JP2887974B2 - Electrostatic latent image forming device - Google Patents

Electrostatic latent image forming device

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JP2887974B2
JP2887974B2 JP24428291A JP24428291A JP2887974B2 JP 2887974 B2 JP2887974 B2 JP 2887974B2 JP 24428291 A JP24428291 A JP 24428291A JP 24428291 A JP24428291 A JP 24428291A JP 2887974 B2 JP2887974 B2 JP 2887974B2
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electrostatic latent
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明はプリンタやファクシミ
リ等に使用される静電潜像形成装置に関し、特に、荷電
粒子(イオン)を発生させ、このイオンによって静電潜
像の形成を行なうための静電潜像形成装置に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrostatic latent image forming apparatus used for a printer, a facsimile or the like, and more particularly, to a method for generating charged particles (ions) and forming an electrostatic latent image by the ions. The present invention relates to an electrostatic latent image forming apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の静電潜像形成装置として
は、次に示すようなものがある。これは、図13及び図
14に示すように、絶縁基板57の表面に、複数の駆動
電極51、51…を互いに平行に設けるとともに、これ
らの上に絶縁層50を介して駆動電極51、51…と交
差するように複数の制御電極52、 52…を設け、両
電極51、51…及び52、52…によってマトリクス
を構成する。そして、上記制御電極52、52…には、
駆動電極51、51…と交差する位置に開口部53、5
3…を形成する。
2. Description of the Related Art Heretofore, as this type of electrostatic latent image forming apparatus, there is the following apparatus. This is because, as shown in FIGS. 13 and 14, a plurality of drive electrodes 51, 51... Are provided on the surface of an insulating substrate 57 in parallel with each other, and the drive electrodes 51, 51 Are provided so as to intersect with each other, and a matrix is formed by the two electrodes 51, 51, and 52, 52,. The control electrodes 52, 52,.
The openings 53, 5 are provided at positions intersecting the drive electrodes 51, 51,.
3 are formed.

【0003】また、上記制御電極52、52…の下面に
は、図14に示すように、絶縁層54を介してスクリー
ン電極55を設ける。これらの絶縁層54及びスクリー
ン電極55には、図15に示すように、制御電極52、
52…の開口部53、53…と対応した位置に、円形状
の開口部56、56…及びイオン導出用の開口部58、
58…を形成する。
Further, a screen electrode 55 is provided on the lower surface of the control electrodes 52, 52... With an insulating layer 54 interposed therebetween, as shown in FIG. As shown in FIG. 15, the control electrode 52, the screen electrode 55,
, And openings 58 for ion derivation at positions corresponding to the openings 53, 53,.
58 ... are formed.

【0004】そして、上記静電潜像形成装置は、図14
に示すように、駆動電極51、51…とスクリーン電極
55との間に高周波高電圧を印加するとともに、スクリ
ーン電極55に直流電圧を印加する。また、制御電極5
2、52…に画像情報に応じたパルス電圧を選択的に印
加する。
[0004] The electrostatic latent image forming apparatus shown in FIG.
, A high-frequency high voltage is applied between the driving electrodes 51, 51... And the screen electrode 55, and a DC voltage is applied to the screen electrode 55. In addition, the control electrode 5
A pulse voltage corresponding to image information is selectively applied to 2, 52.

【0005】このように、選択的に電圧が印加された駆
動電極51、51…と制御電極52、52…との間にお
ける開口部53、53…に、図16に示すように、沿面
コロナ放電Rを生起させ、この沿面コロナ放電Rによっ
て発生したイオン流Sを制御電極52、52…とスクリ
ーン電極55との間に形成される電界によって加速もし
くは吸収し、イオンIの放出の制御を行なって、潜像担
持体59上に画像信号に応じたイオンIによる静電潜像
の形成を行なうように構成されている。
As shown in FIG. 16, creeping corona discharge occurs in the openings 53, 53 between the drive electrodes 51, 51, to which the voltage is selectively applied, and the control electrodes 52, 52,. R is generated, and the ion current S generated by the creeping corona discharge R is accelerated or absorbed by an electric field formed between the control electrodes 52, 52... And the screen electrode 55, thereby controlling the emission of the ions I. The electrostatic latent image is formed on the latent image carrier 59 by the ions I according to the image signal.

