JPH08144088A - ＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法 - Google Patents
ＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法Info
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- JPH08144088A JPH08144088A JP28231494A JP28231494A JPH08144088A JP H08144088 A JPH08144088 A JP H08144088A JP 28231494 A JP28231494 A JP 28231494A JP 28231494 A JP28231494 A JP 28231494A JP H08144088 A JPH08144088 A JP H08144088A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＣＶＤ装置，ＰＶＤ装置，ドライエッチング
装置などに用いられるＡｌまたはＡｌ合金製真空チャン
バ部材の表面処理方法であって、真空チャンバ内に導入
される腐食性のガスやプラズマに対して優れた耐食性を
発揮するＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面
処理方法を提供する。 【構成】 ＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の表
面に陽極酸化処理を行うにあたって、陽極酸化の初期電
圧より陽極酸化の終期電圧を高くする。尚、上記終期電
圧を初期電圧より高くするにあたっては、陽極酸化電圧
を全工程の任意の区間で連続的または非連続的に変化さ
せてもよく、或いは陽極酸化電圧を任意の区間で一定に
保つ方法を採用してもよい。
装置などに用いられるＡｌまたはＡｌ合金製真空チャン
バ部材の表面処理方法であって、真空チャンバ内に導入
される腐食性のガスやプラズマに対して優れた耐食性を
発揮するＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面
処理方法を提供する。 【構成】 ＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の表
面に陽極酸化処理を行うにあたって、陽極酸化の初期電
圧より陽極酸化の終期電圧を高くする。尚、上記終期電
圧を初期電圧より高くするにあたっては、陽極酸化電圧
を全工程の任意の区間で連続的または非連続的に変化さ
せてもよく、或いは陽極酸化電圧を任意の区間で一定に
保つ方法を採用してもよい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＣＶＤ装置，ＰＶＤ装
置，ドライエッチング装置などに用いられるＡｌまたは
Ａｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法であって、
真空チャンバ内に導入される腐食性のガスやプラズマに
対して優れた耐食性を発揮するＡｌまたはＡｌ合金製真
空チャンバ部材の表面処理方法に関するものである。
置，ドライエッチング装置などに用いられるＡｌまたは
Ａｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法であって、
真空チャンバ内に導入される腐食性のガスやプラズマに
対して優れた耐食性を発揮するＡｌまたはＡｌ合金製真
空チャンバ部材の表面処理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＣＶＤ装置，ＰＶＤ装置，ドライエッチ
ング装置などに用いられる真空チャンバの内部には、反
応ガスやエッチングガスとしてＣｌやＦ等のハロゲン元
素を含む腐食性のガスが導入されることから、腐食性ガ
スに対する耐食性（以下、耐ガス性ということがある）
が要求されている。また熱プラズマＣＶＤ装置等の場合
には、上記腐食性ガスに加えて、ハロゲン系のプラズマ
も発生するので、プラズマに対する耐食性（以下、耐プ
ラズマ性ということがある）も重要である。
ング装置などに用いられる真空チャンバの内部には、反
応ガスやエッチングガスとしてＣｌやＦ等のハロゲン元
素を含む腐食性のガスが導入されることから、腐食性ガ
スに対する耐食性（以下、耐ガス性ということがある）
が要求されている。また熱プラズマＣＶＤ装置等の場合
には、上記腐食性ガスに加えて、ハロゲン系のプラズマ
も発生するので、プラズマに対する耐食性（以下、耐プ
ラズマ性ということがある）も重要である。
【０００３】その為、上記真空チャンバ用材料としては
従来主にステンレス鋼材が用いられていた。しかしなが
ら、ステンレス鋼製の真空チャンバは重量が大きく土台
に大掛かりな工事が必要であり、また熱伝導性が十分で
なく作動時のベーキングに時間がかかるという問題があ
った。更に、ステンレス鋼の成分であるＣｒなどの重金
属が、何らかの要因でプロセス中に放出されて汚染源と
なることもあった。そこで、ステンレス鋼より軽量で、
熱伝導性に優れ、しかも重金属汚染のおそれのないＡｌ
またはＡｌ合金製の真空チャンバの開発が検討されてい
る。
従来主にステンレス鋼材が用いられていた。しかしなが
ら、ステンレス鋼製の真空チャンバは重量が大きく土台
に大掛かりな工事が必要であり、また熱伝導性が十分で
なく作動時のベーキングに時間がかかるという問題があ
った。更に、ステンレス鋼の成分であるＣｒなどの重金
属が、何らかの要因でプロセス中に放出されて汚染源と
なることもあった。そこで、ステンレス鋼より軽量で、
熱伝導性に優れ、しかも重金属汚染のおそれのないＡｌ
またはＡｌ合金製の真空チャンバの開発が検討されてい
る。
【０００４】しかしながら、ＡｌまたはＡｌ合金の地金
表面は耐ガス性および耐プラズマ性が必ずしも良い訳で
はなく、何らかの表面処理を施すことが必要と考えら
れ、種々検討されている。例えば、特公平５−５３８７
０号公報には、ＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材
の表面に陽極酸化処理を施し、陽極酸化皮膜を形成する
ことによりＡｌまたはＡｌ合金の耐ガス性を向上させて
真空チャンバ部材とする発明が開示されている。但し上
記陽極酸化皮膜は、前記腐食性ガスやプラズマとの反応
を全く起こさないというものではなく、使用中に腐食さ
れると反応生成物が微粒子として発生し、例えば半導体
製造に用いられると不良品の原因となることがあり、改
善が望まれていた。また特公平５−５３８７１号公報に
は、イオンプレーティング法を採用しＡｌまたはＡｌ合
金製真空チャンバ部材の表面に、耐食性に優れた皮膜
（例えば、ＴｉＮ、ＴｉＣ等）を形成する技術が開示さ
れている。但し、上記皮膜をイオンプレーティング等の
