、非磁性金属層8
aは、その形成方法として、スパッタリング法に限られ
るものではなく、例えば電解鍍金法、蒸着法等により形
成してもよい。さらに、非磁性金属層8aは、その厚み
が限定されるものではなく、一対の磁気コア半体ブロッ
ク33を金属拡散接合するに足る厚みを以て、且つギャ
ップ長を考慮して形成されればよい。
The non-magnetic metal layer 8a is not limited to Au, and is formed of a metal having a large diffusion coefficient and having a hardly formed oxide layer on the surface so as to be suitable for metal diffusion bonding at a low temperature. It should be done. Specifically, for example, it may be formed of at least one selected from noble metals such as Ag, Pd, and Pt. The non-magnetic metal layer 8
The method a is not limited to the sputtering method, and may be formed by, for example, an electrolytic plating method, a vapor deposition method, or the like. Further, the thickness of the non-magnetic metal layer 8a is not limited, and may be formed to have a thickness sufficient to perform the metal diffusion bonding of the pair of magnetic core half-blocks 33 and to take the gap length into consideration.

【0072】非磁性膜8は、上述したように、磁気コア
半体ブロック33が接合された状態において、全体とし
ての厚みが、金属磁性薄膜5が形成する磁気コア9のギ
ャップ長となる。
As described above, when the magnetic core half-block 33 is joined, the entire thickness of the nonmagnetic film 8 becomes the gap length of the magnetic core 9 formed by the metal magnetic thin film 5.

【0073】また、本実施の形態においては、第1の成
膜工程により非磁性酸化層8bを形成し、第2の成膜工
程により非磁性金属層8aを形成するとしたが、この第
2の成膜工程の前段に、非磁性下地層を形成する第3の
成膜工程を配してもよい。この第3の成膜工程におい
て、この非磁性下地層を例えばCr,Ti,Cuから選
ばれる少なくとも一種により形成することによって、非
磁性金属層8aと非磁性酸化層8bとの接合力を高める
ことができる。したがって、非磁性膜8は、非磁性下地
層を備えることにより、一対の磁気コア半体ブロック3
3を接合した際に、非磁性金属層8aと非磁性酸化層8
bとの間で膜剥がれが生じるようなことが防止され、一
対の磁気コア半体ブロック33を確実に一体化すること
ができる。
In this embodiment, the non-magnetic oxide layer 8b is formed by the first film forming step, and the non-magnetic metal layer 8a is formed by the second film forming step. A third film-forming step of forming a non-magnetic underlayer may be arranged before the film-forming step. In the third film forming step, the bonding strength between the nonmagnetic metal layer 8a and the nonmagnetic oxide layer 8b is increased by forming the nonmagnetic underlayer with at least one selected from, for example, Cr, Ti, and Cu. Can be. Therefore, the non-magnetic film 8 includes the non-magnetic underlayer so that the pair of magnetic core half blocks 3
3 is joined to the nonmagnetic metal layer 8a and the nonmagnetic oxide layer 8a.
It is possible to prevent the film from being peeled off with b, and to reliably integrate the pair of magnetic core half blocks 33.

【0074】なお、この非磁性下地層は、非磁性酸化層
8bを介して金属磁性薄膜5上に形成されるため、この
金属磁性薄膜5へ拡散するようなことがない。
Since the nonmagnetic underlayer is formed on the metal magnetic thin film 5 via the nonmagnetic oxide layer 8b, it does not diffuse into the metal magnetic thin film 5.

【0075】そして、上述したように非磁性膜8が成膜
された後に、一対の磁気コア半体ブロック33を正確に
位置決めして金属拡散接合を行う。
After the nonmagnetic film 8 is formed as described above, the pair of magnetic core half-blocks 33 is accurately positioned to perform metal diffusion bonding.

【0076】このとき、サイド溝32から臨む前部突合
せ面12の上端部同士を対向させることによって、正確
に位置決めする。このように、サイド溝32から臨む前
部突合せ面12の上端部を正確に対向させることによ
り、後部突合せ面13やコイル接続用端子17を正確に
対向させることができる。
At this time, the upper ends of the front butting surfaces 12 facing the side grooves 32 are opposed to each other, so that accurate positioning is achieved. In this way, by correctly opposing the upper end of the front butting surface 12 facing the side groove 32, the rear butting surface 13 and the coil connection terminal 17 can be accurately faced.

