JP2000151080A - Transfer print patterning method and glass with print pattern formed thereon using the same - Google Patents

Transfer print patterning method and glass with print pattern formed thereon using the same

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JP2000151080A
JP2000151080A JP11253388A JP25338899A JP2000151080A JP 2000151080 A JP2000151080 A JP 2000151080A JP 11253388 A JP11253388 A JP 11253388A JP 25338899 A JP25338899 A JP 25338899A JP 2000151080 A JP2000151080 A JP 2000151080A
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JP
Japan
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transfer
pattern
glass
substrate
print pattern
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JP11253388A
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Japanese (ja)
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Kazuo Sunahara
一夫 砂原
Katsuhisa Nakayama
勝寿 中山
Nobutaka Kidera
信隆 木寺
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Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/025Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein by transferring ink from the master sheet

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  • Decoration By Transfer Pictures (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transfer print patterning method capable of simply and accurately forming a print pattern such as a thin-film electrical circuit and the like on a large area substrate. SOLUTION: An electrical circuit is screen-printed on a transfer paper 10 in which a removable layer 20 is formed on the surface (a), and this electrical circuit is heat-transferred on a substrate 20 such as a glass and the like. In heat-transferring, the transfer paper 10 is pressed with a press plate 24, and heated while pressing the electrical circuit to the substrate 22 (b, c). Thus, the substrate 22 transferred with the electrical circuit pattern is heated and fired, thermoplastic resin contained in the electrical circuit pattern is removed, and the electrical circuit pattern is printed on the substrate 22 (d). As a result, a desired electrical circuit is formed on the substrate 22.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス等の基板に
電気回路、電子部品、遮光パターン等の印刷パターンを
転写により形成する転写式印刷パターン形成方法及びこ
の方法により印刷パターンが形成されたガラスに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer-type printing pattern forming method for forming a printing pattern such as an electric circuit, an electronic component, and a light-shielding pattern on a substrate such as glass by transfer, and a glass having a printing pattern formed by the method. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】基板上に電気回路等のパターンを形成す
る方式には種々のものが採用されている。例えば、半導
体素子においては、フォトリソグラフィー/エッチング
法が採用されている。この方法は、サブミクロンオーダ
の微細パターンの加工性に優れている。
2. Description of the Related Art Various methods are used for forming a pattern such as an electric circuit on a substrate. For example, in a semiconductor element, a photolithography / etching method is adopted. This method is excellent in workability of a fine pattern on the order of submicrons.

【0003】しかし、この方法を実施するには、クリー
ンルームが必要となるなど大がかりで複雑な設備が必要
となる。また、エッチング時間が長く、特に多層化電気
回路を形成する場合には、生産時間が長くなる。形成さ
れる膜厚もサブミクロン以下のものの場合には問題がな
いが、数μ以上のものの形成には時間を要するといった
問題がある。
However, this method requires large-scale and complicated facilities such as a clean room. Further, the etching time is long, and particularly when a multilayer electric circuit is formed, the production time is long. There is no problem in the case where the thickness of the formed film is less than submicron, but there is a problem that it takes time to form a film having a thickness of several μm or more.

【0004】また、基板表面に機能性を付与する目的で
スパッタリング法も実用化されている。この方法では、
小面積から大面積までの基板表面に薄膜をサブミクロン
以下の膜厚で一様に付与することが可能である。しか
し、密閉空間中で電界により気体分子のコントロールを
することが困難であり、回路形成をする際のパターニン
グが困難である。また、生産性が低く、コストが高い等
の問題がある。
[0004] A sputtering method has also been put into practical use for imparting functionality to the substrate surface. in this way,
It is possible to apply a thin film uniformly on the substrate surface from a small area to a large area with a thickness of submicron or less. However, it is difficult to control gas molecules by an electric field in a closed space, and it is difficult to perform patterning when forming a circuit. There are also problems such as low productivity and high cost.

【0005】そこで、フォトリソグラフィー/エッチン
グ法ほど高い精度の描画性能はないが、クリーン度の低
いラフな環境条件下でも、数十μmの精度で数μm〜数
百μmの膜厚を高速に描画可能であるスクリーン印刷法
が採用される場合もある。この方法では、多層化電気回
路の印刷形成も可能であり、電子部品、印刷回路等に広
く使用されている。また、スパッタリング法と比較して
も、そのパターニング性、生産性が高く、しかも低コス
トであるという点で優れている。
Therefore, although the drawing performance is not as high as that of the photolithography / etching method, a film thickness of several μm to several hundred μm can be drawn at high speed with accuracy of several tens μm even under rough environmental conditions with low cleanliness. In some cases, possible screen printing methods are employed. In this method, a multilayer electric circuit can be formed by printing, and is widely used for electronic components, printed circuits, and the like. Further, as compared with the sputtering method, it is excellent in that the patterning property and the productivity are high and the cost is low.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のス
クリーン印刷法においては、大面積の基板上に小面積の
多層化電気回路や遮光パターン等の印刷パターンを形成
する場合、基板の位置精度を高く確保しつつ位置決めし
たり多層印刷を実施したりする必要があり、大規模な乾
燥設備や高精度の位置決め装置が必要となって、コスト
が高くなるという問題があった。
However, in the above-mentioned conventional screen printing method, when a small area multi-layered electric circuit or a printed pattern such as a light shielding pattern is formed on a large area substrate, the positional accuracy of the substrate is reduced. It is necessary to perform positioning and multi-layer printing while maintaining a high level, and a large-scale drying facility and a high-precision positioning device are required, resulting in an increase in cost.

【0007】このため、基板上にチップ部品等の素子を
取り付けて電気回路を形成することも考えられるが、素
子自体の大きさが数mm程度であるので、ガラス等の基
板と同程度あるいはそれ以上の厚みとなり、基板の装着
性に支障をきたすという問題があった。
For this reason, it is conceivable to form an electric circuit by mounting an element such as a chip component on a substrate. The above thickness results in a problem that the mountability of the substrate is hindered.

【0008】このように、従来のスクリーン印刷法では
大面積の基板上に薄膜電気回路や遮光パターン等の印刷
パターンを形成するのは困難であるという問題があっ
た。
As described above, the conventional screen printing method has a problem that it is difficult to form a printing pattern such as a thin film electric circuit or a light-shielding pattern on a large-area substrate.

【0009】本発明は、上記従来の課題に鑑みなされた
ものであり、その目的は、大面積の基板上に高精度で薄
膜電気回路や遮光パターン等の印刷パターンを簡便に形
成することができる転写式印刷パターン形成方法を提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to easily form a printed pattern such as a thin-film electric circuit or a light-shielding pattern on a large-area substrate with high accuracy. An object of the present invention is to provide a transfer printing pattern forming method.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明者らは種々検討を進め、陶磁器の分野の絵付
けに使用されている転写技術を発展させ、本発明を完成
するに至った。従来の陶磁器に絵付けを行う際には、基
材紙と水溶性糊とポリエチレン等の有機フィルムとの3
層構造からなる転写紙を用い、有機フィルムの上にスク
リーン印刷法により所定のペーストを所望のパターンで
印刷して絵柄を形成し、これを乾燥させる。このペース
トは、無機顔料とガラス粉末からなる釉薬との混練物質
を有機ビヒクルと溶剤とでペースト化したものである。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above-mentioned object, the present inventors have conducted various studies, developed a transfer technique used for painting in the field of ceramics, and completed the present invention. Reached. When painting on conventional ceramics, it is necessary to use a base paper, water-soluble glue, and an organic film such as polyethylene.
Using a transfer paper having a layer structure, a predetermined paste is printed in a desired pattern on an organic film by a screen printing method to form a pattern, and the pattern is dried. This paste is obtained by forming a kneaded substance of an inorganic pigment and a glaze made of glass powder into a paste with an organic vehicle and a solvent.

【0011】このように絵柄が形成された転写紙を水に
浸して基材紙とパターン形成した有機フィルムとを分離
し、水溶性糊の粘着性により基板である陶磁器に有機フ
ィルムを貼り付け、乾燥する。さらに基板の熱処理工程
で有機フィルムを熱分解させて気化し、パターンが陶磁
器に焼き付くことで絵柄の転写が行われる。
The transfer paper on which the picture is formed is immersed in water to separate the base paper from the patterned organic film, and the organic film is adhered to the ceramic substrate as the substrate by the adhesiveness of the water-soluble glue. dry. Further, in the heat treatment step of the substrate, the organic film is thermally decomposed and vaporized, and the pattern is transferred to the ceramic by baking the pattern.

【0012】しかし、この技術をたとえば電気回路ある
いは電子部品等の転写にそのまま応用すると、転写工程
中に水に浸す工程があるので、電気回路を構成する金属
が水分等により劣化を生じるという問題がある。このた
め、本発明では、ガラスペーストを使用して電気回路等
が形成されている転写紙を水に浸さずに転写が行えるよ
うにしている。すなわち、本発明では、熱転写により電
気回路等のパターンを基板上に転写している。本発明に
おけるガラスペーストは、少なくとも、低融点のガラス
粉末、有機バインダ、溶剤(揮発性溶剤)を含有する。
前記有機バインダは、ガラスペーストの焼成工程で溶
融、分解揮散する熱可塑性樹脂であることが好ましい。
さらに、用途に応じた任意成分として、膨張係数の調整
等のためのアルミナ粉末、ジルコニア粉末等のフィラ
ー、導電性を付与するための銀粉末等の導電性材料、遮
光機能を付与するための無機耐熱顔料、誘導率を調整す
るための高誘電率セラミックス粉末、低誘電率セラミッ
クス粉末等の誘電性材料、その他に、絶縁性材料、半導
体材料、抵抗性材料、磁性材料等が加えられる。
However, if this technique is applied directly to, for example, transfer of an electric circuit or an electronic component, there is a step of immersion in water during the transfer step, so that the metal constituting the electric circuit is deteriorated by moisture or the like. is there. For this reason, in the present invention, transfer can be performed without immersing transfer paper on which an electric circuit or the like is formed using glass paste without immersing it in water. That is, in the present invention, a pattern such as an electric circuit is transferred onto a substrate by thermal transfer. The glass paste in the present invention contains at least a low melting point glass powder, an organic binder, and a solvent (volatile solvent).
The organic binder is preferably a thermoplastic resin that melts and decomposes and volatilizes in the firing step of the glass paste.
Furthermore, as optional components depending on the use, fillers such as alumina powder and zirconia powder for adjusting the expansion coefficient, etc., conductive materials such as silver powder for providing conductivity, and inorganic materials for providing a light shielding function. Insulating materials, semiconductor materials, resistive materials, magnetic materials, and the like are added in addition to heat-resistant pigments, dielectric materials such as high dielectric constant ceramic powder for adjusting the dielectric constant, and low dielectric constant ceramic powders.

