JPH08138395A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH08138395A
JPH08138395A JP29885994A JP29885994A JPH08138395A JP H08138395 A JPH08138395 A JP H08138395A JP 29885994 A JP29885994 A JP 29885994A JP 29885994 A JP29885994 A JP 29885994A JP H08138395 A JPH08138395 A JP H08138395A
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JP
Japan
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write
circuit
memory
threshold voltage
memory cell
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Application number
JP29885994A
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English (en)
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Kazuaki Ohara
一晃 大原
Masato Takahashi
正人 高橋
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 データディスターブ又はデータリテンション
によるメモリセルのしきい値電圧の低下を容易に回復し
うるフラッシュメモリ等を実現する。この結果、フラッ
シュメモリ等の電源電圧最大許容値つまりVCCmax
に対する読み出しマージンを拡大し、その信頼性を高め
る。 【構成】 2層ゲート構造型メモリセルが格子状に配置
されてなるメモリアレイをその基本構成要素とするフラ
ッシュメモリ等に、例えばステップST3において書き
込みカウンタWCがオーバーフローしたとき選択的に起
動され、ステップST6による保持情報の判定ですでに
書き込みを受けてその保持情報が論理“0”とされしか
もそのしきい値電圧が同一データ線に結合された他のメ
モリセルの書き込みに伴うデータディスターブにより低
下したメモリセルに対して選択的にステップST7によ
る書き戻しを行う書き戻し回路を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は半導体記憶装置に関
し、例えば、フラッシュメモリ等の不揮発性メモリなら
びにそのデータディスターブ対策に利用して特に有効な
技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】コントロールゲート及びフローティング
ゲートを有するいわゆる2層ゲート構造型のメモリセル
が格子状に配置されてなるメモリアレイをその基本構成
要素とするフラッシュメモリ等の不揮発性メモリがあ
る。これらのフラッシュメモリ等において、メモリアレ
イの同一行に配置されるメモリセルのコントロールゲー
トは、対応するワード線に共通結合され、同一列に配置
されるメモリセルのドレインは、対応するデータ線に共
通結合される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】フラッシュメモリ等の
従来の不揮発性メモリにおいて、指定されたメモリセル
に対する保持情報の書き込みは、対応するワード線に例
えば+11V(ボルト)のような比較的絶対値の大きな
正電位を印加し、対応するデータ線に例えば+4Vのよ
うな中間電位の正電位を印加することにより行われる。
このとき、対象外のメモリセルが結合されるすべてのワ
ード線は、例えば接地電位VSSつまり0Vの非選択レ
ベルとされ、メモリセルのソースが共通結合されるソー
ス線も接地電位VSSとされる。これにより、指定され
たメモリセルでは、アバランシェ降伏により発生したホ
ットエレクトロンがフローティングゲートに注入され、
そのしきい値電圧が例えば+8Vのように高くなって、
いわゆる論理“0”のデータを保持するものとされる。
メモリセルが消去状態にあるとき、そのしきい値電圧は
例えば+2V程度とされ、いわゆる論理“1”のデータ
を保持するものとされる。このため、ワード線を電源電
圧VCCつまり+5Vのような選択レベルとし指定され
たメモリセルがオン状態となって読み出し電流が流れる
かどうかを判定することによって、メモリセルの保持情
報を判定することができる。
【0004】ところが、フラッシュメモリ等の微細化・
大容量化が進みその電源電圧の低電圧化が進むにしたが
って、上記のような従来のフラッシュメモリには次の問