【0077】そして、突き合わせた一対の磁気コア半体
ブロック33に対して所定の温度及び圧力を印加するこ
とにより、非磁性膜8の非磁性金属層8b同士が拡散
し、一対の磁気コア半体ブロック33が接合一体化され
た磁気ヘッドブロック38を作製する。なお、本実施の
形態においては、350度の温度によって、一対の磁気
コア半体ブロック33に対して金属拡散接合を施した。
Then, by applying a predetermined temperature and pressure to the pair of magnetic core half blocks 33 that are abutted, the nonmagnetic metal layers 8b of the nonmagnetic film 8 diffuse, and a pair of magnetic core half A magnetic head block 38 in which the block 33 is joined and integrated is manufactured. In this embodiment, metal diffusion bonding is performed on the pair of magnetic core half blocks 33 at a temperature of 350 degrees.

【0078】次に、図13に示すように、磁気ヘッドブ
ロック38を個々の磁気ヘッド1に分離する。
Next, as shown in FIG. 13, the magnetic head block 38 is separated into the individual magnetic heads 1.

【0079】このとき、先ず、磁気ヘッドブロック38
を、磁気記録媒体が摺動する摺動面10となる表面を露
出するために、長手方向に切断加工する。そして、磁気
ヘッドブロック38の露出した表面に対して、円筒形を
呈するように円筒切削加工を施す。これにより、この表
面が磁気ヘッド1の摺動面10となる。その後、磁気ヘ
ッドブロック38に対して、当たり幅規制溝11を研削
加工する。当たり幅規制溝11は、磁気ヘッドブロック
38から分離される個々の磁気ヘッド1の摺動面10の
両側面に相当する部位に形成される。
At this time, first, the magnetic head block 38
Is cut in the longitudinal direction in order to expose a surface serving as a sliding surface 10 on which the magnetic recording medium slides. Then, the exposed surface of the magnetic head block 38 is subjected to cylindrical cutting so as to have a cylindrical shape. As a result, this surface becomes the sliding surface 10 of the magnetic head 1. Thereafter, the contact width regulating groove 11 is ground on the magnetic head block 38. The contact width regulating grooves 11 are formed at portions corresponding to both side surfaces of the sliding surface 10 of each magnetic head 1 separated from the magnetic head block 38.

【0080】そして、磁気ヘッドブロック38は、図1
3中B−B線で示す部分で切断することにより、個々の
磁気ヘッド1に分離する。
The magnetic head block 38 corresponds to FIG.
3 are separated into individual magnetic heads 1 by cutting at the portion indicated by the line BB.

【0081】本実施の形態においては、磁気ヘッド1の
フロントギャップ14が20度のアジマス角を有するよ
うに、摺動面10に対して研磨加工を行い、当たり幅規
制溝11を研削加工し、磁気ヘッドブロック38の切断
面を傾けて分離するとした。なお、磁気ヘッドブロック
38は、上述した摺動面10の研磨加工、当たり幅規制
溝11の研削加工及び個々の磁気ヘッド1に分離する切
断加工を、フロントギャップ14が所定のアジマス角を
有するように行えばよく、20度のアジマス角に限定さ
れるものではない。
In the present embodiment, the sliding surface 10 is polished so that the front gap 14 of the magnetic head 1 has an azimuth angle of 20 degrees, and the contact width regulating groove 11 is ground. It is assumed that the cut surface of the magnetic head block 38 is inclined and separated. The magnetic head block 38 performs the above-described polishing of the sliding surface 10, grinding of the contact width regulating groove 11, and cutting of the individual magnetic heads 1 so that the front gap 14 has a predetermined azimuth angle. The azimuth angle is not limited to 20 degrees.

【0082】なお、本実施の形態においては、一対の磁
気コア半体ブロック33を接合一体化して磁気ヘッドブ
ロック38とした後に個々の磁気ヘッド1に分離した
が、例えば、一対の磁気コア半体ブロック33を個々の
磁気コア半体に分離した後に、一対の磁気コア半体を接
合一体化して磁気ヘッド1を形成してもよい。
In the present embodiment, the pair of magnetic core half blocks 33 are joined and integrated to form a magnetic head block 38 and then separated into individual magnetic heads 1. After the block 33 is separated into individual magnetic core halves, the magnetic head 1 may be formed by joining and integrating a pair of magnetic core halves.