【0013】以上に述べた本発明は、転写式印刷パター
ン形成方法であって、転写フィルム上にガラスペースト
により印刷パターンを形成し、この印刷パターンを基板
上に熱転写し、基板上に熱転写された印刷パターンを焼
成することを特徴とする。ここでいう印刷パターンのパ
ターンは、たとえば電気回路パターン、着色パターン、
遮光パターンなどである。
The present invention described above is a transfer-type printing pattern forming method, in which a printing pattern is formed on a transfer film by using a glass paste, the printing pattern is thermally transferred onto a substrate, and the printing pattern is thermally transferred onto the substrate. It is characterized in that the printing pattern is fired. The pattern of the printing pattern here is, for example, an electric circuit pattern, a coloring pattern,
For example, a light-shielding pattern.

【0014】また、上記転写式印刷パターン形成方法に
おいて、転写フィルム上に形成された印刷パターンは、
導電性材料、絶縁性材料、誘電性材料、半導体材料、抵
抗性材料、磁性材料、無機耐熱顔料から選ばれた一種以
上と、焼成工程で溶融、分解揮散する熱可塑性樹脂を含
有することを特徴とする。ここでいう導電性材料は、た
とえば銀、銅、白金、金、パラジウム等の金属またはI
TO等の導電性酸化物であり、絶縁性材料は、たとえば
SiO2、MgO等の酸化物であり、誘電性材料は、た
とえばBaTiO3等の酸化物であり、半導体材料は、
たとえばSi、GaAs等の半導体であり、抵抗性材料
は金属等の導電体、導電体以外の材料、あるいはそれら
の混合物であり、磁性材料は、たとえばFe等の金属、
FeNiCo等の合金、フェライト等の酸化物である。
無機耐熱顔料は、たとえば銅−クロムの酸化物、鉄−マ
ンガンの酸化物、マグネタイトなどである。
[0014] In the above-mentioned transfer type printing pattern forming method, the printing pattern formed on the transfer film may be:
It contains at least one selected from conductive materials, insulating materials, dielectric materials, semiconductor materials, resistive materials, magnetic materials, and inorganic heat-resistant pigments, and contains a thermoplastic resin that melts and decomposes and evaporates during the firing process. And The conductive material mentioned here is, for example, a metal such as silver, copper, platinum, gold,
The conductive material is a conductive oxide such as TO, the insulating material is an oxide such as SiO 2 or MgO, the dielectric material is an oxide such as BaTiO 3 , and the semiconductor material is
For example, a semiconductor such as Si or GaAs, the resistive material is a conductor such as a metal, a material other than a conductor, or a mixture thereof, and the magnetic material is a metal such as Fe, for example.
Alloys such as FeNiCo and oxides such as ferrite.
Examples of the inorganic heat-resistant pigment include copper-chromium oxide, iron-manganese oxide, and magnetite.

【0015】また、上記転写式印刷パターン形成方法に
おいて、熱可塑性樹脂が熱可塑性ポリエステル樹脂、熱
可塑性セルロース誘導体、熱可塑性アクリル系樹脂、熱
可塑性酢酸ビニル系樹脂から選ばれた一種もしくは二種
以上の混合系樹脂であることを特徴とする。
[0015] In the transfer printing pattern forming method, the thermoplastic resin may be one or more selected from thermoplastic polyester resins, thermoplastic cellulose derivatives, thermoplastic acrylic resins, and thermoplastic vinyl acetate resins. It is a mixed resin.

【0016】また、上記転写式印刷パターン形成方法に
おいて、転写フィルム上に形成された印刷パターンは、
一層または二層以上の積層構造であることを特徴とす
る。
Further, in the above transfer type print pattern forming method, the print pattern formed on the transfer film may be:
It is characterized in that it has a single layer structure or a laminated structure of two or more layers.

【0017】また、上記転写式印刷パターン形成方法に
おいて、基板はガラスあるいはセラミックスであること
を特徴とする。
Further, in the above transfer type printing pattern forming method, the substrate is made of glass or ceramics.

【0018】また、上記転写式印刷パターン形成方法に
おいて、転写フィルム上に形成された印刷パターン上に
は、あらかじめ粘着助剤が塗布されていることを特徴と
する。
Further, in the above-mentioned transfer type printing pattern forming method, the printing method formed on the transfer film is characterized in that an adhesion aid is applied in advance.

【0019】また、上記転写式印刷パターン形成方法に
おいて、転写フィルム上に形成された印刷パターン上に
あらかじめ粘着助剤が塗布されてあり、粘着助剤の分解
温度をT1、熱可塑性樹脂の分解温度をT2、ガラスペー
ストの焼結開始温度をT3とすると、(T1−T2)は5
℃〜20℃であり、(T3−T1)は10℃以上であるこ
とを特徴とする。
Further, in the above-mentioned transfer printing pattern forming method, an adhesion aid is applied in advance on the print pattern formed on the transfer film, the decomposition temperature of the adhesion aid is set to T 1 , and the decomposition of the thermoplastic resin is performed. Assuming that the temperature is T 2 and the sintering start temperature of the glass paste is T 3 , (T 1 −T 2 ) is 5
C. to 20 ° C., and (T 3 −T 1 ) is 10 ° C. or more.

【0020】また、上記転写式印刷パターン形成方法に
おいて、印刷パターンが電気回路パターンであることを
特徴とする。ここでいう「印刷パターンが電気回路パタ
ーンである」とは、基板上に熱転写された印刷パターン
のパターンが電気回路パターンであることをいう。
Further, in the above transfer type printing pattern forming method, the printing pattern is an electric circuit pattern. Here, “the printed pattern is an electric circuit pattern” means that the pattern of the printed pattern thermally transferred onto the substrate is an electric circuit pattern.

【0021】また、本発明はさらに印刷パターンが形成
されたガラスであって、上記転写式印刷パターン形成方
法により、自動車用ガラス、建築用ガラス、ディスプレ
イ用ガラスから選ばれた一種に印刷パターンが形成され
たことを特徴とする。
The present invention also relates to a glass on which a printed pattern is further formed, wherein the transfer-type printed pattern forming method forms a printed pattern on a kind selected from glass for automobiles, glass for buildings, and glass for displays. It is characterized by having been done.

【0022】上記各構成によれば、ガラス等の基板上
に、直接印刷パターンを逐次多層に印刷乾燥して形成す
るのではなく、あらかじめ転写紙上に形成された印刷パ
ターンを基板上に転写するので、高精度な印刷パターン
を形成することができる。このように形成された印刷パ
ターンは、基板を熱処理することにより基板と一体化さ
れる。
According to each of the above constructions, the print pattern formed on the transfer paper in advance is transferred onto the substrate, instead of forming the print pattern directly on the substrate such as glass by sequentially printing and drying it in multiple layers. And a highly accurate print pattern can be formed. The printed pattern thus formed is integrated with the substrate by heat-treating the substrate.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】本発明における転写フィルムとし
ては、シリコン、アクリル等の有機層である易剥離層が
形成されたフィルムであればよく、紙、有機系フィル
ム、高分子フィルム等のフィルムに易剥離層が形成され
たものを使用することができる。このような転写フィル
ムは、基板となるガラス等と比べて厚さが薄いので、転
写フィルム上にスクリーン印刷を行う際のガラスペース
ト(電子材料ペースト等)の加熱乾燥時の冷却時間が短
時間でよく、電気回路パターン等を多層印刷する際の効
率が高い。このため、生産性を高くすることができる。
なお、本発明における転写フィルムは転写紙であること
が好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The transfer film in the present invention may be a film on which an easily peelable layer, which is an organic layer such as silicon or acrylic, is formed. One having an easily peelable layer formed thereon can be used. Since such a transfer film is thinner than glass or the like serving as a substrate, the cooling time when heating and drying a glass paste (such as an electronic material paste) when performing screen printing on the transfer film is short. Good efficiency in multi-layer printing of electric circuit patterns and the like. For this reason, productivity can be improved.
The transfer film in the present invention is preferably transfer paper.

【0024】以下、本発明の実施の形態(以下実施形態
という)を、転写フィルムが転写紙である場合を例にと
って、図面に従って説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention (hereinafter, referred to as embodiments) will be described with reference to the drawings, taking as an example a case where a transfer film is transfer paper.

【0025】図1(a)、(b)には、本発明にかかる
転写式印刷パターン形成方法において、転写紙10に所
望の印刷パターンを形成する場合の説明図が示される。
図1(a)において、転写紙10には、スクリーン印刷
法により電気回路パターンあるいは遮光パターン等の印
刷パターンが形成される。図1(a)に示された例で
は、スクリーン印刷に使用されるスクリーン版12に
は、転写紙10に形成すべき電気回路パターンが形成さ
れている。電気回路パターンは、スクリーン版12上に
乗せられた電子材料ペースト14をスキージ16により
スクリーン版12に形成された電気回路パターンにそっ
て押し出すことにより、転写紙10上にスクリーン印刷
される。転写紙10の上には、このようなスクリーン印
刷を1回または複数回繰り返すことにより、平面状ある
いは多層状の電気回路パターン(印刷パターン)が形成
される。
FIGS. 1A and 1B are explanatory views showing a case where a desired print pattern is formed on a transfer paper 10 in the transfer type print pattern forming method according to the present invention.
1A, a print pattern such as an electric circuit pattern or a light-shielding pattern is formed on a transfer paper 10 by a screen printing method. In the example shown in FIG. 1A, an electric circuit pattern to be formed on the transfer paper 10 is formed on a screen plate 12 used for screen printing. The electric circuit pattern is screen-printed on the transfer paper 10 by extruding the electronic material paste 14 placed on the screen plate 12 along the electric circuit pattern formed on the screen plate 12 with a squeegee 16. By repeating such screen printing one or more times on the transfer paper 10, a planar or multilayer electric circuit pattern (print pattern) is formed.

