JPH08118720A - Manufacture of ion flow electrostatic recording head - Google Patents

Manufacture of ion flow electrostatic recording head

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JPH08118720A
JPH08118720A JP25374494A JP25374494A JPH08118720A JP H08118720 A JPH08118720 A JP H08118720A JP 25374494 A JP25374494 A JP 25374494A JP 25374494 A JP25374494 A JP 25374494A JP H08118720 A JPH08118720 A JP H08118720A
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JP
Japan
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electrode
sheet
laminated
thickness
paste
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP25374494A
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Japanese (ja)
Inventor
Naohito Shiga
直仁 志賀
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Olympus Corp
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Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To prevent the deterioration of a dielectric layer due to discharging by laminating the conductor paste of a first electrode on a first sheet having a thickness of a specific range to form an insulating board and simultaneously burning the laminate of the state that the opposite surface of a second sheet to the laminated surface of the second electrode is superposed on the first electrode. CONSTITUTION: The conductor paste of a first electrode of an electrode pattern 12 is laminated on a first sheet 11 made of a ceramic material having a thickness of 15 to 100μm to form an insulating board 1. The conductor paste of a second electrode 4 of an electrode pattern 14 is laminated on a second sheet 13 for forming a dielectric layer 3 having the same composition and thickness as those of the sheet 11. The laminate of the state that the opposite surface of the sheet 13 to the laminated surface of the electrode 4 is superposed on the electrode 2 of the sheet 11 is simultaneously burned. Thus, the electrode 4 and the layer 3 can be rigidly fixed therebetween without deterioration of the layer 3 due to discharging.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は静電式の印刷や複写に利
用されるイオンフロー静電記録ヘッドの製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing an ion flow electrostatic recording head used for electrostatic printing and copying.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、例えば静電印刷などにおいて、
高電流密度のイオンを発生させ、これを抽出して選択的
に被帯電部材に付与して、この被帯電部材を画像上に帯
電させる静電記録装置が知られている。
2. Description of the Related Art Generally, for example, in electrostatic printing,
There is known an electrostatic recording apparatus in which ions having a high current density are generated, which are extracted and selectively applied to a member to be charged to charge the member to be charged on an image.

【0003】この静電記録装置に用いられるイオンフロ
ー静電記録ヘッドには図3(A),(B)に示すよう
に、絶縁基板1上に同方向に略直線状に延設され、略平
行に並設された複数の第1電極2が設けられている。こ
れらの第1電極2は誘電体層3の一方の面に固着されて
いる。
As shown in FIGS. 3A and 3B, an ion flow electrostatic recording head used in this electrostatic recording apparatus is extended substantially linearly in the same direction on an insulating substrate 1 as shown in FIGS. A plurality of first electrodes 2 arranged in parallel are provided. These first electrodes 2 are fixed to one surface of the dielectric layer 3.

【0004】また、誘電体層3の他方の面には第1電極
2の延設方向と異なる方向に延設された複数の第2電極
4が固着されている。そして、複数の第1電極2…と複
数の第2電極4…とでマトリックスが構成されている。
さらに、この第2電極4のマトリックスと対応する部位
にはイオン発生用の開口部4aが形成されている。
A plurality of second electrodes 4 extending in a direction different from the extending direction of the first electrode 2 are fixed to the other surface of the dielectric layer 3. The plurality of first electrodes 2 ... And the plurality of second electrodes 4 ... Form a matrix.
Further, an opening 4a for ion generation is formed in a portion of the second electrode 4 corresponding to the matrix.

【0005】また、第2電極4の第1電極2と反対側に
は絶縁体層5を介して第3電極6が配設されている。こ
れらの絶縁体層5および第3電極6には第2電極4の開
口部4aと対応する開口部5a,6aが形成されてお
り、これらの開口部5a,6aによってイオン流通過口
7が形成されている。
Further, a third electrode 6 is provided on the opposite side of the second electrode 4 from the first electrode 2 with an insulator layer 5 interposed therebetween. Openings 5a and 6a corresponding to the openings 4a of the second electrode 4 are formed in the insulator layer 5 and the third electrode 6, and the ion flow passage opening 7 is formed by these openings 5a and 6a. Has been done.

【0006】そして、第1電極2と第2電極4との間の
マトリックスの選択された部分に対応する第1電極2と
第2電極4との間に交互に高電圧を印加することによ
り、その部分に対向する第2電極4の開口部4a近傍に
正・負のイオンが発生する。
Then, by alternately applying a high voltage between the first electrode 2 and the second electrode 4 corresponding to the selected portion of the matrix between the first electrode 2 and the second electrode 4, Positive and negative ions are generated in the vicinity of the opening 4a of the second electrode 4 facing the portion.

【0007】また、第2電極4と第3電極6との間には
バイアス電圧が印加され、その極性によって決まるイオ
ンのみが発生したイオンから選択的に抽出され、イオン
流通過口7を通過し、第3電極6と対向配置される被帯
電部材を部分的に帯電させることができる。したがっ
て、マトリックス構造の電極を選択的に駆動することに
より、ドットによる静電記録を行なうことができる。
A bias voltage is applied between the second electrode 4 and the third electrode 6, and only ions determined by the polarity thereof are selectively extracted from the generated ions and passed through the ion flow passage port 7. The member to be charged, which is arranged so as to face the third electrode 6, can be partially charged. Therefore, electrostatic recording by dots can be performed by selectively driving the electrodes having the matrix structure.

【0008】ところで、イオンフロー静電記録ヘッドで
使用される誘電体層3を形成する誘電物質はイオン発生
のために印加される高電圧でも絶縁破壊しないことが要
求される。また、この誘電体層3はイオンを効率良く発
生させ、絶縁破壊にも耐えられる程度の厚さを必要とす
るため、高誘電率を有するものが適している。
By the way, it is required that the dielectric material forming the dielectric layer 3 used in the ion flow electrostatic recording head does not cause dielectric breakdown even with a high voltage applied for ion generation. Further, since the dielectric layer 3 needs to have a thickness sufficient to efficiently generate ions and withstand dielectric breakdown, a layer having a high dielectric constant is suitable.

【0009】そこで、例えば特開平2−153760号
公報にはイオンフロー静電記録ヘッドの誘電体層3の材
料として、シリコーン変性ポリエステル−アルキド樹脂
といった有機高分子材料に酸化チタンの微粉末を分散さ
せてペースト状にしたものを使用したものが示されてい
る。また、絶縁体層5にはフォトソルダーレジストフィ
ルムが用いられている。
Therefore, for example, in Japanese Patent Laid-Open No. 2-153760, titanium oxide fine powder is dispersed in an organic polymer material such as silicone-modified polyester-alkyd resin as a material for the dielectric layer 3 of the ion flow electrostatic recording head. It is shown that a paste-like product is used. Further, a photo solder resist film is used for the insulator layer 5.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところで、イオンフロ
ー静電記録ヘッドの放電時にはオゾン等のイオンや、熱
が発生することが知られている。そのため、誘電体層3
として特開平2−153760号公報に開示されている
ように有機高分子ベースの材料が使用されている場合に
は放電時に発生するオゾン等のイオンや熱により、誘電
体層3が表面から経時的に劣化するので、イオンフロー
静電記録ヘッド全体の電気特性も変化してしまい、静電
記録される画像の画質も劣化する問題がある。
By the way, it is known that ions such as ozone and heat are generated when the ion flow electrostatic recording head is discharged. Therefore, the dielectric layer 3
When an organic polymer-based material is used as disclosed in JP-A-2-153760, the dielectric layer 3 is aged from the surface with time due to ions such as ozone and heat generated during discharge. Therefore, there is a problem that the electrical characteristics of the entire ion flow electrostatic recording head also change, and the image quality of an electrostatically recorded image also deteriorates.

【0011】また、第2電極4を誘電体層3に固着させ
るために一般にシリコーン系の感圧接着剤8が用いられ
ている。しかしながら、シリコーン系の感圧接着剤8は
剥離力には強いが、剪断力には弱いという特性があるの
で、第2電極4を誘電体層3に固着させるためにシリコ
ーン系の感圧接着剤を用いた場合には第2電極4と誘電
体層3との間のシリコーン系の感圧接着剤8が後加工
や、使用上の熱、または機械的応力による剪断力に十分
耐えられず、第1電極2と第2電極4との間にズレが発
生し、画質が低下する問題がある。
Further, in order to fix the second electrode 4 to the dielectric layer 3, a silicone type pressure sensitive adhesive 8 is generally used. However, since the silicone-based pressure-sensitive adhesive 8 has a characteristic that it is strong in peeling force but weak in shearing force, in order to fix the second electrode 4 to the dielectric layer 3, the silicone-based pressure-sensitive adhesive is used. When using, the silicone-based pressure-sensitive adhesive 8 between the second electrode 4 and the dielectric layer 3 cannot sufficiently withstand post-processing, heat during use, or shear force due to mechanical stress, There is a problem that a displacement occurs between the first electrode 2 and the second electrode 4 and the image quality deteriorates.

【0012】さらに、誘電体層3の表面と第2電極4の
1本毎の接着面積は数平方ミリ程度の微小なものであ
る。そのため、この微小な面積を接着剤8の粘着力のみ
で、第2電極4のすべてを位置ずれが起こらぬように誘
電体層3の表面に固定し、熱的及び機械的な後加工工程
中や、使用中の熱的経時変化に耐えられるようにするに
は、一層接着力の強い接着剤8を使用する必要があるの
で、コスト高になる問題がある。
Further, the adhesive area of each surface of the dielectric layer 3 and the second electrode 4 is as small as several square millimeters. Therefore, this minute area is fixed to the surface of the dielectric layer 3 only by the adhesive force of the adhesive 8 so that the displacement of the second electrode 4 does not occur, and the thermal and mechanical post-processing steps are performed. In addition, since it is necessary to use the adhesive 8 having a stronger adhesive force in order to withstand the thermal aging during use, there is a problem that the cost becomes high.

【0013】また、第2電極4には孔径が100μm程
の小孔からなる開口部4aが数千個程度形成されている
為、小孔の開口部4a以外の場所に選択的に接着剤8を
塗布して接着することは、困難を極める。従って、第2
電極4と誘電体層3とを貼り合わせた後、第2電極4の
開口部4aの小孔内に残る余分な接着剤8を清浄によっ
て除去することが必要になる。
Further, since the second electrode 4 is formed with several thousands of openings 4a each having a hole diameter of about 100 μm, the adhesive 8 is selectively applied to a place other than the opening 4a of the small hole. Applying and bonding is extremely difficult. Therefore, the second
After the electrode 4 and the dielectric layer 3 are bonded together, it is necessary to clean and remove the excess adhesive 8 remaining in the small holes of the opening 4a of the second electrode 4.