【0083】以下では、本発明の実施の形態に基づい
て、以下で示すような磁気ヘッドを作製した場合につい
て説明する。ここでは、非磁性酸化層を10nmの厚み
で設けた第1の磁気ヘッドと、非磁性酸化層を設けずに
作製した第2の磁気ヘッドとにおける再生出力を比較す
る。
Hereinafter, a case where a magnetic head as described below is manufactured based on the embodiment of the present invention will be described. Here, the reproduction output of the first magnetic head provided with the nonmagnetic oxide layer with a thickness of 10 nm and the reproduction output of the second magnetic head manufactured without the nonmagnetic oxide layer are compared.

【0084】第1の磁気ヘッドの非磁性膜の構成 非磁性金属層 : Au層 (層厚75nm) 非磁性下地層 : Cr層 (層厚15nm) 非磁性酸化層 : SiO2層 (層厚10nm) 第2の磁気ヘッドの非磁性膜の構成 非磁性金属層 : Au層 (層厚85nm) 非磁性下地層 : Cr層 (層厚15nm) 第1の磁気ヘッドと第2の磁気ヘッドとには、非磁性金
属層の付着力を高めるために、非磁性下地層を15nm
の厚みで設けた。また、非磁性金属層は、非磁性膜の全
膜厚が100nmとなるような厚みとし、第1の磁気ヘ
ッドにおいては75nm、第2の磁気ヘッドにおいては
85nmとした。
Structure of Non-magnetic Film of First Magnetic Head Non-magnetic metal layer: Au layer (layer thickness: 75 nm) Non-magnetic underlayer: Cr layer (layer thickness: 15 nm) Non-magnetic oxide layer: SiO 2 layer (layer thickness: 10 nm) Structure of Non-magnetic Film of Second Magnetic Head Non-magnetic metal layer: Au layer (layer thickness: 85 nm) Non-magnetic underlayer: Cr layer (layer thickness: 15 nm) The first magnetic head and the second magnetic head In order to enhance the adhesion of the non-magnetic metal layer, the non-magnetic underlayer is
The thickness was provided. The thickness of the nonmagnetic metal layer was such that the total thickness of the nonmagnetic film was 100 nm. The thickness was 75 nm for the first magnetic head and 85 nm for the second magnetic head.

【0085】これら第1の磁気ヘッドと第2の磁気ヘッ
ドとにより得られた再生出力を、図14に示す。また、
これら第1の磁気ヘッドと第2の磁気ヘッドとにおける
最適記録電流を、以下に示す。
FIG. 14 shows the reproduced output obtained by using the first magnetic head and the second magnetic head. Also,
The optimum recording currents for the first and second magnetic heads are shown below.

【0086】最適記録電流の比較 第1の磁気ヘッド : 23.4 (mVpp) 第2の磁気ヘッド : 25.7 (mVpp) 以上の結果から、第1の磁気ヘッドは、第2の磁気ヘッ
ドと比較して、全周波数帯域において再生出力が約2d
B向上したことがわかる。このことは、第1の磁気ヘッ
ドにおいては、非磁性膜に非磁性酸化層を設けたことに
よって、非磁性下地層が金属磁性薄膜へ拡散することが
防止され、磁気ギャップにおける磁気的な界面が明瞭に
形成されたためである。
Comparison of optimum recording currents First magnetic head: 23.4 (mVpp) Second magnetic head: 25.7 (mVpp) From the above results, the first magnetic head is different from the second magnetic head. In comparison, the reproduction output is about 2d in all frequency bands.
It turns out that B improved. This is because, in the first magnetic head, the non-magnetic underlayer is prevented from diffusing into the metal magnetic thin film by providing the non-magnetic oxide layer on the non-magnetic film, and the magnetic interface in the magnetic gap is reduced. This is because it was formed clearly.

【0087】また、第1の磁気ヘッドは、第2の磁気ヘ
ッドと比較して、小さな記録電流によって記録可能であ
ることがわかる。このことは、第1の磁気ヘッドにおい
て、磁気ギャップにおける磁気的な界面が明瞭に形成さ
れて、コア効率が向上したためである。
Further, it can be seen that the first magnetic head can perform recording with a smaller recording current than the second magnetic head. This is because in the first magnetic head, the magnetic interface in the magnetic gap was clearly formed, and the core efficiency was improved.