【0026】以上のようにして電気回路パターンがスク
リーン印刷された転写紙10の断面図が図1(b)に示
される。図1(b)において、転写紙10は、基材紙1
8の上に易剥離層20が形成された2層構造となってい
る。また、図に示された例では、電気回路パターンが1
層目と2層目の2層構造からなる多層状の電気回路パタ
ーンとなっている。
FIG. 1B is a sectional view of the transfer paper 10 on which the electric circuit pattern is screen-printed as described above. In FIG. 1B, the transfer paper 10 is a base paper 1
8 has a two-layer structure in which an easily peelable layer 20 is formed. Further, in the example shown in FIG.
The multilayer electric circuit pattern has a two-layer structure of a second layer and a second layer.

【0027】このように、基材紙18の上に易剥離層2
0を形成することにより、転写紙10の上に形成された
電気回路パターンが剥離しやすくなる。これにより、転
写紙10から基材への電気回路パターンの転写が容易と
なる。
As described above, the easily peelable layer 2 is formed on the base paper 18.
By forming 0, the electric circuit pattern formed on the transfer paper 10 is easily peeled. This facilitates transfer of the electric circuit pattern from the transfer paper 10 to the base material.

【0028】上述したスクリーン印刷において、電気回
路パターンを形成する際に使用する電子材料ペースト1
4は、目的とする電気回路及び電子素子に応じて、導
体、半導体、抵抗体、絶縁体、誘電体、磁性体の電子材
料成分のいずれか一種以上あるいはそれらの全てを適宜
混合してその組成を調整する。このような混合物を、ま
ず粉末状に加工し、ガラスフリットすなわち低融点ガラ
ス粉末と熱可塑性樹脂(有機バインダ)と揮発性溶剤と
共に混練し、スクリーン印刷可能な粘度に調整する。こ
こで、ガラスフリットは、ガラスあるいはセラミックス
等の基板の焼成工程の温度域で軟化流動するものであ
り、基板と電気回路パターンの電子材料成分との接着を
目的として添加される。
In the above-described screen printing, an electronic material paste 1 used when forming an electric circuit pattern
4, according to the intended electric circuit and electronic element, one or more of electronic material components of a conductor, a semiconductor, a resistor, an insulator, a dielectric, and a magnetic material or a mixture of all of them as appropriate. To adjust. Such a mixture is first processed into a powder form, and is kneaded with a glass frit, that is, a low-melting glass powder, a thermoplastic resin (organic binder), and a volatile solvent, so as to adjust the viscosity to allow screen printing. Here, the glass frit softens and flows in a temperature range of a firing process of a substrate such as glass or ceramics, and is added for the purpose of bonding the substrate to an electronic material component of an electric circuit pattern.

【0029】また、熱可塑性樹脂は、電子材料成分とガ
ラスフリット等をペースト状態にする機能を有するが、
スクリーン印刷を行う際の加熱乾燥時及び熱転写時にお
いて電気回路パターンを基板に接着させる作用も有す
る。図1(a),(b)に示された転写紙10上の電気
回路パターンを基板に熱転写する際に、基板と電子材料
ペースト14との密着性が十分でない場合には、その後
の熱処理による焼成工程において密着不十分な部分から
剥離が発生する。この密着性確保のために上述した熱可
塑性樹脂を使用する。この熱可塑性樹脂がホットメルト
接着機能を有するものであれば、さらに密着性を向上さ
せることが可能である。
The thermoplastic resin has a function of converting the electronic material component and the glass frit into a paste state.
It also has the function of adhering the electric circuit pattern to the substrate during heat drying and thermal transfer during screen printing. When the electric circuit pattern on the transfer paper 10 shown in FIGS. 1A and 1B is thermally transferred to a substrate, if the adhesion between the substrate and the electronic material paste 14 is not sufficient, a subsequent heat treatment is performed. Peeling occurs from the insufficiently adhered portion in the firing step. The above-mentioned thermoplastic resin is used to secure this adhesion. If the thermoplastic resin has a hot-melt adhesive function, the adhesion can be further improved.

【0030】以上のことから、有機バインダとしては熱
可塑性樹脂を使用することが好適である。また、熱可塑
性樹脂は、焼成時において該樹脂が分解揮散する際に発
生する気泡を脱気しやすいので、この点でも好適であ
る。その理由は、前記気泡は焼成後の電気回路パターン
の特性及び品質に悪影響を及ぼすことがあるからであ
る。
From the above, it is preferable to use a thermoplastic resin as the organic binder. In addition, the thermoplastic resin is also suitable in this respect because bubbles generated when the resin is decomposed and volatilized during firing are easily degassed. The reason is that the air bubbles may adversely affect the characteristics and quality of the fired electric circuit pattern.

【0031】上記熱可塑性樹脂としては、熱可塑性ポリ
エステル樹脂、熱可塑性セルロース誘導体、熱可塑性ア
クリル系樹脂、熱可塑性酢酸ビニル系樹脂が好ましく、
これらから選ばれた一種もしくは二種以上の混合系樹脂
が使用される。例えば、ポリエチレンテレフタレートな
どの熱可塑性ポリエステル樹脂、エチルセルロースなど
の熱可塑性セルロース誘導体、アクリル酸エステル共重
合体やメタクリル酸エステル共重合体などの熱可塑性ア
クリル系樹脂、酢酸ビニルの単独重合体や共重合体など
の熱可塑性酢酸ビニル系樹脂がある。
The thermoplastic resin is preferably a thermoplastic polyester resin, a thermoplastic cellulose derivative, a thermoplastic acrylic resin, or a thermoplastic vinyl acetate resin.
One or a mixture of two or more of these resins is used. For example, thermoplastic polyester resins such as polyethylene terephthalate, thermoplastic cellulose derivatives such as ethyl cellulose, thermoplastic acrylic resins such as acrylate copolymers and methacrylate copolymers, and vinyl acetate homopolymers and copolymers And other thermoplastic vinyl acetate resins.

【0032】なお、電子材料ペースト14を作製する際
に添加される揮発性溶剤は、電子材料ペースト14の粘
度をスクリーン印刷可能な粘度に調整するために使用さ
れる。この揮発性溶剤に要求される特性としては、熱可
塑性樹脂と相溶性があり、粘度特性の時間変化が少ない
ように適度に高沸点であることがあげられる。
The volatile solvent added when preparing the electronic material paste 14 is used for adjusting the viscosity of the electronic material paste 14 to a viscosity that allows screen printing. The characteristics required for this volatile solvent include a compatibility with the thermoplastic resin and a moderately high boiling point so that the change in viscosity characteristics with time is small.

【0033】以上に述べた電子材料ペースト14は、本
発明に係るガラスペーストに相当する。なお、ガラスペ
ーストとしては上記電子材料ペースト14に限られるも
のではなく、導体等電子材料の代わりに例えば遮光パタ
ーンを形成するための無機耐熱顔料を含有したものでも
よい。
The electronic material paste 14 described above corresponds to the glass paste according to the present invention. The glass paste is not limited to the above-mentioned electronic material paste 14, but may contain, for example, an inorganic heat-resistant pigment for forming a light-shielding pattern instead of an electronic material such as a conductor.

【0034】図2には、図1に示された電気回路パター
ンが印刷された転写紙10からガラスあるいはセラミッ
クス等の基板にその電気回路パターンを熱転写する工程
が示される。なお、基板として使用されるガラスとして
は、自動車用ガラス、建築用ガラス、ディスプレイ用ガ
ラス等から選択することができる。
FIG. 2 shows a step of thermally transferring the electric circuit pattern from the transfer paper 10 on which the electric circuit pattern shown in FIG. 1 is printed to a substrate such as glass or ceramic. The glass used as the substrate can be selected from automotive glass, architectural glass, display glass, and the like.

【0035】図2(a)において、転写紙10の易剥離
層20上に形成された電気回路パターンがガラスあるい
はセラミックス等の基板22に対向するように配置さ
れ、図2(b)に示されるように、プレス板24により
転写紙10が所定の圧力で加圧される。この際、同時に
加熱も行う。加熱温度は、電気回路パターンを構成する
電子材料ペースト14の中に含まれる熱可塑性樹脂によ
り接着性が発現する温度とする。また、プレス板24に
よって加える圧力は、電気回路パターンを転写するとき
にこの電気回路パターンが変形しない程度に制御する。
In FIG. 2A, the electric circuit pattern formed on the easily peelable layer 20 of the transfer paper 10 is arranged so as to face the substrate 22 of glass or ceramics, and is shown in FIG. 2B. Thus, the transfer sheet 10 is pressed by the press plate 24 at a predetermined pressure. At this time, heating is also performed at the same time. The heating temperature is a temperature at which adhesiveness is exhibited by the thermoplastic resin contained in the electronic material paste 14 constituting the electric circuit pattern. The pressure applied by the press plate 24 is controlled so that the electric circuit pattern is not deformed when the electric circuit pattern is transferred.