気相合成法により作成すると、かなりの処理コストがか
かるという問題がある。
表面は耐ガス性および耐プラズマ性が必ずしも良い訳で
はなく、何らかの表面処理を施すことが必要と考えら
れ、種々検討されている。例えば、特公平５−５３８７
０号公報には、ＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材
の表面に陽極酸化処理を施し、陽極酸化皮膜を形成する
ことによりＡｌまたはＡｌ合金の耐ガス性を向上させて
真空チャンバ部材とする発明が開示されている。但し上
記陽極酸化皮膜は、前記腐食性ガスやプラズマとの反応
を全く起こさないというものではなく、使用中に腐食さ
れると反応生成物が微粒子として発生し、例えば半導体
製造に用いられると不良品の原因となることがあり、改
善が望まれていた。また特公平５−５３８７１号公報に
は、イオンプレーティング法を採用しＡｌまたはＡｌ合
金製真空チャンバ部材の表面に、耐食性に優れた皮膜
（例えば、ＴｉＮ、ＴｉＣ等）を形成する技術が開示さ
れている。但し、上記皮膜をイオンプレーティング等の
気相合成法により作成すると、かなりの処理コストがか
かるという問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に着
目してなされたものであって、コスト的に有利な陽極酸
化処理を施す方法を前提として、耐ガス性及び耐プラズ
マ性に優れたＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の
表面処理方法を提供しようとするものである。
目してなされたものであって、コスト的に有利な陽極酸
化処理を施す方法を前提として、耐ガス性及び耐プラズ
マ性に優れたＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の
表面処理方法を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成した本発
明に係るＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面
処理方法とは、ＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材
の表面に陽極酸化処理を行うにあたって、陽極酸化の初
期電圧より陽極酸化の終期電圧を高くすることを要旨と
するものである。
明に係るＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面
処理方法とは、ＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材
の表面に陽極酸化処理を行うにあたって、陽極酸化の初
期電圧より陽極酸化の終期電圧を高くすることを要旨と
するものである。
【０００７】尚、上記終期電圧を初期電圧より高くする
にあたっては、陽極酸化電圧を全工程の任意の区間で連
続的または非連続的に変化させてもよく、或いは陽極酸
化電圧を任意の区間で一定に保つ方法を採用してもよ
い。また陽極酸化の初期電圧は５０Ｖ以下であることが
好ましく、終期電圧は３０Ｖ以上であることが望まし
い。
にあたっては、陽極酸化電圧を全工程の任意の区間で連
続的または非連続的に変化させてもよく、或いは陽極酸
化電圧を任意の区間で一定に保つ方法を採用してもよ
い。また陽極酸化の初期電圧は５０Ｖ以下であることが
好ましく、終期電圧は３０Ｖ以上であることが望まし
い。
【０００８】さらに陽極酸化処理液として１ｇ／リット
ル以上のしゅう酸を含有する溶液を用いる方法が推奨さ
れ、上記溶液に、Ｓ，Ｎ，Ｐ，Ｆ，Ｂよりなる群から選
ばれる１種以上の元素を含有させればより望ましい。
尚、本発明において初期電圧とは陽極酸化皮膜の形成が
実質的に開始される電解電圧を意味しており、終期電圧
とは陽極酸化皮膜の形成が実質的に終了する電解電圧を
いう。
ル以上のしゅう酸を含有する溶液を用いる方法が推奨さ
れ、上記溶液に、Ｓ，Ｎ，Ｐ，Ｆ，Ｂよりなる群から選
ばれる１種以上の元素を含有させればより望ましい。
尚、本発明において初期電圧とは陽極酸化皮膜の形成が
実質的に開始される電解電圧を意味しており、終期電圧
とは陽極酸化皮膜の形成が実質的に終了する電解電圧を
いう。
【０００９】また本発明において、ＡｌまたはＡｌ合金
製真空チャンバ部材とは、ＡｌまたはＡｌ合金製真空チ
ャンバの構造材だけではなく、該真空チャンバ内に配設
されるクランパー，シャワーヘッド，サセプターなどの
部材であって、ＡｌまたはＡｌ合金で製作されるものは
全て適用可能であり、以下の説明では、これらの部材を
すべて包含してＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材
と総称する。
製真空チャンバ部材とは、ＡｌまたはＡｌ合金製真空チ
ャンバの構造材だけではなく、該真空チャンバ内に配設
されるクランパー，シャワーヘッド，サセプターなどの
部材であって、ＡｌまたはＡｌ合金で製作されるものは
全て適用可能であり、以下の説明では、これらの部材を
すべて包含してＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材
と総称する。
【００１０】
【作用】本発明者らは、ＡｌまたはＡｌ合金製真空チャ
ンバ部材は、前述の腐食性ガスやプラズマに対する耐食
性が悪いので、これを改善すべく種々の表面改質技術に
ついて鋭意研究を重ねてきた。その結果、陽極酸化処理
を行う場合には、処理条件を変化させることによって陽
極酸化皮膜の内部構造や成分組成を制御することが可能
であり、これによって耐ガス性及び耐プラズマ性の向上
に非常に優れた成果が得られることを見出した。
ンバ部材は、前述の腐食性ガスやプラズマに対する耐食
性が悪いので、これを改善すべく種々の表面改質技術に
ついて鋭意研究を重ねてきた。その結果、陽極酸化処理
を行う場合には、処理条件を変化させることによって陽
極酸化皮膜の内部構造や成分組成を制御することが可能
であり、これによって耐ガス性及び耐プラズマ性の向上
に非常に優れた成果が得られることを見出した。
【００１１】尚、従来技術（例えば、上記特公平５ー５
３８７０号公報）においても、陽極酸化処理を行うに際
して陽極酸化皮膜の膜厚を制御する技術が含まれてい
る。また、電解条件を変えることで陽極酸化皮膜の構造
が変化することも知られている。しかしながら、陽極酸
化皮膜の内部構造や成分組成を制御することによって腐
食性ガスやプラズマとの腐食反応を抑制しようとする試
みは行われておらず、またこの観点から検討を行った事
例の報告はない。
３８７０号公報）においても、陽極酸化処理を行うに際
して陽極酸化皮膜の膜厚を制御する技術が含まれてい
る。また、電解条件を変えることで陽極酸化皮膜の構造
が変化することも知られている。しかしながら、陽極酸
化皮膜の内部構造や成分組成を制御することによって腐