題点が生じることが本願発明者等によって明らかとなっ
た。すなわち、従来のフラッシュメモリでは、メモリア
レイの同一列に配置されたメモリセルのドレインが対応
するデータ線に共通結合され、書き込み時、このデータ
線を介して指定されたメモリセルに供給される+4Vの
書き込み電圧は、非選択ワード線に結合される対象外の
メモリセルのドレインにも印加される。このため、これ
らのメモリセルのフローティングゲートに蓄積された電
子が徐々にドレイン側に引き抜かれ、そのしきい値電圧
が低下するいわゆるデータディスターブが発生する。ま
た、書き込みによってメモリセルのフローティングゲー
トに蓄積された電子は、データディスターブがない場合
でも極めてゆっくりとした速度で徐々に放出され、いわ
ゆるデータリテンションが発生する。この結果、読み出
し時におけるワード線の選択レベルつまり電源電圧VC
Cの最大許容値つまりVCCmaxに対するフラッシュ
メモリの読み出しマージンが低下し、その信頼性が損な
われる。
【0005】この発明の目的は、データディスターブ又
はデータリテンションによるメモリセルのしきい値電圧
の低下を容易に回復しうるフラッシュメモリ等の不揮発
性メモリを実現することにある。この発明の他の目的
は、フラッシュメモリ等の不揮発性メモリのVCCma
xに対する読み出しマージンを拡大し、その信頼性を高
めることにある。
【0006】この発明の前記ならびにその他の目的と新
規な特徴は、この明細書の記述及び添付図面から明らか
になるであろう。
【0007】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
の通りである。すなわち、2層ゲート構造型メモリセル
が格子状に配置されてなるメモリアレイをその基本構成
要素とするフラッシュメモリ等の不揮発性メモリに、例
えば書き込み回数が所定値を超えたとき選択的に起動さ
れ、すでに書き込みを受けしかもそのしきい値電圧が同
一データ線に共通結合される他のメモリセルの書き込み
に伴うデータディスターブにより低下したメモリセルに
対して選択的に書き戻しを行う書き戻し回路を設ける。
また、書き戻し回路による書き戻し処理を、外部の書き
戻し制御回路により起動できるようにするとともに、こ
の書き戻し制御回路に書き戻し回路を含む複数のフラッ
シュメモリ等を結合し、アクセス状態にないものから書
き戻しを行わせる。さらに、書き戻し回路を、データリ
テンションによりそのしきい値電圧が低下したメモリセ
ルの書き戻しにも利用し、電源投入時に書き戻し回路を
起動するパワーオン起動回路を設ける。
【0008】
【作用】上記した手段によれば、データディスターブ又
はデータリテンションによるメモリセルのしきい値電圧
の低下を容易にかつ効率良く回復しうるフラッシュメモ
リ等の不揮発性メモリを実現することができる。この結
果、フラッシュメモリ等の不揮発性メモリの電源電圧最
大許容値つまりVCCmaxに対する読み出しマージン
を拡大して、その信頼性を高めることができるととも
に、フラッシュメモリ等の不揮発性メモリのデータ保持
時間を大幅に改善し、その書き込み回数に関する制限を
大幅に緩和することができる。
【0009】
【実施例】図1には、この発明が適用されたフラッシュ
メモリの一実施例のブロック図が示されている。また、
図2には、図1のフラッシュメモリに含まれるメモリア
レイMARY及びYスイッチYSの一実施例の部分的な
回路図が示されている。これらの図をもとに、まずこの
実施例のフラッシュメモリの構成及び動作の概要につい
て説明する。なお、図1の各ブロックを構成する回路素
子は、公知のMOSFET(金属酸化物半導体型電界効
果トランジスタ。この明細書では、MOSFETをして
絶縁ゲート型電界効果トランジスタの総称とする)集積
回路の製造技術により、単結晶シリコンのような1個の
半導体基板上に形成される。
【0010】図1において、この実施例のフラッシュメ
モリは、半導体基板面の大半を占めて配置されるメモリ
アレイMARYをその基本構成要素とする。メモリアレ
イMARYは、図2に示されるように、水平方向に平行
して配置されるm+1本のワード線W0〜Wmと、垂直
方向に平行して配置されるn+1本のデータ線D0〜D
nとを含む。これらのワード線及びデータ線の交点に
は、コントロールゲート及びフローティングゲートを有
する(m+1)×(n+1)個の2層ゲート構造型のメ
モリセルMCが格子状に配置される。このうち、メモリ
アレイMARYの同一行に配置されたn+1個のメモリ
セルMCのコントロールゲートは、対応するワード線W
0〜Wmにそれぞれ共通結合される。また、同一列に配
置されたm+1個のメモリセルMCのドレインは、対応
するデータ線D0〜Dnにそれぞれ共通結合される。さ
らに、メモリアレイMARYを構成するすべてのメモリ
セルMCのソースは、ソース線SLに共通結合される。
【0011】メモリアレイMARYを構成するワード線
W0〜Wmは、その左方においてXアドレスデコーダX