【0036】以上の工程により、図2(c)に示される
ように、基板22の上に、熱可塑性樹脂によって電気回
路パターンが接着され、熱転写される。この状態では、
電気回路パターンは十分な回路機能を持たない。これ
は、電気回路パターンの中に熱可塑性樹脂が含まれてい
るからである。そこで、図2(d)に示されるように、
基板22を焼成し、熱可塑性樹脂を分解揮散させてこれ
を除去し、回路機能を発現させる。
Through the above steps, as shown in FIG. 2C, the electric circuit pattern is adhered to the substrate 22 by the thermoplastic resin, and is thermally transferred. In this state,
Electric circuit patterns do not have sufficient circuit functions. This is because the electric circuit pattern contains a thermoplastic resin. Therefore, as shown in FIG.
The substrate 22 is baked, and the thermoplastic resin is decomposed and volatilized and removed, thereby exhibiting a circuit function.

【0037】この熱処理による焼成工程において、基板
22と電気回路パターンとの間に密着性が不十分な部分
があると、ここに空気を含むことがある。また、電気回
路パターン中に含まれる熱可塑性樹脂が分解し揮散する
際にも気泡が発生する。しかし、これらによって発生す
る気泡は充分除去され、回路特性に悪影響を及ぼすこと
はない。なお、この熱可塑性樹脂として例えば熱可塑性
ポリエステルを使用することにより、この気泡の除去を
より効率的に行うことができる。すなわち、焼成工程は
約600〜700℃で行われるが、熱可塑性樹脂はたと
えば300℃付近またはそれ以上の温度で分解し気化が
始まる。熱可塑性ポリエステル樹脂の場合は、たとえば
440℃で分解し気化が始まる。このとき、熱可塑性樹
脂は溶融状態にあるので、発生した気泡は溶融状態の熱
可塑性樹脂中を移動して外部の空間に放散される。この
ようにして電気回路パターンを基板22に十分接着させ
ることができる。さらに、この電気回路パターンを60
0〜700℃程度まで加熱することにより、電気回路パ
ターンに含まれるガラスフリットが溶融し、ガラス等の
基板22と接着して基板と一体化させることができる。
In the baking step by this heat treatment, if there is a portion having insufficient adhesion between the substrate 22 and the electric circuit pattern, air may be contained here. Also, bubbles are generated when the thermoplastic resin contained in the electric circuit pattern is decomposed and volatilized. However, bubbles generated by these are sufficiently removed, and do not adversely affect circuit characteristics. By using, for example, a thermoplastic polyester as the thermoplastic resin, the bubbles can be removed more efficiently. That is, the firing step is performed at about 600 to 700 ° C., but the thermoplastic resin decomposes at, for example, a temperature of about 300 ° C. or higher and starts to vaporize. In the case of a thermoplastic polyester resin, for example, it decomposes at 440 ° C. and starts to vaporize. At this time, since the thermoplastic resin is in a molten state, the generated air bubbles move in the molten thermoplastic resin and are radiated to an external space. Thus, the electric circuit pattern can be sufficiently adhered to the substrate 22. Furthermore, this electric circuit pattern is
By heating to about 0 to 700 ° C., the glass frit included in the electric circuit pattern is melted, adhered to the substrate 22 such as glass, and can be integrated with the substrate.

【0038】また、熱可塑性樹脂に、上述した熱可塑性
ポリエステル樹脂等を使用すると、この樹脂には可撓性
があるので、転写紙10上に電気回路パターンが形成さ
れた際に、転写紙10が撓んでも電気回路パターンが転
写紙10から剥離することを防止できる。
When the above-mentioned thermoplastic polyester resin or the like is used as the thermoplastic resin, since the resin has flexibility, when the electric circuit pattern is formed on the transfer paper 10, the transfer paper 10 Even when the electric circuit pattern is bent, the electric circuit pattern can be prevented from peeling off from the transfer paper 10.

【0039】なお、以上に述べた転写紙10の上に形成
された電気回路パターン上に、接着作用のある接着性樹
脂、例えば燃焼性に優れたアクリル系樹脂等を粘着助剤
として塗布すると、図2(b)で示された、基板22上
への電気回路パターンの転写を行う際の加熱温度を低く
することができ、あるいはこの際の加圧圧力を低くする
ことができる。
When an adhesive resin having an adhesive action, for example, an acrylic resin excellent in combustibility is applied as an adhesion aid on the electric circuit pattern formed on the transfer paper 10 described above, The heating temperature for transferring the electric circuit pattern onto the substrate 22 shown in FIG. 2B can be reduced, or the pressure applied at this time can be reduced.

【0040】図3には、図1(b)に示された電気回路
パターン上に粘着助剤26を塗布した例が示される。図
3において、粘着助剤26は電気回路パターンを覆うよ
うに印刷、形成される。この粘着助剤26は、ペースト
化した場合にガラスあるいはセラミックス基板22への
粘着性の弱い熱可塑性セルロース誘導体を有機バインダ
として使用する場合や、ペースト化する際に有機バイン
ダが少なく、粘着性が弱い場合に、電気回路パターンを
基板22に十分接着させるために用いることができる。
特に、スクリーン印刷用途として広く用いられている熱
可塑性セルロース誘導体の場合、粘着助剤26を用いず
に転写しようとすると加圧圧力及び加熱温度共に高くす
る必要があり、電気回路のパターンを壊す可能性もある
ことから粘着助剤26を用いることが好ましい。
FIG. 3 shows an example in which an adhesion aid 26 is applied on the electric circuit pattern shown in FIG. 1 (b). In FIG. 3, the adhesive assistant 26 is printed and formed so as to cover the electric circuit pattern. The adhesion auxiliary agent 26 has a low adhesiveness when the thermoplastic cellulose derivative having low adhesion to the glass or the ceramic substrate 22 is used as an organic binder when it is made into a paste, or has a small organic binder when it is made into a paste. In this case, it can be used to sufficiently adhere the electric circuit pattern to the substrate 22.
In particular, in the case of a thermoplastic cellulose derivative widely used for screen printing, it is necessary to increase both the pressure and the heating temperature when transferring without using the adhesion aid 26, which may break the pattern of the electric circuit. It is preferable to use the adhesion auxiliary agent 26 because of its property.

【0041】図4には、図3に示された粘着助剤26が
形成された電気回路パターンを転写紙10からガラスあ
るいはセラミックス等の基板22に熱転写する工程が示
される。図4(a)において、粘着助剤26で覆われた
電気回路パターンが基板22に対向するように配置さ
れ、図4(b)に示されるように、プレス板24により
転写紙10が所定の圧力で加圧される。この際、同時に
加熱も行い、粘着助剤26の粘着力により電気回路パタ
ーンを基板22に十分接着させる。
FIG. 4 shows a step of thermally transferring the electric circuit pattern on which the adhesive aid 26 shown in FIG. 3 is formed from the transfer paper 10 to the substrate 22 such as glass or ceramic. In FIG. 4A, the electric circuit pattern covered with the adhesion aid 26 is arranged so as to face the substrate 22, and as shown in FIG. Pressurized with pressure. At this time, heating is also performed at the same time, and the electric circuit pattern is sufficiently adhered to the substrate 22 by the adhesive force of the adhesive assistant 26.

【0042】このような粘着助剤26は、電気回路パタ
ーンの材料である電子材料ペースト14中に熱可塑性セ
ルロース誘導体等の熱可塑性樹脂が用いられている場
合、該熱可塑性樹脂よりも熱分解温度が高い必要があ
る。図4(c)に示されるように粘着助剤は電気回路パ
ターンと基板22との間に介在するが、粘着助剤26の
熱分解温度が電子材料ペースト14中の熱可塑性樹脂の
熱分解温度よりも低い場合、焼成時に電気回路パターン
中の前記熱可塑性樹脂が分解していないため、先に分解
した粘着助剤26の放出が十分に行われず、焼結時に亀
裂や剥離が起こる原因となる。したがって、粘着助剤2
6の熱分解温度をT1、電子材料ペースト14中の熱可
塑性樹脂の熱分解温度をT2とした場合、(T1−T2
は5℃〜20℃であることが望ましい。(T1−T2)が
5℃未満では焼結時に亀裂や剥離が起こるおそれがあ
る。(T1−T2)が20℃超では前記熱可塑性樹脂の熱
分解が多くなりすぎ、粘着助剤が分解するまでの間の電
気回路パターンの形状維持が困難になるおそれがある。
なお、(T1−T2)は5℃〜10℃であることがより好
ましい。この範囲外では焼成された電気回路パターンに
亀裂や剥離が生じる可能性が高くなる。
When a thermoplastic resin such as a thermoplastic cellulose derivative is used in the electronic material paste 14 which is a material of the electric circuit pattern, the pressure-sensitive adhesive 26 has a higher thermal decomposition temperature than the thermoplastic resin. Need to be high. As shown in FIG. 4C, the adhesion aid is interposed between the electric circuit pattern and the substrate 22, but the thermal decomposition temperature of the adhesion aid 26 is lower than the thermal decomposition temperature of the thermoplastic resin in the electronic material paste 14. If the temperature is lower than the above, the thermoplastic resin in the electric circuit pattern is not decomposed at the time of sintering, so that the adhesive agent 26 decomposed earlier is not sufficiently released, which causes cracking or peeling at the time of sintering. . Therefore, adhesion aid 2
Assuming that the thermal decomposition temperature of T6 is T 1 and the thermal decomposition temperature of the thermoplastic resin in the electronic material paste 14 is T 2 , (T 1 −T 2 )
Is preferably 5 ° C to 20 ° C. If (T 1 −T 2 ) is less than 5 ° C., cracking or peeling may occur during sintering. When (T 1 -T 2 ) exceeds 20 ° C., the thermal decomposition of the thermoplastic resin becomes too large, and it may be difficult to maintain the shape of the electric circuit pattern until the tackifier is decomposed.
Note that (T 1 −T 2 ) is more preferably 5 ° C. to 10 ° C. Outside this range, there is a high possibility that the fired electric circuit pattern will crack or peel.

