JPH08137112A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH08137112A JPH08137112A JP6300200A JP30020094A JPH08137112A JP H08137112 A JPH08137112 A JP H08137112A JP 6300200 A JP6300200 A JP 6300200A JP 30020094 A JP30020094 A JP 30020094A JP H08137112 A JPH08137112 A JP H08137112A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass plate
- chuck
- plate
- hand
- static electricity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶ディスプレー用ガラスプレートを製造す
る際の歩留りの向上を図る。 【構成】 ガラスプレート３を固定するためのチャック
１と、該チャックに載置されたガラスプレートを該チャ
ックから搬送分離するためのハンド４と、該ガラスプレ
ートを除電するためのイオナイザ７を備えた露光装置に
おいて、該ガラスプレートの静電気を測定するための静
電気測定器６を設け、その静電気測定器で該ガラスプレ
ートの帯電位を監視しながら該ガラスプレートの搬送速
度を制御する。
る際の歩留りの向上を図る。 【構成】 ガラスプレート３を固定するためのチャック
１と、該チャックに載置されたガラスプレートを該チャ
ックから搬送分離するためのハンド４と、該ガラスプレ
ートを除電するためのイオナイザ７を備えた露光装置に
おいて、該ガラスプレートの静電気を測定するための静
電気測定器６を設け、その静電気測定器で該ガラスプレ
ートの帯電位を監視しながら該ガラスプレートの搬送速
度を制御する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＴＦＴカラー液晶ディ
スプレー等の液晶ディスプレーを製造する際、液晶ディ
スプレーを構成するガラスプレート上に薄膜トランジス
タを形成する露光工程で使われる露光装置に関する。
スプレー等の液晶ディスプレーを製造する際、液晶ディ
スプレーを構成するガラスプレート上に薄膜トランジス
タを形成する露光工程で使われる露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶ディスプレーを製造する際の
ガラスプレートの露光工程において、該ガラスプレート
の搬送中、該ガラスプレートに帯電する静電気によって
ＴＦＴ素子が破壊したり、帯電した電荷の放電によって
露光装置が誤動作する事態を招いていた。すなわち、ガ
ラスプレートをプレートチャックから吸着解除し分離す
るときガラスプレートは静電気を帯電する。これがプレ
ート周辺の露光装置金属部に放電し、プレート上に形成
されたＴＦＴ素子の破壊や、露光装置内のエレクトロニ
クス機器の誤動作を招いていた。これを防ぐためにイオ
ナイザ等で除電対策を行なっていたが、十分に対策され
ているとは言えず、歩留まりが低下し生産性が良くなか
った。
ガラスプレートの露光工程において、該ガラスプレート
の搬送中、該ガラスプレートに帯電する静電気によって
ＴＦＴ素子が破壊したり、帯電した電荷の放電によって
露光装置が誤動作する事態を招いていた。すなわち、ガ
ラスプレートをプレートチャックから吸着解除し分離す
るときガラスプレートは静電気を帯電する。これがプレ
ート周辺の露光装置金属部に放電し、プレート上に形成
されたＴＦＴ素子の破壊や、露光装置内のエレクトロニ
クス機器の誤動作を招いていた。これを防ぐためにイオ
ナイザ等で除電対策を行なっていたが、十分に対策され
ているとは言えず、歩留まりが低下し生産性が良くなか
った。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者に知見による
と、これはガラスプレートの帯電位が監視されておら
ず、帯電位の応じた搬送速度調整も行われていなかった
ためである。すなわち、従来例ではガラスプレートの大
きさや成膜工程によらずイオナイザとガラスプレートと
の距離およびガラスプレートチャックとの剥離速度を同