【0014】しかしながら、多数の開口部4aのすべて
から接着剤8を清浄によって除去することは困難であ
り、第2電極4の開口部4a内に接着剤が残留し易いう
え、開口部4aの周辺部位における第1電極2側の第2
電極4の表面に金属面が剥き出しになった場所が発生す
るおそれがある。この場合には第2電極4の表面の金属
面の剥き出し部分と接着剤8に覆われた部分との間で、
放電に寄与する電流密度が異なるために、各開口部4a
からのイオン発生量がバラツキ、均質な画質・耐久性が
得られない問題がある。
However, it is difficult to remove the adhesive 8 from all of the large number of openings 4a by cleaning, the adhesive easily remains in the openings 4a of the second electrode 4, and the periphery of the openings 4a. Second part on the first electrode 2 side in the part
There may be a place where the metal surface is exposed on the surface of the electrode 4. In this case, between the exposed portion of the metal surface of the second electrode 4 and the portion covered with the adhesive 8,
Since the current density contributing to the discharge is different, each opening 4a
There is a problem in that the amount of generated ions from the inside varies and uniform image quality and durability cannot be obtained.

【0015】また、第2電極4の成形素材である厚さ数
十μm程度のステンレス箔に孔径が100μm程の小孔
の開口部4aを数千個程度、バラツキ無く、高精度に設
けるためには、高度なエッチング技術が必要となるう
え、歩留まりも悪化し、必然的に製造コストが高くなる
問題がある。
Further, in order to provide a few thousands of small-diameter openings 4a with a hole diameter of about 100 μm in a stainless foil having a thickness of about several tens of μm, which is a material for forming the second electrode 4, with high accuracy and without variation. However, there is a problem that a high etching technique is required, the yield is deteriorated, and the manufacturing cost is inevitably increased.

【0016】また、絶縁体層5として通常のフォトソル
ダーレジストフィルムを硬化させて用いた場合にはイオ
ンフロー静電記録ヘッドの長時間の放電で発生したイオ
ン群により、絶縁体層5の有機成分が徐々に侵食される
ので、耐久性を向上することが難しい問題もある。
When an ordinary photosolder resist film is used as the insulator layer 5 after curing, the organic component of the insulator layer 5 is generated by the ion group generated by the long-time discharge of the ion flow electrostatic recording head. Since it is gradually eroded, it is difficult to improve durability.

【0017】本発明は上記事情に着目してなされたもの
で、その目的は、放電による誘電体層の劣化がなく、第
2電極と誘電体層との間を強固に固着することができ、
熱的及び機械的な後加工や、使用中の熱的経時変化にも
位置ずれを起こさず、第2電極の各開口部の放電イオン
量が均一化し、高精細な加工にも対応し易く、高画質
で、耐久性が高く、且つ安価なイオンフロー静電記録ヘ
ッドの製造方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to firmly fix the second electrode and the dielectric layer without deterioration of the dielectric layer due to discharge.
It does not cause misalignment due to thermal and mechanical post-processing or thermal changes during use, the amount of discharge ions in each opening of the second electrode is uniform, and it is easy to handle high-precision processing. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an ion flow electrostatic recording head which has high image quality, high durability, and is inexpensive.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は絶縁基
板を形成する厚さ15μm以上100μm以下のセラミ
ック材料製の第1シート上に、第1電極の電極パターン
で導体ペーストが積層される第1シート積層工程と、前
記第1シートと同じ組成と厚さの誘電体層を形成する第
2シート上に、第2電極の電極パターンで導体ペースト
が積層される第2シート積層工程と、前記第1シートの
第1電極の上に、前記第2シートにおける前記第2電極
の積層面と反対側の面を重ね合わせた状態の積層体を同
時焼成する焼成工程とを具備したことを特徴とするイオ
ンフロー静電記録ヘッドの製造方法である。
According to a first aspect of the present invention, a conductive paste is laminated in an electrode pattern of a first electrode on a first sheet made of a ceramic material having a thickness of 15 μm or more and 100 μm or less forming an insulating substrate. A first sheet laminating step, and a second sheet laminating step in which a conductor paste is laminated with an electrode pattern of a second electrode on a second sheet forming a dielectric layer having the same composition and thickness as the first sheet, And a firing step of simultaneously firing a laminate having a state in which a surface of the second sheet opposite to the lamination surface of the second electrode is superposed on the first electrode of the first sheet. And a method of manufacturing an ion flow electrostatic recording head.

【0019】請求項2の発明は絶縁基板を形成する厚さ
15μm以上100μm以下のセラミック材料製の第1
シート上に、第1電極の電極パターンで導体ペーストが
積層される第1シート積層工程と、前記第1シートと同
じ組成と厚さの誘電体層を形成する第2シート上に、第
2電極の電極パターンで導体ペーストが積層される第2
シート積層工程と、前記第1シートと同じ組成と厚さの
絶縁体層を形成する第3シート上に、第3電極の電極パ
ターンで導体ペーストが積層される第3シート積層工程
と、前記第1シートの第1電極の上に、前記第2シート
における前記第2電極の積層面と反対側の面を重ね合わ
せ、かつ前記第2シートの第2電極の上に、前記第3シ
ートにおける前記第3電極の積層面と反対側の面を重ね
合わせた状態の積層体を同時焼成する焼成工程とを具備
したことを特徴とするイオンフロー静電記録ヘッドの製
造方法である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a first ceramic material having a thickness of 15 μm or more and 100 μm or less which forms an insulating substrate.
The first electrode laminating step in which the conductor paste is laminated on the sheet in the electrode pattern of the first electrode, and the second electrode on the second sheet forming the dielectric layer having the same composition and thickness as the first sheet. Second, the conductor paste is laminated with the electrode pattern of
A sheet laminating step, a third sheet laminating step of laminating a conductor paste with an electrode pattern of a third electrode on a third sheet forming an insulator layer having the same composition and thickness as the first sheet, The first electrode of one sheet is overlaid with the surface of the second sheet opposite to the laminated surface of the second electrode, and the second electrode of the second sheet is overlaid with the above-mentioned third sheet. A method of manufacturing an ion flow electrostatic recording head, comprising a firing step of simultaneously firing a laminated body in which a surface opposite to the laminated surface of the third electrode is superposed.

【0020】請求項3の発明は絶縁基板を形成する厚さ
15μm以上100μm以下のセラミック材料製の第1
シート上に、第1電極の電極パターンで導体ペーストが
積層される第1シート積層工程と、前記第1シートと同
じ組成と厚さの誘電体層を形成する第2シート上に、第
2電極の電極パターンで導体ペーストが積層される第2
シート積層工程と、前記第1シートの第1電極の上に、
前記第2シートにおける前記第2電極の積層面と反対側
の面を重ね合わせた状態の積層体を同時焼成する焼成工
程と、少なくとも光硬化型有機バインダーとセラミック
粉末を含む絶縁材料製のペーストを前記第2電極上に絶
縁体層に対応する所定パターンで塗布した状態で、前記
ペーストを光硬化させた後、未硬化部分を除去し、焼成
する絶縁体層成形工程とを具備したことを特徴とするイ
オンフロー静電記録ヘッドの製造方法である。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a first ceramic material having a thickness of 15 μm or more and 100 μm or less for forming an insulating substrate.
The first electrode laminating step in which the conductor paste is laminated on the sheet in the electrode pattern of the first electrode, and the second electrode on the second sheet forming the dielectric layer having the same composition and thickness as the first sheet. Second, the conductor paste is laminated with the electrode pattern of
A sheet laminating step and on the first electrode of the first sheet,
A firing step of simultaneously firing a laminated body in which the surface opposite to the laminated surface of the second electrode in the second sheet is superposed, and a paste made of an insulating material containing at least a photocurable organic binder and ceramic powder. An insulating layer forming step of photo-curing the paste, removing the uncured portion, and baking the paste in a state of being applied on the second electrode in a predetermined pattern corresponding to the insulating layer. And a method of manufacturing an ion flow electrostatic recording head.

【0021】[0021]

【作用】請求項1の発明では絶縁基板を形成する厚さ1
5μm以上100μm以下のセラミック材料製の第1シ
ート上に、第1電極の電極パターンで導体ペーストを積
層し、同様に第1シートと同じ組成と厚さの誘電体層を
形成する第2シート上に、第2電極の電極パターンで導
体ペーストを積層した後、第1シートの第1電極の上
に、第2シートにおける第2電極の積層面と反対側の面
を重ね合わせた状態の積層体を同時焼成することによ
り、セラミック材料製のシートに印刷される導体ペース
トのパターンを焼成後に必要な電極パターンの設定寸法
から、焼成時の収縮率を考慮した線間・線幅・穴径のパ
ターンを予め設定できるようにするとともに、セラミッ
ク材料製シートの表面と各電極との接着部分を原子レベ
ルで結合させ、シリコーン系の感圧接着剤よりも強固に
固着させることにより、絶縁基板および誘電体層の各セ
ラミック材料製シート間の密着性を確保し、さらにセラ
ミック材料製シートの表面と各電極との接着に感圧接着
剤のような電気的機械的にも不安定な異物層を用いず、
セラミック材料製シートの表面に直接電極を形成するこ
とにより、第2電極の開口部内に洗浄残りの接着剤が残
留したり、開口部内の接着剤を洗浄・除去時に開口部周
辺の第2電極表面に、金属面が剥き出しになってしまう
場所が発生したり、放電に寄与する電流密度にばらつき
が生じることを防止するようにしたものである。
According to the invention of claim 1, the thickness 1 for forming the insulating substrate
On the second sheet, which is obtained by laminating the conductor paste with the electrode pattern of the first electrode on the first sheet made of a ceramic material of 5 μm or more and 100 μm or less and similarly forming the dielectric layer having the same composition and thickness as the first sheet. A laminated body in which a conductor paste is laminated with the electrode pattern of the second electrode, and then the surface of the second sheet opposite to the laminated surface of the second electrode is superposed on the first electrode of the first sheet. By co-firing the conductor paste pattern printed on the ceramic material sheet by firing at the same time, the pattern of the line spacing, line width, and hole diameter that takes into account the shrinkage rate during firing from the set dimensions of the electrode pattern required after firing By making it possible to set in advance, and by bonding the bonding portion of the surface of the ceramic material sheet and each electrode at the atomic level, and by firmly fixing it than the pressure sensitive adhesive of silicone type, Adhesion between the insulating substrate and each ceramic material sheet of the dielectric layer is ensured, and the adhesion between the surface of the ceramic material sheet and each electrode is unstable electrically and mechanically like a pressure sensitive adhesive. Without using a foreign layer
By forming the electrode directly on the surface of the ceramic material sheet, the residual adhesive after cleaning remains in the opening of the second electrode, or the surface of the second electrode around the opening when cleaning or removing the adhesive in the opening. In addition, it is possible to prevent occurrence of a place where the metal surface is exposed and variation in the current density that contributes to discharge.