【0043】また、本発明に係るガラスペーストである
電子材料ペースト14の焼結開始温度をT3とした場
合、(T3−T1)は10℃以上である必要があり、望ま
しくは20℃以上であることが好適である。(T3
1)がそれより低い場合には粘着助剤26の熱分解が
起こる前に電気回路パターンの流動、固化が始まり、焼
成された電気回路パターンに亀裂や剥離が生じるおそれ
があるからである。
When the sintering start temperature of the electronic material paste 14 as the glass paste according to the present invention is T 3 , (T 3 −T 1 ) needs to be 10 ° C. or more, preferably 20 ° C. It is preferable that this is the case. (T 3
If T 1 ) is lower than this, the electric circuit pattern starts to flow and solidify before the thermal decomposition of the pressure-sensitive adhesive agent 26, and cracks or peeling may occur in the fired electric circuit pattern.

【0044】以上の現象は、電気回路パターンの厚みが
20μmを超える場合に顕著であり、粘着助剤及び熱可
塑性樹脂(有機バインダ)の熱分解温度、ガラスペース
トの焼結開始温度の制御を行うことが好ましい。ここで
熱分解温度とは、熱重量測定にて20℃/minで昇温し
た時、測定試料の重量の98%が分解した温度と定義す
る。また、焼結開始温度は、ガラスペーストを種々の温
度で焼成し、目視観察により焼結の有無を調べて決定さ
れる。
The above phenomenon is remarkable when the thickness of the electric circuit pattern exceeds 20 μm, and controls the thermal decomposition temperature of the adhesion promoter and the thermoplastic resin (organic binder) and the sintering start temperature of the glass paste. Is preferred. Here, the thermal decomposition temperature is defined as a temperature at which 98% of the weight of the measurement sample is decomposed when the temperature is increased at a rate of 20 ° C./min by thermogravimetry. Further, the sintering start temperature is determined by firing the glass paste at various temperatures and checking the presence or absence of sintering by visual observation.

【0045】上述の粘着助剤26の層の厚みは、粘着性
を付与できる範囲で出来るだけ薄いほうが良く、望まし
くは1〜3μmである。1μm未満では粘着性が十分に
付与できないおそれがあり、3μmでは粘着助剤26の
分解、放出に時間がかかり、焼成された電気回路パター
ンの亀裂や剥離の原因となるおそれがある。
The thickness of the layer of the above-mentioned adhesion aid 26 is preferably as thin as possible within the range in which the adhesion can be imparted, and is preferably 1 to 3 μm. If it is less than 1 μm, it may not be possible to impart sufficient adhesiveness, and if it is 3 μm, it takes time to decompose and release the adhesion promoter 26, which may cause cracking or peeling of the fired electric circuit pattern.

【0046】なお、上述した本発明の方法によれば、印
刷パターンとして電気回路パターンのみならず、誘電体
印刷パターン、絶縁体印刷パターン、抵抗体印刷パター
ン、着色パターン、遮光パターン、その他無機材料の機
能膜等も転写することができる。また、スクリーン印刷
法による基板への直接印刷では印刷が困難な非平面形状
の基板へも印刷パターンを形成することができる。
According to the above-described method of the present invention, not only an electric circuit pattern but also a dielectric print pattern, an insulator print pattern, a resistor print pattern, a colored pattern, a light-shielding pattern, and other inorganic materials are used as print patterns. Functional films and the like can also be transferred. Further, it is possible to form a print pattern on a non-planar substrate, which is difficult to print by direct printing on a substrate by a screen printing method.

【0047】以上に説明した本発明にかかる転写式印刷
パターン形成方法の具体例を実施例として説明する。以
下の実施例1〜5は印刷パターンが電気回路パターンで
ある場合である。なお、以下の実施例1〜5により作製
した電気回路が形成されたガラス製の基板22(200
×100mm;厚み3.5mm)については比抵抗(μ
Ω・cm)、引張り強度(kgf)、色差(ΔE)、品
質をそれぞれ測定した。測定結果は表1に示される。な
お、これらの測定方法につき以下に説明する。ただし、
実施例2、3については比抵抗、引張り強度の測定は行
わなかった。
A specific example of the transfer printing pattern forming method according to the present invention described above will be described as an example. Examples 1 to 5 below are cases where the printing pattern is an electric circuit pattern. In addition, the glass substrate 22 (200
× 100 mm; thickness 3.5 mm) for specific resistance (μ
Ω · cm), tensile strength (kgf), color difference (ΔE), and quality were measured. The measurement results are shown in Table 1. In addition, these measuring methods are described below. However,
For Examples 2 and 3, the specific resistance and tensile strength were not measured.

【0048】比抵抗:株式会社アドバンテスト製デジタ
ルマルチメーターを用いて、電気抵抗Rを測定した。さ
らに、東京精密株式会社製サーフコム(商品名)を用い
て、断面形状を測定し積分法にて断面積Sを算出した。
前記R、Sを用いてR×S÷Lを算出し、これを比抵抗
とした。なお、Lは導電性線条の長さである。本実施例
の方法による転写ではなく、直接ガラス基板上に印刷し
焼成した場合の比抵抗は約3.8であった。この値と比
較して、転写導電体の比抵抗が著しく変化しなければ導
電体(導電性線条)は良好に焼結していると判断でき
る。
Specific resistance: The electric resistance R was measured using a digital multimeter manufactured by Advantest Corporation. Furthermore, the cross-sectional shape was measured using Surfcom (trade name) manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., and the cross-sectional area S was calculated by the integration method.
R × S ÷ L was calculated using the above R and S, and this was defined as the specific resistance. Here, L is the length of the conductive wire. The specific resistance in the case of printing and firing directly on a glass substrate instead of the transfer according to the method of the present example was about 3.8. If the specific resistance of the transfer conductor does not significantly change as compared with this value, it can be determined that the conductor (conductive filament) has been sintered well.

【0049】引張り強度:導電体にハンダで接着(接着
面積は25mm2)したSnメッキ銅製端子に力を加え
て引張り、Snメッキ銅製端子がはがれたときの力を小
型の引張りゲージを用いて測定した。本発明者らは15
kgf超を許容範囲とした。すなわち、15kgf以上
であれば導電体は基板に良好に焼付いていると判断でき
る。
Tensile strength: The Sn-plated copper terminal bonded to the conductor with solder (adhesion area: 25 mm 2 ) is pulled by applying a force, and the force when the Sn-plated copper terminal comes off is measured using a small tensile gauge. did. We have 15
A value exceeding kgf was regarded as an allowable range. In other words, if it is 15 kgf or more, it can be determined that the conductor is well seized on the substrate.

【0050】色差:本実施例の方法により転写した導電
体付ガラス板の導電性線条の正方形パターン部分につい
て、導電性ペーストを印刷・焼成していない面の側から
見たときの、色差ΔE(JIS Z8730 6.1)
を、ミノルタ株式会社製CR200型分光光度計(商品
名)を用いて測定した。直接ガラス基板上に該ペースト
を印刷焼成したものと転写により作成したもののガラス
焼付き面の色差ΔE値が1以下のものを基板焼付き性良
好とした。また、非導電体についても同様に測定し、基
板との焼付状態の良好性を確認した。
Color difference: The square difference of the conductive line of the glass plate with the conductor transferred by the method of the present embodiment, when viewed from the side where the conductive paste is not printed and fired, ΔE (JIS Z8730 6.1)
Was measured using a CR200 type spectrophotometer (trade name) manufactured by Minolta Co., Ltd. When the paste was printed and baked directly on a glass substrate and when the paste was prepared by transfer, the color difference ΔE value of the glass baked surface was 1 or less. In addition, non-conductors were measured in the same manner, and the goodness of the seizure state with the substrate was confirmed.

【0051】品質:目視にて焼成後のパターンにおける
気泡の発泡の有無を調べた。発泡のない場合に回路はガ
ラス基板に良好に焼付いていると判断した。
Quality: The presence or absence of bubble bubbling in the fired pattern was visually examined. When no foaming occurred, the circuit was judged to be well seized on the glass substrate.

【0052】[0052]

【実施例1】電子材料として導電性材料を使用した。導
電性材料の一般的なものは銅、アルミニウム、金、銀、
ニッケル等の金属あるいはITO等の導電性酸化物が挙
げられ、それら何れもが使用可能であるが、ここでは材
料の入手し易さ、導電率の高さより銀を使用した。この
銀としては、数μm程度の粒径のフレーク状銀粉末を用
いた。低融点のガラス粉末(ガラスフリット)として
は、基板となるソーダライムシリカガラスの軟化点以下
の融点を持つ低融点B23−SiO2−PbO系ガラス
フリットを使用した。このガラスフリットの組成は表1
に「低融点ガラス組成」として示される。銀をペースト
化するための熱可塑性樹脂(有機バインダ)としては、
熱可塑性ポリエステル樹脂で、分子量が約16000、
Tg(ガラス転移点)が約−25℃のものを使用した。
揮発性溶剤としては、シクロヘキサノンとBCA(ブチ
ルカルビトールアセテート:沸点約150℃)を使用し
た。以上に述べた銀粉末、ガラスフリット、熱可塑性ポ
リエステル樹脂及び揮発性溶剤(溶剤)を表1に示され
る割合で混合し、乳鉢及び三本ロールで混練してペース
ト化した。
Embodiment 1 A conductive material was used as an electronic material. Common conductive materials are copper, aluminum, gold, silver,
A metal such as nickel or a conductive oxide such as ITO can be used, and any of them can be used. Here, silver is used because of the availability of the material and the high conductivity. As the silver, flake silver powder having a particle size of about several μm was used. As the low melting point glass powder (glass frit), a low melting point B 2 O 3 —SiO 2 —PbO-based glass frit having a melting point equal to or lower than the softening point of soda lime silica glass as a substrate was used. Table 1 shows the composition of this glass frit.
Are shown as "low melting point glass composition". As a thermoplastic resin (organic binder) to paste silver,
A thermoplastic polyester resin with a molecular weight of about 16,000,
Those having a Tg (glass transition point) of about −25 ° C. were used.
As the volatile solvent, cyclohexanone and BCA (butyl carbitol acetate: boiling point: about 150 ° C.) were used. The silver powder, glass frit, thermoplastic polyester resin, and volatile solvent (solvent) described above were mixed at the ratio shown in Table 1, and kneaded with a mortar and three rolls to form a paste.