一条件で処理しており、このため、ある程度、処理時間
に余裕を持たせていた。そのために処理量の低下、つま
りスループットの低下を招くとともに、帯電位から見て
十分余裕のある成膜工程と十分余裕の確保できない成膜
工程が生じ、それによる歩留まりの低下を招いていた。
と、これはガラスプレートの帯電位が監視されておら
ず、帯電位の応じた搬送速度調整も行われていなかった
ためである。すなわち、従来例ではガラスプレートの大
きさや成膜工程によらずイオナイザとガラスプレートと
の距離およびガラスプレートチャックとの剥離速度を同
一条件で処理しており、このため、ある程度、処理時間
に余裕を持たせていた。そのために処理量の低下、つま
りスループットの低下を招くとともに、帯電位から見て
十分余裕のある成膜工程と十分余裕の確保できない成膜
工程が生じ、それによる歩留まりの低下を招いていた。
【０００４】本発明は、上述の従来例における問題点に
鑑みてなされたもので、液晶ディスプレー用ガラスプレ
ートの製造に用いて製品歩留りの高い露光装置を提供す
ることを目的とする。
鑑みてなされたもので、液晶ディスプレー用ガラスプレ
ートの製造に用いて製品歩留りの高い露光装置を提供す
ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の露光装置は、帯電したガラスプレートを除
電するイオナイザと、ガラスプレートの帯電位を測定す
る静電気測定器と、その静電気測定器によってガラスプ
レートの帯電位を監視しながら搬送を制御するコントロ
ーラとを持つことを特徴とする。
め、本発明の露光装置は、帯電したガラスプレートを除
電するイオナイザと、ガラスプレートの帯電位を測定す
る静電気測定器と、その静電気測定器によってガラスプ
レートの帯電位を監視しながら搬送を制御するコントロ
ーラとを持つことを特徴とする。
【０００６】
【作用】ＴＦＴカラー液晶ディスプレーはガラスプレー
ト上にＴＦＴ素子を形成している。ガラスプレートは絶
縁物質であり、真空吸着で密着固定した後に固定具（プ
レートチャック）と剥離させて分離する際には剥離帯電
が生じることが知られている。この剥離帯電は固定具と
の距離によって帯電位が上がり、また剥離速度によって
ガラスプレートに帯電した電荷が放電しＴＦＴ素子の破
壊および露光装置の誤動作を招いていた。ガラスプレー
トをイオナイザで除電しつつ固定具から剥離分離する際
のガラスプレートの帯電位Ｖは、ｔを剥離分離開始後の
経過時間、ａをイオナイザの除電能力、ｂをガラスプレ
ートの固定具からの分離速度、ε0を雰囲気（大気）の
誘電率、Ｑ0 を成膜工程の条件などにより定まる初期帯
電量として
ト上にＴＦＴ素子を形成している。ガラスプレートは絶
縁物質であり、真空吸着で密着固定した後に固定具（プ
レートチャック）と剥離させて分離する際には剥離帯電
が生じることが知られている。この剥離帯電は固定具と
の距離によって帯電位が上がり、また剥離速度によって
ガラスプレートに帯電した電荷が放電しＴＦＴ素子の破
壊および露光装置の誤動作を招いていた。ガラスプレー
トをイオナイザで除電しつつ固定具から剥離分離する際
のガラスプレートの帯電位Ｖは、ｔを剥離分離開始後の
経過時間、ａをイオナイザの除電能力、ｂをガラスプレ
ートの固定具からの分離速度、ε0を雰囲気（大気）の
誘電率、Ｑ0 を成膜工程の条件などにより定まる初期帯
電量として
【０００７】
【数１】 で表わされる。図２は上記式で表わされる帯電位Ｖと時
間ｔの関係を示した図である。この図からガラスガラス
プレートの帯電位はピーク値を持つことが分かる。
間ｔの関係を示した図である。この図からガラスガラス
プレートの帯電位はピーク値を持つことが分かる。
【０００８】本発明では、このピーク値をあらかじめ各
工程毎に実験値として求め、静電気測定器によってガラ
スプレートの帯電位を監視しながらこの値を超えないよ
うに剥離速度を最適に制御し、無駄な時間を排除する。
工程毎に実験値として求め、静電気測定器によってガラ
スプレートの帯電位を監視しながらこの値を超えないよ
うに剥離速度を最適に制御し、無駄な時間を排除する。
【０００９】
【実施例】図１は本発明の一実施例に係る露光装置の要
部の構成を示す。同図において、３はＴＦＴ素子を形成
され液晶ディスプレーとなるガラスプレート、１はガラ
スプレート３の位置合わせおよび露光を行なうためにガ