食性ガスやプラズマとの腐食反応を抑制しようとする試
みは行われておらず、またこの観点から検討を行った事
例の報告はない。
【００１２】図５は、陽極酸化処理によりＡｌ又はＡｌ
合金製真空チャンバ部材の表面に形成される陽極酸化皮
膜の概略構造を概念的に示す一部断面説明図である。上
記陽極酸化皮膜は、電解が開始されると共に基材１にポ
ア３と呼ばれる凹部を穿孔しながら、上記ポア３を中心
位置に有するセル２を深さ方向に成長せしめる。図６
は、陽極酸化皮膜の断面図であり、本発明ではポア３が
形成された部分をポーラス層４、該ポーラス層４と基材
１との間に介在してポアのない層をバリア層５と呼ぶ。
該バリア層５はガス透過性を有しないから、ガスやプラ
ズマがＡｌやＡｌ合金と接触するのを防ぐ。尚、上記の
様にポーラス層とバリア層を有する陽極酸化皮膜の場合
には、ポーラス層のポア径、セル径およびバリア層の厚
さは、夫々の間に正の相関関係があることが分かってい
る。そこでまず、本発明者らが陽極酸化皮膜の内部構造
と耐ガス性および耐プラズマ性との関係について調べた
ところ、以下の様な知見を得た。
合金製真空チャンバ部材の表面に形成される陽極酸化皮
膜の概略構造を概念的に示す一部断面説明図である。上
記陽極酸化皮膜は、電解が開始されると共に基材１にポ
ア３と呼ばれる凹部を穿孔しながら、上記ポア３を中心
位置に有するセル２を深さ方向に成長せしめる。図６
は、陽極酸化皮膜の断面図であり、本発明ではポア３が
形成された部分をポーラス層４、該ポーラス層４と基材
１との間に介在してポアのない層をバリア層５と呼ぶ。
該バリア層５はガス透過性を有しないから、ガスやプラ
ズマがＡｌやＡｌ合金と接触するのを防ぐ。尚、上記の
様にポーラス層とバリア層を有する陽極酸化皮膜の場合
には、ポーラス層のポア径、セル径およびバリア層の厚
さは、夫々の間に正の相関関係があることが分かってい
る。そこでまず、本発明者らが陽極酸化皮膜の内部構造
と耐ガス性および耐プラズマ性との関係について調べた
ところ、以下の様な知見を得た。
【００１３】第１に、ポーラス層の表面におけるポア径
およびセル径が小さい程、優れた耐プラズマ性を発揮す
ることを見出した。これは、ポアの開口部面積が小さい
程ポーラス層表面の均一性が向上することから、ポア径
およびセル径が大きい場合においてポアの表面側縁部に
発生し易いプラズマの局部的集中を抑制して、ポーラス
層の表面近傍においてプラズマ濃度が不均一となること
を抑制できるからであると考えられる。
およびセル径が小さい程、優れた耐プラズマ性を発揮す
ることを見出した。これは、ポアの開口部面積が小さい
程ポーラス層表面の均一性が向上することから、ポア径
およびセル径が大きい場合においてポアの表面側縁部に
発生し易いプラズマの局部的集中を抑制して、ポーラス
層の表面近傍においてプラズマ濃度が不均一となること
を抑制できるからであると考えられる。
【００１４】第２に、ポーラス層の基材側の内部構造と
しては、陽極酸化皮膜の割れや剥離を抑制する面から、
ポア径およびセル径の大きな構造であることが好ましい
ことも分かった。更に、ポア径およびセル径の大きな構
造とすることは、ポア内の表面積を含む実質表面積を小
さくして腐食性ガスとの反応可能面積を減少させ、反応
生成物による体積変化が内部構造に及ぼす影響を減少さ
せることによって、耐ガス性の向上に対しても有効に作
用するものと考えられる。
しては、陽極酸化皮膜の割れや剥離を抑制する面から、
ポア径およびセル径の大きな構造であることが好ましい
ことも分かった。更に、ポア径およびセル径の大きな構
造とすることは、ポア内の表面積を含む実質表面積を小
さくして腐食性ガスとの反応可能面積を減少させ、反応
生成物による体積変化が内部構造に及ぼす影響を減少さ
せることによって、耐ガス性の向上に対しても有効に作
用するものと考えられる。
【００１５】第３に、バリア層は厚い程、耐ガス性が良
くなる。上述の通り、バリア層の存在により、腐食性ガ
スはＡｌまたはＡｌ合金基材と容易に接触することはで
きない。但し、腐食性ガス雰囲気下に長時間おかれる
と、ガスの種類によっては徐々にバリア層内に侵入して
いくことがある。従って、腐食性ガスから遮断するだけ
ではなく、更には腐食性ガスに長時間曝された場合であ
っても、優れた耐ガス性を発揮する上で、バリア層は厚
い方が望ましいのである。
くなる。上述の通り、バリア層の存在により、腐食性ガ
スはＡｌまたはＡｌ合金基材と容易に接触することはで
きない。但し、腐食性ガス雰囲気下に長時間おかれる
と、ガスの種類によっては徐々にバリア層内に侵入して
いくことがある。従って、腐食性ガスから遮断するだけ
ではなく、更には腐食性ガスに長時間曝された場合であ
っても、優れた耐ガス性を発揮する上で、バリア層は厚
い方が望ましいのである。
【００１６】以上の知見から、ポーラス層の表面側のポ
ア径はできるだけ小さく形成し、一方、基材側のポア径
はできるだけ大きく形成してバリア層を厚くする様な構
造が望ましいとの結論を得た。
ア径はできるだけ小さく形成し、一方、基材側のポア径
はできるだけ大きく形成してバリア層を厚くする様な構
造が望ましいとの結論を得た。
【００１７】そこで本発明者らが鋭意検討を行った結
果、Ａｌ合金に陽極酸化処理を行うに際して、電解条件
の中でも陽極酸化電圧を制御して初期電圧より終期電圧
を高く設定することによって、優れた耐ガス性と耐プラ
ズマ性を同時に発揮する上記のような内部構造を有する
陽極酸化皮膜が形成できることを見出した。
果、Ａｌ合金に陽極酸化処理を行うに際して、電解条件
の中でも陽極酸化電圧を制御して初期電圧より終期電圧
を高く設定することによって、優れた耐ガス性と耐プラ
ズマ性を同時に発揮する上記のような内部構造を有する
陽極酸化皮膜が形成できることを見出した。
【００１８】即ち、ポーラス層の表面側はプラズマとの
反応を抑制する観点からポア径やセル径の小さな平滑な
構造が必要であり、一方陽極酸化は表面からスタートし
て順次深部方向へ進行し、且つその進行最奥端における
酸化皮膜の形成状況は陽極酸化電圧によって影響される
との知見を得ると共に、陽極酸化によっていったん形成
された陽極酸化皮膜のポア径やセル径はその後の陽極酸
化電圧によって変化することがないことが判明した。従
って、陽極酸化の初期電圧は低めの電圧に設定すること
が望ましく、具体的には５０Ｖ以下が好ましく、３０Ｖ
以下であればより好ましい。また、基材側の皮膜構造と
しては皮膜の応力を緩和し、皮膜の割れや剥離を抑制す
る面からポア径やセル径の大きな構造であることが好ま
しく、さらには陽極酸化皮膜のポーラス層と基材との界
面に厚いバリア層が形成されていれば、より優れた耐ガ
ス性が発揮される。この観点から陽極酸化処理の終期電
圧は初期電圧よりも高く設定する必要があり、終期電圧
としては３０Ｖ以上が好ましく、５０Ｖ以上がより望ま
しく、７０Ｖ以上であれば更に好ましい。