【0053】[0053]

【表1】 スクリーン版12には150メッシュ、乳剤厚10μm
のステンレスメッシュを使用した。印刷パターンは長さ
20cm、幅1mmの線条を使用した。
[Table 1] The screen plate 12 has 150 mesh and an emulsion thickness of 10 μm.
Stainless steel mesh was used. The printing pattern used was a line having a length of 20 cm and a width of 1 mm.

【0054】転写紙10は表面に易剥離層20としてS
i層を有するものを使用した。転写紙10のSi層上
へ、作製した銀ペーストをスクリーン印刷し120℃で
乾燥させた。さらに、これをガラス製基板上に180℃
で転写し、660℃で焼成した。本実施例の場合、熱可
塑性ポリエステル樹脂の熱分解温度T2は440℃であ
り、一方銀ペーストの焼結開始温度T3は450℃であ
り、T3はT2よりも10℃高い。したがって、銀ペース
トの焼結が始まる前に熱可塑性ポリエステル樹脂の熱分
解がおこり、熱分解ガスが抜けてから銀ペーストが焼結
する。このため、焼成された印刷パターンに亀裂が生じ
たり、ガラス基板から剥離したりするおそれが少ない。
ここで、上記焼結開始温度T3は、種々の温度でペース
トを焼成し、目視観察により焼結の有無を調べて求めた
値である。なお、本実施例においては、粘着助剤は使用
していない。
The transfer paper 10 has S
One having an i-layer was used. The produced silver paste was screen-printed on the Si layer of the transfer paper 10 and dried at 120 ° C. Further, this is placed on a glass substrate at 180 ° C.
And baked at 660 ° C. In the case of this example, the thermal decomposition temperature T 2 of the thermoplastic polyester resin is 440 ° C., while the sintering start temperature T 3 of the silver paste is 450 ° C., and T 3 is 10 ° C. higher than T 2 . Therefore, before the sintering of the silver paste starts, the thermoplastic polyester resin is thermally decomposed, and after the pyrolysis gas is released, the silver paste is sintered. For this reason, there is little possibility that a crack occurs in the fired printing pattern or the printing pattern peels off from the glass substrate.
Here, the sintering starting temperature T 3 is baking the paste at various temperatures is a value determined by examining the presence or absence of sintering by visual observation. In this example, no adhesion aid was used.

【0055】表1に示されるように、転写、焼成後の導
体としての比抵抗、引張り強度、焼付き特性(色差、品
質)とも良好な電気回路パターンをガラス基板上に形成
することができた。
As shown in Table 1, an electric circuit pattern having good specific resistance, tensile strength, and seizure characteristics (color difference, quality) as a conductor after transfer and firing was formed on a glass substrate. .

【0056】[0056]

【実施例2】電子材料として絶縁体を使用した。絶縁性
材料の一般的なものは低融点ガラス、SiO2、Zr
2、MgO等の酸化物が挙げられ、それら何れも使用
可能であるが、ここでは材料の入手し易さ、基板である
自動車用ガラスに対する密着性を考慮して低融点ガラス
粉末を使用した。この低融点ガラス粉末としては、B2
3−SiO2−PbO系ガラスフリットで数μm程度の
粒径のものを用いた。このガラスフリットの組成も表1
に「低融点ガラス組成」として示される。
Embodiment 2 An insulator was used as an electronic material. Common insulating materials are low melting glass, SiO 2 , Zr
Oxides such as O 2 and MgO can be mentioned, and any of them can be used. Here, low melting point glass powder was used in consideration of availability of materials and adhesion to automobile glass as a substrate. . As the low melting point glass powder, B 2
An O 3 —SiO 2 —PbO-based glass frit having a particle size of about several μm was used. Table 1 shows the composition of this glass frit.
Are shown as "low melting point glass composition".

【0057】上記ガラスフリットに熱可塑性ポリエステ
ル樹脂及び揮発性溶剤を表1に示される比率で混合し、
実施例1と同様にペースト化した。次に、このペースト
を使用して転写紙10上にスクリーン印刷した後乾燥し
た。その後、ガラスの基板上に転写し、焼成した。本実
施例の場合、熱可塑性ポリエステル樹脂の熱分解温度T
2は440℃であり、一方ペーストの焼結開始温度T3
ガラスフリットのガラス転移点Tg=470℃と軟化点
Ts=560℃との間であった。したがって、T3はT2
よりも30℃以上高く、実施例1と同様、焼成された印
刷パターンに亀裂が生じたり、ガラス基板から剥離した
りするおそれが少ない。なお、本実施例においても、粘
着助剤は使用していない。
A thermoplastic polyester resin and a volatile solvent were mixed with the above glass frit in the ratio shown in Table 1,
A paste was formed in the same manner as in Example 1. Next, the paste was screen-printed on the transfer paper 10 and then dried. Then, it was transferred onto a glass substrate and baked. In the case of this embodiment, the thermal decomposition temperature T of the thermoplastic polyester resin
2 was 440 ° C., while the sintering onset temperature T 3 of the paste was between the glass transition point Tg of glass frit = 470 ° C. and the softening point Ts = 560 ° C. Therefore, T 3 becomes T 2
30 [deg.] C. or more, and as in Example 1, the fired print pattern is less likely to be cracked or peeled off from the glass substrate. In this example, no adhesion aid was used.

【0058】表1に示されるように転写、焼成後の焼付
き特性(色差、品質)が良好な絶縁体をガラス基板上に
形成することができた。
As shown in Table 1, an insulator having good seizure characteristics (color difference and quality) after transfer and firing was formed on the glass substrate.

【0059】[0059]

【実施例3】電子材料として誘電体を使用した。誘電性
材料は絶縁性材料に含まれるが、特に高・低誘電率のも
のは電気的に有効である。誘電性材料の一般的なものは
低融点ガラス、SiO2、ZrO2、MgO、BaTiO
3、PbTiO3、PbZrO3、PbSrO3、CaTi
3等の酸化物が挙げられ、それら何れもが使用可能で
あるが、ここでは低誘電率特性のCaTiO3を使用し
た。CaTiO3単独では基板ガラスとの接着性が確保
できないため、B23−SiO2−PbO系ガラスフリ
ットで数μm程度の粒径のものとCaTiO3を混合し
た。混合比率は表1に示される通りとした。
Embodiment 3 A dielectric was used as an electronic material. The dielectric material is included in the insulating material. Particularly, a material having a high or low dielectric constant is electrically effective. Typical dielectric materials are low melting glass, SiO 2 , ZrO 2 , MgO, BaTiO.
3 , PbTiO 3 , PbZrO 3 , PbSrO 3 , CaTi
Oxides such as O 3 can be mentioned, and any of them can be used. Here, CaTiO 3 having low dielectric constant is used. Since CaTiO 3 alone cannot secure the adhesion to the substrate glass, CaTiO 3 mixed with a B 2 O 3 —SiO 2 —PbO-based glass frit having a particle size of about several μm was mixed. The mixing ratio was as shown in Table 1.

【0060】これらを、実施例1と同様にペースト化し
転写紙10上にスクリーン印刷、乾燥した。その後、ガ
ラスの基板上に転写し、焼成した。本実施例の場合も、
熱可塑性ポリエステル樹脂の熱分解温度T2は440℃
であり、ペーストの焼結開始温度T3はガラスフリット
のガラス転移点Tg=450℃と軟化点Ts=570℃
との間であった。したがって、実施例2と同様、焼成さ
れた印刷パターンに亀裂が生じたり、ガラス基板から剥
離したりするおそれが少ない。なお、本実施例において
も、粘着助剤は使用していない。
These were pasted in the same manner as in Example 1, screen-printed on transfer paper 10, and dried. Then, it was transferred onto a glass substrate and baked. Also in the case of this embodiment,
Thermal decomposition temperature T 2 of thermoplastic polyester resin is 440 ° C
The sintering start temperature T 3 of the paste is glass transition point Tg of glass frit = 450 ° C. and softening point Ts = 570 ° C.
Was between. Therefore, similarly to the second embodiment, there is little possibility that the fired print pattern is cracked or peeled off from the glass substrate. In this example, no adhesion aid was used.

【0061】表1に示されるように転写、焼成後の焼付
き特性が良好な誘電体をガラス基板上に作成することが
できた。
As shown in Table 1, a dielectric having good seizure characteristics after transfer and firing was able to be formed on a glass substrate.

【0062】[0062]

【実施例4】本実施例では電子材料として実施例1と同
様に銀粉末を使用した。また、銀粉末をペースト化する
ための熱可塑性樹脂(有機バインダ)として熱可塑性セ
ルロース誘導体であるエチルセルロースを使用した。こ
れらと低融点ガラス粉末及び溶剤を表2に示される割合
で混合し、ペースト化した。この銀ペーストを使用し、
転写紙10上にスクリーン印刷、乾燥して印刷パターン
を形成した後、表2に示された粘着助剤26を前記印刷
パターン上に3μm印刷した。粘着助剤26は、有機バ
インダとして使用したエチルセルロースの粘着力が低い
ため、前記印刷パターンの粘着力を補うために使用され
る。粘着助剤26はアクリル系樹脂であり、銀ペースト
中のエチルセルロースの熱分解温度T2(=375℃)
よりも熱分解温度T1が5℃高いものである(T1=38
0℃)。その後ガラスの基板に転写し、660℃の温度
で焼成した。
Embodiment 4 In this embodiment, silver powder was used as an electronic material in the same manner as in Embodiment 1. Ethyl cellulose, which is a thermoplastic cellulose derivative, was used as a thermoplastic resin (organic binder) for forming a silver powder into a paste. These were mixed with the low melting point glass powder and the solvent at the ratios shown in Table 2 to form a paste. Using this silver paste,
After screen printing and drying on the transfer paper 10 to form a print pattern, the adhesive aid 26 shown in Table 2 was printed on the print pattern at 3 μm. The adhesion aid 26 is used to supplement the adhesion of the print pattern because ethyl cellulose used as the organic binder has low adhesion. The adhesion aid 26 is an acrylic resin, and has a thermal decomposition temperature T 2 (= 375 ° C.) of ethyl cellulose in the silver paste.
Those thermal decomposition temperature T 1 is higher 5 ° C. than (T 1 = 38
0 ° C). Then, it was transferred to a glass substrate and baked at a temperature of 660 ° C.