Dに結合され、選択的に所定の選択レベル又は非選択レ
ベルとされる。XアドレスデコーダXDには、Xアドレ
スバッファXBからi+1ビットの内部アドレス信号X
0〜Xiが供給される。また、XアドレスバッファXB
には、図示されない外部のメモリコントローラからアド
レス入力端子AX0〜AXiを介してXアドレス信号A
X0〜AXiが供給され、後述する書き戻し回路RWか
ら書き戻しXアドレス信号RX0〜RXiが供給され
る。
【0012】XアドレスバッファXBは、フラッシュメ
モリが通常の読み出しモード又は書き込みモードで選択
状態とされるとき、アドレス入力端子AX0〜AXiを
介して供給されるXアドレス信号AX0〜AXiを取り
込み、保持する。また、フラッシュメモリが書き戻しモ
ードとされるとき、書き戻し回路RWから供給される書
き戻しXアドレス信号RX0〜RXiを取り込み、保持
する。そして、これらのXアドレス信号又は書き込みX
アドレス信号をもとに内部アドレス信号X0〜Xiを形
成し、XアドレスデコーダXDに供給する。
【0013】XアドレスデコーダXDは、Xアドレスバ
ッファXBから供給される内部アドレス信号X0〜Xi
をデコードして、メモリアレイMARYのワード線W0
〜Wmを所定の選択レベル又は非選択レベルとする。こ
の実施例において、書き込みモードにおけるワード線の
選択レベルは、特に制限されないが、+11Vのような
比較的絶対値の大きな正電位とされ、その非選択レベル
は接地電位VSSつまり0Vとされる。また、読み出し
モードにおけるワード線の選択レベルは電源電圧VCC
つまり+5Vとされ、その非選択レベルは接地電位VS
Sとされる。さらに、消去モードにおけるワード線の選
択レベルは−10Vのような比較的絶対値の大きな負電
位とされ、その非選択レベルは+2Vとされる。
【0014】一方、メモリアレイMARYを構成するソ
ース線SLは、その右方においてソーススイッチSSに
結合され、そのレベルが選択的に切り換えられる。特に
制限されないが、ソース線SLのレベルは、消去モード
において+4Vとされ、その他の動作モードにおいて接
地電位VSSとされる。
【0015】次に、メモリアレイMARYを構成するデ
ータ線D0〜Dnは、図2に例示されるように、Yスイ
ッチYSの対応するNチャンネル型のスイッチMOSF
ETN1〜N8等のドレインに結合される。これらのス
イッチMOSFETのソースは、8個おきに順次共通デ
ータ線CD0〜CD7に共通結合される。また、そのゲ
ートは、8個ずつ順次共通結合され、Yアドレスデコー
ダYDから対応するデータ線選択信号YS0〜YSpが
それぞれ共通に供給される。なお、データ線選択信号Y
S0〜YSpのビット数p+1が、データ線本数n+1
に対して、 p+1=(n+1)/8 なる関係にあることは言うまでもない。
【0016】YスイッチYSを構成するスイッチMOS
FETN1〜N8等は、対応するデータ線選択信号YS
0〜YSpがハイレベルとされることで8個ずつ選択的
にオン状態となり、メモリアレイMARYのデータ線D
0〜Dnの対応する8本と共通データ線CD0〜CD7
との間を選択的に接続状態とする。
【0017】YアドレスデコーダYDには、Yアドレス
バッファYBから内部アドレス信号Y0〜Yjが供給さ
れる。また、YアドレスバッファYBには、アドレス入
力端子AY0〜AYjを介してYアドレス信号AY0〜
AYjが供給され、書き戻し回路RWから書き戻しYア
ドレス信号RY0〜RYjが供給される。
【0018】YアドレスバッファYBは、フラッシュメ
モリが通常の読み出しモード又は書き込みモードとされ
るとき、アドレス入力端子AY0〜AYjを介して供給
されるYアドレス信号AY0〜AYjを取り込み、保持
する。また、フラッシュメモリが書き戻しモードとされ
るとき、書き戻し回路RWから供給される書き戻しYア
ドレス信号RY0〜RYjを取り込み、保持する。そし
て、これらのYアドレス信号又は書き戻しYアドレス信
号をもとに内部アドレス信号Y0〜Yjを形成し、Yア
ドレスデコーダYDに供給する。YアドレスデコーダY
Dは、YアドレスバッファYBから供給される内部アド
レス信号Y0〜Yjをデコードし、対応するデータ線選
択信号YS0〜YSpを択一的にハイレベルとする。
【0019】メモリアレイMARYのデータ線D0〜D
nがYスイッチYSを介して選択的に接続される共通デ
ータ線CD0〜CD7は、書き戻し回路RWに結合され
るとともに、ライトアンプWAの対応する単位回路の出
力端子に結合され、センスアンプSAの対応する単位回
路の入力端子に結合される。ライトアンプWAの各単位
回路の入力端子は、データ入力バッファIBの対応する
単位回路の出力端子に結合され、センスアンプSAの各
単位回路の出力端子は、データ出力バッファOBの対応
する単位回路の入力端子に結合される。データ入力バッ
ファIBの各単位回路の入力端子及びデータ出力バッフ
