JP2000105903A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

Info

Publication number
JP2000105903A
JP2000105903A JP10276118A JP27611898A JP2000105903A JP 2000105903 A JP2000105903 A JP 2000105903A JP 10276118 A JP10276118 A JP 10276118A JP 27611898 A JP27611898 A JP 27611898A JP 2000105903 A JP2000105903 A JP 2000105903A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
film
thin film
magnetic head
magnetic core
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP10276118A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiichi Ogata
誠一 小形
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP10276118A priority Critical patent/JP2000105903A/en
Publication of JP2000105903A publication Critical patent/JP2000105903A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make the abutting parts of a pair of magnetic core halves adhere closely to each other without a space by forming a magnetic gap with the end faces of a metallic magnetic thin film abutted on each other through a nonmagnetic film, and forming this nonmagnetic film over the total width on the sliding face of a magnetic recording medium. SOLUTION: With a pair of magnetic core halves joined through a nonmagnetic film 8, a metallic magnetic thin film 5 forms a magnetic core 9. In this case, the nonmagnetic film 8 serves a function of jointly incorporating the pair of magnetic core halves. On the sliding face 10, the nonmagnetic film 8 is formed over the total width of this sliding face 10 as well as the front gap 14; hence, the magnetic head is formed in the shape of a smooth circular arc, with the sliding face 10 having no difference in level. In addition, the magnetic head, having a large area with the nonmagnetic film 8 formed, is strong in the joining strength through the metallic diffusion welding of this nonmagnetic film 8.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属磁性薄膜によ
り磁路を形成してなる磁気ヘッドに関し、詳しくは、金
属拡散接合により一対の磁気コア半体が接合一体化され
た磁気ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head having a magnetic path formed by a metal magnetic thin film, and more particularly, to a magnetic head in which a pair of magnetic core halves are joined and integrated by metal diffusion bonding.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ヘッドは、例えばビデオテープレコ
ーダ(VTR)等の磁気記録再生装置に搭載されて、磁
気記録媒体に対して情報信号の記録及び/又は再生(以
下、記録再生という。)を行うものである。
2. Description of the Related Art A magnetic head is mounted on a magnetic recording / reproducing device such as a video tape recorder (VTR), and records and / or reproduces information signals on a magnetic recording medium (hereinafter referred to as recording / reproducing). Is what you do.

【0003】磁気ヘッドにおいては、単結晶フェライト
等からなる一対の磁気コア半体のそれぞれの磁気ギャッ
プ形成面に金属磁性薄膜を成膜し、この一対の磁気コア
半体を磁気ギャップ形成面を突き合わせて接合一体化し
てなる、いわゆるメタル・イン・ギャップ(MIG)型
磁気ヘッドや、非磁性セラミック基板で金属磁性薄膜を
挟み込んだ形の、いわゆる積層型磁気ヘッドが提案さ
れ、実用化されている。
In a magnetic head, a metal magnetic thin film is formed on each magnetic gap forming surface of a pair of magnetic core halves made of single crystal ferrite or the like, and the pair of magnetic core halves are joined to the magnetic gap forming surfaces. A so-called metal-in-gap (MIG) type magnetic head, which is integrated by bonding together, and a so-called laminated type magnetic head in which a metal magnetic thin film is sandwiched between nonmagnetic ceramic substrates have been proposed and put into practical use.

【0004】磁気ヘッドは、磁気記録の分野における記
録信号の高密度化やデジタル化に対応するために、より
高周波帯域で良好な電磁変換特性を示すことができるも
のが望まれている。また、VTR用の磁気ヘッドとして
は、小さなドラムに複数個搭載して装置の小型化・高性
能化に対応するために、小型化されることが望まれてい
る。
[0004] In order to cope with higher density and digitization of a recording signal in the field of magnetic recording, a magnetic head that can exhibit good electromagnetic conversion characteristics in a higher frequency band is desired. Further, it is desired that a magnetic head for a VTR be miniaturized in order to cope with miniaturization and high performance of the apparatus by mounting a plurality of magnetic heads on a small drum.

【0005】上述したMIG型磁気ヘッドは、インピー
ダンスが大きく高周波帯域での使用に適さない。また、
積層型磁気ヘッドは、記録信号の高密度化によるトラッ
ク幅の減少に伴い、磁路を構成する金属磁性薄膜の膜厚
を減少させる必要があるため、再生効率が低下してしま
う上に、ヘッドの小型化にも限界がある。
The above-described MIG type magnetic head has a large impedance and is not suitable for use in a high frequency band. Also,
The stacked magnetic head requires a reduction in the thickness of the metal magnetic thin film forming the magnetic path with a decrease in the track width due to an increase in the density of the recording signal. There is a limit to miniaturization.

【0006】そこで、磁気ヘッドにおいては、高周波帯
域で良好な電磁変換特性を示すことのできる磁気ヘッド
として、例えば特開平6−259717号公報「磁気ヘ
ッド及びその製造方法」に記載されているように、薄膜
形成工程により作製して磁気コアの磁路を短くすること
によりインピーダンスを小さくした、いわゆるバルク薄
膜型磁気ヘッドが提案されている。
Therefore, as a magnetic head capable of exhibiting good electromagnetic conversion characteristics in a high frequency band, for example, as described in JP-A-6-259717, "Magnetic head and its manufacturing method". A so-called bulk thin-film magnetic head has been proposed in which the impedance is reduced by shortening the magnetic path of a magnetic core manufactured by a thin-film forming process.

【0007】このバルク薄膜型磁気ヘッドは、非磁性基
板に磁気コアとして金属磁性薄膜が形成されてなる一対
の磁気コア半体が、非磁性膜を介して金属磁性薄膜同士
を接合一体化され、これら金属磁性薄膜間に磁気ギャッ
プが形成されてなる。そして、このバルク薄膜型磁気ヘ
ッドは、一対の磁気コア半体のうち少なくとも一方の磁
気コア半体の接合面にコイル形成用凹部が形成され、こ
のコイル形成用凹部に薄膜コイルが形成されてなる。
In this bulk thin film type magnetic head, a pair of magnetic core halves each having a metal magnetic thin film formed as a magnetic core on a nonmagnetic substrate are joined and integrated with each other via the nonmagnetic film. A magnetic gap is formed between these metal magnetic thin films. In this bulk thin-film magnetic head, a coil-forming recess is formed on a joining surface of at least one of the pair of magnetic core halves, and a thin-film coil is formed in the coil-forming recess. .

【0008】バルク薄膜型磁気ヘッドは、磁気コアを形
成する金属磁性薄膜が斜めに成膜された非磁性基板に対
してガラス等の非磁性材料が充填され、この非磁性材料
に形成された凹部に薄膜コイルが形成される等して一対
の磁気コア半体が形成されている。一対の磁気コア半体
は、互いの突合せ面に対して平坦化処理を施された後、
磁気ギャップとしての非磁性膜を成膜される。そして、
一対の磁気コア半体は、それぞれの突合せ面に形成され
た非磁性膜を金属拡散接合されることにより、バルク薄
膜型磁気ヘッドを構成する。
In a bulk thin film type magnetic head, a nonmagnetic substrate such as glass is filled in a nonmagnetic substrate on which a metal magnetic thin film forming a magnetic core is formed obliquely, and a concave portion formed in the nonmagnetic material is formed. A pair of magnetic core halves is formed, for example, by forming a thin film coil. After a pair of magnetic core halves are subjected to a flattening process with respect to each other,
A non-magnetic film as a magnetic gap is formed. And
The pair of magnetic core halves constitute a bulk thin-film magnetic head by metal-diffusion bonding of a non-magnetic film formed on each abutting surface.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来のバル
ク薄膜型磁気ヘッドにおいては、一対の磁気コア半体の
突合せ面に対して平坦化処理を施した際に、充填された
ガラス等の非磁性材料と、薄膜コイル同士の接合部との
研削レートが異なるために、それぞれの間で100nm
程度の段差が生じてしまう。
However, in a conventional bulk thin-film magnetic head, when a flattening process is performed on the abutting surfaces of a pair of magnetic core halves, a non-magnetic material such as a filled glass is used. Because the material and the grinding rate of the joint between the thin-film coils are different, 100 nm
A level difference occurs.

【0010】そのため、従来のバルク薄膜型磁気ヘッド
は、この磁気ギャップの接合工程において実質的に接合
される部位が、対向する金属磁性薄膜の端面同士と、薄
膜コイル同士の接合部のみであった。
For this reason, in the conventional bulk thin film magnetic head, the portions to be substantially joined in the joining step of the magnetic gap are only the joints between the end faces of the opposed metal magnetic thin films and the thin film coils. .

【0011】したがって、従来のバルク薄膜型磁気ヘッ
ドは、これら対向する金属磁性薄膜の端面同士と、薄膜
コイル同士の接合部のみに磁気ギャップとしての非磁性
膜が形成されていた。そして、従来のバルク薄膜型磁気
ヘッドは、非磁性膜が金属拡散接合される面積が小さい
ことによる一対の磁気コア半体の接合強度不足を補うた
めに、磁気コアのバックギャップ側に相当する磁気コア
半体の突合せ面周辺に接着剤等を塗布して接合し、補強
されていた。
Therefore, in the conventional bulk thin film magnetic head, a nonmagnetic film as a magnetic gap is formed only at the end faces of the metal magnetic thin films facing each other and only at the junction between the thin film coils. The conventional bulk thin-film magnetic head uses a magnetic field corresponding to the back gap side of the magnetic core to compensate for the insufficient bonding strength of the pair of magnetic core halves due to the small area where the non-magnetic film is subjected to metal diffusion bonding. An adhesive or the like was applied to the periphery of the butted surface of the core halves to be joined and reinforced.