反応を抑制する観点からポア径やセル径の小さな平滑な
構造が必要であり、一方陽極酸化は表面からスタートし
て順次深部方向へ進行し、且つその進行最奥端における
酸化皮膜の形成状況は陽極酸化電圧によって影響される
との知見を得ると共に、陽極酸化によっていったん形成
された陽極酸化皮膜のポア径やセル径はその後の陽極酸
化電圧によって変化することがないことが判明した。従
って、陽極酸化の初期電圧は低めの電圧に設定すること
が望ましく、具体的には５０Ｖ以下が好ましく、３０Ｖ
以下であればより好ましい。また、基材側の皮膜構造と
しては皮膜の応力を緩和し、皮膜の割れや剥離を抑制す
る面からポア径やセル径の大きな構造であることが好ま
しく、さらには陽極酸化皮膜のポーラス層と基材との界
面に厚いバリア層が形成されていれば、より優れた耐ガ
ス性が発揮される。この観点から陽極酸化処理の終期電
圧は初期電圧よりも高く設定する必要があり、終期電圧
としては３０Ｖ以上が好ましく、５０Ｖ以上がより望ま
しく、７０Ｖ以上であれば更に好ましい。
【００１９】尚、上記終期電圧を初期電圧より高く設定
するに際しては、陽極酸化電圧を全工程に亘って連続的
に変化させる方法と段階的に変化させる方法のいずれを
採用してもよい。換言すれば、陽極酸化電圧を全工程の
任意の区間で連続的に又は非連続的に変化させてもよ
く、或いは全工程の任意の区間で電圧を一定に保っても
よい。
するに際しては、陽極酸化電圧を全工程に亘って連続的
に変化させる方法と段階的に変化させる方法のいずれを
採用してもよい。換言すれば、陽極酸化電圧を全工程の
任意の区間で連続的に又は非連続的に変化させてもよ
く、或いは全工程の任意の区間で電圧を一定に保っても
よい。
【００２０】この様に、陽極酸化電圧を全工程の任意の
区間で変化させて異なった内部構造を有する層を複合又
は積層することにより、プロセス中で陽極酸化皮膜とガ
ス又はプラズマが接触した場合に生ずる応力や体積変化
を緩和することができ、その結果、腐食や損傷の起点と
なる皮膜の割れや剥離を抑制して耐ガス性および耐プラ
ズマ性の向上に効果を発揮する。
区間で変化させて異なった内部構造を有する層を複合又
は積層することにより、プロセス中で陽極酸化皮膜とガ
ス又はプラズマが接触した場合に生ずる応力や体積変化
を緩和することができ、その結果、腐食や損傷の起点と
なる皮膜の割れや剥離を抑制して耐ガス性および耐プラ
ズマ性の向上に効果を発揮する。
【００２１】図１に電解電圧を連続的に変化させる方法
の電圧パターンを示す。図１に示す様に、電解開始時点
から順次電圧を上げていく方法やある程度電圧を上昇さ
せた後、一旦電圧を降下させ、再度電圧を上昇させる方
法などが例示できる。尚、図１には直線的に変化させる
パターンを示したが、曲線的に変化してもよい。
の電圧パターンを示す。図１に示す様に、電解開始時点
から順次電圧を上げていく方法やある程度電圧を上昇さ
せた後、一旦電圧を降下させ、再度電圧を上昇させる方
法などが例示できる。尚、図１には直線的に変化させる
パターンを示したが、曲線的に変化してもよい。
【００２２】図３に電解電圧を段階的に変化させる方法
の電圧パターンを示す。図３に示す様に、電解電圧を断
続的に上げていく方法や段階的に設定された各電圧間の
移行を連続的に行う方法や、或いは途中で一旦電圧を降
下させた後、再び高い電圧に設定する方法などが例示で
きる。尚、電解電圧を段階的に変化させる場合には、陽
極酸化皮膜構造の深さ方向に連続性を持たせて応力が集
中し易い部分を形成しないという観点から、各電解電圧
間の移行を連続的に行うか、或いは移行する電圧差を小
さくすることが推奨される。
の電圧パターンを示す。図３に示す様に、電解電圧を断
続的に上げていく方法や段階的に設定された各電圧間の
移行を連続的に行う方法や、或いは途中で一旦電圧を降
下させた後、再び高い電圧に設定する方法などが例示で
きる。尚、電解電圧を段階的に変化させる場合には、陽
極酸化皮膜構造の深さ方向に連続性を持たせて応力が集
中し易い部分を形成しないという観点から、各電解電圧
間の移行を連続的に行うか、或いは移行する電圧差を小
さくすることが推奨される。
【００２３】本発明は、陽極酸化皮膜の厚さを限定する
ものではないが、優れた耐食性を発揮するには、０．０
５μｍ以上形成することが好ましく、０．１μｍ以上で
あればより好ましい。但し、皮膜厚さが厚過ぎると、内
部応力等の影響により割れを生じて表面の被覆が不充分
になったり、更には皮膜の剥離を起こすので５０μｍ以
下とすることが望ましい。即ち、皮膜厚さが５０μｍを
超えると皮膜自身によって応力を緩和することが困難に
なる場合もあり、割れを生じて皮膜が剥離し、逆に不良
発生の問題を引き起こすことがあるので注意が必要であ
る。
ものではないが、優れた耐食性を発揮するには、０．０
５μｍ以上形成することが好ましく、０．１μｍ以上で
あればより好ましい。但し、皮膜厚さが厚過ぎると、内
部応力等の影響により割れを生じて表面の被覆が不充分
になったり、更には皮膜の剥離を起こすので５０μｍ以
下とすることが望ましい。即ち、皮膜厚さが５０μｍを
超えると皮膜自身によって応力を緩和することが困難に
なる場合もあり、割れを生じて皮膜が剥離し、逆に不良
発生の問題を引き起こすことがあるので注意が必要であ
る。
【００２４】本発明は電解に用いる溶液の種類を限定す
るものではなく、硫酸，りん酸，クロム酸などの無機
酸、或いはギ酸やしゅう酸などの有機酸が使用できる
が、陽極酸化の電解電圧を広い範囲で任意に制御できる
面から、しゅう酸を１ｇ／リットル以上含有する電解液
を用いることが推奨される。例えば図７は、硫酸，しゅ
う酸，りん酸の３種の陽極酸化処理溶液を用いて、種々
の電解条件で陽極酸化皮膜を形成した場合の電解電圧と
電流密度の関係を示すグラフである。硫酸の場合は、電
解電圧の変化によって電流密度が大きく変化することか
ら、成膜速度が大きい。一方りん酸の場合は電解電圧を
比較的大きく変化させても電流密度の変化が小さく、ま
た成膜速度が小さい。従って、硫酸は成膜速度が大き過
ぎて膜厚の制御が難しく、一方りん酸は成膜速度が小さ
過ぎて生産効率が悪いということが言える。これに対し
てしゅう酸は電解電圧の変化に対する電流密度の変化が
硫酸とりん酸の中間程度であり、生産効率をりん酸ほど
損なうことなく、内部構造を制御することが容易であ
る。
るものではなく、硫酸，りん酸，クロム酸などの無機
酸、或いはギ酸やしゅう酸などの有機酸が使用できる
が、陽極酸化の電解電圧を広い範囲で任意に制御できる
面から、しゅう酸を１ｇ／リットル以上含有する電解液
を用いることが推奨される。例えば図７は、硫酸，しゅ
う酸，りん酸の３種の陽極酸化処理溶液を用いて、種々
の電解条件で陽極酸化皮膜を形成した場合の電解電圧と
電流密度の関係を示すグラフである。硫酸の場合は、電
解電圧の変化によって電流密度が大きく変化することか
ら、成膜速度が大きい。一方りん酸の場合は電解電圧を