【0022】請求項2の発明では絶縁基板を形成する厚
さ15μm以上100μm以下のセラミック材料製の第
1シート上に、第1電極の電極パターンで導体ペースト
を積層し、同様に第1シートと同じ組成と厚さの誘電体
層を形成する第2シート上に、第2電極の電極パターン
で導体ペーストを積層し、さらに第1シートと同じ組成
と厚さの絶縁体層を形成する第3シート上に、第3電極
の電極パターンで導体ペーストを積層した後、第1シー
トの第1電極の上に、第2シートにおける第2電極の積
層面と反対側の面を重ね合わせ、かつ第2シートの第2
電極の上に、第3シートにおける第3電極の積層面と反
対側の面を重ね合わせた状態の積層体を同時焼成するこ
とにより、セラミック材料製のシートに印刷される導体
ペーストのパターンを焼成後に必要な電極パターンの設
定寸法から、焼成時の収縮率を考慮した線間・線幅・穴
径のパターンを予め設定できるようにするとともに、セ
ラミック材料製シートの表面と各電極との接着部分を原
子レベルで結合させ、シリコーン系の感圧接着剤よりも
強固に固着させることにより、絶縁基板、誘電体層およ
び絶縁体層の各セラミック材料製シート間の密着性を確
保し、絶縁基板、誘電体層及び絶縁体層を全てセラミッ
ク製で構成することにより、高電圧下長時間の放電でも
劣化せずに初期の電気特性を維持して高画質の長期耐久
性を確保する。さらに、セラミック材料製シートの表面
と各電極との接着に感圧接着剤のような電気的機械的に
も不安定な異物層を用いず、セラミック材料製シートの
表面に直接電極を形成することにより、第2電極の開口
部内に洗浄残りの接着剤が残留したり、開口部内の接着
剤を洗浄・除去時に開口部周辺の第2電極表面に、金属
面が剥き出しになってしまう場所が発生したり、放電に
寄与する電流密度にばらつきが生じることを防止するよ
うにしたものである。
According to the second aspect of the present invention, the conductor paste is laminated in the electrode pattern of the first electrode on the first sheet made of a ceramic material having a thickness of 15 μm or more and 100 μm or less to form the insulating substrate. Third, a conductor paste is laminated with an electrode pattern of a second electrode on a second sheet forming a dielectric layer having the same composition and thickness, and an insulating layer having the same composition and thickness as the first sheet is further formed. After laminating the conductor paste with the electrode pattern of the third electrode on the sheet, the surface opposite to the laminating surface of the second electrode on the second sheet is superposed on the first electrode of the first sheet, and 2 of 2 sheets
The conductor paste pattern printed on the sheet made of a ceramic material is fired by simultaneously firing a laminate in which a surface of the third sheet opposite to the lamination surface of the third electrode is superposed on the electrodes. From the set dimensions of the electrode pattern required later, it is possible to preset the pattern of line spacing, line width, and hole diameter that takes into account the shrinkage rate during firing, and also the adhesion part between the surface of the ceramic material sheet and each electrode. Is bonded at the atomic level and is more firmly fixed than the silicone-based pressure-sensitive adhesive, thereby ensuring the adhesion between the insulating substrate, the dielectric layer, and the ceramic material sheets of the insulating layer. By constructing the dielectric layer and the insulating layer entirely of ceramic, the initial electrical characteristics are maintained without deterioration even by long-time discharge under a high voltage, and long-term durability with high image quality is secured. Furthermore, the electrodes should be formed directly on the surface of the ceramic material sheet without using a foreign material layer such as a pressure-sensitive adhesive that is unstable electrically and mechanically for bonding the surface of the ceramic material sheet and each electrode. As a result, the residual adhesive after cleaning remains in the opening of the second electrode, or the metal surface is exposed on the surface of the second electrode around the opening when cleaning and removing the adhesive in the opening. It is intended to prevent variations in the current density that contributes to the discharge.

【0023】請求項3の発明では絶縁基板を形成する厚
さ15μm以上100μm以下のセラミック材料製の第
1シート上に、第1電極の電極パターンで導体ペースト
を積層し、同様に第1シートと同じ組成と厚さの誘電体
層を形成する第2シート上に、第2電極の電極パターン
で導体ペーストを積層した後、第1シートの第1電極の
上に、第2シートにおける第2電極の積層面と反対側の
面を重ね合わせた状態の積層体を同時焼成した後、少な
くとも光硬化型有機バインダーとセラミック粉末を含む
絶縁材料製のペーストを第2電極上に絶縁体層に対応す
る所定パターンで塗布した状態で、ペーストを光硬化さ
せた後、未硬化部分を除去し、焼成することにより、セ
ラミック材料製のシートに印刷される導体ペーストのパ
ターンを焼成後に必要な電極パターンの設定寸法から、
焼成時の収縮率を考慮した線間・線幅・穴径のパターン
を予め設定できるようにするとともに、セラミック材料
製シートの表面と各電極との接着部分を原子レベルで結
合させ、シリコーン系の感圧接着剤よりも強固に固着さ
せることにより、絶縁基板および誘電体層の各セラミッ
ク材料製シート間の密着性を確保し、さらにセラミック
材料製シートの表面と各電極との接着に感圧接着剤のよ
うな電気的機械的にも不安定な異物層を用いず、セラミ
ック材料製シートの表面に直接電極を形成することによ
り、第2電極の開口部内に洗浄残りの接着剤が残留した
り、開口部内の接着剤を洗浄・除去時に開口部周辺の第
2電極表面に、金属面が剥き出しになってしまう場所が
発生したり、放電に寄与する電流密度にばらつきが生じ
ることを防止する。さらに、絶縁体層を光硬化型有機バ
インダーとセラミック粉含有のペーストを用いて成形す
ることにより、従来のフォトソルダーレジストの工程が
そのまま利用できるようにしたものである。
According to the third aspect of the present invention, the conductor paste is laminated with the electrode pattern of the first electrode on the first sheet made of a ceramic material having a thickness of 15 μm or more and 100 μm or less forming the insulating substrate. After laminating the conductor paste with the electrode pattern of the second electrode on the second sheet forming the dielectric layer having the same composition and thickness, the second electrode of the second sheet is formed on the first electrode of the first sheet. After co-firing the laminated body in which the surface opposite to the laminated surface is laminated, a paste made of an insulating material containing at least a photocurable organic binder and ceramic powder is provided on the second electrode to correspond to the insulating layer. After the paste is photo-cured in a state where it is applied in a predetermined pattern, the uncured portion is removed and fired, so that the conductor paste pattern printed on the ceramic material sheet is required after firing. From the required dimensions of the electrode pattern,
In addition to enabling presetting of the line spacing, line width, and hole diameter patterns that take into consideration the shrinkage rate during firing, the surface of the ceramic material sheet and the bonding part of each electrode are bonded at the atomic level, and By fixing it more firmly than the pressure-sensitive adhesive, the adhesion between the insulating substrate and the ceramic material sheets of the dielectric layer is secured, and the surface of the ceramic material sheet and each electrode are pressure-sensitive. By forming the electrode directly on the surface of the ceramic material sheet without using an electromechanically unstable foreign substance layer such as an agent, the residual adhesive after cleaning remains in the opening of the second electrode. It is possible to prevent occurrence of a place where the metal surface is exposed on the surface of the second electrode around the opening when cleaning or removing the adhesive in the opening, and variation in current density contributing to discharge. Further, the insulating layer is formed by using a photo-curable organic binder and a paste containing ceramic powder so that the conventional photo solder resist process can be used as it is.

【0024】[0024]

【実施例】以下、本発明のイオンフロー静電記録ヘッド
の製造方法の第1の実施例について図1(A)〜(E)
を参照して説明する。本実施例では図3(A),(B)
に示すイオンフロー静電記録ヘッドの絶縁基板1は図1
(A)に示すセラミック材料製の第1のシート11によ
って形成されている。この第1のシート11は厚さ30
μmで、比誘電率7.8、X−Y方向(絶縁基板1の板
面上で直交する2方向)の収縮率13.2%、Z方向
(絶縁基板1の厚さ方向)の収縮率30%のホウケイ酸
鉛ガラス系のセラミック材料からなるセラミックグリー
ンシートによって形成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of a method of manufacturing an ion flow electrostatic recording head according to the present invention will be described below with reference to FIGS.
Will be described with reference to. In this embodiment, FIG. 3 (A), (B)
The insulating substrate 1 of the ion flow electrostatic recording head shown in FIG.
It is formed by the first sheet 11 made of a ceramic material shown in FIG. This first sheet 11 has a thickness of 30
μm, relative permittivity of 7.8, shrinkage rate of XY direction (two directions orthogonal to the plate surface of insulating substrate 1) 13.2%, shrinkage rate of Z direction (thickness direction of insulating substrate 1) It is formed by a ceramic green sheet made of a 30% lead borosilicate glass-based ceramic material.

【0025】このセラミックグリーンシートは次のよう
に製造される。すなわち、例えば各種ガラスや、アルミ
ナや、ジルコニアや、チタン酸バリウム等のセラミック
粉末を適当に組み合わせた混合物と、アクリル樹脂等の
有機バインダー、フタル酸ジブチル等の可塑剤、トルエ
ンや、ブタノール等の溶剤等をボールミルで良く混合し
たのち、ドクターブレード法によってシート状に成形す
る。続いて、シート状の成形体から溶剤を揮発させるこ
とにより、セラミックグリーンシートが形成される。
This ceramic green sheet is manufactured as follows. That is, for example, various kinds of glass, alumina, zirconia, a mixture of ceramic powders such as barium titanate and the like, an organic binder such as an acrylic resin, a plasticizer such as dibutyl phthalate, a solvent such as toluene and butanol. Etc. are mixed well with a ball mill and then formed into a sheet by the doctor blade method. Then, the ceramic green sheet is formed by evaporating the solvent from the sheet-shaped molded body.