ァOBの各単位回路の出力端子は、対応するデータ入出
力端子IO0〜IO7にそれぞれ共通結合される。
【0020】データ入力バッファIBの各単位回路は、
フラッシュメモリが書き込みモードで選択状態とされる
とき、対応するデータ入出力端子IO0〜IO7を介し
て入力される書き込みデータを取り込み、ライトアンプ
WAの対応する単位回路に伝達する。これらの書き込み
データは、ライトアンプWAの各単位回路によって所定
の書き込み信号とされ、共通データ線CD0〜CD7を
介してメモリアレイMARYの選択された8個のメモリ
セルに書き込まれる。なお、ライトアンプWAの各単位
回路から出力される書き込み信号のレベルは、特に制限
されないが、対応する書き込みデータが論理“0”とさ
れるとき+4Vとされ、対応する書き込みデータが論理
“1”とされるとき接地電位VSSとされる。
【0021】一方、センスアンプSAの各単位回路は、
フラッシュメモリが読み出しモード又はベリファイモー
ドで選択状態とされるとき、メモリアレイMARYの選
択された8個のメモリセルから対応する共通データ線C
D0〜CD7を介して出力される読み出し信号を増幅す
る。これらの読み出し信号は、フラッシュメモリが読み
出しモードとされるとき、データ出力バッファOBの対
応する単位回路から対応するデータ入出力端子IO0〜
IO7を介してフラッシュメモリの外部に送出される。
また、フラッシュメモリが書き戻しモードとされると
き、後述する書き戻し回路RWに伝達され、選択された
メモリセルのしきい値電圧の判定に供される。この実施
例において、メモリアレイMARYの選択メモリセルか
ら出力される読み出し信号は、そのしきい値電圧に応じ
た電流値の電流信号とされる。このため、センスアンプ
SAの各単位回路は、電流信号として得られる読み出し
信号を電圧信号に変換するための電流電圧変換回路をそ
れぞれ含む。
【0022】次に、書き込みカウンタWCは、フラッシ
ュメモリの書き込み回数の総数を計数し、その計数値を
書き戻し回路RWに出力する。また、書き戻し回路RW
は、前記書き戻しXアドレス信号RX0〜RXiならび
に書き戻しYアドレス信号RY0〜RYjを形成するア
ドレスカウンタを含み、書き込みカウンタWCの計数値
が所定値を超えたとき、メモリアレイMARYを構成す
るすべてのメモリセルに対する書き戻し処理を選択的に
開始する。このとき、書き戻し回路RWは、アドレスカ
ウンタによって書き戻しXアドレス信号RX0〜RXi
ならびに書き戻しYアドレス信号RY0〜RYjを形成
するとともに、これらのアドレス信号によって順次指定
される8個のメモリセルのしきい値電圧を判定し、必要
に応じてしきい値電圧を回復させるための書き戻しを行
う。なお、書き戻し回路RWによる書き戻し処理の具体
的内容については、後で詳細に説明する。
【0023】タイミング制御回路TCは、外部から起動
制御信号として供給されるチップイネーブル信号CEB
(ここで、それが有効とされるとき選択的にロウレベル
とされるいわゆる反転信号等については、その名称の末
尾にBを付して表す。以下同様),ライトイネーブル信
号WEB,出力イネーブル信号OEBならびに消去イネ
ーブル信号EEBをもとに各種の内部制御信号を選択的
に形成してフラッシュメモリの各部に供給し、各部の動
作を制御・統轄する。
【0024】図3には、図1のフラッシュメモリの書き
戻し回路RWによる書き戻し処理の一実施例のフロー図
が示され、図4には、図3の書き戻し処理の各ステップ
におけるメモリセルのしきい値電圧の一実施例の分布図
が示されている。これらの図をもとに、この実施例の書
き戻し回路RWによる書き戻し処理の具体的内容ならび
にその特徴について説明する。なお、図4(a)〜
(d)には、消去状態にありいわゆる論理“1”のデー
タを保持するメモリセルのしきい値電圧の分布状況が各
図の左側に示され、書き込みを受けいわゆる論理“0”
のデータを保持するメモリセルのしきい値電圧の分布状
況が各図の右側に示されている。
【0025】図3において、書き戻し回路RWは、ライ
トアンプWAによる書き込みを引き継いで一連の書き戻
し処理を開始する。ステップST1においてライトアン
プWAによる書き込みを受けたメモリセルは、ステップ
ST2によるベリファイ読み出しを受ける。このとき、
ワード線の選択レベルは、図4(a)に示されるよう
に、電源電圧VCCつまり読み出し時におけるワード線
の選択レベルが最大許容値側に変動した場合でも書き込
み状態にあるメモリセルがオン状態とならないしきい値
電圧VV(第1の値)に対応するレベルとされる。これ
により、書き込み対象となるメモリセルは、例えば+8
Vをその平均値としその最小値をVVとするしきい値電
圧を有し、論理“0”のデータを保持するものとなる。
【0026】ところで、あるデータ線に結合されるメモ
リセルが書き込み状態にあるとき、同一データ線に共通
結合される他のメモリセルに対する書き込みが繰り返さ