比較的大きく変化させても電流密度の変化が小さく、ま
た成膜速度が小さい。従って、硫酸は成膜速度が大き過
ぎて膜厚の制御が難しく、一方りん酸は成膜速度が小さ
過ぎて生産効率が悪いということが言える。これに対し
てしゅう酸は電解電圧の変化に対する電流密度の変化が
硫酸とりん酸の中間程度であり、生産効率をりん酸ほど
損なうことなく、内部構造を制御することが容易であ
る。
【００２５】以上は、陽極酸化皮膜の耐ガス性および耐
プラズマ性を向上させることを目的として、陽極酸化処
理時の電解電圧を制御する表面処理方法について説明し
たが、更に本発明者らが鋭意研究を重ねた結果、陽極酸
化処理溶液の成分組成を調整することによっても、より
一層の耐食性改善効果が得られることをつきとめた。即
ち、Ｓ，Ｎ，Ｐ，Ｆ，Ｂ（以下、本発明に係る元素とい
うことがある）よりなる群から選ばれる１種以上の元素
を、しゅう酸に含有させることによって、ガスやプラズ
マに対する耐食性が一段と優れた陽極酸化皮膜が形成で
きることを見出したのである。
プラズマ性を向上させることを目的として、陽極酸化処
理時の電解電圧を制御する表面処理方法について説明し
たが、更に本発明者らが鋭意研究を重ねた結果、陽極酸
化処理溶液の成分組成を調整することによっても、より
一層の耐食性改善効果が得られることをつきとめた。即
ち、Ｓ，Ｎ，Ｐ，Ｆ，Ｂ（以下、本発明に係る元素とい
うことがある）よりなる群から選ばれる１種以上の元素
を、しゅう酸に含有させることによって、ガスやプラズ
マに対する耐食性が一段と優れた陽極酸化皮膜が形成で
きることを見出したのである。
【００２６】本発明に係る元素をしゅう酸中に含有させ
る方法としては、硫酸，硝酸，りん酸，ふっ酸，ほう酸
などの酸をしゅう酸と併用してもよく、また本発明に係
る１種以上を含有する化合物［例えば、Ａｌ2 （ＳＯ
4 ）3 ，Ａｌ（ＮＯ3 ）3 ，ＡｌＰＯ4 ，（ＮＨ4 ）2
Ｂ4 Ｏ7 など］をしゅう酸に添加してもよい。
る方法としては、硫酸，硝酸，りん酸，ふっ酸，ほう酸
などの酸をしゅう酸と併用してもよく、また本発明に係
る１種以上を含有する化合物［例えば、Ａｌ2 （ＳＯ
4 ）3 ，Ａｌ（ＮＯ3 ）3 ，ＡｌＰＯ4 ，（ＮＨ4 ）2
Ｂ4 Ｏ7 など］をしゅう酸に添加してもよい。
【００２７】尚、陽極酸化処理溶液に添加する上記化合
物の量は、Ｓ，Ｎ，Ｐ，Ｆ，Ｂという夫々の元素量に換
算して０．１ｇ／リットル以上が好ましく、０．１ｇ／
リットル未満の場合には顕著な効果を発揮することは難
しい。
物の量は、Ｓ，Ｎ，Ｐ，Ｆ，Ｂという夫々の元素量に換
算して０．１ｇ／リットル以上が好ましく、０．１ｇ／
リットル未満の場合には顕著な効果を発揮することは難
しい。
【００２８】本発明は基材となるＡｌ合金を限定するも
のではないが、例えばチャンバ材料としては機械的強
度、熱伝導率、電気伝導率、耐食性の観点から優れてい
る５０００系合金や６０００系合金が有用であり、５０
００系合金の場合、少なくとも合金成分として、Ｓｉ：
０．５重量％以下、Ｍｇ：０．５〜６．０重量％含有し
ていることが好ましく、また、６０００系合金の場合、
少なくとも合金成分として、Ｓｉ：０．２〜１．２重量
％、Ｍｇ：０．４〜１．５重量％含有していることが好
ましい。尚、チャンバ内部品の場合には、５０００系合
金や６０００系合金の他に、１０００系合金，２０００
系合金，７０００系合金などを用いることもできる。
のではないが、例えばチャンバ材料としては機械的強
度、熱伝導率、電気伝導率、耐食性の観点から優れてい
る５０００系合金や６０００系合金が有用であり、５０
００系合金の場合、少なくとも合金成分として、Ｓｉ：
０．５重量％以下、Ｍｇ：０．５〜６．０重量％含有し
ていることが好ましく、また、６０００系合金の場合、
少なくとも合金成分として、Ｓｉ：０．２〜１．２重量
％、Ｍｇ：０．４〜１．５重量％含有していることが好
ましい。尚、チャンバ内部品の場合には、５０００系合
金や６０００系合金の他に、１０００系合金，２０００
系合金，７０００系合金などを用いることもできる。
【００２９】
【実施例】実施例１ 表１に示す各種Ａｌ合金板を用いて、図１および図２に
示す各種電解電圧パターンにより陽極酸化皮膜を形成し
て試験片とした。尚、図１のパターンＡ〜Ｆはいずれも
本発明に係る表面処理方法の好ましい電解電圧制御方式
であり、少なくとも初期電圧より終期電圧が高く、電解
電圧は連続的に変化している。従ってパターンＡ〜Ｆに
より陽極酸化処理された陽極酸化皮膜は本発明例であ
る。これに対して図２のパターンＧは初期電圧が終期電
圧より高いので、このパターンＧで陽極酸化処理された
陽極酸化皮膜は比較例に相当する。また図２のパターン
Ｈは全工程に亘って電解電圧が一定であるので、このパ
ターンＨで陽極酸化処理された陽極酸化皮膜は従来例に
相当する。陽極酸化処理溶液の組成と、初期電圧および
終期電圧（陽極酸化処理途中の電解電圧の変化の傾きが
変わるポイントの電圧も併記する）を表１に示す。
示す各種電解電圧パターンにより陽極酸化皮膜を形成し
て試験片とした。尚、図１のパターンＡ〜Ｆはいずれも
本発明に係る表面処理方法の好ましい電解電圧制御方式
であり、少なくとも初期電圧より終期電圧が高く、電解
電圧は連続的に変化している。従ってパターンＡ〜Ｆに
より陽極酸化処理された陽極酸化皮膜は本発明例であ
る。これに対して図２のパターンＧは初期電圧が終期電
圧より高いので、このパターンＧで陽極酸化処理された
陽極酸化皮膜は比較例に相当する。また図２のパターン
Ｈは全工程に亘って電解電圧が一定であるので、このパ
ターンＨで陽極酸化処理された陽極酸化皮膜は従来例に
相当する。陽極酸化処理溶液の組成と、初期電圧および
終期電圧（陽極酸化処理途中の電解電圧の変化の傾きが
変わるポイントの電圧も併記する）を表１に示す。
【００３０】上記試験片のハロゲン系ガスに対する耐食
性を評価することを目的として、５％Ｃｌ−Ａｒ混合ガ
スにより、３００℃で４時間のガス腐食試験を行い、試
験後の外観を調べて以下の基準で評価した。 ［ガス腐食試験］ ○： 腐食発生なし △： 腐食発生面積率 ５％未満 ×： 腐食発生面積率 ５％以上
性を評価することを目的として、５％Ｃｌ−Ａｒ混合ガ
スにより、３００℃で４時間のガス腐食試験を行い、試
験後の外観を調べて以下の基準で評価した。 ［ガス腐食試験］ ○： 腐食発生なし △： 腐食発生面積率 ５％未満 ×： 腐食発生面積率 ５％以上
【００３１】また、前記試験片の耐プラズマ性について
は、低バイアス条件下で９０分間の塩素プラズマ照射試
験を行い、その被エッチング量を測定して、以下の様に
評価した。 ［プラズマ照射試験］ ○： 被エッチング量 ２μｍ未満 △： 被エッチング量 ２μｍ以上５μｍ未満 ×： 被エッチング量 ５μｍ以上 上記ガス腐食試験およびプラズマ照射試験の結果は表１
に示す。
は、低バイアス条件下で９０分間の塩素プラズマ照射試
験を行い、その被エッチング量を測定して、以下の様に