【0088】次に、本発明の実施の形態に基づき、非磁
性膜の非磁性酸化層によって非磁性下地層の金属磁性薄
膜への拡散が防止されることを評価する。ここでは、評
価試験用の基板上にFe−Ta−N合金により金属磁性
薄膜を形成し、この金属磁性薄膜上に以下に示すような
非磁性膜を形成した後、上述した実施の形態と同様に、
350度で熱処理した場合について説明する。
Next, based on the embodiment of the present invention, it will be evaluated that the nonmagnetic oxide layer of the nonmagnetic film prevents the nonmagnetic underlayer from diffusing into the metal magnetic thin film. Here, a metal magnetic thin film is formed from an Fe-Ta-N alloy on a substrate for an evaluation test, and a non-magnetic film as shown below is formed on the metal magnetic thin film, and the same as in the above-described embodiment. To
The case where the heat treatment is performed at 350 degrees will be described.

【0089】非磁性膜の構成 非磁性下地層 : Cr層 非磁性酸化層 : SiO2層 ここでは、非磁性膜における非磁性酸化層の層厚を、0
nm、1nm、2nm、4nm、7nm及び10nmと
して、それぞれの場合についてエッチングを施しなが
ら、X線照射による電子分光(ESCA:Electr
on Spectroscopy for Chemi
cal Analysis)を行った。各場合について
の、原子の拡散の様子を、図15、図16、図17、図
18、図19及び図20にそれぞれ示す。
Structure of Nonmagnetic Film Nonmagnetic Underlayer: Cr Layer Nonmagnetic Oxide Layer: SiO 2 Layer Here, the thickness of the nonmagnetic oxide layer in the nonmagnetic film is set to 0.
nm, 1 nm, 2 nm, 4 nm, 7 nm and 10 nm, while performing etching in each case, while performing electron spectroscopy (ESCA: Electr
on Spectroscopy for Chemi
cal Analysis). The state of diffusion of atoms in each case is shown in FIGS. 15, 16, 17, 18, 19, and 20, respectively.

【0090】この結果から、非磁性酸化層を0nmとし
た場合には、非磁性下地層のCrが、Fe−Ta−N合
金により形成された金属磁性薄膜へ深く拡散しているこ
とがわかる。ところが、非磁性酸化層の層厚が厚くなる
につれて、Crの金属磁性薄膜に対する拡散領域が減少
していることがわかる。
From this result, it can be seen that when the non-magnetic oxide layer is set to 0 nm, the Cr of the non-magnetic underlayer deeply diffuses into the metal magnetic thin film formed of the Fe-Ta-N alloy. However, it can be seen that the diffusion region of Cr to the metal magnetic thin film decreases as the thickness of the nonmagnetic oxide layer increases.

【0091】したがって、非磁性酸化層によって、非磁
性下地層が金属磁性薄膜へ拡散することを防止できるこ
とがわかる。また、拡散防止の効果を確実にあげるため
には、非磁性酸化層の層厚を4nm以上とすることが望
ましいことがわかる。
Therefore, it is understood that the nonmagnetic oxide layer can prevent the nonmagnetic underlayer from diffusing into the metal magnetic thin film. In addition, it can be seen that the thickness of the nonmagnetic oxide layer is desirably 4 nm or more in order to ensure the effect of preventing diffusion.

【0092】[0092]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る磁気
ヘッドは、磁気ギャップを形成する非磁性膜が、磁気コ
ア半体の一主面側から非磁性酸化層と非磁性金属層とを
この順で形成されて構成される。そのため、係る磁気ヘ
ッドは、非磁性膜における非磁性酸化層によって、非磁
性金属層が磁気コア半体上に成膜された金属磁性薄膜へ
拡散することを防止される。したがって、係る磁気ヘッ
ドは、磁気ギャップにおける磁気的な界面が明瞭とな
り、ヘッド特性が向上したものとなる。この結果、係る
磁気ヘッドは、高密度記録に対応して、記録再生特性に
優れたものとなる。
As described above, in the magnetic head according to the present invention, the non-magnetic film forming the magnetic gap includes the non-magnetic oxide layer and the non-magnetic metal layer from one main surface of the magnetic core half. They are formed in this order. Therefore, in the magnetic head, the nonmagnetic oxide layer in the nonmagnetic film prevents the nonmagnetic metal layer from diffusing into the metal magnetic thin film formed on the magnetic core half. Therefore, in such a magnetic head, the magnetic interface in the magnetic gap becomes clear, and the head characteristics are improved. As a result, such a magnetic head has excellent recording and reproducing characteristics corresponding to high-density recording.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る磁気ヘッドを示す分解斜視図であ
る。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing a magnetic head according to the present invention.