ラスプレート３を真空吸着固定するためのプレートチャ
ック、２はプレートチャック１上にガラスプレート３を
固定するための真空吸着口、４はガラスプレート３をプ
レートチャック１と他の搬送装置（図示せず）間で受け
渡しを行なうためのハンド、５はハンド４上にガラスプ
レート３を真空吸着固定するための吸盤である。この吸
盤５はガラスプレート３の金属汚染を防止するために、
通常、樹脂あるいはゴム製である。６はハンド上に吸着
保持されたガラスプレート３の帯電位をモニタするため
の静電気測定器であり、７はハンド４上に保持されたガ
ラスプレート３の静電気帯電を除電するイオナイザ、８
はハンド４上に吸着固定されたガラスプレート３をプレ
ートチャック１との間で受け渡しするハンドを上下駆動
するモータ、９はＣＰＵを搭載しハンド４の上下駆動お
よび真空吸着のオン／オフを制御し、静電気測定器６か
らの入力部分を持ち、他の搬送装置とのインターフェー
スを行なうコントローラである。
部の構成を示す。同図において、３はＴＦＴ素子を形成
され液晶ディスプレーとなるガラスプレート、１はガラ
スプレート３の位置合わせおよび露光を行なうためにガ
ラスプレート３を真空吸着固定するためのプレートチャ
ック、２はプレートチャック１上にガラスプレート３を
固定するための真空吸着口、４はガラスプレート３をプ
レートチャック１と他の搬送装置（図示せず）間で受け
渡しを行なうためのハンド、５はハンド４上にガラスプ
レート３を真空吸着固定するための吸盤である。この吸
盤５はガラスプレート３の金属汚染を防止するために、
通常、樹脂あるいはゴム製である。６はハンド上に吸着
保持されたガラスプレート３の帯電位をモニタするため
の静電気測定器であり、７はハンド４上に保持されたガ
ラスプレート３の静電気帯電を除電するイオナイザ、８
はハンド４上に吸着固定されたガラスプレート３をプレ
ートチャック１との間で受け渡しするハンドを上下駆動
するモータ、９はＣＰＵを搭載しハンド４の上下駆動お
よび真空吸着のオン／オフを制御し、静電気測定器６か
らの入力部分を持ち、他の搬送装置とのインターフェー
スを行なうコントローラである。
【００１０】コントローラ９は他の搬送装置からハンド
４を介してガラスプレート３をプレートチャック１へ搬
送し真空吸着させる。ここでガラスプレート３は転写さ
れるマスク（図示せず）との位置合わせが行なわれ露光
処理される。露光装置は次のガラスプレート（図示せ
ず）を露光処理するためにプレートチャック１上のガラ
スプレート３を排出しなければならない。そのためにコ
ントローラ９はハンド４の吸盤５をプレートチャック１
上のガラスプレート３の下面に同時吸着させる。ここで
吸盤５の吸着確認が取れ次第プレートチャック１の真空
吸着口２を大気圧状態にし、モータ８を動作させ露光済
みガラスプレート３を上昇させプレートチャック１から
分離する。この時既にイオナイザ７は機能しており、コ
ントローラ９はハンド４があらかじめ決められた所定の
位置に達した時点でモータ８を停止させる。コントロー
ラ９はモータ８によってハンド４を上昇させる直前から
静電気測定器６によってハンド４上のガラスプレート３
の帯電位を監視する。そしてあらかじめ実験的に求めた
各成膜工程によって異なるＴＦＴ素子の破壊電圧または
放電電位をコントローラ９に登録しておき、静電気測定
器６によって得られたガラスプレート３の帯電位と比較
しながらこれを超えないようにハンド４の上昇速度を制
御する。通常このようなプレートチャック１とガラスプ
レート３の剥離帯電ではその距離が離れるほど帯電位が
上がるが、イオナイザによって除電しながらの上昇（剥
離）なのでイオナイザの除電能力によりガラスプレート
３の帯電位は下がっていく。
４を介してガラスプレート３をプレートチャック１へ搬
送し真空吸着させる。ここでガラスプレート３は転写さ
れるマスク（図示せず）との位置合わせが行なわれ露光
処理される。露光装置は次のガラスプレート（図示せ
ず）を露光処理するためにプレートチャック１上のガラ
スプレート３を排出しなければならない。そのためにコ
ントローラ９はハンド４の吸盤５をプレートチャック１
上のガラスプレート３の下面に同時吸着させる。ここで
吸盤５の吸着確認が取れ次第プレートチャック１の真空
吸着口２を大気圧状態にし、モータ８を動作させ露光済
みガラスプレート３を上昇させプレートチャック１から