【0012】しかしながら、上述のように作製された従
来のバルク薄膜型磁気ヘッドは、図15に示すように、
磁気記録媒体の摺動面をみたときに、磁気ギャップ、す
なわち非磁性膜101が形成された一対の磁気コア半体
102,103の突合せ部において、金属磁性薄膜10
4から外れた位置に、空隙105を有することとなって
しまう。そのため、従来のバルク薄膜型磁気ヘッドは、
磁気記録媒体を摺動面に摺動させて記録信号を記録再生
する際に、この空隙に磁気記録媒体の摩耗粉等が蓄積さ
れてしまい、この摩耗粉等によって磁気記録媒体が傷つ
いてしまうといった問題があった。
However, the conventional bulk thin-film magnetic head manufactured as described above has a structure as shown in FIG.
When the sliding surface of the magnetic recording medium is viewed, the magnetic gap, that is, the butting portion of the pair of magnetic core halves 102 and 103 where the nonmagnetic film 101 is formed,
In other words, the air gap 105 is provided at a position deviating from the position 4. Therefore, the conventional bulk thin film magnetic head is
When a magnetic recording medium is slid on a sliding surface to record and reproduce a recording signal, abrasion powder or the like of the magnetic recording medium is accumulated in the gap, and the abrasion powder or the like damages the magnetic recording medium. There was a problem.

【0013】そこで、本発明は、上述した問題を解決し
て、磁気記録媒体に対して記録信号を記録再生する際
に、この磁気記録媒体を傷つけてしまうことのない磁気
ヘッドを提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problem, and to provide a magnetic head which does not damage the magnetic recording medium when recording and reproducing a recording signal on the magnetic recording medium. Aim.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために、本発明に係る磁気ヘッドは、基板上に金属磁性
薄膜が斜めに成膜されるとともに、薄膜コイルが形成さ
れた凹部を有し、非磁性材料により突合せ面が平坦化さ
れてなる一対の磁気コア半体を備え、上記金属磁性薄膜
の端面同士が非磁性膜を介して対向するように突き合わ
されて磁気ギャップが形成されてなり、上記非磁性膜
は、磁気記録媒体摺動面において、全幅に亘って形成さ
れてなる。
In order to achieve the above-mentioned object, a magnetic head according to the present invention comprises a metal magnetic thin film formed obliquely on a substrate and a concave portion formed with a thin-film coil. The magnetic magnetic thin film includes a pair of magnetic core halves each having a flat butted surface made of a nonmagnetic material, and a magnetic gap formed by abutting the metal magnetic thin films so that the end surfaces thereof face each other via the nonmagnetic film. The non-magnetic film is formed over the entire width of the sliding surface of the magnetic recording medium.

【0015】以上のように構成された本発明に係る磁気
ヘッドは、磁気記録媒体の摺動面上で、一対の磁気コア
半体の突合せ部が空隙を生じることなく密着する。した
がって、係る磁気ヘッドは、一対の磁気コア半体の突合
せ部に磁気記録媒体の摩耗粉等が蓄積されることがな
く、磁気記録媒体に対して記録信号を記録再生する際
に、この磁気記録媒体を傷つけてしまうことがない。
In the magnetic head according to the present invention configured as described above, the butted portions of the pair of magnetic core halves are brought into close contact with each other on the sliding surface of the magnetic recording medium without forming a gap. Therefore, the magnetic head does not accumulate abrasion powder or the like of the magnetic recording medium in the butted portion of the pair of magnetic core halves, and when recording and reproducing a recording signal on the magnetic recording medium, No damage to the media.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。以下では、図
1及び図2に示すような磁気ヘッド1について説明する
こととする。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. Hereinafter, the magnetic head 1 as shown in FIGS. 1 and 2 will be described.

【0017】本発明に係る磁気ヘッド1は、金属拡散接
合により接合された一対の磁気コア半体2,3から構成
されている。一対の磁気コア半体2,3は、MnO−N
iO系の非磁性材料からなる非磁性基板4と、この非磁
性基板4の傾斜面4a上に形成された金属磁性薄膜5
と、この非磁性基板4上に金属磁性薄膜5を覆うように
形成された低融点ガラス6とからそれぞれ形成されてい
る。また、一対の磁気コア半体2,3は、少なくとも一
方に、励磁用及び/又は誘導起電圧検出用の薄膜コイル
7が形成されてなる。
The magnetic head 1 according to the present invention comprises a pair of magnetic core halves 2 and 3 joined by metal diffusion bonding. The pair of magnetic core halves 2 and 3 are made of MnO—N
a non-magnetic substrate 4 made of an iO-based non-magnetic material, and a metal magnetic thin film 5 formed on an inclined surface 4a of the non-magnetic substrate 4
And a low melting point glass 6 formed on the non-magnetic substrate 4 so as to cover the metal magnetic thin film 5. Further, at least one of the pair of magnetic core halves 2 and 3 is formed with a thin-film coil 7 for excitation and / or detection of an induced electromotive force.

【0018】磁気ヘッド1においては、一対の磁気コア
半体2,3が非磁性膜8を介して接合された状態で、金
属磁性薄膜5が、図2(ただし、図2においては、薄膜
コイル7を図示しない。)に示すように、磁気コア9を
形成する。磁気ヘッド1は、図2中矢印Aで示す方向に
磁気記録媒体が摺動することにより、磁気記録媒体に記
録された信号磁界を磁気コア9が再生し、又は信号磁界
を磁気コア9が磁気記録媒体に記録して動作する。
In the magnetic head 1, in a state where the pair of magnetic core halves 2 and 3 are joined via the non-magnetic film 8, the metal magnetic thin film 5 is formed as shown in FIG. The magnetic core 9 is formed as shown in FIG. In the magnetic head 1, when the magnetic recording medium slides in a direction indicated by an arrow A in FIG. 2, the magnetic core 9 reproduces the signal magnetic field recorded on the magnetic recording medium, or the magnetic core 9 generates the signal magnetic field. It operates by recording on a recording medium.

【0019】また、この磁気ヘッド1は、磁気記録媒体
との当たり状態を調節するために、磁気記録媒体の摺動
面10が、図2中矢印Aで示した磁気記録媒体の摺動方
向と平行に、円弧状に形成される。また、この磁気ヘッ
ド1は、磁気記録媒体との接触面積を調節するために、
当たり幅規制溝11が形成されている。この当たり幅規
制溝11は、磁気記録媒体の摺動方向Aと平行に、磁気
ヘッド1の両側面に形成されている。
In order to adjust the contact state of the magnetic head 1 with the magnetic recording medium, the sliding surface 10 of the magnetic recording medium is moved in the direction of sliding of the magnetic recording medium indicated by an arrow A in FIG. It is formed in an arc shape in parallel. The magnetic head 1 is used to adjust the contact area with the magnetic recording medium.
A contact width regulating groove 11 is formed. The contact width regulating grooves 11 are formed on both side surfaces of the magnetic head 1 in parallel with the sliding direction A of the magnetic recording medium.

【0020】この磁気ヘッド1において、金属磁性薄膜
5は、センダスト(Fe−Al−Si合金)等の軟磁性
を示す材料により成膜される。金属磁性薄膜5は、非磁
性基板4上に所定の角度を以て斜めに形成された傾斜面
4a上に形成されている。このため、磁気コア9は、金
属磁性薄膜5が形成された一対の磁気コア半体2,3が
非磁性膜8を介して接合されると、図2に示すように、
磁気記録媒体の摺動方向Aに対して斜めに配されること
となる。
In the magnetic head 1, the metal magnetic thin film 5 is formed of a material exhibiting soft magnetism such as sendust (Fe-Al-Si alloy). The metal magnetic thin film 5 is formed on an inclined surface 4 a formed obliquely at a predetermined angle on the non-magnetic substrate 4. Therefore, when the pair of magnetic core halves 2 and 3 on which the metal magnetic thin film 5 is formed are joined via the non-magnetic film 8, the magnetic core 9 becomes as shown in FIG.
It is arranged obliquely to the sliding direction A of the magnetic recording medium.

【0021】また、この金属磁性薄膜5は、その断面形
状が略コ字状を呈するように構成されている。すなわ
ち、金属磁性薄膜5は、磁気コア半体2,3の接合面2
a,3a側の端面の略中心部が凹部5aとされてなる。
The metal magnetic thin film 5 is configured so that its cross section has a substantially U-shape. That is, the metal magnetic thin film 5 is formed on the joining surface 2 of the magnetic core halves 2 and 3.
A substantially central portion of the end surfaces on the sides a and 3a is formed as a concave portion 5a.

【0022】このため、金属磁性薄膜5は、磁気コア半
体2,3の接合面2a,3aに前後方向に分断されて低
融点ガラス6から露出する、前部突合せ面12と後部突
合せ面13とを有することとなる。そして、一方の磁気
コア半体2の前部突合せ面12と、他方の磁気コア半体
3の前部突合せ面12とは、非磁性膜8を介して突き合
わされてフロントギャップ14を構成する。また、一方
の磁気コア半体2の後部突合せ面13と、他方の磁気コ
ア半体3の後部突合せ面13とは、非磁性膜8を介して
突き合わされてバックギャップ15を構成する。
For this reason, the metal magnetic thin film 5 is divided by the joining surfaces 2 a and 3 a of the magnetic core halves 2 and 3 in the front-rear direction and is exposed from the low melting point glass 6. And has the following. The front butting surface 12 of one magnetic core half 2 and the front butting surface 12 of the other magnetic core half 3 are butted with the nonmagnetic film 8 interposed therebetween to form a front gap 14. Also, the rear butting surface 13 of one magnetic core half 2 and the rear butting surface 13 of the other magnetic core half 3 are butted via the nonmagnetic film 8 to form a back gap 15.

【0023】また、金属磁性薄膜5には、接合面2a,
3aに、後部突合せ面13を略中心とした薄膜コイル7
が内部に形成されたコイル形成用凹部16を有する。こ
のコイル形成用凹部16には、後部突合せ面13の近傍
にコイル接続用端子17が形成されている。薄膜コイル
7は、このコイル形成用凹部16内に形成されて、中心
側の端部がコイル接続用端子17に接続されている。
The metal magnetic thin film 5 has a bonding surface 2a,
3a, the thin film coil 7 having the rear butting surface 13 substantially at the center.
Has a coil forming recess 16 formed therein. A coil connection terminal 17 is formed in the coil forming recess 16 near the rear butting surface 13. The thin-film coil 7 is formed in the coil-forming recess 16, and the end on the center side is connected to the coil connection terminal 17.