評価した。 ［プラズマ照射試験］ ○： 被エッチング量 ２μｍ未満 △： 被エッチング量 ２μｍ以上５μｍ未満 ×： 被エッチング量 ５μｍ以上 上記ガス腐食試験およびプラズマ照射試験の結果は表１
に示す。
【００３２】
【表１】
【００３３】表１の結果から明らかな様に、本発明に係
る条件を満足するＮｏ．１〜８は、優れた耐ガス性およ
び耐プラズマ性を示した。一方Ｎｏ．９〜１３は、本発
明に係る条件のいずれかを満足しない比較例であり、耐
ガス性または耐プラズマ性の少なくとも一方が不充分で
ある。
る条件を満足するＮｏ．１〜８は、優れた耐ガス性およ
び耐プラズマ性を示した。一方Ｎｏ．９〜１３は、本発
明に係る条件のいずれかを満足しない比較例であり、耐
ガス性または耐プラズマ性の少なくとも一方が不充分で
ある。
【００３４】実施例２ 表２に示す各種Ａｌ合金板を用いて、図３および図４に
示す各種電解電圧パターンにより陽極酸化皮膜を形成し
て試験片とした。尚、図３のパターンＡ〜Ｆはいずれも
本発明に係る表面処理方法の好ましい電解電圧制御方式
であり、少なくとも初期電圧より終期電圧が高く、電解
電圧は段階的に変化している。従ってパターンＡ〜Ｆに
より陽極酸化処理された陽極酸化皮膜は本発明例であ
る。これに対して図４のパターンＧは全工程に亘って電
解電圧が一定であり、またパターンＨは初期電圧と終期
電圧が同じであるので、これらのパターンＧ，Ｈで陽極
酸化処理された陽極酸化皮膜は従来例に相当する。
示す各種電解電圧パターンにより陽極酸化皮膜を形成し
て試験片とした。尚、図３のパターンＡ〜Ｆはいずれも
本発明に係る表面処理方法の好ましい電解電圧制御方式
であり、少なくとも初期電圧より終期電圧が高く、電解
電圧は段階的に変化している。従ってパターンＡ〜Ｆに
より陽極酸化処理された陽極酸化皮膜は本発明例であ
る。これに対して図４のパターンＧは全工程に亘って電
解電圧が一定であり、またパターンＨは初期電圧と終期
電圧が同じであるので、これらのパターンＧ，Ｈで陽極
酸化処理された陽極酸化皮膜は従来例に相当する。
【００３５】陽極酸化処理溶液の組成と、初期電圧およ
び終期電圧（陽極酸化処理途中の任意区間で一定に保た
れた電解電圧も併記する）を表２に示す。上記試験片を
用いて実施例１と同様の方法によりガス腐食試験および
プラズマ照射試験を行い耐ガス性および耐プラズマ性を
調べた。結果は表２に示す。
び終期電圧（陽極酸化処理途中の任意区間で一定に保た
れた電解電圧も併記する）を表２に示す。上記試験片を
用いて実施例１と同様の方法によりガス腐食試験および
プラズマ照射試験を行い耐ガス性および耐プラズマ性を
調べた。結果は表２に示す。
【００３６】
【表２】
【００３７】表２の結果から明らかな様に、本発明に係
る条件を満足するＮｏ．１〜８は、優れた耐ガス性およ
び耐プラズマ性を示した。一方Ｎｏ．９〜１３は、本発
明に係る条件のいずれかを満足しない比較例であり、耐
ガス性または耐プラズマ性の少なくとも一方が不充分で
ある。
る条件を満足するＮｏ．１〜８は、優れた耐ガス性およ
び耐プラズマ性を示した。一方Ｎｏ．９〜１３は、本発
明に係る条件のいずれかを満足しない比較例であり、耐
ガス性または耐プラズマ性の少なくとも一方が不充分で
ある。
【００３８】実施例３ 表３に示す各種Ａｌ合金板を用いて、図１および図２に
示す各種電解電圧パターンにより陽極酸化皮膜を形成し
て試験片とした。上記試験片のハロゲン系ガスに対する
耐食性を評価することを目的として、５％Ｃｌ−Ａｒ混
合ガスにより、３５０℃で４時間のガス腐食試験を行
い、試験後の外観を調べて以下の基準で評価した。 ［ガス腐食試験］ ◎： 腐食発生なし ○： 腐食発生面積率 ５％未満 △： 腐食発生面積率 ５％以上 １０％未満 ×： 腐食発生面積率 １０％以上
示す各種電解電圧パターンにより陽極酸化皮膜を形成し
て試験片とした。上記試験片のハロゲン系ガスに対する
耐食性を評価することを目的として、５％Ｃｌ−Ａｒ混
合ガスにより、３５０℃で４時間のガス腐食試験を行
い、試験後の外観を調べて以下の基準で評価した。 ［ガス腐食試験］ ◎： 腐食発生なし ○： 腐食発生面積率 ５％未満 △： 腐食発生面積率 ５％以上 １０％未満 ×： 腐食発生面積率 １０％以上
【００３９】また、前記試験片の耐プラズマ性を評価す
るため、低バイアス条件下で１００分間の塩素プラズマ
照射試験を行い、その被エッチング量を測定して、実施
例１と同様して評価した。上記ガス腐食試験およびプラ
ズマ照射試験の結果は表３に示す。
るため、低バイアス条件下で１００分間の塩素プラズマ
照射試験を行い、その被エッチング量を測定して、実施
例１と同様して評価した。上記ガス腐食試験およびプラ
ズマ照射試験の結果は表３に示す。
【００４０】
【表３】
【００４１】表３の結果から明らかな様に、本発明に係
る条件を満足するＮｏ．１〜８は、優れた耐ガス性およ
び耐プラズマ性を示した。一方Ｎｏ．９〜１３は、本発
明に係る条件のいずれかを満足しない比較例であり、耐
ガス性または耐プラズマ性の少なくとも一方が不充分で
ある。
る条件を満足するＮｏ．１〜８は、優れた耐ガス性およ
び耐プラズマ性を示した。一方Ｎｏ．９〜１３は、本発
明に係る条件のいずれかを満足しない比較例であり、耐
ガス性または耐プラズマ性の少なくとも一方が不充分で
ある。
【００４２】実施例４ 表４に示す各種Ａｌ合金板を用いて、図３および図４に
示す各種電解電圧パターンにより陽極酸化皮膜を形成し
て試験片とした。上記試験片を用いて実施例３と同様の
方法によりガス腐食試験およびプラズマ照射試験を行い
耐ガス性および耐プラズマ性を調べた。結果は表４に示
す。
示す各種電解電圧パターンにより陽極酸化皮膜を形成し
て試験片とした。上記試験片を用いて実施例３と同様の
方法によりガス腐食試験およびプラズマ照射試験を行い
耐ガス性および耐プラズマ性を調べた。結果は表４に示
す。
【００４３】
【表４】
【００４４】表４の結果から明らかな様に、本発明に係
る条件を満足するＮｏ．１〜８は、優れた耐ガス性およ
び耐プラズマ性を示した。一方Ｎｏ．９〜１３は、本発
明に係る条件のいずれかを満足しない比較例であり、耐
ガス性または耐プラズマ性の少なくとも一方が不充分で
ある。
る条件を満足するＮｏ．１〜８は、優れた耐ガス性およ
び耐プラズマ性を示した。一方Ｎｏ．９〜１３は、本発
明に係る条件のいずれかを満足しない比較例であり、耐
ガス性または耐プラズマ性の少なくとも一方が不充分で
ある。
【００４５】
【発明の効果】本発明は以上の様に構成されているの
で、耐ガス性および耐プラズマ性に優れたＡｌまたはＡ
ｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法が提供できる
こととなった。
で、耐ガス性および耐プラズマ性に優れたＡｌまたはＡ
ｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法が提供できる