分離する。この時既にイオナイザ７は機能しており、コ
ントローラ９はハンド４があらかじめ決められた所定の
位置に達した時点でモータ８を停止させる。コントロー
ラ９はモータ８によってハンド４を上昇させる直前から
静電気測定器６によってハンド４上のガラスプレート３
の帯電位を監視する。そしてあらかじめ実験的に求めた
各成膜工程によって異なるＴＦＴ素子の破壊電圧または
放電電位をコントローラ９に登録しておき、静電気測定
器６によって得られたガラスプレート３の帯電位と比較
しながらこれを超えないようにハンド４の上昇速度を制
御する。通常このようなプレートチャック１とガラスプ
レート３の剥離帯電ではその距離が離れるほど帯電位が
上がるが、イオナイザによって除電しながらの上昇（剥
離）なのでイオナイザの除電能力によりガラスプレート
３の帯電位は下がっていく。
【００１１】ハンド４が所定の位置に達したならばコン
トローラ９は他の搬送装置とインターフェースをとり露
光済みガラスプレート３を次の装置に搬送する。
トローラ９は他の搬送装置とインターフェースをとり露
光済みガラスプレート３を次の装置に搬送する。
【００１２】このようにすれば、搬送中（固定具との分
離剥離）のガラスプレートの静電気による帯電位を制御
できる。そして、ガラスプレート上に形成されたＴＦＴ
素子の破壊を防ぐことが可能になる。
離剥離）のガラスプレートの静電気による帯電位を制御
できる。そして、ガラスプレート上に形成されたＴＦＴ
素子の破壊を防ぐことが可能になる。
【００１３】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、搬送途
中のガラスプレートの帯電位を監視しその帯電位が所定
値を越えないようにガラスプレートの搬送速度を制御す
ることによって、ガラスプレート搬送途中（固定具との
分離剥離）の静電気による異常帯電およびその放電が防
止され、ＴＦＴ素子の破壊が無くなり歩留まりが上がり
生産性が良くなる。また、帯電した電荷が露光装置に放
電することが無くなり露光装置の安定稼働に寄与でき
る。
中のガラスプレートの帯電位を監視しその帯電位が所定
値を越えないようにガラスプレートの搬送速度を制御す
ることによって、ガラスプレート搬送途中（固定具との
分離剥離）の静電気による異常帯電およびその放電が防
止され、ＴＦＴ素子の破壊が無くなり歩留まりが上がり
生産性が良くなる。また、帯電した電荷が露光装置に放
電することが無くなり露光装置の安定稼働に寄与でき
る。
【図１】 本発明の一実施例に関わる露光装置の動作説
明のための図である。
明のための図である。
【図２】 ガラスプレートの搬送（固定具との分離剥
離）中の帯電位と時間の関係を示す図である。
離）中の帯電位と時間の関係を示す図である。
１：プレートチャック、２：真空吸着口、３：ガラスプ
レート、４：搬送ハンド、５：吸盤、６：静電気測定
器、７：イオナイザ、８：モータ、９：コントローラ。
レート、４：搬送ハンド、５：吸盤、６：静電気測定
器、７：イオナイザ、８：モータ、９：コントローラ。
Claims (1)
- 【請求項１】 ガラスプレートを固定するためのチャッ
クと、該チャックに載置されたガラスプレートを該チャ
ックから搬送分離するためのハンドと、該ガラスプレー
トを除電するためのイオナイザと、該ガラスプレートの
静電気を測定するための静電気測定器と、その静電気測
定器で該ガラスプレートの帯電位を監視しながら該ガラ
スプレートの搬送速度を制御するコントローラとを具備
することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6300200A JPH08137112A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6300200A JPH08137112A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08137112A true JPH08137112A (ja) | 1996-05-31 |
Family
ID=17881942