【0024】コイル接続用端子17は、一対の磁気コア
半体2,3の接合面2a,3aと同一面を構成するよう
にそれぞれ高さ調節されて形成されている。そして、磁
気ヘッド1においては、一対の磁気コア半体2,3が接
合されると、一対のコイル接続用端子17も接合される
こととなる。これにより、この磁気ヘッド1において
は、一対の磁気コア半体2,3が接合されると、一対の
薄膜コイル7が電気的に接続されることとなる。
The coil connection terminals 17 are formed with their heights adjusted so as to form the same surfaces as the joining surfaces 2a, 3a of the pair of magnetic core halves 2, 3. In the magnetic head 1, when the pair of magnetic core halves 2 and 3 are joined, the pair of coil connecting terminals 17 are also joined. Thus, in the magnetic head 1, when the pair of magnetic core halves 2 and 3 are joined, the pair of thin-film coils 7 are electrically connected.

【0025】また、薄膜コイル7の外周側の端部は、記
録媒体の摺動面10とは反対側へ導出されている。一対
の磁気コア半体2,3には、記録媒体の摺動面10とは
反対側に、外部接続用端子18がそれぞれ形成されてい
る。そして、薄膜コイル7の外周側の端部は、この外部
接続用端子18と接続されている。
The outer peripheral end of the thin-film coil 7 is led out to the side opposite to the sliding surface 10 of the recording medium. External connection terminals 18 are formed on the pair of magnetic core halves 2 and 3 on the side opposite to the sliding surface 10 of the recording medium. The outer peripheral end of the thin-film coil 7 is connected to the external connection terminal 18.

【0026】これら外部接続用端子18は、磁気ヘッド
1の側面に露出することによって、外部と薄膜コイル7
とを電気的に接続することができる。これら一対の外部
接続用端子18は、一対の磁気コア半体2,3を接合し
た際に短絡を発生させないように、一対の磁気コア半体
の2,3における高さが異なる位置にそれぞれ形成され
ている。
The external connection terminals 18 are exposed to the side surface of the magnetic head 1 so that they can be connected to the outside by the thin film coil 7.
And can be electrically connected. The pair of external connection terminals 18 are formed at positions where the heights of the pair of magnetic core halves 2 and 3 are different so that a short circuit does not occur when the pair of magnetic core halves 2 and 3 are joined. Have been.

【0027】非磁性膜8は、磁気ヘッド1において、上
述したように、一対の磁気コア半体2,3の前部突合せ
面12同士と後部突合せ面13同士との間に成膜されて
いることにより、磁気コア9のフロントギャップ14と
バックギャップ15としての機能を果たしている。ま
た、非磁性膜8は、一対の磁気コア半体2,3の接合面
2a,3aにそれぞれ成膜されて、後述するように金属
拡散接合を施されることにより、一対の磁気コア半体
2,3を接合一体化する機能を果たしている。
The nonmagnetic film 8 is formed between the front butting surfaces 12 and the rear butting surfaces 13 of the pair of magnetic core halves 2 and 3 in the magnetic head 1 as described above. Thereby, the magnetic core 9 functions as the front gap 14 and the back gap 15. The non-magnetic film 8 is formed on the bonding surfaces 2a and 3a of the pair of magnetic core halves 2 and 3, respectively, and is subjected to metal diffusion bonding, as described later, to thereby form the pair of magnetic core halves. It has the function of joining and integrating the two and three.

【0028】ところで、磁気ヘッド1においては、図3
に示すように、摺動面10上で非磁性膜8が、フロント
ギャップ14のみならず、この摺動面10の全幅に亘っ
て形成されている。そのため、磁気ヘッド1は、摺動面
10が段差を有することなく、なめらかな円弧状に形成
されている。
By the way, in the magnetic head 1, FIG.
As shown in FIG. 2, the non-magnetic film 8 is formed on the sliding surface 10 over the entire width of the sliding surface 10 as well as the front gap 14. Therefore, the magnetic head 1 is formed in a smooth circular arc shape without the sliding surface 10 having a step.

【0029】したがって、磁気ヘッド1は、磁気記録媒
体が摺動面10を摺動した際に、この摺動面10に磁気
記録媒体の摩耗粉等が蓄積されてしまうといったことが
ない。そのため、磁気ヘッド1は、この摩耗粉等により
磁気記録媒体を傷つけてしまうことがない。
Therefore, in the magnetic head 1, when the magnetic recording medium slides on the sliding surface 10, wear particles of the magnetic recording medium do not accumulate on the sliding surface 10. Therefore, the magnetic head 1 does not damage the magnetic recording medium due to the abrasion powder or the like.

【0030】また、磁気ヘッド1は、従来のバルク薄膜
型磁気ヘッドと比較して、非磁性膜8が形成された面積
が大きいために、この非磁性膜8の金属拡散結合による
接合強度が強い。
Further, since the magnetic head 1 has a larger area in which the non-magnetic film 8 is formed as compared with the conventional bulk thin-film type magnetic head, the bonding strength of the non-magnetic film 8 by metal diffusion bonding is higher. .

【0031】したがって、磁気ヘッド1は、一対の磁気
コア半体2,3が接合後に分離する、いわゆるチップ割
れが生じてしまうことを防止することができる。そのた
め、磁気ヘッド1は、製造する際に歩留まりを向上する
ことができる。
Therefore, the magnetic head 1 can prevent the pair of magnetic core halves 2 and 3 from being separated after joining, that is, so-called chip cracking. Therefore, the yield of the magnetic head 1 can be improved when it is manufactured.

【0032】なお、この磁気ヘッド1において、非磁性
基板4は、MnO−NiO系の非磁性材料からなるとし
たが、係る構成に限定されるものではない。非磁性基板
4は、チタン酸カルシウム、チタン酸バリウム、酸化ジ
ルコニウム(ジルコニア)、アルミナ、アルミナチタン
カーバイド、SiO2、Znフェライト、結晶化ガラス
又は高硬度ガラス等からなるものであればよい。
In the magnetic head 1, the non-magnetic substrate 4 is made of a MnO-NiO-based non-magnetic material, but the present invention is not limited to this configuration. The nonmagnetic substrate 4 may be made of calcium titanate, barium titanate, zirconium oxide (zirconia), alumina, alumina titanium carbide, SiO 2 , Zn ferrite, crystallized glass, high hardness glass, or the like.

【0033】また、この磁気ヘッド1において、非磁性
基板4には、傾斜面4aが所定の角度を以て斜めに形成
されるとしたが、この傾斜面4aを、例えば円形状や多
角形状に形成してもよい。ただし、傾斜面4aは、45
度程度の角度を以て形成されることが望ましい。これに
より、磁気ヘッド1は、トラック幅精度が向上する。
In the magnetic head 1, the non-magnetic substrate 4 has the inclined surface 4a formed obliquely at a predetermined angle. However, the inclined surface 4a is formed in a circular or polygonal shape, for example. You may. However, the slope 4a is 45
It is desirable to form at an angle of about degrees. Thereby, the track width accuracy of the magnetic head 1 is improved.

【0034】さらに、この磁気ヘッド1において、金属
磁性薄膜5は、センダスト(Fe−Al−Si合金)等
の軟磁性を示す材料により成膜されるとしたが、係る構
成に限定されるものではない。金属磁性薄膜5は、例え
ば、Fe−Ta−N合金、Fe−Al合金、Fe−Si
−Co合金、Fe−Ga−Si合金、Fe−Ga−Si
−Ru合金、Fe−Al−Ge合金、Fe−Ga−Ge
合金、Fe−Si−Ge合金、Fe−Co−Si−Al
合金、Fe−Ni合金等の結晶質合金からなるものであ
ればよい。あるいは、金属磁性薄膜5は、Fe,Co,
Niのうちの1以上の元素とP,C,B,Siのうちの
1以上の元素とからなる合金、又はこれを主成分としA
l,Ge,Be,Sn,In,Mo,W,Ti,Mn,
Cr,Zr,Hf,Nb等を含んだ合金等に代表される
メタル−メタロイド系アモルファス合金や、Co,H
f,Zr等の遷移金属と希土類元素を主成分とするメタ
ル−メタル系アモルファス合金等の非晶質合金からなる
ようなものであってもよい。さらに、金属磁性薄膜5
は、窒化系軟磁性合金又は炭化系軟磁性合金等であって
もよい。
Further, in the magnetic head 1, the metal magnetic thin film 5 is formed of a material exhibiting soft magnetism such as Sendust (Fe-Al-Si alloy), but the present invention is not limited to such a structure. Absent. The metal magnetic thin film 5 is made of, for example, Fe-Ta-N alloy, Fe-Al alloy, Fe-Si
-Co alloy, Fe-Ga-Si alloy, Fe-Ga-Si
-Ru alloy, Fe-Al-Ge alloy, Fe-Ga-Ge
Alloy, Fe-Si-Ge alloy, Fe-Co-Si-Al
An alloy or a crystalline alloy such as an Fe—Ni alloy may be used. Alternatively, the metal magnetic thin film 5 is made of Fe, Co,
An alloy composed of one or more elements of Ni and one or more elements of P, C, B, Si, or
1, Ge, Be, Sn, In, Mo, W, Ti, Mn,
Metal-metalloid amorphous alloys typified by alloys containing Cr, Zr, Hf, Nb, etc .;
It may be made of an amorphous alloy such as a metal-metal amorphous alloy containing a transition metal such as f or Zr and a rare earth element as main components. Further, the metal magnetic thin film 5
May be a nitrided soft magnetic alloy or a carbonized soft magnetic alloy.

【0035】また、金属磁性薄膜5は、単一層からなる
金属磁性薄膜により構成されてもよいが、非磁性薄膜層
5bと磁性薄膜層5cとを交互に積層した構成にするこ
とが望ましい。このことにより、磁気ヘッド1は、より
高周波領域において、感度が高いものとすることができ
る。なお、図3の例示では、3層の磁性薄膜層5cを有
する磁気ヘッド1を示した。
The metal magnetic thin film 5 may be constituted by a metal magnetic thin film composed of a single layer. However, it is preferable that the metal magnetic thin film 5b and the magnetic thin film layer 5c are alternately laminated. Thus, the magnetic head 1 can have high sensitivity in a higher frequency range. In the example of FIG. 3, the magnetic head 1 having three magnetic thin film layers 5c is shown.

【0036】さらに、上述した本実施の形態において
は、非磁性膜8をAuにより形成したが、例えば、A
g,Pd,Pt等の金属拡散接合に好適な貴金属から選
ばれる少なくとも一種によって形成してもよい。
Further, in the above-described embodiment, the nonmagnetic film 8 is formed of Au.
It may be formed of at least one selected from noble metals suitable for metal diffusion bonding such as g, Pd, and Pt.