【0026】さらに、セラミックグリーンシートのシー
ト厚は、15μm以上100μm以下に設定される。こ
こで、セラミックグリーンシートのシート厚が30μm
未満では膜厚均一性や、ハンドリングの面で難があり、
15μm未満では成形自体が不可能である。また、セラ
ミックグリーンシートのシート厚が50μmを越えると
イオンを発生させる際に必要な印加電圧が高くなるの
で、これに合った適当な誘電率のものが得難くなり、1
00μmを越えるとイオンを発生させる駆動回路の負担
が大きすぎることになる。
Further, the thickness of the ceramic green sheet is set to 15 μm or more and 100 μm or less. Here, the thickness of the ceramic green sheet is 30 μm.
If less than, there is a problem in film thickness uniformity and handling,
If it is less than 15 μm, molding itself is impossible. Further, when the thickness of the ceramic green sheet exceeds 50 μm, the applied voltage required for generating ions becomes high, so that it is difficult to obtain a material having an appropriate dielectric constant suitable for this.
If it exceeds 00 μm, the load on the drive circuit for generating ions becomes too large.

【0027】また、第1のシート11の上には第1電極
2の電極パターン12で導体ペーストが積層される(第
1シート積層工程)。ここで、導体ペーストとしては銀
とパラジウムとの重量比が95:5で混合された銀−パ
ラジウム系導体ペーストが使用される。そして、この導
体ペーストが第1のシート11の片面上に線間の間隔L
1 が200μm、線幅L2 が100μmの第1電極2の
電極パターン12で、厚さtが約5μmに例えばスクリ
ーン印刷等の手段で印刷される。さらに、第1電極2の
電極パターン12の印刷後、80℃で、10分間、乾燥
される。
A conductor paste is laminated on the first sheet 11 with the electrode pattern 12 of the first electrode 2 (first sheet laminating step). Here, as the conductor paste, a silver-palladium-based conductor paste in which the weight ratio of silver and palladium is 95: 5 is used. Then, this conductor paste is formed on one surface of the first sheet 11 so as to have a space L between the lines.
1 is an electrode pattern 12 of the first electrode 2 having a width of 200 μm and a line width L 2 of 100 μm, and a thickness t of about 5 μm is printed by means of screen printing or the like. Further, after printing the electrode pattern 12 of the first electrode 2, it is dried at 80 ° C. for 10 minutes.

【0028】次に、図1(B)に示すように第1のシー
ト11と同じ組成と厚さのセラミックグリーンシートか
らなる誘電体層3を形成する第2のシート13上に、第
2電極4の電極パターン14で導体ペーストが積層され
る(第2シート積層工程)。この導体ペーストは第1電
極2の電極パターン12を形成したものと同じ銀−パラ
ジウム系導体ペーストが使用される。そして、この導体
ペーストが第2のシート13の片面上に第2電極4の電
極パターン14で、例えばスクリーン印刷等の手段で印
刷される。この電極パターン14には各第2電極4の部
分に穴径60μm程の小孔からなる開口部4aのパター
ン14aが形成されている。そして、この第2電極4の
電極パターン14の印刷後、第1電極2の電極パターン
12と同条件で乾燥される。
Next, as shown in FIG. 1B, the second electrode is formed on the second sheet 13 forming the dielectric layer 3 made of the ceramic green sheet having the same composition and thickness as the first sheet 11. The conductor paste is laminated with the electrode pattern 14 of No. 4 (second sheet laminating step). As the conductor paste, the same silver-palladium-based conductor paste used for forming the electrode pattern 12 of the first electrode 2 is used. Then, this conductor paste is printed on one surface of the second sheet 13 with the electrode pattern 14 of the second electrode 4 by means such as screen printing. In this electrode pattern 14, a pattern 14a of an opening 4a formed of a small hole having a hole diameter of about 60 μm is formed in each second electrode 4. Then, after the electrode pattern 14 of the second electrode 4 is printed, it is dried under the same conditions as the electrode pattern 12 of the first electrode 2.

【0029】さらに、乾燥後、第1のシート11の第1
電極2の上に、第2のシート13における第2電極4の
積層面と反対側の面を位置合わせをして重ね合わせる。
ここで、第1のシート11と第2のシート13との位置
合わせの方法としては、例えば両シート11,13の周
縁部位を基準にして重ねたり、或いは両シート11,1
3に位置合わせ用の穴を予めあけておき、図示しない位
置合わせピンを両シート11,13の位置合わせ用の穴
に通して順次重ねたりする。
Further, after drying, the first sheet 11 of the first
The surface of the second sheet 13 opposite to the laminated surface of the second electrode 4 is aligned and superposed on the electrode 2.
Here, as a method of aligning the first sheet 11 and the second sheet 13, for example, the sheets 11 and 13 are overlapped with each other as a reference, or the sheets 11 and 1 are aligned with each other.
Positioning holes are preliminarily formed in 3 and positioning pins (not shown) are passed through the positioning holes of both sheets 11 and 13 to sequentially stack them.

【0030】次に、図1(C)に示すように第1のシー
ト11と同じ組成と厚さのセラミックグリーンシートか
らなる絶縁体層5を形成する第3のシート15上に、第
3電極6の電極パターン16で導体ペーストが積層され
る(第3シート積層工程)。この導体ペーストは銀とパ
ラジウムとの重量比が80:20で混合された銀−パラ
ジウム系導体ペーストが使用される。そして、この導体
ペーストが第3のシート15の片面上に第3電極6の電
極パターン16で、例えばスクリーン印刷等の手段で印
刷される。さらに、この第3電極6の電極パターン16
の印刷後、第1電極2の電極パターン12と同条件で乾
燥される。
Next, as shown in FIG. 1C, the third electrode is formed on the third sheet 15 forming the insulator layer 5 made of the ceramic green sheet having the same composition and thickness as the first sheet 11. The conductor paste is laminated on the electrode patterns 16 of No. 6 (third sheet laminating step). As the conductor paste, a silver-palladium-based conductor paste in which the weight ratio of silver and palladium is 80:20 is used. Then, this conductor paste is printed on one surface of the third sheet 15 with the electrode pattern 16 of the third electrode 6 by means such as screen printing. Further, the electrode pattern 16 of the third electrode 6
After being printed, the electrode pattern 12 of the first electrode 2 is dried under the same conditions.

【0031】また、第3電極6の電極パターン16の乾
燥後、図1(D)に示すように第3のシート15におけ
る第2電極4の電極パターン14の開口部14aと対応
する位置に開口部15aがレーザ加工により形成され
る。
After drying the electrode pattern 16 of the third electrode 6, as shown in FIG. 1D, an opening is formed at a position corresponding to the opening 14a of the electrode pattern 14 of the second electrode 4 on the third sheet 15. The portion 15a is formed by laser processing.

【0032】その後、図1(E)のように第2電極4の
開口部14aと第3電極6の開口部16aの位置を合わ
せた状態で、第2のシート13の第2電極4の上に、第
3のシート15における第3電極16の積層面と反対側
の面を重ね合わせる。ここで、第2のシート13と第3
のシート15との位置合わせの方法としては、例えば両
シート13,15の周縁部位を基準にして重ねたり、或
いは両シート13,15に位置合わせ用の穴を予めあけ
ておき、図示しない位置合わせピンを両シート13,1
5の位置合わせ用の穴に通して順次重ねたりする。
Thereafter, as shown in FIG. 1 (E), with the opening 14a of the second electrode 4 and the opening 16a of the third electrode 6 aligned with each other, the second electrode 4 on the second sheet 13 is placed on the second electrode 4. Then, the surface of the third sheet 15 opposite to the laminated surface of the third electrode 16 is overlapped. Here, the second sheet 13 and the third sheet
As a method of aligning the sheet 15 with the sheet 15, for example, the sheets 13 and 15 are overlapped with each other on the basis of the peripheral edge portions, or holes for aligning the sheets 13 and 15 are preliminarily formed, and a position not shown is aligned. Pin both sheets 13,1
Pass them through the positioning holes in 5 and stack them one by one.

【0033】次に、第1〜3の各シート11、13、1
5を位置合わせた状態のまま、温水等方圧ラミネータに
入れ、100℃で、200kg/cm2 の加圧力で加圧
処理することにより、一体に積層圧着された積層体17
が形成される。なお、導体ペーストが印刷されたセラミ
ックグリーンシートの積層圧着に際しては、機械プレス
でも良いが、導体パターンよってはパターンの形状が崩
れてしまうことがあるので、温水中で等方的に加圧でき
る温水等方加圧機を用いることが好ましい。
Next, the first to third sheets 11, 13, 1
5 is placed in a hot water isotropic laminator in a state of being aligned and subjected to a pressure treatment at a pressure of 200 kg / cm 2 at 100 ° C. to integrally laminate and pressure-bond the laminate 17.
Is formed. When laminating and pressing the ceramic green sheets on which the conductor paste is printed, a mechanical press may be used, but the shape of the pattern may collapse depending on the conductor pattern. It is preferable to use an isotropic press.

【0034】その後、第1〜3の各シート11、13、
15の積層体17が同時に焼成(脱脂・焼結)される
(焼成工程)。この焼成工程では加熱温度をプログラム
制御可能な図示しないプログラム制御炉が使用され、次
のようなプログラム制御による加熱処理が行われる。す
なわち、プログラム制御炉に積層体17が挿入された状
態で、15℃/時の昇温速度で、500℃迄上げ、引き
続いて100℃/時の昇温速度で、870℃迄上げ、そ
のまま2時間保持され、その後、室温まで徐冷される。
After that, the first to third sheets 11, 13,
The laminated body 17 of 15 is simultaneously fired (degreasing and sintering) (firing step). In this firing step, a program-controlled furnace (not shown) whose heating temperature is program controllable is used, and the following heating process is performed by program control. That is, with the laminated body 17 inserted in the program-controlled furnace, the temperature was raised to 500 ° C. at a heating rate of 15 ° C./hour, and subsequently to 870 ° C. at a heating rate of 100 ° C./hour, and then 2 It is held for a period of time and then gradually cooled to room temperature.

【0035】そして、上記焼成工程の終了後、絶縁基板
1上に第1電極2が配線され、更にその上に誘電体層
3、第1電極2に対して位置出しされた第2電極4、絶
縁体層5、第2電極4の開口部4aと開口部6aが位置
出しされた第3電極6が順次積層されて一体化されたイ
オンフロー静電記録ヘッドの積層体(完成品)が得られ
る。なお、この完成品の第1電極2の線間の間隔L1
174μm、線幅L2 は87μmで、第2電極4の開口
部4aの穴径は52μmであった。また、第1電極2と
第2電極4の間の誘電体層3の厚さは21μmであっ
た。
After the firing process is completed, the first electrode 2 is wired on the insulating substrate 1, and the dielectric layer 3 and the second electrode 4 positioned on the first electrode 2 are further disposed on the insulating substrate 1. A laminate (completed product) of an ion flow electrostatic recording head in which the insulator layer 5, the opening 4a of the second electrode 4 and the third electrode 6 in which the opening 6a is positioned are sequentially laminated and integrated To be The space L 1 between the lines of the first electrode 2 of this finished product was 174 μm, the line width L 2 was 87 μm, and the hole diameter of the opening 4 a of the second electrode 4 was 52 μm. The thickness of the dielectric layer 3 between the first electrode 2 and the second electrode 4 was 21 μm.