こととなった。
【図１】本発明に係る表面処理方法の電解電圧パターン
例を示すグラフである。
例を示すグラフである。
【図２】表面処理方法の電解電圧パターンの比較例を示
すグラフである。
すグラフである。
【図３】本発明に係る表面処理方法の電解電圧パターン
例を示すグラフである。
例を示すグラフである。
【図４】表面処理方法の電解電圧パターンの比較例を示
すグラフである。
すグラフである。
【図５】陽極酸化皮膜の概略構造を示す一部断面説明図
である。
である。
【図６】ポーラス層およびバリア層を有する陽極酸化皮
膜の断面説明図である。
膜の断面説明図である。
【図７】陽極酸化処理溶液の違いによる電解電圧と電流
密度の関係を示すグラフである。
密度の関係を示すグラフである。
Claims (8)
- 【請求項１】 ＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材
の表面に陽極酸化処理を行うにあたって、陽極酸化の初
期電圧より陽極酸化の終期電圧を高くすることを特徴と
するＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理
方法。 - 【請求項２】 陽極酸化電圧を全工程の任意の区間で連
続的に変化させる請求項１に記載のＡｌまたはＡｌ合金
製真空チャンバ部材の表面処理方法。 - 【請求項３】 陽極酸化電圧を全工程の任意の区間で非
連続的に変化させる請求項１または２に記載のＡｌまた
はＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法。 - 【請求項４】 陽極酸化電圧を全工程の任意の区間で一
定に保つ請求項２または３に記載のＡｌまたはＡｌ合金
製真空チャンバ部材の表面処理方法。 - 【請求項５】 陽極酸化の初期電圧が５０Ｖ以下である
請求項１〜４のいずれかに記載のＡｌまたはＡｌ合金製
真空チャンバ部材の表面処理方法。 - 【請求項６】 陽極酸化の終期電圧が３０Ｖ以上である
請求項１〜５のいずれかに記載のＡｌまたはＡｌ合金製
真空チャンバ部材の表面処理方法。 - 【請求項７】 陽極酸化処理液として１ｇ／リットル以
上のしゅう酸を含有する溶液を用いる請求項１〜６のい
ずれかに記載のＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材
の表面処理方法。 - 【請求項８】 請求項７に記載の溶液に、Ｓ，Ｎ，Ｐ，
Ｆ，Ｂよりなる群から選ばれる１種以上の元素を含有す
るＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方
法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28231494A JP2943634B2 (ja) | 1994-11-16 | 1994-11-16 | ＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法 |
| TW084111487A TW343238B (en) | 1994-11-16 | 1995-10-30 | Aluminum or aluminum alloy member for vacuum chamber, method of processing the surface of the member and material for the member |
| DE69522954T DE69522954T2 (de) | 1994-11-16 | 1995-11-06 | Vakuumkammer aus aluminium oder seinen legierungen |
| KR10-2004-7013903A KR100482862B1 (ko) | 1994-11-16 | 1995-11-06 | 알루미늄 또는 알루미늄 합금제 진공챔버 부재의 표면처리방법 |
| US08/836,469 US6027629A (en) | 1994-11-16 | 1995-11-06 | Vacuum chamber made of aluminum or its alloys, and surface treatment and material for the vacuum chamber |
| PCT/JP1995/002263 WO1996015295A1 (en) | 1994-11-16 | 1995-11-06 | Vacuum chamber made of aluminum or its alloy, and surface treatment and material for the vacuum chamber |
| EP95936105A EP0792951B1 (en) | 1994-11-16 | 1995-11-06 | Vacuum chamber made of aluminum or its alloys |
| KR1019970703292A KR100473691B1 (ko) | 1994-11-16 | 1995-11-06 | Al또는Al합금제진공챔버부재 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28231494A JP2943634B2 (ja) | 1994-11-16 | 1994-11-16 | ＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08144088A true JPH08144088A (ja) | 1996-06-04 |
| JP2943634B2 JP2943634B2 (ja) | 1999-08-30 |
Family
ID=17650809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28231494A Expired - Lifetime JP2943634B2 (ja) | 1994-11-16 | 1994-11-16 | ＡｌまたはＡｌ合金製真空チャンバ部材の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2943634B2 (ja) |
Cited By (15)
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|---|---|---|---|---|
| US6066392A (en) * | 1997-11-14 | 2000-05-23 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Al material excellent in thermal crack resistance and corrosion resistance |