【0037】以上のように構成された磁気へッド1は、
磁気記録媒体に記録された磁気信号を再生する際に、磁
気記録媒体からの信号磁界がフロントギャップ14の周
辺に印加される。そして、印加される信号磁界の方向が
変化することによって、磁気コア9に流れる磁束の方向
が変化する。その結果、磁気ヘッド1では、電磁誘導が
起こり、薄膜コイル7に所定の電流が流れる。
The magnetic head 1 configured as described above is
When reproducing a magnetic signal recorded on the magnetic recording medium, a signal magnetic field from the magnetic recording medium is applied around the front gap 14. When the direction of the applied signal magnetic field changes, the direction of the magnetic flux flowing through the magnetic core 9 changes. As a result, in the magnetic head 1, electromagnetic induction occurs, and a predetermined current flows through the thin-film coil 7.

【0038】また、この磁気ヘッド1を用いて磁気記録
媒体に磁気信号を記録する際には、薄膜コイル7に対し
て所定の電流が供給される。そして、この磁気ヘッド1
では、薄膜コイル7から発生する磁界により磁気コア9
に所定の磁束が流れる。これにより、この磁気ヘッド1
では、フロントギャップ14を挟んで漏れ磁界を発生す
る。磁気ヘッド1は、この漏れ磁界を磁気記録媒体に印
加することにより磁気信号を記録する。
When a magnetic signal is recorded on a magnetic recording medium using the magnetic head 1, a predetermined current is supplied to the thin-film coil 7. And this magnetic head 1
Then, the magnetic core 9 is generated by the magnetic field generated from the thin film coil 7.
A predetermined magnetic flux flows through the. Thereby, this magnetic head 1
Then, a leakage magnetic field is generated across the front gap 14. The magnetic head 1 records a magnetic signal by applying the leakage magnetic field to a magnetic recording medium.

【0039】次に、上述した磁気ヘッド1を製造する際
の製造方法を説明する。
Next, a method of manufacturing the above-described magnetic head 1 will be described.

【0040】磁気ヘッド1は、上述したような磁気コア
半体2,3が複数列に連なって同一基板上に形成され
る。そして、この基板は、複数個の磁気コア半体2,3
が形成された列毎に切り離されて磁気コア半体ブロック
を形成する。磁気コア半体ブロックは、金属拡散接合に
より接合一体化されることで磁気ヘッドブロックを形成
する。磁気ヘッド1は、この磁気ヘッドブロックが個々
の磁気ヘッド1に切り離されることにより完成する。
The magnetic head 1 is formed on the same substrate with the magnetic core halves 2 and 3 connected in a plurality of rows. The substrate is provided with a plurality of magnetic core halves 2, 3
Are separated for each row in which is formed, to form a magnetic core half block. The magnetic core half blocks are joined and integrated by metal diffusion bonding to form a magnetic head block. The magnetic head 1 is completed by separating the magnetic head block into individual magnetic heads 1.

【0041】先ず、この磁気ヘッド1を製造するには、
図4に示すように、略平板状の基板21を用意する。こ
の基板21は、磁気ヘッド1の非磁性基板4となるもの
であり、例えば、MnO−NiO等の非磁性材料からな
る。この基板21は、例えば、厚みが約2mmとされ、
長さ及び幅が約30mmとされてなる。
First, to manufacture the magnetic head 1,
As shown in FIG. 4, a substantially flat substrate 21 is prepared. This substrate 21 is to be the non-magnetic substrate 4 of the magnetic head 1, and is made of a non-magnetic material such as MnO-NiO. The substrate 21 has a thickness of about 2 mm, for example.
The length and width are set to about 30 mm.

【0042】次に、図5に示すように、上述した基板2
1の一主面21aに対して、砥石等により、例えば、約
45度の角度を有するように複数の磁気コア形成溝24
を平行に形成する。そして、基板21には、この第1の
溝加工に形成された磁気コア形成溝24によって、複数
の傾斜面21bが形成されることとなる。傾斜面21b
は、磁気ヘッド1において、傾斜面4aとなるものであ
る。
Next, as shown in FIG.
For example, a plurality of magnetic core forming grooves 24 are formed with a grindstone or the like so as to have an angle of about 45 degrees with respect to one main surface 21a.
Are formed in parallel. Then, a plurality of inclined surfaces 21b are formed in the substrate 21 by the magnetic core forming grooves 24 formed in the first groove processing. Inclined surface 21b
Are the inclined surfaces 4a in the magnetic head 1.

【0043】なお、ここで形成される傾斜面21bは、
円形状や多角形状であってもよい。また、傾斜面21b
は、基板21の平面に対して25〜60度程度の傾斜角
が望ましいが、疑似ギャップ防止やトラック幅精度を考
慮すると、35〜50度程度の傾斜角がより好ましい。
また、この第1の溝加工により形成する磁気コア形成溝
24は、その深さを130μmとし、幅を150μmと
して形成した。
The inclined surface 21b formed here is
It may be circular or polygonal. Also, the inclined surface 21b
Is preferably about 25 to 60 degrees with respect to the plane of the substrate 21, but is more preferably about 35 to 50 degrees in consideration of prevention of pseudo gap and track width accuracy.
The magnetic core forming groove 24 formed by the first groove processing had a depth of 130 μm and a width of 150 μm.

【0044】次に、図6に示すように、基板21の傾斜
面21bが形成された全面に対して金属磁性薄膜27を
成膜する。この成膜工程においては、金属磁性薄膜27
を、非磁性層を介して3層の金属磁性材料が積層されて
なるように成膜する。この金属磁性薄膜27は、例え
ば、マグネトロンスパッタリング法等のPVD法又はC
VD法等により成膜される。
Next, as shown in FIG. 6, a metal magnetic thin film 27 is formed on the entire surface of the substrate 21 on which the inclined surface 21b is formed. In this film forming step, the metal magnetic thin film 27
Is formed so that three metallic magnetic materials are laminated via a nonmagnetic layer. This metal magnetic thin film 27 is formed, for example, by a PVD method such as a magnetron sputtering method or the like.
The film is formed by a VD method or the like.

【0045】また、金属磁性薄膜27は、複数層の金属
磁性層を有するものに限定されず、単層の金属磁性層か
らなるような構成であってもよいが、より高周波帯域で
高い感度を得るために、金属磁性層を複数に分断した積
層構造であることが望ましい。これにより、金属磁性薄
膜27は、渦電流損失が低減されて、より高周波帯域で
高い感度を得ることができる。
Further, the metal magnetic thin film 27 is not limited to the one having a plurality of metal magnetic layers, and may be configured to have a single metal magnetic layer. In order to obtain, it is desirable that the metal magnetic layer has a laminated structure in which the metal magnetic layer is divided into a plurality. Thereby, the metal magnetic thin film 27 can reduce the eddy current loss and obtain high sensitivity in a higher frequency band.

【0046】本実施の形態において、金属磁性薄膜27
は、例えば、Bs=1.5TのFe系微結晶膜4μmと
アルミナ0.15μmとが交互に積層され、3層のFe
系微結晶膜層を有するような構成とした。また、金属磁
性薄膜27を複数層からなるように成膜する場合、非磁
性層としては、アルミナ、SiO2及びSiO等の材料
が単独又は混合して用いられる。この非磁性層の膜厚
は、隣接して配される金属磁性層間の絶縁を取れる程度
とされる。
In this embodiment, the metal magnetic thin film 27
For example, a Fe-based microcrystalline film of Bs = 1.5T of 4 μm and alumina of 0.15 μm are alternately laminated, and three layers of Fe
A structure having a system microcrystalline film layer was adopted. When the metal magnetic thin film 27 is formed in a plurality of layers, materials such as alumina, SiO 2 and SiO are used alone or in combination as the non-magnetic layer. The thickness of the non-magnetic layer is set to such an extent that insulation between adjacent metal magnetic layers can be obtained.

【0047】次に、図7に示すように、金属磁性薄膜2
7が形成された面に対して磁気コア形成溝24と略直交
する方向に第2の溝加工を施す。この第2の溝加工で
は、所定の大きさの磁気コア9に分離するために形成さ
れる分離溝28と、この分離溝28により分離された各
磁気コア9に磁気ギャップを形成するための巻線溝29
とを形成する。
Next, as shown in FIG.
A second groove is formed on the surface on which the groove 7 is formed in a direction substantially orthogonal to the magnetic core forming groove 24. In the second groove processing, a separation groove 28 formed for separating the magnetic core 9 into a predetermined size, and a winding for forming a magnetic gap in each magnetic core 9 separated by the separation groove 28. Wire groove 29
And are formed.

【0048】また、このとき、傾斜面21b上に形成さ
れた金属磁性薄膜27以外の部分、すなわち、磁気コア
形成溝24の底部に形成された金属磁性薄膜27を研削
加工により除去する。
At this time, portions other than the metal magnetic thin film 27 formed on the inclined surface 21b, that is, the metal magnetic thin film 27 formed at the bottom of the magnetic core forming groove 24 are removed by grinding.

【0049】ここで、分離溝28は、磁気コア9を基板
21上で前後方向に磁気的に分離して各磁気コア9を形
成し、各磁気コア9に閉磁路を構成するための溝であ
る。また、この分離溝28は、図7の例示では2本形成
されているが、形成される磁気コア半体2,3の列の数
だけ設ける必要がある。また、この分離溝28は、前後
方向に並んで配される各磁気コア9を磁気的に分離する
ため、金属磁性薄膜27を完全に切断する程度の深さを
有するように形成される必要がある。具体的には、分離
溝28は、磁気コア形成溝24の底辺から150μmの
深さ、すなわち、基板21の主面21aから280μm
の深さとした。
Here, the separation groove 28 is a groove for forming each magnetic core 9 by magnetically separating the magnetic core 9 in the front-back direction on the substrate 21 and forming a closed magnetic path in each magnetic core 9. is there. Although two separation grooves 28 are formed in the example of FIG. 7, the separation grooves 28 need to be provided by the number of rows of the magnetic core halves 2 and 3 to be formed. In addition, the separation groove 28 must be formed to have a depth that can completely cut the metal magnetic thin film 27 in order to magnetically separate the magnetic cores 9 arranged in the front-rear direction. is there. Specifically, the separation groove 28 has a depth of 150 μm from the bottom of the magnetic core formation groove 24, that is, 280 μm from the main surface 21 a of the substrate 21.
And the depth.