【0036】そこで、上記方法で製造されたイオンフロ
ー静電記録ヘッドでは次の効果を奏する。すなわち、イ
オンフロー静電記録ヘッドの製造工程中、第1〜3の各
シート11、13、15のセラミックグリーンシート上
に金属製の導体ペーストをスクリーン印刷して第1電極
2、第2電極4、第3電極6の各電極パターン12、1
4、16をそれぞれ形成したのち、第1〜3の各シート
11、13、15を積層させた状態で同時に脱脂・焼結
を行う焼成工程を経てイオンフロー静電記録ヘッドの積
層体17を形成するようにしたので、セラミックグリー
ンシートに印刷される導体ペーストのパターンは脱脂・
焼結後に必要な電極パターン12、14、16の設定寸
法から、脱脂焼結時の収縮率を考慮した線間・線幅・穴
径のパターン(脱脂・焼結後の電極パターンの設定寸法
よりも若干大きな寸法のパターン)を予め設定すること
ができる。そのため、セラミックグリーンシートに印刷
される導体ペースト12、14、16のパターンを寸法
精度、線間、線幅、穴径、線のエッジのシャープさ等に
ついて、最終的な製品の電極パターン12、14、16
に比べて、少々大きめの仕様に設定できるので、脱脂・
焼結前にスクリーン印刷し、脱脂・焼結を行う焼成工程
で収縮させて微細パターン化させることにより、通常の
焼結後のセラミック基板に導体ペーストをスクリーン印
刷して電極を形成する手法では不可能だった微細構造の
電極パターン12、14、16も形成可能となる。
Therefore, the ion flow electrostatic recording head manufactured by the above method has the following effects. That is, during the manufacturing process of the ion flow electrostatic recording head, a metal conductive paste is screen-printed on the ceramic green sheets of the first to third sheets 11, 13, and 15 to screen the first electrode 2 and the second electrode 4. , The electrode patterns 12, 1 of the third electrode 6
After forming 4 and 16, respectively, the laminated body 17 of the ion flow electrostatic recording head is formed through a firing process in which degreasing and sintering are performed simultaneously with the first to third sheets 11, 13 and 15 being laminated. The pattern of the conductor paste printed on the ceramic green sheet is degreased and
From the set dimensions of the electrode patterns 12, 14, 16 required after sintering, the pattern of line spacing, line width and hole diameter (from the set dimensions of the electrode pattern after degreasing and sintering) in consideration of the shrinkage ratio during degreasing and sintering Can be set in advance). Therefore, the patterns of the conductor pastes 12, 14 and 16 printed on the ceramic green sheets may be used in terms of dimensional accuracy, line spacing, line width, hole diameter, line edge sharpness, etc. , 16
It can be set to a slightly larger specification than
Screen printing is performed before sintering, and shrinking is performed in the firing process of degreasing and sintering to form a fine pattern, which is not possible with the method of screen-printing a conductive paste on a ceramic substrate after normal sintering to form electrodes. It is possible to form the finely structured electrode patterns 12, 14 and 16 which are possible.

【0037】従って、安価なスクリーン印刷でも第1電
極2、第2電極4、第3電極6の高精細で微細な電極パ
ターン12、14、16を形成することができるので、
従来の印刷法のように導体ペーストをセラミック基板の
全面にベタ塗り状態で印刷した後にフォトエッチング処
理で電極パターン12、14、16を形成する場合に比
べてコスト低下を図ることができる。
Therefore, the high-definition and fine electrode patterns 12, 14, 16 of the first electrode 2, the second electrode 4, and the third electrode 6 can be formed by inexpensive screen printing.
The cost can be reduced compared to the case where the electrode patterns 12, 14, 16 are formed by photoetching after printing the conductor paste in a solid coating state on the entire surface of the ceramic substrate as in the conventional printing method.

【0038】また、セラミックグリーンシート上に導体
ペーストを印刷した第1〜3の各シート11、13、1
5を積層圧着したのち、脱脂・焼結させ、各シート1
1、13、15の表面と各電極パターン12、14、1
6との接合面に原子レベルでの結合を引き出して金属皮
膜(電極パターン12、14、16)を形成させている
ので、セラミック材料製の第1〜3の各シート11、1
3、15の表面と各電極パターン12、14、16との
接着に感圧接着剤のような電気的機械的にも不安定な異
物層を用いず、セラミック材料製シート11、13、1
5の表面に直接電極パターン12、14、16を強固に
固着できる。そのため、従来のように第2電極4の開口
部4a内に洗浄残りの接着剤が残留したり、開口部4a
内の接着剤の洗浄・除去時に開口部4aの周辺の第2電
極4の表面に、金属面が剥き出しになってしまう場所が
発生したり、放電に寄与する電流密度にばらつきが生じ
ることを防止することができるので、第2電極4の各開
口部4aからの放電イオン量を均一化することができ
る。
The first to third sheets 11, 13 and 1 in which the conductor paste is printed on the ceramic green sheet
After laminating and pressing 5 layers, degreasing and sintering, each sheet 1
Surfaces of 1, 13, 15 and electrode patterns 12, 14, 1
Since the metal film (electrode patterns 12, 14, 16) is formed by drawing out the bond at the atomic level on the joint surface with 6, the first to third sheets 11 and 1 made of ceramic material are formed.
The ceramic material sheets 11, 13, 1 do not use an electromechanically unstable foreign substance layer such as a pressure-sensitive adhesive to bond the surfaces of the electrodes 3 and 15 to the electrode patterns 12, 14 and 16.
The electrode patterns 12, 14, 16 can be firmly fixed directly to the surface of the electrode 5. Therefore, as in the conventional case, the adhesive remaining after cleaning remains in the opening 4a of the second electrode 4, or the opening 4a
It is possible to prevent the occurrence of a place where the metal surface is exposed on the surface of the second electrode 4 around the opening 4a and the variation in the current density that contributes to the discharge when cleaning and removing the adhesive inside. Therefore, the amount of discharged ions from each opening 4a of the second electrode 4 can be made uniform.

【0039】さらに、第1電極2と誘電体層3との間、
第2電極4と誘電体層3との間、第2電極4と絶縁体層
5との間、及び絶縁体層5と第3電極6との間をそれぞ
れ接着剤を介さずに同時焼成により強固に固着すること
ができるので、熱的及び機械的な後加工や、使用中の熱
的経時変化にも各電極間の位置ずれを起こさず、イオン
フロー静電記録ヘッドの動作を安定させ、高精度、高画
質の静電記録画像を得ることができる。
Further, between the first electrode 2 and the dielectric layer 3,
By co-firing between the second electrode 4 and the dielectric layer 3, between the second electrode 4 and the insulator layer 5, and between the insulator layer 5 and the third electrode 6, without using an adhesive, respectively. Since it can be firmly fixed, it does not cause positional displacement between each electrode even with thermal and mechanical post-processing and thermal aging during use, stabilizing the operation of the ion flow electrostatic recording head, It is possible to obtain a highly accurate and high-quality electrostatically recorded image.

【0040】また、絶縁基板1から上部の誘電体層3、
絶縁体層5までをセラミック製にできたので、高電圧
下、長時間の放電でも発生するイオンにより絶縁体層5
が劣化することなく、初期の電気特性を維持して高画質
の長期耐久性を確保することができる。
In addition, the insulating substrate 1 to the upper dielectric layer 3,
Since the insulator layer 5 can be made of ceramic, the insulator layer 5 is formed by the ions generated even at a high voltage for a long time discharge.
It is possible to maintain the initial electrical characteristics and ensure high image quality long-term durability without deterioration.

【0041】尚、本実施例では第1電極2、第2電極
4、第3電極6を形成する導体ペーストの金属材料とし
て銀−パラジウム系導体ペーストを用いたが、他に金
や、白金等導体ペースト化が可能な金属ももちろん、仕
様に応じて用いることができる。特に、金レジネート系
のペーストを用いた場合には導体層でのZ方向の収縮も
大きくなる為、若干脱脂時の加圧力を増加しながら対応
すれば、より薄膜で高精度の電極パターンが得られる。
また、焼成工程(脱脂・焼結)ではイオンフロー静電記
録ヘッドの各層の緻密性に影響するので、適当な昇温速
度とステップで制御することが必要である。
In this embodiment, the silver-palladium-based conductor paste was used as the metal material of the conductor paste for forming the first electrode 2, the second electrode 4, and the third electrode 6, but gold, platinum or the like may be used. Of course, a metal that can be used as a conductor paste can be used according to the specifications. In particular, when a gold resinate-based paste is used, the contraction in the Z direction in the conductor layer also increases. Therefore, if the pressure applied during degreasing is increased slightly to cope with this, a thinner electrode and a highly accurate electrode pattern can be obtained. To be
In addition, since the firing process (degreasing / sintering) affects the denseness of each layer of the ion flow electrostatic recording head, it is necessary to control at an appropriate heating rate and step.

【0042】さらに、第1〜3の各シート11、13、
15のセラミックグリーンシートの積層に当たり、各シ
ート11、13、15の組成や、厚さは同一に設定した
ので、各シート11、13、15の融点や、熱膨張係数
の差や、剛性の差等で、積層体17が変形したり、破損
することを防止することができるとともに、使用時の熱
履歴に対しても、使用しているセラミックの組成・厚み
が同じ為、熱変形しにくい。
Further, the first to third sheets 11, 13,
When the 15 ceramic green sheets were laminated, the compositions and thicknesses of the sheets 11, 13 and 15 were set to be the same, so that the melting points of the sheets 11, 13 and 15 and the difference in the coefficient of thermal expansion and the difference in rigidity were set. As a result, it is possible to prevent the laminated body 17 from being deformed or damaged, and it is difficult for the laminated ceramic body 17 to be thermally deformed due to the same composition and thickness of the ceramic used, even with respect to the thermal history during use.