【0063】上述の通りT1がT2より5℃高いので、焼
成中にエチルセルロースが前記アクリル系樹脂より先に
分解される。このため、銀ペーストにより構成された印
刷パターンからエチルセルロースが抜けて粗となり、そ
の細孔中をその後に分解されるアクリル系樹脂の分解ガ
スが抜けやすくなるので、焼成された印刷パターンの亀
裂、剥離を防止できる。
As described above, since T 1 is 5 ° C. higher than T 2 , ethyl cellulose is decomposed during firing before the acrylic resin. As a result, ethyl cellulose is released from the print pattern formed of the silver paste and becomes coarse, and the decomposition gas of the acrylic resin that is subsequently decomposed in the pores is easily released. Can be prevented.

【0064】また、本実施例の場合、銀ペーストの焼結
開始温度T3が上記T1より70℃高いので、粘着助剤2
6の分解、揮散が十分行われてから銀ペーストが焼結す
る。したがって、これによっても印刷パターンの亀裂、
剥離を防止することができる。
In this embodiment, since the sintering start temperature T 3 of the silver paste is 70 ° C. higher than the above T 1 , the pressure-sensitive adhesive agent 2
After the decomposition and volatilization of 6 are sufficiently performed, the silver paste is sintered. Therefore, this also causes cracks in the printed pattern,
Peeling can be prevented.

【0065】表2に示されるように、転写、焼成後の導
体としての比抵抗、引張り強度、焼付き特性(色差、品
質)とも良好な電気回路パターンをガラス基板上に形成
することができた。
As shown in Table 2, an electrical circuit pattern having good specific resistance, tensile strength, and seizure characteristics (color difference, quality) as a conductor after transfer and firing was formed on a glass substrate. .

【0066】[0066]

【表2】 [Table 2]

【0067】[0067]

【実施例5】本実施例では、電子材料として実施例4と
同様に銀粉末を使用した。また、銀をペースト化するた
めの熱可塑性樹脂(有機バインダ)として熱可塑性アク
リル系樹脂を使用した。これらと低融点ガラス粉末及び
揮発性溶剤(溶剤)を表2に示される割合で混合し、ペ
ースト化した。この銀ペーストを使用し、転写紙10上
にスクリーン印刷、乾燥して印刷パターンを形成した
後、実施例4と同様に表2に示された粘着助剤26を印
刷パターン上に3μm印刷した。その後ガラスの基板に
転写し、焼成した。
Embodiment 5 In this embodiment, silver powder was used as an electronic material in the same manner as in Embodiment 4. Further, a thermoplastic acrylic resin was used as a thermoplastic resin (organic binder) for forming silver into a paste. These were mixed with the low melting point glass powder and the volatile solvent (solvent) at the ratios shown in Table 2 to form a paste. Using this silver paste, screen printing was performed on the transfer paper 10 and dried to form a print pattern, and then the adhesive agent 26 shown in Table 2 was printed 3 μm on the print pattern in the same manner as in Example 4. Then, it was transferred to a glass substrate and baked.

【0068】本実施例に使用された有機バインダとして
のアクリル系樹脂は、粘着助剤26として使用されたア
クリル系樹脂(互応化学工業社製OS2000)とは異
なるものであり、その熱分解温度T2は370℃であ
る。粘着助剤26として使用されたアクリル系樹脂の熱
分解温度T1が380℃であり、T2より10℃高いの
で、本実施例でも焼成中に有機バインダが粘着助剤26
より先に分解される。よって、焼成された印刷パターン
の亀裂、剥離を防止できる。
The acrylic resin used as the organic binder in this embodiment is different from the acrylic resin (OS2000 manufactured by Ryogo Kagaku Kogyo Co., Ltd.) used as the adhesion promoter 26, and its thermal decomposition temperature T 2 is 370 ° C. Since the thermal decomposition temperature T 1 of the acrylic resin used as the adhesion aid 26 is 380 ° C., which is 10 ° C. higher than T 2 , the organic binder is also used during the firing in this embodiment.
Decomposed earlier. Therefore, cracking and peeling of the fired print pattern can be prevented.

【0069】また、本実施例の場合も銀ペーストの焼結
開始温度T3が上記T1より70℃高いので、これによっ
ても焼成された印刷パターンの亀裂、剥離を防止するこ
とができる。
Also in the case of the present embodiment, since the sintering start temperature T 3 of the silver paste is 70 ° C. higher than the above-mentioned T 1 , cracks and peeling of the fired print pattern can also be prevented.

【0070】表2に示されるように、転写、焼成後の導
体としての比抵抗、引張り強度、焼付き特性(色差、品
質)とも良好な電気回路パターンをガラス基板上に形成
することができた。
As shown in Table 2, it was possible to form an electric circuit pattern having good specific resistance, tensile strength, and seizure characteristics (color difference and quality) as a conductor after transfer and firing on a glass substrate. .

【0071】[0071]

【実施例6】本実施例では、電子材料ではなく黒色無機
耐熱顔料を使用し、これに表2に示されるような割合で
低融点ガラス粉末、熱可塑性樹脂(有機バインダ)、溶
剤(揮発性溶剤)を混合し、ペースト化して黒色セラミ
ックスペーストとした。ここで、低融点ガラス粉末とし
ては、表2に示されるように、PbO−SiO2−Ti
2系結晶化ガラスを使用した。また、有機バインダと
しては、熱可塑性セルロース誘導体を使用した。
Embodiment 6 In this embodiment, a black inorganic heat-resistant pigment was used in place of an electronic material, and a low-melting glass powder, a thermoplastic resin (organic binder) and a solvent (volatile) were used in proportions as shown in Table 2. (Solvent) and mixed to form a black ceramic paste. Here, as shown in Table 2, as the low melting point glass powder, PbO—SiO 2 —Ti
O 2 -based crystallized glass was used. In addition, a thermoplastic cellulose derivative was used as the organic binder.

【0072】上記黒色セラミックスペーストを使用し、
転写紙10上にスクリーン印刷、乾燥して印刷パターン
を形成した後、実施例4と同様に表2に示された粘着助
剤26を印刷パターン上に3μm印刷した。その後ガラ
スの基板に転写し、焼成した。
Using the above black ceramic paste,
After screen printing and drying were performed on the transfer paper 10 to form a print pattern, the adhesive agent 26 shown in Table 2 was printed on the print pattern at 3 μm in the same manner as in Example 4. Then, it was transferred to a glass substrate and baked.

【0073】本実施例に使用された有機バインダとして
の熱可塑性セルロース誘導体の熱分解温度T2は370
℃であり、粘着助剤26としてのアクリル系樹脂の熱分
解温度T1は380℃である。したがって、T1がT2
り10℃高いので、本実施例でも焼成中に熱可塑性樹脂
が粘着助剤26より先に分解される。よって、焼成され
た印刷パターンの亀裂、剥離を防止できる。
The thermal decomposition temperature T 2 of the thermoplastic cellulose derivative used as the organic binder in this example was 370.
° C, and the thermal decomposition temperature T 1 of the acrylic resin as the adhesion assistant 26 is 380 ° C. Therefore, since T 1 is higher than T 2 by 10 ° C., the thermoplastic resin is also decomposed before the adhesion promoter 26 during firing in this embodiment. Therefore, cracking and peeling of the fired print pattern can be prevented.

【0074】また、本実施例の場合、黒色セラミックス
ペーストの焼結開始温度T3は、低融点ガラス粉末のガ
ラス転移点Tg=450℃と軟化点Ts=570℃との
間にあり、上記T1より70℃以上高い。したがって、
これによっても焼成された印刷パターンの亀裂、剥離を
防止することができる。
In this embodiment, the sintering start temperature T 3 of the black ceramic paste is between the glass transition point Tg = 450 ° C. and the softening point Ts = 570 ° C. of the low melting glass powder. 70 ° C. or higher than 1 . Therefore,
This can also prevent cracking and peeling of the fired print pattern.

【0075】[0075]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
大面積ガラス基板上に高精度薄膜電気回路等の印刷パタ
ーンを簡便に付与し機能性ガラスを提供することが可能
で、さらに多品種少量生産にも対応できる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to easily provide a printed pattern of a high-precision thin-film electric circuit or the like on a large-area glass substrate to provide a functional glass, and to cope with high-mix low-volume production.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明にかかる転写式印刷パターン形成方法
において、転写紙に所望の電気回路パターンを形成する
場合の説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram in a case where a desired electric circuit pattern is formed on transfer paper in a transfer type printing pattern forming method according to the present invention.

【図2】 図1に示された転写紙から基板に電気回路パ
ターンを熱転写する際の工程図である。
FIG. 2 is a process chart when an electric circuit pattern is thermally transferred from the transfer paper shown in FIG. 1 to a substrate.

【図3】 本発明にかかる転写式印刷パターン形成方法
において、転写紙に所望の電気回路パターンを形成し、
粘着助剤を形成する場合の説明図である。
FIG. 3 shows a method for forming a transfer-type print pattern according to the present invention, in which a desired electric circuit pattern is formed on transfer paper;
It is explanatory drawing in the case of forming an adhesion auxiliary agent.