| US6444304B1 (en) | 1998-10-09 | 2002-09-03 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Anodic oxide layer and ceramic coating for aluminum alloy excellent in resistance to gas and plasma corrosion |
| JP2003503597A (ja) * | 1999-06-30 | 2003-01-28 | ラム リサーチ コーポレーション | 半導体処理装置の耐腐食性部材およびその製造方法 |
| US6686053B2 (en) | 2001-07-25 | 2004-02-03 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | AL alloy member having excellent corrosion resistance |
| JP2010053427A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Kanagawa Acad Of Sci & Technol | 陽極酸化ポーラスアルミナおよびその製造方法 |
| WO2010035674A1 (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-01 | 株式会社神戸製鋼所 | 陽極酸化皮膜の形成方法とそれを用いたアルミニウム合金部材 |
| JP2010095774A (ja) * | 2008-10-20 | 2010-04-30 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 真空機器用表面処理アルミニウム材の製造方法 |
| JP2010126737A (ja) * | 2008-11-25 | 2010-06-10 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 真空機器用表面処理アルミニウム材の製造方法 |
| JP2010126738A (ja) * | 2008-11-25 | 2010-06-10 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 真空機器用表面処理アルミニウム材の製造方法 |
| WO2012029570A1 (ja) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | シャープ株式会社 | 陽極酸化層の形成方法および型の製造方法 |
| JP2012162769A (ja) * | 2011-02-07 | 2012-08-30 | Kanagawa Acad Of Sci & Technol | 陽極酸化ポーラスアルミナの製造方法並びにその方法により製造された陽極酸化ポーラスアルミナ |
| KR20170139456A (ko) * | 2016-06-08 | 2017-12-19 | 한국과학기술원 | 산화피막을 포함하는 내부식성 금속 및 이의 제조방법 |
| JP2020007643A (ja) * | 2013-11-13 | 2020-01-16 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 半導体製造コンポーネント用高純度金属トップコート |
| JP2021515849A (ja) * | 2018-03-08 | 2021-06-24 | ベイジン・ナウラ・マイクロエレクトロニクス・イクイップメント・カンパニー・リミテッドＢｅｉｊｉｎｇ ＮＡＵＲＡ Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ Ｃｏ．，ＬＴＤ | 反応室コンポーネント、作製方法、及び反応室 |
| CN113423873A (zh) * | 2019-02-15 | 2021-09-21 | 科文特亚股份有限公司 | 用于生产耐腐蚀铝硅合金铸件的方法、该耐腐蚀铝硅合金铸件及其用途 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4168066B2 (ja) | 2006-08-11 | 2008-10-22 | 株式会社神戸製鋼所 | プラズマ処理装置に用いられる陽極酸化処理用アルミニウム合金およびその製造方法、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム合金部材、ならびにプラズマ処理装置 |
-
1994
- 1994-11-16 JP JP28231494A patent/JP2943634B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6066392A (en) * | 1997-11-14 | 2000-05-23 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Al material excellent in thermal crack resistance and corrosion resistance |
| US6444304B1 (en) | 1998-10-09 | 2002-09-03 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Anodic oxide layer and ceramic coating for aluminum alloy excellent in resistance to gas and plasma corrosion |
| JP2003503597A (ja) * | 1999-06-30 | 2003-01-28 | ラム リサーチ コーポレーション | 半導体処理装置の耐腐食性部材およびその製造方法 |
| US6686053B2 (en) | 2001-07-25 | 2004-02-03 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | AL alloy member having excellent corrosion resistance |
| JP2010053427A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Kanagawa Acad Of Sci & Technol | 陽極酸化ポーラスアルミナおよびその製造方法 |
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| JP2943634B2 (ja) | 1999-08-30 |
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