【0050】一方、巻線溝29は、上述した磁気ヘッド
1において、金属磁性薄膜27に形成された凹部5aを
形成するものである。したがって、巻線溝29は、前部
突合せ面12と後部突合せ面13とを有する磁気コア9
を形成し、コイル形成用凹部16を形成するために、金
属磁性薄膜27を切断しない程度の深さで形成する必要
がある。このため、巻線溝29は、その表面に金属磁性
薄膜27の断面が露出してなる。
On the other hand, the winding groove 29 forms a recess 5 a formed in the metal magnetic thin film 27 in the magnetic head 1 described above. Therefore, the winding groove 29 is formed on the magnetic core 9 having the front butting surface 12 and the rear butting surface 13.
In order to form the recess 16 for forming the coil, it is necessary to form the metal magnetic thin film 27 at a depth that does not cut it. Therefore, the cross section of the metal magnetic thin film 27 is exposed on the surface of the winding groove 29.

【0051】また、この巻線溝29は、その形状が前部
突合せ面12及び後部突合せ面13の長さに応じて決定
されるが、ここでは、幅を約140μmとし、前部突合
せ面12の長さが30μmとなり、後部突合せ面13の
長さが85μmとなるように形成した。なお、この巻線
溝29は、金属磁性薄膜27を切断することのない程度
の深さでよいが、深すぎると磁路長が長くなって磁束伝
達の効率が低下する虞がある。また、巻線溝29は、そ
の深さが後述する工程で形成される薄膜コイル7の厚み
に依存するが、ここでは、20μmとした。
The shape of the winding groove 29 is determined according to the lengths of the front butting surface 12 and the rear butting surface 13. Here, the width is set to about 140 μm, and And the length of the rear abutting surface 13 was 85 μm. The winding groove 29 may have such a depth that the metal magnetic thin film 27 is not cut. However, if the winding groove 29 is too deep, the magnetic path length becomes longer and the efficiency of magnetic flux transmission may be reduced. The depth of the winding groove 29 depends on the thickness of the thin-film coil 7 formed in a step described later, but is 20 μm here.

【0052】さらに、この巻線溝29は、その形状が限
定されるものではないが、ここでは、前部突合せ面12
側の側面を45度の傾斜面29aとした。これにより、
磁気コア9は、摺動面10に磁束が集中する構造となる
ことによって、感度が向上したものとなる。
Further, the shape of the winding groove 29 is not limited, but here, the front abutting surface 12
The side surface was a 45-degree inclined surface 29a. This allows
The magnetic core 9 has a structure in which the magnetic flux is concentrated on the sliding surface 10 so that the sensitivity is improved.

【0053】次に、図8に示すように、上述したように
磁気コア形成溝24、分離溝28及び巻線溝29が形成
された基板21の一主面21aに対して溶解した低融点
ガラス30を充填する。
Next, as shown in FIG. 8, a low-melting glass melted on one main surface 21a of the substrate 21 on which the magnetic core forming groove 24, the separation groove 28 and the winding groove 29 are formed as described above. Fill 30.

【0054】この充填工程においては、金属磁性薄膜5
が良好な軟磁気特性を得るような温度で、低融点ガラス
30を充填する。これにより、この充填工程の前段に、
金属磁性薄膜5が良好な軟磁気特性を得るための熱処理
工程が不要とすることができる。言い換えると、本実施
の形態においては、この充填工程において、この低融点
ガラス30に熱を加えて溶解させているが、低融点ガラ
ス30を充填する際に、この溶解した低融点ガラス30
の熱が金属磁性薄膜5に伝わることによって、金属磁性
薄膜5が熱処理され、良好な軟磁気特性を得るようにな
る。
In this filling step, the metal magnetic thin film 5
Is filled with the low melting point glass 30 at such a temperature as to obtain good soft magnetic properties. Thereby, before this filling process,
The heat treatment step for the metal magnetic thin film 5 to obtain good soft magnetic properties can be omitted. In other words, in the present embodiment, in the filling step, the low-melting glass 30 is heated and melted, but when the low-melting glass 30 is filled, the low-melting glass 30 is melted.
Is transmitted to the metal magnetic thin film 5, the metal magnetic thin film 5 is heat-treated, and good soft magnetic characteristics are obtained.

【0055】したがって、本発明に係る磁気ヘッドの製
造方法によれば、この充填工程が金属磁性薄膜5の熱処
理工程を兼ねることになり、磁気ヘッドの製造工程を簡
略化して生産効率を向上させることができる。
Therefore, according to the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, this filling step also serves as a heat treatment step of the metal magnetic thin film 5, thereby simplifying the manufacturing step of the magnetic head and improving the production efficiency. Can be.

【0056】また、この充填工程においては、低融点ガ
ラス30として、上述したような金属磁性薄膜5の熱処
理温度での粘度が、102〜106Pa・sである非磁性
材料を選んで、基板21に対して充填する。これによ
り、低融点ガラスは、基板21に形成された、磁気コア
形成溝24、分離溝28及び巻線溝29が形成された基
板21の全面に亘って、隅々まで完全に充填されること
ができる。
In this filling step, a nonmagnetic material having a viscosity of 10 2 to 10 6 Pa · s at the heat treatment temperature of the metal magnetic thin film 5 as described above is selected as the low-melting glass 30. The substrate 21 is filled. As a result, the low-melting glass is completely filled over the entire surface of the substrate 21 on which the magnetic core forming groove 24, the separation groove 28, and the winding groove 29 are formed. Can be.

【0057】低融点ガラス30は、上述した熱処理温度
での粘度が102Pa・sに満たない場合に、この充填
工程において金属磁性薄膜5との反応が著しくなり、金
属磁性薄膜5の磁気特性を劣化させてしまう。また、低
融点ガラス30は、上述した熱処理温度での粘度が10
6Pa・sを超えた場合に、基板21の隅々まで完全に
充填することが困難となってしまう。したがって、低融
点ガラス30としては、上述した熱処理温度での粘度が
102〜106Pa・sである非磁性材料を選ぶことが重
要である。
When the viscosity of the low-melting glass 30 at the above-mentioned heat treatment temperature is less than 10 2 Pa · s, the reaction with the metal magnetic thin film 5 becomes significant in this filling step, and the magnetic properties of the metal magnetic thin film 5 Will deteriorate. The low-melting glass 30 has a viscosity of 10 at the heat treatment temperature described above.
If it exceeds 6 Pa · s, it will be difficult to completely fill the substrate 21 at every corner. Therefore, as the low-melting glass 30, it is important to select a nonmagnetic material having a viscosity of 10 2 to 10 6 Pa · s at the above-described heat treatment temperature.

【0058】なお、低融点ガラス30は、上述した熱処
理温度での粘度が103〜105Pa・sであることがよ
り望ましい。これにより、低融点ガラス30は、より確
実に、基板21の隅々まで完全に充填される。
It is more desirable that the low-melting glass 30 has a viscosity at the above-mentioned heat treatment temperature of 10 3 to 10 5 Pa · s. As a result, the low-melting glass 30 is more completely filled completely into the corners of the substrate 21.

【0059】本実施の形態においては、金属磁性薄膜5
が520℃の熱処理でHc≦30A/mの軟磁気特性を
得ることから、低融点ガラス30としては、SiO2
PbO,B23,Bi23を主成分として、520℃で
の粘度が約104.5Pa・sであるガラス材料を用い
た。
In this embodiment, the metal magnetic thin film 5
Obtains a soft magnetic property of Hc ≦ 30 A / m by heat treatment at 520 ° C., so that the low-melting glass 30 is SiO 2 ,
A glass material containing PbO, B 2 O 3 , and Bi 2 O 3 as main components and having a viscosity at 520 ° C. of about 10 4.5 Pa · s was used.

【0060】その後、低融点ガラス30を冷却固化さ
せ、固化した低融点ガラス30の表面を研削することに
よって、平坦化処理を施す。
Thereafter, the low-melting glass 30 is cooled and solidified, and the surface of the solidified low-melting glass 30 is ground to perform a flattening process.

【0061】このとき、低融点ガラス30の研削量が大
きすぎると、基板21の露出幅が大きくなってしまう。
基板21と低融点ガラス30とは、エッチングレートが
異なるために、基板21の低融点ガラス30からの露出
幅が大きすぎると、後述する薄膜コイル7の形成工程
で、これら基板21と低融点ガラス30との間に段差が
生じてしまう虞がある。したがって、この平坦化処理工
程においては、薄膜コイル7の最内周部の幅よりも狭い
幅で基板21が露出するように、低融点ガラス30を研
削することが望ましい。
At this time, if the amount of grinding of the low-melting glass 30 is too large, the exposed width of the substrate 21 becomes large.
Since the substrate 21 and the low-melting glass 30 have different etching rates, if the width of the substrate 21 exposed from the low-melting glass 30 is too large, the substrate 21 and the low-melting glass 30 will be formed in a later-described thin film coil forming step. There is a possibility that a step may be generated between the first and the second. Therefore, in this flattening process, it is desirable to grind the low-melting glass 30 so that the substrate 21 is exposed with a width smaller than the width of the innermost peripheral portion of the thin-film coil 7.

【0062】次に、図9に示すように、低融点ガラス3
0に対して砥石等を用いて研削加工を施すことにより、
端子溝31を形成する。この端子溝31は、上述した分
離溝28の直上に位置するように形成した。端子溝31
は、その形状や幅、深さを限定されるものではないが、
ここでは、その幅及び深さを100μmとした。そし
て、この端子溝31内にCu等の良導体を鍍金法等によ
り充填する。その後、再び平坦化処理を行う。この端子
溝31に充填されたCu等の良導体は、上述した磁気ヘ
ッド1における外部接続用端子18となるものである。
Next, as shown in FIG.
By performing grinding on 0 using a grindstone, etc.,
The terminal groove 31 is formed. The terminal groove 31 was formed so as to be located immediately above the above-described separation groove 28. Terminal groove 31
Is not limited in its shape, width and depth,
Here, the width and the depth were set to 100 μm. Then, a good conductor such as Cu is filled in the terminal groove 31 by plating or the like. After that, the flattening process is performed again. The good conductor such as Cu filled in the terminal groove 31 serves as the external connection terminal 18 in the magnetic head 1 described above.