【図4】 図3に示された転写紙から基板に粘着助剤を
用いて、電気回路パターンを熱転写する際の工程図であ
る。
FIG. 4 is a process chart when an electric circuit pattern is thermally transferred from the transfer paper shown in FIG. 3 to a substrate using an adhesive aid.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 転写紙、12 スクリーン版、14 電子材料ペ
ースト、16 スキージ、18 基材紙、20 易剥離
層、22 基板、24 プレス板、26 粘着助剤。
Reference Signs List 10 transfer paper, 12 screen plate, 14 electronic material paste, 16 squeegee, 18 base paper, 20 easy release layer, 22 substrate, 24 press plate, 26 adhesive aid.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 転写フィルム上にガラスペーストにより
印刷パターンを形成し、 この印刷パターンを基板上に熱転写し、 前記基板上に熱転写された印刷パターンを焼成すること
を特徴とする転写式印刷パターン形成方法。
1. A transfer-type print pattern forming method, comprising: forming a print pattern on a transfer film using a glass paste; thermally transferring the print pattern onto a substrate; and firing the print pattern thermally transferred onto the substrate. Method.
【請求項2】 請求項1記載の転写式印刷パターン形成
方法において、前記転写フィルム上に形成された印刷パ
ターンは、導電性材料、絶縁性材料、誘電性材料、半導
体材料、抵抗性材料、磁性材料、無機耐熱顔料から選ば
れた一種以上と、前記焼成工程で溶融、分解揮散する熱
可塑性樹脂を含有することを特徴とする転写式印刷パタ
ーン形成方法。
2. The transfer pattern forming method according to claim 1, wherein the print pattern formed on the transfer film includes a conductive material, an insulating material, a dielectric material, a semiconductor material, a resistive material, and a magnetic material. A transfer printing pattern forming method, comprising: at least one selected from a material and an inorganic heat-resistant pigment; and a thermoplastic resin that is melted and decomposed and volatilized in the baking step.
【請求項3】 請求項2記載の転写式印刷パターン形成
方法において、前記熱可塑性樹脂が熱可塑性ポリエステ
ル樹脂、熱可塑性セルロース誘導体、熱可塑性アクリル
系樹脂、熱可塑性酢酸ビニル系樹脂から選ばれた一種も
しくは二種以上の混合系樹脂であることを特徴とする転
写式印刷パターン形成方法。
3. The method according to claim 2, wherein the thermoplastic resin is selected from the group consisting of a thermoplastic polyester resin, a thermoplastic cellulose derivative, a thermoplastic acrylic resin, and a thermoplastic vinyl acetate resin. Alternatively, a transfer-type printing pattern forming method characterized by using a mixed resin of two or more types.
【請求項4】 請求項1から請求項3のいずれか一項記
載の転写式印刷パターン形成方法において、前記転写フ
ィルム上に形成された印刷パターンは、一層または二層
以上の積層構造であることを特徴とする転写式印刷パタ
ーン形成方法。
4. The transfer-type print pattern forming method according to claim 1, wherein the print pattern formed on the transfer film has a single-layer structure or a multilayer structure of two or more layers. A method for forming a transfer-type print pattern.
【請求項5】 請求項1から請求項4のいずれか一項記
載の転写式印刷パターン形成方法において、前記基板は
ガラスあるいはセラミックスであることを特徴とする転
写式印刷パターン形成方法。
5. The transfer printing pattern forming method according to claim 1, wherein the substrate is made of glass or ceramic.
【請求項6】 請求項1から請求項5のいずれか一項記
載の転写式印刷パターン形成方法において、前記転写フ
ィルム上に形成された印刷パターン上には、あらかじめ
粘着助剤が塗布されていることを特徴とする転写式印刷
パターン形成方法。
6. The transfer-type printing pattern forming method according to claim 1, wherein an adhesion assistant is applied in advance on the printing pattern formed on the transfer film. A method for forming a transfer-type print pattern, comprising:
【請求項7】 請求項1から請求項5のいずれか一項記
載の転写式印刷パターン形成方法において、前記転写フ
ィルム上に形成された印刷パターン上にあらかじめ粘着
助剤が塗布されてあり、前記粘着助剤の分解温度を
1、前期熱可塑性樹脂の分解温度をT2、前記ガラスペ
ーストの焼結開始温度をT3とすると、(T1−T2)は
5℃〜20℃であり、(T3−T1)は10℃以上である
ことを特徴とする転写式印刷パターン形成方法。
7. The transfer-type print pattern forming method according to claim 1, wherein an adhesive aid is applied in advance on a print pattern formed on the transfer film, Assuming that the decomposition temperature of the adhesion promoter is T 1 , the decomposition temperature of the thermoplastic resin is T 2 , and the sintering start temperature of the glass paste is T 3 , (T 1 −T 2 ) is 5 ° C. to 20 ° C. , (T 3 −T 1 ) is 10 ° C. or higher.
【請求項8】 請求項1から請求項7のいずれか一項記
載の転写式印刷パターン形成方法において、印刷パター
ンが電気回路パターンであることを特徴とする転写式印
刷パターン形成方法。
8. The transfer printing pattern forming method according to claim 1, wherein the printing pattern is an electric circuit pattern.
【請求項9】 請求項1から請求項8のいずれか一項記
載の転写式印刷パターン形成方法により、自動車用ガラ
ス、建築用ガラス、ディスプレイ用ガラスから選ばれた
一種に印刷パターンが形成されたことを特徴とする印刷
パターンが形成されたガラス。
9. The transfer pattern forming method according to any one of claims 1 to 8, wherein a print pattern is formed on a kind selected from glass for automobiles, glass for buildings, and glass for displays. A glass having a printed pattern formed thereon.
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002111177A (en) * 2000-09-29 2002-04-12 Lintec Corp Circuit forming transfer sheet, circuit formed by using the same and method of forming circuit
JP2005064311A (en) * 2003-08-18 2005-03-10 Toray Ind Inc Transfer sheet for forming circuit board
WO2008153136A1 (en) 2007-06-13 2008-12-18 Toppan Tdk Label Co., Ltd. Transfer films for burning and method of forming substrate with functional pattern
WO2008153137A1 (en) 2007-06-13 2008-12-18 Toppan Tdk Label Co., Ltd. Transfer film for burning
JP2008307729A (en) * 2007-06-13 2008-12-25 Toppan Tdk Label Co Ltd Baking transfer film and forming method of base with functional pattern
JP2009023255A (en) * 2007-07-20 2009-02-05 Toppan Tdk Label Co Ltd Transfer film for calcination and method for forming base substrate with functional pattern
JP2011192608A (en) * 2010-03-16 2011-09-29 Murata Mfg Co Ltd Conductive paste and method of manufacturing ceramic electronic component
WO2011122623A1 (en) * 2010-03-30 2011-10-06 株式会社トッパンTdkレーベル Transfer film for baking purposes, and process for production of glass plate involving baked material
JP2014177395A (en) * 2013-02-12 2014-09-25 Heraeus Precious Metals North America Conshohocken Llc Organic vehicle for dispersion of glass composition and method of dispersion
JP5901537B2 (en) * 2010-12-28 2016-04-13 日本板硝子株式会社 Manufacturing method of glass substrate with pattern
KR101733574B1 (en) * 2016-10-19 2017-05-24 한국조폐공사 Manufacturing method for metal including pattern and metal including pattern using there
CN115093249A (en) * 2022-05-11 2022-09-23 蒙娜丽莎集团股份有限公司 Self-luminous rock plate and preparation method thereof and application of self-luminous rock plate in dining table

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002111177A (en) * 2000-09-29 2002-04-12 Lintec Corp Circuit forming transfer sheet, circuit formed by using the same and method of forming circuit
JP2005064311A (en) * 2003-08-18 2005-03-10 Toray Ind Inc Transfer sheet for forming circuit board
WO2008153136A1 (en) 2007-06-13 2008-12-18 Toppan Tdk Label Co., Ltd. Transfer films for burning and method of forming substrate with functional pattern
WO2008153137A1 (en) 2007-06-13 2008-12-18 Toppan Tdk Label Co., Ltd. Transfer film for burning
JP2008307729A (en) * 2007-06-13 2008-12-25 Toppan Tdk Label Co Ltd Baking transfer film and forming method of base with functional pattern
JP2009023255A (en) * 2007-07-20 2009-02-05 Toppan Tdk Label Co Ltd Transfer film for calcination and method for forming base substrate with functional pattern
JP2011192608A (en) * 2010-03-16 2011-09-29 Murata Mfg Co Ltd Conductive paste and method of manufacturing ceramic electronic component
JP2011207044A (en) * 2010-03-30 2011-10-20 Toppan Tdk Label Co Ltd Transfer film for baking purposes and method for producing glass plate with baked body
WO2011122623A1 (en) * 2010-03-30 2011-10-06 株式会社トッパンTdkレーベル Transfer film for baking purposes, and process for production of glass plate involving baked material
CN102781680A (en) * 2010-03-30 2012-11-14 株式会社凸版Tdk标签 Transfer film for baking purposes, and process for production of glass plate involving baked material
JP5901537B2 (en) * 2010-12-28 2016-04-13 日本板硝子株式会社 Manufacturing method of glass substrate with pattern
JP2014177395A (en) * 2013-02-12 2014-09-25 Heraeus Precious Metals North America Conshohocken Llc Organic vehicle for dispersion of glass composition and method of dispersion
KR101733574B1 (en) * 2016-10-19 2017-05-24 한국조폐공사 Manufacturing method for metal including pattern and metal including pattern using there
WO2018074711A1 (en) * 2016-10-19 2018-04-26 한국조폐공사 Method for manufacturing metal substrate having pattern formed thereon and metal having pattern formed thereon manufactured thereby
CN115093249A (en) * 2022-05-11 2022-09-23 蒙娜丽莎集团股份有限公司 Self-luminous rock plate and preparation method thereof and application of self-luminous rock plate in dining table
CN115093249B (en) * 2022-05-11 2023-06-30 蒙娜丽莎集团股份有限公司 Self-luminous rock plate, preparation method thereof and application thereof in dining table

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