【図2】同磁気ヘッドの摺動面を示す要部斜視図であ
る。
FIG. 2 is a perspective view of a main part showing a sliding surface of the magnetic head.

【図3】同磁気ヘッドの非磁性膜を示す要部斜視図であ
る。
FIG. 3 is a perspective view of a main part showing a non-magnetic film of the magnetic head.

【図4】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であり、基板を示す斜視図である。
FIG. 4 is a view for explaining the method for manufacturing the magnetic head according to the present invention, and is a perspective view showing a substrate.

【図5】同方法を説明するための図であり、第1の溝加
工を施した基板を示す斜視図である。
FIG. 5 is a view for explaining the same method, and is a perspective view showing a substrate on which first groove processing has been performed.

【図6】同方法を説明するための図であり、金属磁性薄
膜を形成した基板を示す斜視図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining the same method, and is a perspective view showing a substrate on which a metal magnetic thin film is formed.

【図7】同方法を説明するための図であり、第2の溝加
工を施した基板を示す斜視図である。
FIG. 7 is a view for explaining the same method, and is a perspective view showing a substrate on which a second groove processing has been performed.

【図8】同方法を説明するための図であり、各溝に低融
点ガラスを充填した状態の基板を示す斜視図である。
FIG. 8 is a diagram for explaining the same method, and is a perspective view showing the substrate in a state where each groove is filled with low-melting glass.

【図9】同方法を説明するための図であり、低融点ガラ
スに端子溝を形成した基板を示す斜視図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining the same method, and is a perspective view showing a substrate in which terminal grooves are formed in low-melting glass.

【図10】同方法を説明するための図であり、コイル形
成用凹部を形成した基板を示す要部斜視図である。
FIG. 10 is a view for explaining the same method, and is a perspective view of a principal part showing a substrate on which a concave portion for forming a coil is formed.

【図11】同方法を説明するための図であり、磁気コア
半体ブロックを示す斜視図である。
FIG. 11 is a diagram for explaining the same method, and is a perspective view showing a magnetic core half block.

【図12】同方法を説明するための図であり、一対の磁
気コア半体ブロックを突き合わせる状態を示す斜視図で
ある。
FIG. 12 is a diagram for explaining the same method, and is a perspective view showing a state where a pair of magnetic core half blocks are butted.

【図13】同方法を説明するための図であり、磁気ヘッ
ドブロックを示す斜視図である。
FIG. 13 is a diagram for explaining the same method, and is a perspective view showing a magnetic head block.

【図14】非磁性酸化層の有無による磁気ヘッドの再生
出力の特性を示す特性図である。
FIG. 14 is a characteristic diagram showing characteristics of a reproduction output of a magnetic head depending on the presence or absence of a nonmagnetic oxide layer.

【図15】非磁性酸化層を形成しない場合の非磁性下地
層の金属磁性薄膜への拡散を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing diffusion of a nonmagnetic underlayer into a metal magnetic thin film when a nonmagnetic oxide layer is not formed.

【図16】非磁性酸化層を1nmとした場合の非磁性下
地層の金属磁性薄膜への拡散を示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing diffusion of a nonmagnetic underlayer into a metal magnetic thin film when a nonmagnetic oxide layer is 1 nm.

【図17】非磁性酸化層を2nmとした場合の非磁性下
地層の金属磁性薄膜への拡散を示す図である。
FIG. 17 is a diagram showing diffusion of a nonmagnetic underlayer into a metal magnetic thin film when a nonmagnetic oxide layer is 2 nm.

【図18】非磁性酸化層を4nmとした場合の非磁性下
地層の金属磁性薄膜への拡散を示す図である。
FIG. 18 is a diagram showing diffusion of a nonmagnetic underlayer into a metal magnetic thin film when a nonmagnetic oxide layer is 4 nm.