れると、先に書き込み状態となったメモリセルのしきい
値電圧はデータディスターブによって低下し、図4
(b)に示されるように、所定値VVを下回るケースが
発生する。このため、この実施例の書き戻し回路RW
は、ステップST3により書き込み回数を計数する書き
込みカウンタWCの値が所定値をオーバーフローしてい
ないかどうかを判定し、書き込みカウンタWCの計数値
がオーバーフローしている場合には、全メモリセルに対
する書き戻し処理を実行する。
【0027】すなわち、書き戻し回路RWは、まずステ
ップST4によりそのアドレスカウンタを初期化した
後、ステップST5により選択メモリセルの読み出しを
行う。このとき、ワード線の選択レベルは、しきい値電
圧の分布の中心値VR(第2の値)に対応する電源電圧
VCCとされ、この読み出し結果を受けてステップST
6による実質的な選択メモリセルの保持情報の判定が行
われる。この結果、選択メモリセルが書き込み状態にあ
りその保持情報が論理“0”である場合には、ステップ
ST7により書き戻しを実行した後、ステップST8に
より選択メモリセルのしきい値電圧が所定値VVに達し
たかどうかを判定するためのベリファイ読み出しに移
る。そして、選択メモリセルのしきい値電圧が所定値V
Vに達していない場合には、ステップST7の書き戻し
動作を繰り返し、所定値VVに達した場合には、ステッ
プST9による最終アドレスの判定に移行する。
【0028】なお、ステップST3において、書き込み
カウンタWCの計数値がオーバーフローしていない場
合、書き戻し回路RWは、書き込みカウンタWCをカウ
ントアップした後、そのまま処理を終結する。また、ス
テップST6において、選択メモリセルが消去状態にあ
りその保持情報が論理“1”である場合、ステップST
9による最終アドレスの判定に移行する。さらに、ステ
ップST9において、選択メモリセルのアドレスが最終
値でない場合、ステップST10によりアドレスカウン
タを更新してステップST5以後の処理を繰り返すが、
選択メモリセルのアドレスが最終値となった場合には、
処理を終結する。
【0029】以上のように、この実施例のフラッシュメ
モリは、書き込み回数の総数を計数する書き込みカウン
タWCと、この書き込みカウンタWCの計数値が所定値
に達したとき、全メモリセルに対するしきい値電圧の判
定と書き戻しを自律的に実行する書き戻し回路RWとを
備え、データディスターブによりそのしきい値電圧が低
下したメモリセルは、書き戻しによってそのしきい値電
圧が所定値VV以上に回復される。この結果、フラッシ
ュメモリの電源電圧最大許容値つまりVCCmaxに対
する読み出しマージンが拡大され、その信頼性が高めら
れるとともに、その書き込み回数に関する制限が大幅に
緩和されるものとなる。
【0030】図5には、この発明が適用されたフラッシ
ュメモリの第2の実施例のブロック図が示されている。
また、図6には、図5のフラッシュメモリを利用して構
成されるメモリシステムの一実施例のシステム構成図が
示されている。なお、この実施例のフラッシュメモリ
は、前記図1ないし図4の実施例を基本的に踏襲するも
のであるため、これと異なる部分についてのみ説明を追
加する。
【0031】図5において、この実施例のフラッシュメ
モリは、書き戻し回路RWを備えるが、この書き戻し回
路RWは、前記図1の実施例とは異なり、書き戻しXア
ドレス信号RX0〜RXiならびに書き戻しYアドレス
信号RY0〜RYjを形成するためのアドレスカウンタ
を含まない。また、フラッシュメモリは、書き込みカウ
ンタWCを含まず、XアドレスバッファXB及びYアド
レスバッファYBは、アドレス入力端子AX0〜AXi
ならびにAY0〜AYjを介して入力されるXアドレス
信号AX0〜AXiならびにYアドレス信号AY0〜A
Yjのみをそれぞれ受ける。なお、この実施例におい
て、タイミング制御回路TCは、起動制御信号が所定の
組み合わせとされることで、外部のメモリコントローラ
から書き戻し処理が起動されたことを識別する機能をあ
わせ持つ。
【0032】つまり、この実施例のフラッシュメモリ
は、その内部で自律的に書き戻し処理を開始し実行する
機能を持たない訳であって、内蔵する書き戻し回路RW
は、選択メモリセルに対する書き戻しを単発的に実行す
る機能のみを持つ。
【0033】一方、この実施例のフラッシュメモリは、
図6に例示されるように、そのk個つまりフラッシュメ
モリFM1〜FMkをもって一つのメモリシステムを構
成する。このうち、フラッシュメモリFM1〜FMk
は、前述のように、選択メモリセルに対する書き戻しを
単発的に実行する書き戻し回路RWをそれぞれ備え、メ
モリバスMBUSを介して共通のメモリコントローラM
CTLに結合される。また、メモリコントローラMCT
Lは、各フラッシュメモリの書き込み回数を計数管理す
る書き込みカウンタWCと、書き込みカウンタWCの対
応する計数値が所定値に達しかつそれがアクセス状態に