【0043】次に、本発明の第2の実施例について図2
(A)〜(D)を参照して説明する。本実施例は第1の
実施例のように絶縁体層5のセラミックグリーンシート
上に第3電極6の電極パターン16をスクリーン印刷
し、下部の他のセラミックグリーンシートと積層圧着し
て同時に脱脂焼成することで積層体17を形成する代わ
りに、光硬化型有機バインダーとガラス−アルミナ粉等
のセラミック粉と溶剤を配合した、例えば日本電気製の
絶縁ペーストである「NTPペースト」(商品名)を用
いて絶縁体層5を形成し、その後、従来のようにステン
レス箔をフォトエッチングによりパターニングした第3
電極6を、絶縁体層5上に貼り付けて形成したものであ
る。それ以外の部分は第1の実施例と同様である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to (A) to (D). In this embodiment, as in the first embodiment, the electrode pattern 16 of the third electrode 6 is screen-printed on the ceramic green sheet of the insulator layer 5, laminated and pressure-bonded with the other ceramic green sheet below, and simultaneously degreasing and firing. Instead of forming the laminated body 17 by doing so, an "NTP paste" (trade name), which is an insulating paste manufactured by NEC, for example, is a mixture of a photocurable organic binder, a ceramic powder such as glass-alumina powder, and a solvent. The insulating layer 5 is formed by using the above, and then the stainless foil is patterned by photoetching in the conventional manner.
The electrode 6 is formed by pasting it on the insulator layer 5. The other parts are the same as those in the first embodiment.

【0044】すなわち、図1(A)に示すように、セラ
ミックグリーンシートの第1のシート11の上に第1電
極2の電極パターン12で導体ペーストが積層され、乾
燥されたのち、図1(B)に示すように、第1のシート
11と同じ組成と厚さのセラミックグリーンシートから
なる誘電体層3を形成する第2のシート13上に、第2
電極4の電極パターン14で導体ペーストが積層され、
乾燥された状態で、第1のシート11の第1電極2の上
に、第2のシート13における第2電極4の積層面と反
対側の面を位置合わせをして重ね合わせ、さらに第1の
シート11と第2のシート13との間を位置合わせた状
態のまま、温水等方圧ラミネータで加圧処理することに
より、図2(A)に示すように、第1のシート11と第
2のシート13とが積層された積層体21(絶縁基板1
上に第1電極2が配線され、更にその上に誘電体層3、
第1電極2に対して位置出しされた第2電極4が積層さ
れる)が一体に積層圧着される。
That is, as shown in FIG. 1A, a conductor paste is laminated on the first sheet 11 of the ceramic green sheet with the electrode pattern 12 of the first electrode 2 and is dried, and then, as shown in FIG. As shown in B), the second sheet 13 is formed on the second sheet 13 forming the dielectric layer 3 made of the ceramic green sheet having the same composition and thickness as the first sheet 11.
The conductor paste is laminated on the electrode pattern 14 of the electrode 4,
In the dried state, the surface of the second sheet 13 opposite to the laminated surface of the second electrode 4 is aligned and overlapped on the first electrode 2 of the first sheet 11, and the first electrode 2 is further laminated. As shown in FIG. 2 (A), the first sheet 11 and the second sheet 13 are pressure-treated by the hot water isotropic laminator while the sheet 11 and the second sheet 13 are aligned with each other. The laminated body 21 (insulating substrate 1
The first electrode 2 is wired on the dielectric layer 3, and the dielectric layer 3,
The second electrode 4 positioned with respect to the first electrode 2 is laminated) and is integrally pressure-bonded.

【0045】また、絶縁基板1から第2電極4までの積
層体21の積層圧着、脱脂焼成が終了したのち、絶縁体
層5が次のように形成される。ここでは、図2(B)に
示すように、積層体21上に、NTPペースト22がベ
タ塗り状態で均一にスクリーン印刷される。続いて、塗
布されたNTPペースト22が10分ほどレベリングさ
れた後、100℃で、20分間の乾燥が行われる。
After the lamination pressure bonding and degreasing firing of the laminated body 21 from the insulating substrate 1 to the second electrode 4 are completed, the insulating layer 5 is formed as follows. Here, as shown in FIG. 2B, the NTP paste 22 is uniformly screen-printed on the laminated body 21 in a solid coating state. Then, the applied NTP paste 22 is leveled for about 10 minutes, and then dried at 100 ° C. for 20 minutes.

【0046】次に、塗布されたNTPペースト22の上
に図2(C)に示すように、絶縁体層5のパターン用の
フォトマスク23がセットされる。このフォトマスク2
3には絶縁体層5の開口部5aに対応するマスク部23
aと透光性を備えた光透過部23bとが設けられてい
る。そして、フォトマスク23を介してNTPペースト
22が平行光で露光された後、開口部5a等の不要な未
露光部が1,1,1,−トリクロルエタンで図2(D)
に示すように、現像除去される。
Next, as shown in FIG. 2C, a photomask 23 for patterning the insulating layer 5 is set on the applied NTP paste 22. This photo mask 2
3 is a mask portion 23 corresponding to the opening 5a of the insulator layer 5.
a and a light transmitting portion 23b having a light transmitting property are provided. Then, after the NTP paste 22 is exposed to parallel light through the photomask 23, unnecessary unexposed portions such as the openings 5a are formed of 1,1,1, -trichloroethane as shown in FIG.
As shown in FIG.

【0047】ここで、残ったペースト22の部分が光で
後硬化されてから、ベルト焼成炉にて30℃/分の昇温
速度で、400℃まで上げ、そのまま5分間保持されて
脱脂される。この時、40リットル/分の排気が行われ
る。その後、一旦300℃迄徐冷後、50℃/分の昇温
速度で、920℃まで上げ、そのまま7分間保持されて
焼成され、膜厚30μmのパターニングされた無機質の
絶縁体層5が形成される。
Here, after the remaining portion of the paste 22 is post-cured by light, the temperature is raised to 400 ° C. at a temperature rising rate of 30 ° C./min in a belt baking furnace, and is held as it is for 5 minutes for degreasing. . At this time, exhaust of 40 liters / minute is performed. Then, after gradually cooling to 300 ° C., the temperature was raised to 920 ° C. at a heating rate of 50 ° C./min, and the temperature was maintained for 7 minutes and baked to form a patterned inorganic insulator layer 5 with a film thickness of 30 μm. It

【0048】また、第3電極6はパターニングされたス
テンレス箔に、薄く粘着剤を塗布して絶縁体層5上に貼
り付けた後、第3電極6の周辺をテープで押さえつける
ことにより、絶縁体層5上に固定される。
The third electrode 6 is formed by applying a thin adhesive to a patterned stainless steel foil and sticking the adhesive on the insulator layer 5, and then pressing the periphery of the third electrode 6 with a tape to form an insulator. It is fixed on the layer 5.

【0049】そこで、上記方法で製造されたイオンフロ
ー静電記録ヘッドでは次の効果を奏する。すなわち、本
実施例では安価な印刷手法を用いて高精細な微細パター
ンの第1電極2の電極パターン12および第2電極4の
電極パターン14の電極層を形成できるので、第1電極
2と誘電体層3との間、第2電極4と誘電体層3との間
を接着剤を介さずに同時に焼成することができるととも
に、第2電極4と絶縁体層5との間を後加工により強固
に固着することができる。そのため、熱的及び機械的な
後加工や、使用中の熱的経時変化にも各電極2、4、6
間で位置ずれを起こしにくくすることができ、第2電極
4の各開口部4aからの放電イオン量が均一化し、高精
度、高画質の静電記録画像を得ることができる。
Therefore, the ion flow electrostatic recording head manufactured by the above method has the following effects. That is, in the present embodiment, it is possible to form an electrode layer of the electrode pattern 12 of the first electrode 2 and the electrode pattern 14 of the second electrode 4 in a high-definition fine pattern by using an inexpensive printing method, so that the first electrode 2 and the dielectric layer The body layer 3 and the second electrode 4 and the dielectric layer 3 can be simultaneously fired without an adhesive, and the second electrode 4 and the insulator layer 5 can be post-processed by post-processing. Can be firmly fixed. Therefore, the electrodes 2, 4, 6 are not affected by thermal and mechanical post-processing and thermal aging during use.
It is possible to make it difficult to cause positional deviation between them, and to make the amount of discharged ions from each opening 4a of the second electrode 4 uniform, so that it is possible to obtain an electrostatic recording image with high accuracy and high image quality.

【0050】さらに、絶縁基板1から上部の誘電体層
3、絶縁体層5までをセラミック製にできたので、高電
圧下、長時間の放電でも劣化せずに初期の電気特性を維
持して高画質の長期耐久性を確保することができる。
Furthermore, since the insulating substrate 1 to the upper dielectric layer 3 and the insulating layer 5 can be made of ceramic, the initial electrical characteristics can be maintained without deterioration even under long-term discharge under high voltage. High-quality long-term durability can be secured.

【0051】また、本実施例では光硬化型有機バインダ
ーとセラミック粉含有のペーストを用いて絶縁体層5を
形成しているので、従来のフォトソルダーレジストと同
様の工程がそのまま活用でき、セラミックグリーンシー
トを用いるよりは安価にできる。更に、セラミックグリ
ーンシートではフィルム形成能上、形成が不可能な微細
なパターン等でも、本実施例の手法であれば可能であ
る。
Further, in this embodiment, since the insulating layer 5 is formed by using the photo-curable organic binder and the paste containing the ceramic powder, the same process as the conventional photo solder resist can be utilized as it is, and the ceramic green It can be cheaper than using a sheet. Further, even with a fine pattern that cannot be formed on the ceramic green sheet due to the film forming ability, the method of this embodiment can be used.

【0052】次に、本発明の第3の実施例について説明
する。本実施例は第1の実施例のように絶縁体層5のセ
ラミックグリーンシート上に第3電極6の電極パターン
16をスクリーン印刷し、下部の他のセラミックグリー
ンシートと積層圧着して同時に脱脂焼成することで積層
体17を形成する代わりに、フォトソルダーレジストフ
ィルムを用いて、絶縁体層5を形成し、その後、従来の
ようにステンレス箔をフォトエッチングによりパターニ
ングした第3電極6を、絶縁体層5上に貼り付けて形成
したものである。それ以外の部分は第1の実施例と同様
である。
Next, a third embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, as in the first embodiment, the electrode pattern 16 of the third electrode 6 is screen-printed on the ceramic green sheet of the insulator layer 5, laminated and pressure-bonded with the other ceramic green sheet below, and simultaneously degreasing and firing. By doing so, instead of forming the laminated body 17, the insulator layer 5 is formed by using a photo solder resist film, and then the third electrode 6 formed by patterning a stainless steel foil by photoetching as in the conventional case is formed as an insulator. It is formed by pasting on the layer 5. The other parts are the same as those in the first embodiment.