【図19】非磁性酸化層を7nmとした場合の非磁性下
地層の金属磁性薄膜への拡散を示す図である。
FIG. 19 is a diagram showing diffusion of a nonmagnetic underlayer into a metal magnetic thin film when a nonmagnetic oxide layer is 7 nm.

【図20】非磁性酸化層を10nmとした場合の非磁性
下地層の金属磁性薄膜への拡散を示す図である。
FIG. 20 is a diagram showing diffusion of a nonmagnetic underlayer into a metal magnetic thin film when a nonmagnetic oxide layer is 10 nm.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 磁気ヘッド、2,3 磁気コア半体、4 非磁性基
板、4a 傾斜面、5金属磁性薄膜、5a 凹部、6
低融点ガラス、8 非磁性膜、8a 非磁性金属層、8
b 非磁性酸化層、9 磁気コア、10 摺動面、11
当たり幅規制溝、12 前部突合せ面、13 後部突
合せ面、14 フロントギャップ、15 バックギャッ
プ、16 コイル形成用凹部、18 端子溝
Reference Signs List 1 magnetic head, 2, 3 magnetic core half, 4 non-magnetic substrate, 4a inclined surface, 5 metal magnetic thin film, 5a concave portion, 6
Low melting point glass, 8 non-magnetic film, 8a non-magnetic metal layer, 8
b Non-magnetic oxide layer, 9 magnetic core, 10 sliding surface, 11
Contact width regulating groove, 12 front butting surface, 13 rear butting surface, 14 front gap, 15 back gap, 16 coil forming recess, 18 terminal groove

フロントページの続き (72)発明者 斎藤 正 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5D111 BB12 CC22 DD04 FF12 JJ05 KK05 Continued on the front page (72) Inventor Tadashi Saito 6-7-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation F-term (reference) 5D111 BB12 CC22 DD04 FF12 JJ05 KK05

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に金属磁性薄膜が斜めに成膜され
るとともに、薄膜コイルが形成された凹部を有し、非磁
性材料により突合せ面が平坦化されてなる一対の磁気コ
ア半体を備え、上記金属磁性薄膜の端面同士が非磁性膜
を介して対向するように突き合わされて磁気ギャップが
形成された磁気ヘッドにおいて、 上記非磁性膜は、上記磁気コア半体の突合せ面側から、
非磁性酸化層と、非磁性金属層とがこの順で形成されて
なることを特徴とする磁気ヘッド。
1. A pair of magnetic core halves having a metal magnetic thin film formed obliquely on a substrate, having a concave portion in which a thin film coil is formed, and having a butted surface made flat by a nonmagnetic material. A magnetic head in which a magnetic gap is formed by abutting the end faces of the metal magnetic thin film so as to face each other via a non-magnetic film, wherein the non-magnetic film is formed from the butting surface side of the magnetic core half.
A magnetic head comprising a non-magnetic oxide layer and a non-magnetic metal layer formed in this order.
【請求項2】 上記非磁性金属層は、Au,Ag,P
d,Ptから選ばれる少なくとも一種であることを特徴
とする請求項1記載の磁気ヘッド。
2. The method according to claim 1, wherein the nonmagnetic metal layer comprises Au, Ag, P
2. The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic head is at least one selected from d and Pt.
【請求項3】 上記非磁性酸化層は、SiO2,Al2
3,TiO2から選ばれる少なくとも一種であることを特
徴とする請求項1記載の磁気ヘッド。
3. The non-magnetic oxide layer is made of SiO 2 , Al 2 O.
3, the magnetic head according to claim 1, wherein the at least one selected from TiO 2.
【請求項4】 上記非磁性酸化層と上記非磁性金属層と
の間には、当該非磁性酸化層と当該非磁性金属層との付
着力を高めるための非磁性下地層が設けられたことを特
徴とする請求項1記載の磁気ヘッド。
4. A non-magnetic underlayer for increasing the adhesion between the non-magnetic oxide layer and the non-magnetic metal layer is provided between the non-magnetic oxide layer and the non-magnetic metal layer. The magnetic head according to claim 1, wherein:
【請求項5】 上記非磁性下地層は、Cr,Ti,Cu
から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請
求項4記載の磁気ヘッド。
5. The non-magnetic underlayer according to claim 1, wherein the nonmagnetic underlayer comprises Cr, Ti, Cu.
The magnetic head according to claim 4, wherein the magnetic head is at least one selected from the group consisting of:
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