ないとき各フラッシュメモリに対する一連の書き戻し処
理を選択的に実行する書き戻し制御回路RWCとを備え
る。言うまでもなく、書き戻し制御回路RWCは、書き
戻しXアドレス信号RX0〜RXiならびに書き戻しY
アドレス信号RY0〜RYjを形成するためのアドレス
カウンタを備え、これらの書き戻しXアドレス信号なら
びに書き戻しYアドレス信号は、アドレス入力端子AX
0〜AXiならびにAY0〜AYjを介して書き戻しの
対象となるフラッシュメモリに供給される。
【0034】これらのことから、この実施例のメモリシ
ステムでは、書き戻しのための共通ハードウェアがメモ
リコントローラMCTLの書き戻し制御回路RWCとし
て集約されるため、言い換えるならば具体的な書き戻し
動作に必要な最小限のハードウェアのみがフラッシュメ
モリFM1〜FMkに残されるため、メモリシステム全
体としてのハードウェア量を削減し、その低コスト化を
図ることができる。また、書き戻し制御回路RWCによ
る書き戻し処理は、上記のように、対象となるフラッシ
ュメモリがアクセス状態にない間を見計らって実行され
るため、書き戻し処理によりメモリシステムとしての処
理能力が低下することはない。
【0035】図7には、この発明が適用されたフラッシ
ュメモリの第3の実施例の部分的なブロック図が示され
ている。なお、この実施例のフラッシュメモリは、前記
図1ないし図4の実施例を基本的に踏襲するものである
ため、これと異なる部分についてのみ説明を追加する。
【0036】図7において、この実施例のフラッシュメ
モリは、図1の書き戻し回路RW及び書き込みカウンタ
WCに加えて、パワーオン起動回路PONCを備える。
このパワーオン起動回路PONCは、フラッシュメモリ
つまりこれを含むシステムの電源電圧が投入されたと
き、書き戻し回路RWに対する起動信号を選択的に有効
レベルとし、書き戻し回路RWの書き戻し処理を起動す
る。
【0037】この実施例において、パワーオン起動回路
PONCにより起動される電源投入時の書き戻し処理
は、データリテンションによるメモリセルのしきい値電
圧の低下を回復させるために用いられる。パワーオン起
動回路PONCの起動を受けた書き戻し回路RWは、前
記データディスターブ対策のための書き戻し処理と同様
に、メモリアレイMARYを構成するすべてのメモリセ
ルを順次選択し、その保持情報を判定しながら、必要に
応じて書き戻しを行い、書き込み状態にあるすべてのメ
モリセルのしきい値電圧が所定値VV以上となるように
自律的に書き戻し処理を進行する。この結果、この実施
例のフラッシュメモリでは、データリテンションによる
しきい値電圧の低下を容易に回復させることができ、こ
れによってフラッシュメモリのデータ保持時間を大幅に
改善できるものとなる。
【0038】以上の実施例により得られる作用効果は下
記の通りである。すなわち、 (1)2層ゲート構造型メモリセルが格子状に配置され
てなるメモリアレイをその基本構成要素とするフラッシ
ュメモリ等の不揮発性メモリに、例えば書き込み回数が
所定値を超えたとき選択的に起動され、すでに書き込み
を受けしかもそのしきい値電圧が同一データ線に共通結
合される他のメモリセルの書き込みに伴うデータディス
ターブにより低下したメモリセルに対して選択的に書き
戻しを行う書き戻し回路を設けることで、データディス
ターブによるメモリセルのしきい値電圧の低下を容易に
回復させることができるという効果が得られる。
【0039】(2)上記(1)項において、書き戻し回
路による書き戻し処理を、外部の書き戻し制御回路によ
って起動できるようにするとともに、この書き戻し制御
回路に書き戻し回路を含む複数のフラッシュメモリ等の
不揮発性メモリを結合し、アクセス状態にないものから
書き戻しを行わせることで、メモリシステムのハードウ
ェア量を削減しつつ、またメモリシステムとしての処理
能力を低下させることなく、書き戻し処理を効率良く実
施できるという効果が得られる。 (3)上記(1)項において、書き戻し回路を、データ
リテンションによりそのしきい値電圧が低下したメモリ
セルの書き戻しにも利用し、電源投入時に書き戻し回路
を起動するパワーオン起動回路を設けることで、データ
リテンションによるメモリセルのしきい値電圧の低下を
容易に回復させ、フラッシュメモリ等の不揮発性メモリ
のデータ保持時間を大幅に改善できるという効果が得ら
れる。 (4)上記(1)項ないし(3)項により、フラッシュ
メモリ等の不揮発性メモリの電源電圧最大許容値VCC
maxに対する読み出しマージンを拡大し、その信頼性
を高めることができるとともに、フラッシュメモリ等の
書き込み回数に関する制限を大幅に緩和することができ
るという効果が得られる。
【0040】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、図1において、フラッシュメモリが全消去モードの
ための消去制御回路を備える場合、その一部を書き戻し