【0063】次に、図10に示すように、低融点ガラス
30に対してエッチング加工を施すことによりコイル形
成用凹部16を形成するとともに、このコイル形成用凹
部16内に薄膜コイル7を薄膜形成する。
Next, as shown in FIG. 10, the low-melting glass 30 is subjected to an etching process to form a coil-forming recess 16 and a thin-film coil 7 is formed in the coil-forming recess 16. I do.

【0064】このコイル形成用凹部16は、後部突合せ
面13を略中心とする略矩形状として、後部突合せ面1
3及びコイル接続用端子17を除く部分に対してエッチ
ング加工を施すことにより形成する。また、このコイル
形成用凹部16は、その一端から端子溝31に達する溝
16aを有している。
The coil forming concave portion 16 is formed in a substantially rectangular shape with the rear abutting surface 13 being substantially at the center, and the rear abutting surface 1 is formed.
It is formed by performing an etching process on a portion excluding 3 and the coil connection terminal 17. The coil forming recess 16 has a groove 16a extending from one end to the terminal groove 31.

【0065】その後、コイル形成用凹部16内に薄膜コ
イル7を薄膜形成する。この薄膜コイル7は、一方端部
7aをコイル接続用端子17上に配し、後部突合せ面1
3を中心とした円を描くように、多数回巻回された形状
を有する。また、この薄膜コイル7は、コイル形成用凹
部16の一端に形成された溝16a内に引き出され、他
方端部7bを端子溝31に充填された良導体からなる外
部接続用端子18と電気的に接続する。
Then, a thin film coil 7 is formed in the coil forming recess 16. The thin-film coil 7 has one end 7a disposed on a coil connection terminal 17 and a rear abutting surface 1a.
It has a shape wound many times so as to draw a circle centered at 3. The thin-film coil 7 is drawn out into a groove 16 a formed at one end of the coil forming recess 16, and the other end 7 b is electrically connected to an external connection terminal 18 made of a good conductor filled in a terminal groove 31. Connecting.

【0066】この薄膜コイル7を形成する際には、先
ず、フォトレジストにより上述したようなコイル形状を
パターニングする。次に、コイル形成用凹部16にCu
等の良導体を電解鍍金等の手法によって、3μm程度の
厚みとなるように薄膜形成する。そして、フォトレジス
トを除去することによって、パターニングされたコイル
形状とされる薄膜コイル7を形成することができる。な
お、この薄膜コイル7を形成するに際して、上述した電
解鍍金法だけでなく、スパッタリング法や蒸着法等を用
いることができる。
When the thin film coil 7 is formed, first, the above-described coil shape is patterned by a photoresist. Next, Cu is formed in the coil forming recess 16.
Is formed into a thin film to a thickness of about 3 μm by a technique such as electrolytic plating. Then, by removing the photoresist, the thin film coil 7 having a patterned coil shape can be formed. In forming the thin-film coil 7, not only the above-described electrolytic plating method but also a sputtering method or a vapor deposition method can be used.

【0067】次に、薄膜コイル7を外気との接触から保
護するための保護層(図示せず。)を形成する。この保
護層は、上述した薄膜コイル7を形成したコイル形成用
凹部16を埋め込むように形成される。なお、この保護
層は、酸素アッシング処理により除去されないような非
磁性絶縁材料から形成されることが好ましい。
Next, a protective layer (not shown) for protecting the thin-film coil 7 from contact with the outside air is formed. This protective layer is formed so as to bury the coil forming recess 16 in which the above-described thin film coil 7 is formed. The protective layer is preferably formed of a non-magnetic insulating material that is not removed by the oxygen ashing.

【0068】具体的には、非磁性絶縁材料として、Al
23、Ta25、SiO2、ZrO2、TiO2等の酸化
物又はガラス等の無機物が挙げられる。ここでは、保護
膜としては、Al23をスパッタリングにより0.4μ
mの厚さで基板21全面に形成した。このとき、保護膜
は、基板21の一主面に露出した前部突合せ面12や後
部突合せ面13等も覆ってしまうが、後述する工程でこ
れらを覆う部分は除去される。なお、この保護膜は、い
わゆる、マスクスパッタ法やリフトオフ法を用いること
によって、所定の領域のみに形成することも可能であ
る。また、保護膜の形成法としては、スパッタリング法
の他に蒸着法や塗布型SiO2のスピンコーティング等
を挙げることができる。
Specifically, as the non-magnetic insulating material, Al
Examples thereof include oxides such as 2 O 3 , Ta 2 O 5 , SiO 2 , ZrO 2 , and TiO 2 and inorganic substances such as glass. Here, as the protective film, Al 2 O 3 was sputtered to a thickness of 0.4 μm.
m was formed over the entire surface of the substrate 21. At this time, the protective film also covers the front butting surface 12 and the rear butting surface 13 which are exposed on one main surface of the substrate 21, but the portions covering these portions are removed in a step described later. Note that this protective film can be formed only in a predetermined region by using a so-called mask sputtering method or a lift-off method. Examples of the method for forming the protective film include, besides the sputtering method, an evaporation method and spin coating of coating type SiO 2 .

【0069】次に、図11に示すように、基板21に充
填された低融点ガラス30の主面に対して、非磁性膜8
を成膜する。この非磁性膜8は、磁気コア9のギャップ
材となるとともに、金属拡散結合の際の接着剤となるも
のである。この成膜工程においては、非磁性膜8を成膜
する前に、低融点ガラス30の主面に対して鏡面加工処
理を施す。
Next, as shown in FIG. 11, the nonmagnetic film 8 is applied to the main surface of the low-melting glass 30 filled in the substrate 21.
Is formed. The non-magnetic film 8 serves as a gap material for the magnetic core 9 and as an adhesive for metal diffusion bonding. In this film forming process, before forming the nonmagnetic film 8, the main surface of the low-melting glass 30 is subjected to mirror finishing.

【0070】この鏡面加工処理工程においては、鏡面加
工される面が一対の磁気ヘッド半体2,3の接合面2
a,3aとなるので、十分に精度よく行う必要がある。
具体的には、本実施の形態のような磁気ヘッド1では、
この接合面2a,3aでの段差が35nmを超えるよう
であると、一対の磁気ヘッド半体2,3を接合したとき
の接合強度が極端に弱くなってしまい、接合後の加工で
チップ割れが生じやすくなってしまう。
In this mirror finishing process, the surface to be mirror-finished is the bonding surface 2 of the pair of magnetic head halves 2 and 3.
a, 3a, it is necessary to perform the process with sufficient accuracy.
Specifically, in the magnetic head 1 according to the present embodiment,
If the level difference between the joining surfaces 2a and 3a exceeds 35 nm, the joining strength when joining the pair of magnetic head halves 2 and 3 becomes extremely weak, and chip cracks occur in the processing after joining. It is easy to occur.

【0071】そこで、本実施の形態では、ブリネル硬度
Bが約20のSn−Sbからなるポリッシャーで、平
均粒径が約0.25μmのダイヤモンド砥粒を研磨材と
して分散させたスラリーを用いて、上述した保護層が形
成された面をポリッシングすることにより、鏡面加工を
行った。ここで、金属磁性薄膜5や薄膜コイル7のブリ
ネル硬度HBは約80であるので、被加工物である金属
磁性薄膜5や薄膜コイル7の硬度に対するポリッシャー
の硬度の比は、約0.25である。
Therefore, in the present embodiment, a polisher made of Sn—Sb having a Brinell hardness H B of about 20 is used, and a slurry in which diamond abrasive grains having an average grain size of about 0.25 μm are dispersed as an abrasive is used. Then, mirror polishing was performed by polishing the surface on which the above-mentioned protective layer was formed. Since Brinell hardness H B of the metallic magnetic film 5 and the thin film coil 7 is about 80, the hardness ratio of the polisher against the hardness of the metallic magnetic film 5 and the thin film coil 7 as a workpiece is approximately 0.25 It is.

【0072】なお、ポリッシングとは、研磨用の研磨材
を水又はオイル等に分散させたスラリーを、十分に平坦
な面を有するポリッシャーと被加工物との間に供給しな
がら、ポリッシャーを被加工物の表面に圧接させた状態
で回転させることにより、被加工物の表面を検索する方
法である。そして、ポリッシングでは、研磨材によって
被加工物の表面の凸部が研削されて取り除かれ、ポリッ
シャーの持つ平坦度が被加工物に転写される。
The polishing means that a slurry in which an abrasive for polishing is dispersed in water or oil or the like is supplied between a polisher having a sufficiently flat surface and a workpiece while the polisher is processed. This is a method of searching for the surface of a workpiece by rotating the workpiece while pressing it against the surface of the workpiece. Then, in the polishing, the protrusions on the surface of the workpiece are ground and removed by the abrasive, and the flatness of the polisher is transferred to the workpiece.

【0073】このように、被加工物である金属磁性薄膜
5や薄膜コイル7の硬度に対する硬度の比が約0.25
であるポリッシャーを用いて表面加工することにより、
鏡面加工が施された面の段差が、最大でも25nm以下
となり、十分に平滑な平面が得られる。しかも、被加工
物である金属磁性薄膜5や薄膜コイル7の硬度に対する
ポリッシャーの硬度の比を約0.25としてポリッシン
グしたときには、十分な研削レートが得られ、短時間で
鏡面加工を行うことができる。
As described above, the ratio of the hardness to the hardness of the metal magnetic thin film 5 or the thin film coil 7 as the workpiece is about 0.25.
By surface processing using a polisher that is
The step on the mirror-finished surface is at most 25 nm or less, and a sufficiently smooth plane can be obtained. In addition, when the polishing is performed with the ratio of the hardness of the polisher to the hardness of the metal magnetic thin film 5 and the thin film coil 7 to be processed being about 0.25, a sufficient grinding rate can be obtained, and mirror finishing can be performed in a short time. it can.