【0053】ここでは、第2の実施例と同様に第1のシ
ート11と第2のシート13との間が積層された積層体
21(絶縁基板1上に第1電極2が配線され、更にその
上に誘電体層3、第1電極2に対して位置出しされた第
2電極4が積層された)が一体に積層圧着され、絶縁基
板1から第2電極4までの積層体21の積層圧着、脱脂
焼成が終了したのち、絶縁体層5が次のように形成され
る。
Here, as in the second embodiment, a laminated body 21 in which the first sheet 11 and the second sheet 13 are laminated (the first electrode 2 is wired on the insulating substrate 1, The dielectric layer 3 and the second electrode 4 positioned with respect to the first electrode 2 are laminated thereon, and they are integrally laminated and pressure-bonded to laminate the laminated body 21 from the insulating substrate 1 to the second electrode 4. After the pressure bonding and the degreasing firing are completed, the insulator layer 5 is formed as follows.

【0054】すなわち、絶縁体層5は、絶縁基板1から
第2電極4までの積層圧着、脱脂焼成が終了した積層体
21上に、例えばエレクトロマテリアルズ製の光硬化ア
クリル樹脂系フォトソルダーレジストフィルム「Dyn
amask KM4.0」(商品名)を60℃で、1分
間真空ラミネートし、所定の露光、現像後、光での後硬
化を行い、膜厚100μmの絶縁体層5を形成したもの
である。
That is, the insulator layer 5 is formed on the laminate 21 from the insulating substrate 1 to the second electrode 4 which has been laminated and pressure-bonded and degreased and fired, for example, a photocurable acrylic resin photosolder resist film manufactured by Electro Materials. "Dyn
“Amask KM4.0” (trade name) is vacuum laminated at 60 ° C. for 1 minute, subjected to predetermined exposure and development, and post-cured with light to form an insulating layer 5 having a film thickness of 100 μm.

【0055】また、第3電極6はパターニングされたス
テンレス箔に、薄く粘着剤を塗布して絶縁体層5上に貼
り付けた後、第3電極6の周辺をテープで押さえつける
ことにより、絶縁体層5上に固定される。
The third electrode 6 is formed by applying a thin adhesive to a patterned stainless steel foil and applying the adhesive on the insulator layer 5, and then pressing the periphery of the third electrode 6 with a tape. It is fixed on the layer 5.

【0056】そこで、上記方法で製造されたイオンフロ
ー静電記録ヘッドでは次の効果を奏する。すなわち、本
実施例では第2の実施例と同様に安価な印刷手法を用い
て高精細な微細パターンの第1電極2の電極パターン1
2および第2電極4の電極パターン14の電極層を形成
できるので、第1電極2と誘電体層3との間、第2電極
4と誘電体層3との間を接着剤を介さずに同時に焼成す
ることができるとともに、第2電極4と絶縁体層5との
間を後加工により強固に固着することができる。そのた
め、熱的及び機械的な後加工や、使用中の熱的経時変化
にも各電極2、4、6間で位置ずれを起こしにくくする
ことができ、第2電極4の各開口部4aからの放電イオ
ン量が均一化し、高精度、高画質の静電記録画像を得る
ことができる。
Therefore, the ion flow electrostatic recording head manufactured by the above method has the following effects. That is, in the present embodiment, the electrode pattern 1 of the first electrode 2 having a high-definition fine pattern is formed by using the inexpensive printing method as in the second embodiment.
Since the electrode layers of the electrode patterns 14 of the second and second electrodes 4 can be formed, an adhesive is not used between the first electrode 2 and the dielectric layer 3 and between the second electrode 4 and the dielectric layer 3. It can be fired at the same time, and the second electrode 4 and the insulator layer 5 can be firmly fixed by post-processing. Therefore, it is possible to prevent positional displacement between the electrodes 2, 4, and 6 from occurring easily due to thermal and mechanical post-processing and thermal changes during use. It is possible to obtain a highly accurate and high-quality electrostatically recorded image because the amount of discharged ions is uniform.

【0057】さらに、絶縁基板1から上部の誘電体層3
までをセラミック製にできたので、高電圧下、長時間の
放電でも劣化せずに初期の電気特性を維持して高画質の
長期耐久性を確保することができる。
Furthermore, the dielectric layer 3 above the insulating substrate 1
Since the above can be made of ceramic, it is possible to secure high image quality and long-term durability while maintaining initial electrical characteristics without deterioration even under long-term discharge under high voltage.

【0058】また、絶縁体層5が有機化合物系の光硬化
型なので、従来のフォトソルダーレジストと同様の工程
が活用できる。そのため、イオン制御部をセラミック製
にする程耐久性が必要でない場合に本実施例を適用する
ことにより、セラミックグリーンシートを用いる場合よ
り大幅に安価にできる。また、フォトソルダーレジスト
フィルムはアルカリ現像型のフィルムなので、取扱いも
容易である。更に、セラミックグリーンシートではフィ
ルム形成能上、形成が不可能な微細なパターン等でも、
本実施例の手法であれば可能である。
Further, since the insulating layer 5 is an organic compound type photo-curing type, the same steps as those of the conventional photo solder resist can be utilized. Therefore, by applying this embodiment when the durability is not so high that the ion control part is made of ceramic, it can be made much cheaper than the case of using the ceramic green sheet. Further, since the photo solder resist film is an alkali development type film, it is easy to handle. Furthermore, even with a fine pattern that cannot be formed on the ceramic green sheet due to its film forming ability,
The method of this embodiment is possible.

【0059】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではない。例えば、本発明に用いられるイオンフロー
静電記録ヘッドのセラミックグリーンシートにスクリー
ン印刷する導体ペーストとしては銀−パラジウム系導体
ペーストの他、銀、銅、白金、金、パラジウム、タング
ステン、モリブデン等の金属粉を、エチルセルロース
や、アクリル樹脂等の有機バインダーや、ターピネオー
ル等の溶剤と良く混合させたものを用いてもよい。この
場合、後工程で複数のセラミックグリーンシートが重ね
合わされた状態で同時に脱脂焼成される工程を経る関係
上、導体ペーストで使用されるバインダーは、極力セラ
ミックグリーンシートに使用しているものと同種または
同系統のものが好ましい。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, as the conductor paste to be screen-printed on the ceramic green sheet of the ion flow electrostatic recording head used in the present invention, besides silver-palladium-based conductor paste, metals such as silver, copper, platinum, gold, palladium, tungsten, molybdenum, etc. You may use what mixed the powder well with the organic binders, such as ethyl cellulose and acrylic resin, and the solvent, such as terpineol. In this case, the binder used in the conductor paste is of the same type as that used in the ceramic green sheet as much as possible or in the post-process because it undergoes a step of degreasing and firing at the same time in the state where a plurality of ceramic green sheets are stacked. The same type is preferable.

【0060】また、セラミックグリーンシートに印刷さ
れる導体ペーストは、形成するパターンにもよるが、膜
厚約5μm程度が良い。ここで、印刷される導体ペース
トの膜厚があまり厚すぎると脱脂・焼結時に積層体17
が凸凹になったり、変形するおそれがあり、精度が落ち
る。また、印刷される導体ペーストの膜厚が薄すぎると
脱脂・焼結後の通電抵抗が高くなるおそれがある。
The conductive paste printed on the ceramic green sheet preferably has a film thickness of about 5 μm, although it depends on the pattern to be formed. Here, if the thickness of the conductor paste to be printed is too thick, the laminated body 17 is subjected to degreasing and sintering.
May become uneven or deform, resulting in poor accuracy. Further, if the thickness of the printed conductor paste is too thin, the electrical resistance after degreasing and sintering may increase.

【0061】さらに、その他本発明の要旨を逸脱しない
範囲で種々変形実施できることは勿論である。次に、本
出願の他の特徴的な技術事項を下記の通り付記する。
Further, it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. Next, other characteristic technical matters of the present application will be additionally described as follows.

【0062】記 (付記項1) 絶縁基板上に一方向にかつ平行に延設さ
れた複数の第1の電極と、この第1の電極と交差する方
向に延設され、前記第1の電極とともにマトリックスを
形成し、このマトリックスに対応する部位に開口部が形
成された複数の第2の電極と、この第2の電極に対し前
記第1の電極とは反対側に配置され、前記マトリックス
に対応する部位に開口部が形成された第3の電極と、前
記第1の電極と第2の電極との間に設けられた誘電体層
と、前記第2の電極と第3の電極との間に設けられ、前
記マトリックスに対応する部位に開口部が形成された絶
縁層とを具備する静電記録用イオン発生装置の製造方法
において、厚さ15μm以上100μm以下の第1のセ
ラミックグリーンシート上に、第1の電極パターンに導
体ペーストを印刷・乾燥し、その上に、前記第1のセラ
ミックグリーンシートと同じ組成と厚さを有する第2の
セラミックグリーンシート上に第2の電極パターンに導
体ペーストを印刷・乾燥したものを積層圧着し、同時焼
成することを特徴とする静電記録用イオン発生装置の製
造方法。
(Additional Item 1) A plurality of first electrodes extending in one direction and parallel to each other on an insulating substrate, and the first electrodes extending in a direction intersecting with the first electrodes. Together with a plurality of second electrodes each having an opening formed in a portion corresponding to the matrix, and arranged on the side opposite to the first electrode with respect to the second electrode. A third electrode having an opening formed at a corresponding portion; a dielectric layer provided between the first electrode and the second electrode; and a second electrode and a third electrode. A method for manufacturing an ion generating device for electrostatic recording, comprising: an insulating layer provided between and having an opening formed in a region corresponding to the matrix, wherein a first ceramic green sheet having a thickness of 15 μm or more and 100 μm or less The conductor pattern on the first electrode pattern. Strokes are printed and dried, and a second electrode pattern is printed and dried on the second ceramic green sheet having the same composition and thickness as the first ceramic green sheet, and the resultant is laminated. A method of manufacturing an ion generator for electrostatic recording, which comprises press-bonding and simultaneously firing.