回路RWとして兼用できる。また、この実施例では、書
き込み回数をフラッシュメモリの総数として書き込みカ
ウンタWCにより計数しているが、データ線ごとに書き
込みカウンタを設け、データ線を単位とする書き戻し処
理を実行してもよい。書き戻し回路RWによる書き戻し
処理は、書き込み回数以外の条件により起動できる。メ
モリアレイMARYは、その周辺回路を含めて任意数の
メモリマットに分割できる。また、データ入出力端子I
O0〜IO7は、データ入力端子又はデータ出力端子と
して専用化できるし、フラッシュメモリに同時に入力又
は出力される記憶データのビット数も、特に8ビットで
あることを必須条件としない。フラッシュメモリは任意
のブロック構成を採りうるし、起動制御信号の組み合わ
せや各動作モードにおけるワード線,データ線及びソー
ス線等の選択及び非選択レベルの絶対値ならびに極性等
も、種々の実施形態を採りうる。
【0041】図2において、メモリアレイMARYは、
任意数の冗長ワード線及び冗長データ線を含むことがで
きる。また、YスイッチYSを構成するスイッチMOS
FETは、PチャンネルMOSFETにより構成しても
よいし、Pチャンネル及びNチャンネルMOSFETが
組み合わされてなる相補スイッチとしてもよい。図3に
おいて、ステップST7による書き戻しは、ステップS
T8のベリファイ読み出しの結果をみて選択的に実行し
てもよいし、書き戻し処理の具体的手順は、この実施例
による制約を受けない。図5及び図6において、フラッ
シュメモリFM1〜FMkは、図1のフラッシュメモリ
と同様にアドレスカウンタを備える構成とし、書き戻し
処理の起動のみをメモリコントローラMCTLの書き戻
し制御回路RWCから制御するようにしてもよい。図7
におけるパワーオン起動回路PONCは、図6のメモリ
コントローラMCTLに設けることもできる。
【0042】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその背景となった利用分野であるフラ
ッシュメモリに適用した場合について説明したが、それ
に限定されるものではなく、例えば、シングルチップマ
イクロコンピュータ等に内蔵される同様なフラッシュメ
モリやその他の不揮発性メモリならびにこれらの不揮発
性メモリを内蔵するゲートアレイ集積回路等にも適用で
きる。この発明は、少なくとも2層ゲート構造型メモリ
セルが格子状に配置されてなるメモリアレイをその基本
構成要素としデータディスターブ対策又はデータリテン
ション対策を必要とする不揮発性の半導体記憶装置なら
びにこのような半導体記憶装置を含む装置及びシステム
に広く適用できる。
【0043】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、2層ゲート構造型メモリセ
ルが格子状に配置されてなるメモリアレイをその基本構
成要素とするフラッシュメモリ等の不揮発性メモリに、
例えば書き込み回数が所定値を超えたとき選択的に起動
され、すでに書き込みを受けしかもそのしきい値電圧が
同一データ線に共通結合される他のメモリセルの書き込
みに伴うデータディスターブにより低下したメモリセル
に対して選択的に書き戻しを行う書き戻し回路を設け
る。また、書き戻し回路による書き戻し処理を、外部の
書き戻し制御回路によって起動できるようにするととも
に、この書き戻し制御回路に書き戻し回路を含む複数の
フラッシュメモリ等を結合し、アクセス状態にないもの
から書き戻しを行わせる。さらに、書き戻し回路を、デ
ータリテンションによりそのしきい値電圧が低下したメ
モリセルの書き戻しにも利用し、電源投入時に書き戻し
回路を起動するパワーオン起動回路を設ける。これによ
り、データディスターブ又はデータリテンションによる
メモリセルのしきい値電圧の低下を容易にかつ効率良く
回復しうるフラッシュメモリ等の不揮発性メモリを実現
することができる。この結果、フラッシュメモリ等の不
揮発性メモリの電源電圧最大許容値つまりVCCmax
に対する読み出しマージンを拡大して、その信頼性を高
めることができるとともに、フラッシュメモリ等の不揮
発性メモリのデータ保持時間を大幅に改善し、その書き
込み回数に関する制限を大幅に緩和することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明が適用されたフラッシュメモリの第1
の実施例を示すブロック図である。
【図2】図1のフラッシュメモリに含まれるメモリアレ
イ及びYスイッチの一実施例を示す部分的な回路図であ
る。
【図3】図1のフラッシュメモリの書き戻し回路による
書き戻し処理の一実施例を示すフロー図である。
【図4】図3の書き戻し処理の各ステップにおけるメモ
リセルのしきい値電圧の一実施例を示す分布図である。
【図5】この発明が適用されたフラッシュメモリの第2
の実施例を示すブロック図である。
【図6】図5のフラッシュメモリにより構成されるメモ