【0074】なお、この鏡面加工工程においては、被加
工物である金属磁性薄膜5や薄膜コイル7に対するポリ
ッシャーの硬度の比が0.15〜0.6であることが望
ましい。これにより、研削レートが低くて生産効率が犠
牲となったり、鏡面加工された面の段差が25nmを超
えてしまったりといったことがない。
In this mirror finishing step, the ratio of the hardness of the polisher to the metal magnetic thin film 5 or the thin film coil 7 to be processed is desirably 0.15 to 0.6. Thus, the production efficiency is not sacrificed due to the low grinding rate, and the step on the mirror-finished surface does not exceed 25 nm.

【0075】上述のように、非磁性膜8を成膜する面に
対して鏡面加工を行うことによって、この面に非磁性膜
8を成膜した際に、この非磁性膜8の全面に亘って金属
拡散結合を行うことができる。したがって、一対の磁気
コア半体2,3の接合面2a,3aの摺動面10側で、
非磁性膜8が摺動面10の全幅に亘って形成することが
できる。
As described above, the surface on which the non-magnetic film 8 is formed is mirror-finished so that when the non-magnetic film 8 is formed on this surface, the entire surface of the non-magnetic film 8 is formed. To perform metal diffusion bonding. Therefore, on the sliding surface 10 side of the joining surfaces 2a and 3a of the pair of magnetic core halves 2 and 3,
The nonmagnetic film 8 can be formed over the entire width of the sliding surface 10.

【0076】次に、非磁性膜8を成膜する。非磁性膜8
としては、具体的には、例えばスパッタリング法等によ
ってAu等の貴金属を100nm程度の厚みで形成す
る。このとき、非磁性膜8は、金属磁性薄膜5の前部突
合せ面12及び後部突合せ面13とコイル接続用端子1
7だけでなく、低融点ガラス30の主面にも広く形成さ
れているために、一対の磁気コア半体2,3が金属拡散
結合される際に、十分な接合強度を有する。
Next, a non-magnetic film 8 is formed. Non-magnetic film 8
Specifically, a noble metal such as Au is formed to a thickness of about 100 nm by, for example, a sputtering method. At this time, the non-magnetic film 8 is connected to the front butting surface 12 and the rear butting surface 13 of the metal magnetic thin film 5 by the coil connecting terminal 1.
7 and the main surface of the low-melting glass 30, it has sufficient bonding strength when the pair of magnetic core halves 2 and 3 are metal diffusion-bonded.

【0077】なお、非磁性膜8は、Auに限られるもの
ではなく、低温での金属拡散接合に好適であるように、
拡散係数が大きく、且つ表面に酸化層が形成されにくい
金属により形成されればよい。具体的には、例えば、A
g,Pd,Pt等の貴金属から選ばれる少なくとも一種
によって形成してもよい。また、非磁性膜8は、その形
成方法として、スパッタリング法に限られるものではな
く、例えば電解鍍金法、蒸着法等により形成してもよ
い。さらに、非磁性膜8は、その厚みが限定されるもの
ではなく、一対の磁気コア半体ブロック33を金属拡散
接合するに足る厚みを以て、且つギャップ長を考慮して
形成されればよい。
The non-magnetic film 8 is not limited to Au, but is suitable for low-temperature metal diffusion bonding.
What is necessary is just to form from the metal whose diffusion coefficient is large and the oxide layer is hard to be formed on the surface. Specifically, for example, A
It may be formed of at least one selected from noble metals such as g, Pd, and Pt. The method of forming the nonmagnetic film 8 is not limited to the sputtering method, but may be formed by, for example, an electrolytic plating method, a vapor deposition method, or the like. Further, the thickness of the non-magnetic film 8 is not limited, and may be formed with a thickness sufficient for metal-diffusion bonding of the pair of magnetic core half-blocks 33 and in consideration of the gap length.

【0078】非磁性膜8は、後述するように、磁気コア
半体ブロック33が接合された状態において、全体とし
ての厚みが、金属磁性薄膜5が形成する磁気コア9のギ
ャップ長となる。
As will be described later, the thickness of the nonmagnetic film 8 as a whole when the magnetic core half-block 33 is joined is the gap length of the magnetic core 9 formed by the metal magnetic thin film 5.

【0079】次に、図12に示すように、一主面に並列
して臨む前部突合せ面12を横切るように角状の溝であ
るサイド溝32を形成する。その後、磁気コア半体2,
3が平行に複数列形成された基板21を一方の磁気コア
半体2と他方の磁気コア半体3とがそれぞれ一列毎とな
るように切断して磁気コア半体ブロック33を形成す
る。
Next, as shown in FIG. 12, a side groove 32 which is a square groove is formed so as to cross the front butting surface 12 facing the one main surface in parallel. Then, the magnetic core half 2,
The magnetic core half block 33 is formed by cutting the substrate 21 in which a plurality of rows 3 are formed in parallel so that one magnetic core half 2 and the other magnetic core half 3 are arranged in each row.

【0080】このサイド溝32は、研削加工により形成
され、例えばその深さを50μm、幅を400μmとさ
れる。このサイド溝32が形成されると、サイド溝32
の側面に前部突合せ面12の一端が露出することとな
る。このサイド溝32は、後述するように、一対の磁気
コア半体ブロック33を突き合わせる際に、位置決めの
指標として前部突合せ面12の上端部を露出させるため
に形成される。
The side grooves 32 are formed by grinding, and have, for example, a depth of 50 μm and a width of 400 μm. When the side grooves 32 are formed, the side grooves 32
One end of the front abutting surface 12 is exposed on the side surface of. The side grooves 32 are formed to expose the upper end of the front butting surface 12 as a positioning index when the pair of magnetic core half blocks 33 are butted, as described later.

【0081】次に、図13に示すように、一対の磁気コ
ア半体ブロック33を正確に位置決めして金属拡散接合
を行う。
Next, as shown in FIG. 13, metal diffusion bonding is performed by accurately positioning the pair of magnetic core half blocks 33.

【0082】このとき、サイド溝32から臨む前部突合
せ面12の上端部同士を対向させることによって、正確
に位置決めする。このように、サイド溝32から臨む前
部突合せ面12の上端部を正確に対向させることによ
り、後部突合せ面13やコイル接続用端子17を正確に
対向させることができる。
At this time, the upper ends of the front butting surfaces 12 facing the side grooves 32 are opposed to each other, so that accurate positioning is achieved. In this way, by correctly opposing the upper end of the front butting surface 12 facing the side groove 32, the rear butting surface 13 and the coil connection terminal 17 can be accurately faced.

【0083】そして、突き合わせた一対の磁気コア半体
ブロック33に対して所定の温度及び圧力を印加するこ
とにより、非磁性膜8同士が拡散し、一対の磁気コア半
体ブロック33が接合一体化された磁気ヘッドブロック
38を作製する。なお、本実施の形態においては、35
0℃の温度によって、一対の磁気コア半体ブロック33
に対して金属拡散接合を施した。
Then, by applying a predetermined temperature and pressure to the pair of magnetic core half-blocks 33, the non-magnetic films 8 are diffused, and the pair of magnetic core half-blocks 33 are joined and integrated. The manufactured magnetic head block 38 is manufactured. In the present embodiment, 35
At a temperature of 0 ° C., a pair of magnetic core half blocks 33
Was subjected to metal diffusion bonding.

【0084】次に、図14に示すように、磁気ヘッドブ
ロック38を個々の磁気ヘッド1に分離する。
Next, as shown in FIG. 14, the magnetic head block 38 is separated into individual magnetic heads 1.

【0085】このとき、先ず、磁気ヘッドブロック38
を、磁気記録媒体が摺動する摺動面10となる表面を露
出するために、長手方向に切断加工する。そして、磁気
ヘッドブロック38の露出した表面に対して、円筒形を
呈するように円筒切削加工を施す。これにより、この表
面が磁気ヘッド1の摺動面10となる。その後、磁気ヘ
ッドブロック38に対して、当たり幅規制溝11を研削
加工する。当たり幅規制溝11は、磁気ヘッドブロック
38から分離される個々の磁気ヘッド1の摺動面10の
両側面に相当する部位に形成される。
At this time, first, the magnetic head block 38
Is cut in the longitudinal direction in order to expose a surface serving as a sliding surface 10 on which the magnetic recording medium slides. Then, the exposed surface of the magnetic head block 38 is subjected to cylindrical cutting so as to have a cylindrical shape. As a result, this surface becomes the sliding surface 10 of the magnetic head 1. Thereafter, the contact width regulating groove 11 is ground on the magnetic head block 38. The contact width regulating grooves 11 are formed at portions corresponding to both side surfaces of the sliding surface 10 of each magnetic head 1 separated from the magnetic head block 38.

【0086】そして、磁気ヘッドブロック38は、図1
4中B−B線で示す部分で切断することにより、個々の
磁気ヘッド1に分離する。
The magnetic head block 38 corresponds to FIG.
4 are separated into individual magnetic heads 1 by cutting at the portion indicated by the line BB in FIG.

【0087】本実施の形態においては、磁気ヘッド1の
フロントギャップ14が20度のアジマス角を有するよ
うに、摺動面10に対して研磨加工を行い、当たり幅規
制溝11を研削加工し、磁気ヘッドブロック38の切断
面を傾けて分離するとした。なお、磁気ヘッドブロック
38は、上述した摺動面10の研磨加工、当たり幅規制
溝11の研削加工及び個々の磁気ヘッド1に分離する切
断加工を、フロントギャップ14が所定のアジマス角を
有するように行えばよく、20度のアジマス角に限定さ
れるものではない。
In this embodiment, the sliding surface 10 is polished so that the front gap 14 of the magnetic head 1 has an azimuth angle of 20 degrees, and the contact width regulating groove 11 is ground. It is assumed that the cut surface of the magnetic head block 38 is inclined and separated. The magnetic head block 38 performs the above-described polishing of the sliding surface 10, grinding of the contact width regulating groove 11, and cutting of the individual magnetic heads 1 so that the front gap 14 has a predetermined azimuth angle. The azimuth angle is not limited to 20 degrees.

【0088】なお、本実施の形態においては、一対の磁
気コア半体ブロック33を接合一体化して磁気ヘッドブ
ロック38とした後に個々の磁気ヘッド1に分離した
が、例えば、一対の磁気コア半体ブロック33を個々の
磁気コア半体に分離した後に、一対の磁気コア半体を接
合一体化して磁気ヘッド1を形成してもよい。
In this embodiment, the pair of magnetic core half blocks 33 are joined and integrated to form a magnetic head block 38 and then separated into individual magnetic heads 1. After the block 33 is separated into individual magnetic core halves, the magnetic head 1 may be formed by joining and integrating a pair of magnetic core halves.