【0063】(付記項2) 絶縁基板上に一方向にかつ
平行に延設された複数の第1の電極と、この第1の電極
と交差する方向に延設され、前記第1の電極とともにマ
トリックスを形成し、このマトリックスに対応する部位
に開口部が形成された複数の第2の電極と、この第2の
電極に対し前記第1の電極とは反対側に配置され、前記
マトリックスに対応する部位に開口部が形成された第3
の電極と、前記第1の電極と第2の電極との間に設けら
れた誘電体層と、前記第2の電極と第3の電極との間に
設けられ、前記マトリックスに対応する部位に開口部が
形成された絶縁層とを具備する静電記録用イオン発生装
置の製造方法において、厚さ15μm以上100μm以
下の第1のセラミックグリーンシート上に、第1の電極
パターンに導体ペーストを印刷・乾燥し、その上に、前
記第1のセラミックグリーンシートと同じ組成と厚さを
有する第2のセラミックグリーンシート上に第2の電極
パターンに導体ペーストを印刷・乾燥したものを積層
し、更にその上に前記第1のセラミックグリーンシート
と同じ組成と厚さを有し、第2の電極の開口部に対応し
た開口を有する、第3のセラミックグリーンシートを積
層圧着し、同時焼成することを特徴とする静電記録用イ
オン発生装置の製造方法。
(Additional Item 2) A plurality of first electrodes extending in one direction and parallel to each other on an insulating substrate, and a plurality of first electrodes extending in a direction intersecting with the first electrodes, together with the first electrodes. A plurality of second electrodes that form a matrix and have openings formed at portions corresponding to the matrix, and are arranged on the side opposite to the first electrode with respect to the second electrodes and correspond to the matrix. A third opening having an opening formed
The electrode, the dielectric layer provided between the first electrode and the second electrode, and the dielectric layer provided between the second electrode and the third electrode, and at a site corresponding to the matrix. A method of manufacturing an ion generator for electrostatic recording, comprising: an insulating layer having openings formed therein, wherein a conductor paste is printed on a first electrode pattern on a first ceramic green sheet having a thickness of 15 μm or more and 100 μm or less. -Drying, and then laminating the second ceramic green sheet having the same composition and thickness as the first ceramic green sheet, printing and drying the conductor paste on the second electrode pattern, and further laminating it. A third ceramic green sheet having the same composition and thickness as that of the first ceramic green sheet and having an opening corresponding to the opening of the second electrode is laminated and pressure-bonded thereon and simultaneously fired. A method of manufacturing an ion generator for electrostatic recording, comprising:

【0064】(付記項3) 絶縁基板上に一方向にかつ
平行に延設された複数の第1の電極と、この第1の電極
と交差する方向に延設され、前記第1の電極とともにマ
トリックスを形成し、このマトリックスに対応する部位
に開口部が形成された複数の第2の電極と、この第2の
電極に対し前記第1の電極とは反対側に配置され、前記
マトリックスに対応する部位に開口部が形成された第3
の電極と、前記第1の電極と第2の電極との間に設けら
れた誘電体層と、前記第2の電極と第3の電極との間に
設けられ、前記マトリックスに対応する部位に開口部が
形成された絶縁層とを具備する静電記録用イオン発生装
置の製造方法において、第2の電極上に配する絶縁層
が、少なくとも光硬化型有機バインダーとセラミック粉
末を含む絶縁ペーストを、所定パターンに光硬化させた
後、未硬化部分を除去し、脱脂、焼成して形成されたこ
とを特徴とする静電記録用イオン発生装置の製造方法。
(Additional Item 3) A plurality of first electrodes extending in one direction and parallel to each other on an insulating substrate, and a plurality of first electrodes extending in a direction intersecting with the first electrodes, together with the first electrodes. A plurality of second electrodes that form a matrix and have openings formed at portions corresponding to the matrix, and are arranged on the side opposite to the first electrode with respect to the second electrodes and correspond to the matrix. A third opening having an opening formed
The electrode, the dielectric layer provided between the first electrode and the second electrode, and the dielectric layer provided between the second electrode and the third electrode, and at a site corresponding to the matrix. In the method of manufacturing an ion generator for electrostatic recording, comprising an insulating layer having an opening formed therein, the insulating layer disposed on the second electrode is an insulating paste containing at least a photocurable organic binder and ceramic powder. A method for manufacturing an ion generator for electrostatic recording, which is formed by photo-curing into a predetermined pattern, removing an uncured portion, degreasing and firing.

【0065】[0065]

【発明の効果】本発明によれば放電による誘電体層の劣
化がなく、第2電極と誘電体層との間を強固に固着する
ことができ、熱的及び機械的な後加工や、使用中の熱的
経時変化にも位置ずれを起こさず、第2電極の各開口部
の放電イオン量が均一化し、高精細な加工にも対応し易
く、高画質で、耐久性が高く、且つ安価なイオンフロ−
静電記録ヘッドを製造することができる。
According to the present invention, there is no deterioration of the dielectric layer due to discharge, and the second electrode and the dielectric layer can be firmly fixed to each other. It does not cause positional displacement due to thermal aging in the interior, and the amount of discharge ions in each opening of the second electrode is uniform, making it easy to handle high-precision machining, high image quality, high durability, and inexpensive. Naion flow
An electrostatic recording head can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の第1の実施例のイオンフロ−静電記
録ヘッドの製造工程を示す説明図。
FIG. 1 is an explanatory view showing a manufacturing process of an ion flow electrostatic recording head according to a first embodiment of the invention.

【図2】 本発明の第2の実施例の第2電極の製造工程
の要部を示す説明図。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a main part of a manufacturing process of a second electrode according to a second embodiment of the present invention.

【図3】 (A)はイオンフロ−静電記録ヘッドの概略
構成を示す要部の縦断面図、(B)はイオンフロ−静電
記録ヘッドの断面斜視図。
3A is a vertical cross-sectional view of a main part showing a schematic configuration of an ion flow electrostatic recording head, and FIG. 3B is a cross-sectional perspective view of the ion flow electrostatic recording head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…絶縁基板、2…第1電極、3…誘電体層、4…第2
電極、5…絶縁体層、6…第3電極、11…第1シー
ト、12,14,16…電極パターン、13…第2シー
ト、15…第3シート。
1 ... Insulating substrate, 2 ... First electrode, 3 ... Dielectric layer, 4 ... Second
Electrodes, 5 ... Insulator layer, 6 ... Third electrode, 11 ... First sheet, 12, 14, 16 ... Electrode pattern, 13 ... Second sheet, 15 ... Third sheet.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁基板を形成する厚さ15μm以上1
00μm以下のセラミック材料製の第1シート上に、第
1電極の電極パターンで導体ペーストが積層される第1
シート積層工程と、 前記第1シートと同じ組成と厚さの誘電体層を形成する
第2シート上に、第2電極の電極パターンで導体ペース
トが積層される第2シート積層工程と、 前記第1シートの第1電極の上に、前記第2シートにお
ける前記第2電極の積層面と反対側の面を重ね合わせた
状態の積層体を同時焼成する焼成工程とを具備したこと
を特徴とするイオンフロー静電記録ヘッドの製造方法。
1. A thickness of 15 μm or more for forming an insulating substrate 1
A first paste in which a conductor paste is laminated with an electrode pattern of a first electrode on a first sheet made of a ceramic material having a size of 00 μm or less.
A sheet laminating step; a second sheet laminating step in which a conductor paste is laminated with an electrode pattern of a second electrode on a second sheet forming a dielectric layer having the same composition and thickness as the first sheet; And a firing step of simultaneously firing a laminated body in which the surface of the second sheet opposite to the laminated surface of the second electrode is superposed on the first electrode of one sheet. Ion flow electrostatic recording head manufacturing method.
【請求項2】 絶縁基板を形成する厚さ15μm以上1
00μm以下のセラミック材料製の第1シート上に、第
1電極の電極パターンで導体ペーストが積層される第1
シート積層工程と、 前記第1シートと同じ組成と厚さの誘電体層を形成する
第2シート上に、第2電極の電極パターンで導体ペース
トが積層される第2シート積層工程と、 前記第1シートと同じ組成と厚さの絶縁体層を形成する
第3シート上に、第3電極の電極パターンで導体ペース
トが積層される第3シート積層工程と、 前記第1シートの第1電極の上に、前記第2シートにお
ける前記第2電極の積層面と反対側の面を重ね合わせ、
かつ前記第2シートの第2電極の上に、前記第3シート
における前記第3電極の積層面と反対側の面を重ね合わ
せた状態の積層体を同時焼成する焼成工程とを具備した
ことを特徴とするイオンフロー静電記録ヘッドの製造方
法。
2. A thickness of 15 μm or more for forming an insulating substrate 1.
A first paste in which a conductor paste is laminated with an electrode pattern of a first electrode on a first sheet made of a ceramic material having a size of 00 μm or less.
A sheet laminating step; a second sheet laminating step in which a conductor paste is laminated with an electrode pattern of a second electrode on a second sheet forming a dielectric layer having the same composition and thickness as the first sheet; A third sheet laminating step in which a conductor paste is laminated with an electrode pattern of a third electrode on a third sheet forming an insulator layer having the same composition and thickness as one sheet; and a first electrode of the first sheet The surface opposite to the laminated surface of the second electrode in the second sheet is superposed on the upper surface,
And a firing step of simultaneously firing a laminated body on the second electrode of the second sheet, in which the surface of the third sheet opposite to the laminated surface of the third electrode is superposed. A method for manufacturing a featured ion flow electrostatic recording head.
【請求項3】 絶縁基板を形成する厚さ15μm以上1
00μm以下のセラミック材料製の第1シート上に、第
1電極の電極パターンで導体ペーストが積層される第1
シート積層工程と、 前記第1シートと同じ組成と厚さの誘電体層を形成する
第2シート上に、第2電極の電極パターンで導体ペース
トが積層される第2シート積層工程と、 前記第1シートの第1電極の上に、前記第2シートにお
ける前記第2電極の積層面と反対側の面を重ね合わせた
状態の積層体を同時焼成する焼成工程と、 少なくとも光硬化型有機バインダーとセラミック粉末を
含む絶縁材料製のペーストを前記第2電極上に絶縁体層
に対応する所定パターンで塗布した状態で、前記ペース
トを光硬化させた後、未硬化部分を除去し、焼成する絶
縁体層成形工程とを具備したことを特徴とするイオンフ
ロー静電記録ヘッドの製造方法。
3. A thickness of 15 μm or more for forming an insulating substrate 1
A first paste in which a conductor paste is laminated with an electrode pattern of a first electrode on a first sheet made of a ceramic material having a size of 00 μm or less.
A sheet laminating step; a second sheet laminating step in which a conductor paste is laminated with an electrode pattern of a second electrode on a second sheet forming a dielectric layer having the same composition and thickness as the first sheet; A firing step of simultaneously firing a laminated body in which the surface of the second sheet opposite to the laminated surface of the second electrode is superposed on the first electrode of one sheet, and at least a photocurable organic binder Insulator that is made by applying a paste made of an insulating material containing ceramic powder on the second electrode in a predetermined pattern corresponding to the insulator layer, photocuring the paste, removing the uncured portion, and firing the paste. A method of manufacturing an ion flow electrostatic recording head, comprising a layer forming step.
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