リシステムの一実施例を示すシステム構成図である。
【図7】この発明が適用されたフラッシュメモリの第3
の実施例を示す部分的なブロック図である。
【符号の説明】
MARY・・・メモリアレイ、XD・・・Xアドレスデ
コーダ、XB・・・Xアドレスバッファ、SS・・・ソ
ーススイッチ、YS・・・Yスイッチ、YD・・・Yア
ドレスデコーダ、YB・・・Yアドレスバッファ、WA
・・・ライトアンプ、SA・・・センスアンプ、IB・
・・データ入力バッファ、OB・・・データ出力バッフ
ァ、RW・・・書き戻し回路、WC・・・書き込みカウ
ンタ、TC・・・タイミング制御回路。MC・・・2層
ゲート構造型メモリセル、W0〜Wm・・・ワード線、
SL・・・・ソース線、D0〜Dn・・・データ線、C
D0〜CD7・・・共通データ線、N1〜N8・・・N
チャンネルMOSFET。ST1〜ST10・・・処理
ステップ。MCTL・・・メモリコントローラ、RWC
・・・書き戻し制御回路、MBUS・・・メモリバス、
FM1〜FMk・・・フラッシュメモリ。PONC・・
・パワーオン起動回路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 29/788 29/792 H01L 29/78 371

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 直交して配置されるワード線及びデータ
    線ならびにこれらのワード線及びデータ線の交点に格子
    状に配置される2層ゲート構造型のメモリセルを含むメ
    モリアレイと、同一データ線に共通結合される他のメモ
    リセルの書き込みによりそのしきい値電圧が低下したメ
    モリセルに対する書き戻しを選択的に行う書き戻し回路
    とを具備することを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 上記メモリアレイを構成するメモリセル
    の書き込みは、そのしきい値電圧が第1の値を超えるま
    で繰り返し行われるものであって、上記書き戻し回路に
    よる書き戻しは、選択されたメモリセルのしきい値電圧
    が上記第1の値より低い第2の値よりも高くかつ上記第
    1の値よりも低いとき選択的に行われるものであること
    を特徴とする請求項1の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 上記半導体記憶装置は、書き込み回数を
    計数する書き込みカウンタを具備し、上記書き戻し回路
    は、上記書き戻しの対象となるメモリセルを順次指定す
    るアドレスカウンタを含むものであって、上記書き戻し
    回路による書き戻しは、上記書き込みカウンタの計数値
    が所定値に達したとき選択的に開始されかつ上記アドレ
    スカウンタの計数値が一巡するまで繰り返されるもので
    あることを特徴とする請求項1又は請求項2の半導体記
    憶装置。
  4. 【請求項4】 上記書き戻し回路は、外部に設けられた
    書き戻し制御回路の起動制御を受けて選択的に上記書き
    戻しを開始するものであって、上記書き戻し制御回路に
    は、上記書き戻し回路を含む複数の半導体記憶装置が結
    合されるものであることを特徴とする請求項1又は請求
    項2の半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 上記書き戻し回路は、データリテンショ
    ンによりそのしきい値電圧が低下したメモリセルの書き
    戻しに併用されるものであって、上記半導体記憶装置又
    は書き戻し制御回路は、電源電圧が投入された直後に上
    記書き戻し回路を選択的に起動するパワーオン起動回路
    を具備するものであることを特徴とする請求項1,請求
    項2,請求項3又は請求項4の半導体記憶装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101221813A (zh) * 2006-10-20 2008-07-16 三星电子株式会社 闪存设备中恢复数据的方法和相关闪存设备存储系统
US8214720B2 (en) 2007-02-07 2012-07-03 Megachips Corporation Bit error prevention method and information processing apparatus

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101221813A (zh) * 2006-10-20 2008-07-16 三星电子株式会社 闪存设备中恢复数据的方法和相关闪存设备存储系统
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