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6300200A Pending JPH08137112A (ja) | 1994-11-10 | 1994-11-10 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08137112A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006086338A (ja) * | 2004-09-16 | 2006-03-30 | Juki Corp | 電子部品実装装置 |
| CN106019655A (zh) * | 2016-07-26 | 2016-10-12 | 武汉华星光电技术有限公司 | 机台 |
-
1994
- 1994-11-10 JP JP6300200A patent/JPH08137112A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006086338A (ja) * | 2004-09-16 | 2006-03-30 | Juki Corp | 電子部品実装装置 |
| JP4499517B2 (ja) * | 2004-09-16 | 2010-07-07 | Ｊｕｋｉ株式会社 | 電子部品実装装置 |
| CN106019655A (zh) * | 2016-07-26 | 2016-10-12 | 武汉华星光电技术有限公司 | 机台 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2867526B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
| US6174370B1 (en) | Semiconductor wafer chucking device and method for stripping semiconductor wafer | |
| US6818560B1 (en) | Plasma processing apparatus and plasma processing method | |
| US20050268408A1 (en) | Cleaning system | |
| KR100537259B1 (ko) | 기판의 취급방법 | |
| JP2007208054A (ja) | 静電気除去装置及び静電気除去方法 | |
| US5552955A (en) | Substrate removal method and mechanism for effecting the method | |
| JPH06188305A (ja) | 被吸着体の離脱装置および被吸着体の離脱方法およびプラズマ処理装置 | |
| JPH0774231A (ja) | 処理装置及びその使用方法 | |
| JP2004299814A (ja) | 除電された絶縁体基板の製造方法及び製造装置 | |
| JP3230821B2 (ja) | プッシャーピン付き静電チャック | |
| EP1382714A2 (en) | Apparatus for removing particles | |
| JPH1169855A (ja) | 静電チャックにおける被吸着物の離脱方法及び静電チャック | |
| JPH08137112A (ja) | 露光装置 | |
| JP2002203837A (ja) | プラズマ処理方法および装置並びに半導体装置の製造方法 | |
| JPH06338463A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP2004051326A (ja) | シート状基板の搬送装置 | |
| JP3260683B2 (ja) | 基板移載装置 | |
| US20040161940A1 (en) | Semiconductor wafer processing method | |
| JP2574066B2 (ja) | 静電吸着装置 | |
| JP2000200825A (ja) | 真空処理装置の基板取り外し制御方法および真空処理装置 | |
| JP3118497B2 (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
| JP2913363B2 (ja) | 回転処理装置 | |
| JP2000216228A (ja) | 基板固定台 | |
| JP2007258636A (ja) | ドライエッチング方法およびその装置 |