【0089】以下では、本実施の形態に基づいて作製し
た第1の磁気ヘッドと、図15に示すように、磁気記録
媒体の摺動面において、一対の磁気コア半体の突合せ部
に空隙を有する第2の磁気ヘッドとを作製し、摩耗粉等
の蓄積量の測定試験を行った場合について説明する。
In the following, a gap is formed between the first magnetic head manufactured according to the present embodiment and the butting portion of the pair of magnetic core halves on the sliding surface of the magnetic recording medium as shown in FIG. A description will be given of a case in which a second magnetic head having the same is manufactured and a measurement test of the accumulation amount of abrasion powder and the like is performed.

【0090】この測定試験においては、第1の磁気ヘッ
ドと第2の磁気ヘッドとをDVC用のヘッドベースに接
着し、それぞれの外部接続用端子とヘッドベースの外部
端子板とをワイヤーボンディングにより結線して、以下
に示す条件の下で摩耗粉等の蓄積量の測定試験を行っ
た。
In this measurement test, the first magnetic head and the second magnetic head were bonded to a DVC head base, and the external connection terminals and the external terminal plate of the head base were connected by wire bonding. Then, a measurement test of the accumulated amount of wear powder and the like was performed under the following conditions.

【0091】摩耗粉等の蓄積量の測定試験 磁気記録媒体:DVC用MEテープ 記録再生装置:民生用デジタルVTR(DVC) この摩耗粉等の蓄積量の測定試験の結果、第2の磁気ヘ
ッドは、30回程度の走行で摺動面の空隙に摩耗粉等の
蓄積が見られた。ところが、第1の磁気ヘッドは、空隙
を有しないために、当然ながら摩耗粉等の蓄積は見られ
なかった。
Measurement test of accumulated amount of wear powder etc. Magnetic recording medium: ME tape for DVC Recording / reproducing device: Digital VTR for consumer use (DVC) As a result of the measurement test of the accumulation amount of wear powder, the second magnetic head After about 30 runs, accumulation of wear powder and the like was observed in the gaps on the sliding surface. However, since the first magnetic head has no air gap, accumulation of abrasion powder and the like was naturally not observed.

【0092】この測定試験の結果から、本実施の形態に
基づく第1の磁気ヘッドは、摺動する磁気記録媒体を傷
つけてしまう虞のある摺動面での摩耗粉等の蓄積を防止
することができることがわかる。
From the results of this measurement test, the first magnetic head according to the present embodiment can prevent accumulation of abrasion powder and the like on the sliding surface that may damage the sliding magnetic recording medium. You can see that you can do it.

【0093】[0093]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る磁気
ヘッドは、磁気ギャップを形成する非磁性膜が、磁気記
録媒体の摺動面において、全幅に亘って形成されてな
る。そのため、係る磁気ヘッドは、一対の磁気コア半体
が摺動面上で空隙を生じることなく密着し、これら一対
の磁気コア半体の接合強度が向上する。また、係る磁気
ヘッドは、一対の磁気コア半体の突合せ部に磁気記録媒
体の摩耗粉等が蓄積されてしまい、摺動する磁気記録媒
体を傷つけてしまうことがない。
As described above, in the magnetic head according to the present invention, the nonmagnetic film that forms the magnetic gap is formed over the entire width of the sliding surface of the magnetic recording medium. Therefore, in such a magnetic head, the pair of magnetic core halves adhere to each other without forming a gap on the sliding surface, and the joining strength of the pair of magnetic core halves improves. Further, in such a magnetic head, abrasion powder or the like of the magnetic recording medium is not accumulated in the butted portion of the pair of magnetic core halves, and the sliding magnetic recording medium is not damaged.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る磁気ヘッドを示す分解斜視図であ
る。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing a magnetic head according to the present invention.

【図2】同磁気ヘッドの摺動面を示す要部斜視図であ
る。
FIG. 2 is a perspective view of a main part showing a sliding surface of the magnetic head.

【図3】同磁気ヘッドの摺動面を示す要部拡大図であ
る。
FIG. 3 is an enlarged view of a main part showing a sliding surface of the magnetic head.

【図4】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であり、基板を示す斜視図である。
FIG. 4 is a view for explaining the method for manufacturing the magnetic head according to the present invention, and is a perspective view showing a substrate.

【図5】同方法を説明するための図であり、第1の溝加
工を施した基板を示す斜視図である。
FIG. 5 is a view for explaining the same method, and is a perspective view showing a substrate on which first groove processing has been performed.

【図6】同方法を説明するための図であり、金属磁性薄
膜を形成した基板を示す斜視図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining the same method, and is a perspective view showing a substrate on which a metal magnetic thin film is formed.

【図7】同方法を説明するための図であり、第2の溝加
工を施した基板を示す斜視図である。
FIG. 7 is a view for explaining the same method, and is a perspective view showing a substrate on which a second groove processing has been performed.

【図8】同方法を説明するための図であり、各溝に低融
点ガラスを充填した状態の基板を示す斜視図である。
FIG. 8 is a diagram for explaining the same method, and is a perspective view showing the substrate in a state where each groove is filled with low-melting glass.

【図9】同方法を説明するための図であり、低融点ガラ
スに端子溝を形成した基板を示す斜視図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining the same method, and is a perspective view showing a substrate in which terminal grooves are formed in low-melting glass.

【図10】同方法を説明するための図であり、コイル形
成用凹部を形成した基板を示す要部斜視図である。
FIG. 10 is a view for explaining the same method, and is a perspective view of a principal part showing a substrate on which a concave portion for forming a coil is formed.

【図11】同方法を説明するための図であり、非磁性膜
を形成した基板を示す要部斜視図である。
FIG. 11 is a diagram for explaining the same method, and is a perspective view of a main part showing a substrate on which a nonmagnetic film is formed.

【図12】同方法を説明するための図であり、磁気コア
半体ブロックを示す斜視図である。
FIG. 12 is a diagram for explaining the same method, and is a perspective view showing a magnetic core half block.

【図13】同方法を説明するための図であり、一対の磁
気コア半体ブロックを突き合わせる状態を示す斜視図で
ある。
FIG. 13 is a view for explaining the same method, and is a perspective view showing a state where a pair of magnetic core half blocks are butted.

【図14】同方法を説明するための図であり、磁気ヘッ
ドブロックを示す斜視図である。
FIG. 14 is a diagram for explaining the same method, and is a perspective view showing a magnetic head block.

【図15】従来の磁気ヘッドの摺動面を示す要部拡大図
である。
FIG. 15 is an enlarged view of a main part showing a sliding surface of a conventional magnetic head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 磁気ヘッド、2,3 磁気コア半体、4 非磁性基
板、4a 傾斜面、5金属磁性薄膜、5a 凹部、6
低融点ガラス、8 非磁性膜、9 磁気コア、10 摺
動面、11 当たり幅規制溝、12 前部突合せ面、1
3 後部突合せ面、14 フロントギャップ、15 バ
ックギャップ、16 コイル形成用凹部、18 端子溝
Reference Signs List 1 magnetic head, 2, 3 magnetic core half, 4 non-magnetic substrate, 4a inclined surface, 5 metal magnetic thin film, 5a concave portion, 6
Low-melting glass, 8 non-magnetic film, 9 magnetic core, 10 sliding surface, 11 width control groove, 12 front butting surface, 1
3 Rear abutment surface, 14 Front gap, 15 Back gap, 16 Coil forming recess, 18 Terminal groove

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に金属磁性薄膜が斜めに成膜され
るとともに、薄膜コイルが形成された凹部を有し、非磁
性材料により突合せ面が平坦化されてなる一対の磁気コ
ア半体を備え、上記金属磁性薄膜の端面同士が非磁性膜
を介して対向するように突き合わされて磁気ギャップが
形成されてなり、 上記非磁性膜は、磁気記録媒体摺動面において、全幅に
亘って形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。
1. A pair of magnetic core halves having a metal magnetic thin film formed obliquely on a substrate, having a concave portion in which a thin film coil is formed, and having a butted surface made flat by a nonmagnetic material. A magnetic gap is formed by abutting the end faces of the metal magnetic thin film so as to face each other with a non-magnetic film therebetween, and the non-magnetic film is formed over the entire width of the sliding surface of the magnetic recording medium. A magnetic head, comprising:
JP10276118A 1998-09-29 1998-09-29 Magnetic head Withdrawn JP2000105903A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10276118A JP2000105903A (en) 1998-09-29 1998-09-29 Magnetic head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10276118A JP2000105903A (en) 1998-09-29 1998-09-29 Magnetic head

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000105903A true JP2000105903A (en) 2000-04-11

Family

ID=17565054

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10276118A Withdrawn JP2000105903A (en) 1998-09-29 1998-09-29 Magnetic head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000105903A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6278576B1 (en) Magnetic head with magnetic metal film core having offset halves
JP2000105903A (en) Magnetic head
JP2000113409A (en) Production of magnetic head
JP2000123314A (en) Magnetic head and its production
JP3620207B2 (en) Magnetic head and manufacturing method thereof
JP2000113410A (en) Magnetic head
JP2000057517A (en) Magnetic head and its production
JPH1091912A (en) Magnetic head
JP3620204B2 (en) Magnetic head and manufacturing method thereof
JP2000057515A (en) Manufacture of magnetic head
JP2000067412A (en) Magnetic head
JP2001023109A (en) Magnetic head
JP2000090410A (en) Magnetic head and its production
JP2000099912A (en) Magnetic head
JP2000090411A (en) Multichannel magnetic head and multichannel magnetic head device
JPH1166513A (en) Magnetic head and its manufacture
JPH11144207A (en) Magnetic head and manufacture thereof
JP2000057516A (en) Magnetic head and its production
JPH08153309A (en) Magnetic head
JPH10269515A (en) Magnetic head and its manufacture
JP2001093109A (en) Magnetic head and its manufacture
JP2000076614A (en) Magnetic head
JPH10269519A (en) Magnetic head and its manufacture
JP2000293812A (en) Magnetic head and its production
JP2000011314A (en) Magnetic head and its production

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20060110