【0006】ところで、この静電潜像形成装置は、次の
ようにして製造される。すなわち、絶縁性材料からなる
絶縁基板57上に、駆動電極51、51…を導電性イン
クにより所定のパターンに印刷した後、この駆動電極5
1、51…が形成された絶縁基板50を焼成する。次
に、駆動電極51、51…が形成された絶縁基板57上
に絶縁層50を積層して焼成した後、この絶縁層50上
に制御電極52、52…を、駆動電極51、51…と交
差するように導電性インクにより所定のパターンに印刷
焼成する。その後、この制御電極52、52…が形成さ
れた絶縁層50上に、さらに絶縁層54を積層して形成
された材料を高温で焼成し、一体化する。そして、最後
に、上記絶縁層54上に予め薄い金属板等によって形成
されたスクリーン電極55を接着等の手段によって固着
して製造される。
Incidentally, this electrostatic latent image forming apparatus is manufactured as follows. Are printed in a predetermined pattern on the insulating substrate 57 made of an insulating material using conductive ink.
The insulating substrate 50 on which 1, 51... Are formed is fired. Next, after the insulating layer 50 is laminated and fired on the insulating substrate 57 on which the driving electrodes 51, 51... Are formed, the control electrodes 52, 52. Printing and baking are performed in a predetermined pattern with conductive ink so as to intersect. After that, a material formed by further laminating an insulating layer 54 on the insulating layer 50 on which the control electrodes 52, 52... Are formed is fired at a high temperature to be integrated. Finally, a screen electrode 55 previously formed of a thin metal plate or the like is fixed on the insulating layer 54 by means of bonding or the like.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来技術
の場合には、次のような問題点を有している。すなわ
ち、上記静電潜像形成装置においては、第3電極の電極
であるスクリーン電極55を接着等の手段によって絶縁
層54上に固着して製造している。そのため、スクリー
ン電極55を薄い金属板等にイオン導出用の開口部5
8、58…を穿設することによって形成し、このスクリ
ーン電極55を接着等の手段によって絶縁層54上に固
着しなければならず、スクリーン電極55の形成及び取
り付けが面倒であり、コスト高及び製造プロセスが複雑
となるという問題点があった。また、静電潜像形成装置
の潜像形成密度を高密度化するに伴い、スクリーン電極
55には、駆動電極51、51…及び制御電極52、5
2…によって形成されるマトリクスに対応した位置に、
イオン導出用の開口部58、58…を穿設しなければな
らない。そのため、スクリーン電極55へのイオン導出
用開口部58、58…の穿設が困難であり、イオン導出
用開口部58、58…を精度良く形成することができな
いという問題点があった。さらに、上記スクリーン電極
55を固着する絶縁層54に、制御電極52、52…の
開口部53、53…と対応した位置に穿設される開口部
56、56…は、スクリーン電極55のイオン導出用開
口部58、58…との位置ずれ等も考慮して、当該イオ
ン導出用開口部58、58…よりも大きく形成されてい
る。そのため、制御電極52、52…の開口部53、5
3…に生成するイオンIが、絶縁層54の開口部56、
56…とスクリーン電極55のイオン導出用開口部5
8、58…との段差部で導出が妨げられ、イオンIを効
率良く放出することができないという問題点もあった。
However, the above-mentioned prior art has the following problems. That is, in the above-described electrostatic latent image forming apparatus, the screen electrode 55 which is the third electrode is fixed on the insulating layer 54 by a method such as bonding. Therefore, the screen electrode 55 is connected to a thin metal plate or the like by the opening 5 for deriving ions.
8, 58.. Must be formed and the screen electrode 55 must be fixed on the insulating layer 54 by means such as adhesion, and the formation and attachment of the screen electrode 55 are troublesome, and cost and cost are increased. There is a problem that the manufacturing process becomes complicated. Further, as the latent image formation density of the electrostatic latent image forming apparatus is increased, the screen electrodes 55 are provided with drive electrodes 51, 51.
At the position corresponding to the matrix formed by
The openings 58, 58... For deriving ions must be formed. Therefore, it is difficult to form the ion extraction openings 58, 58,... In the screen electrode 55, and there is a problem that the ion extraction openings 58, 58,. Are formed in the insulating layer 54 to which the screen electrode 55 is fixed, at the positions corresponding to the openings 53 of the control electrodes 52, 52. Are formed larger than the ion deriving openings 58, 58, in consideration of the misalignment with the opening portions 58, 58, etc. Therefore, the openings 53, 5 and 5 of the control electrodes 52, 52.
3 generate ions I in the opening 56 of the insulating layer 54,
56 and the opening 5 for deriving ions of the screen electrode 55
There is also a problem that the extraction is hindered at the step portion between 8, 58, and so on, and the ion I cannot be efficiently discharged.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】そこで、この発明は、上
記従来技術の問題点を解決するためになされたもので、
その目的とするところは、第3の電極の形成が容易であ
り、コストダウンが可能のであるとともに、潜像形成密
度を高密度化した場合でもイオン導出用開口部の形成が
容易且つ高精度に行うことができ、更に、イオンの放出
を効率良く行うことが可能な静電潜像形成装置を提供す
ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art.
The purpose is to easily form the third electrode, reduce the cost, and easily and accurately form the ion lead-out opening even when the latent image formation density is increased. It is another object of the present invention to provide an electrostatic latent image forming apparatus capable of efficiently performing ion emission.

【0009】すなわち、この発明は、絶縁性基板と、第
1の電極と、第2の電極と、第3の電極と、第1の絶縁
層と、第2の絶縁層を具備し、前記第1の電極と第2の
電極は、前記第1の絶縁層を挟んで前記絶縁性基板上に
マトリクス状に設けられ、前記第2の電極は、前記第1
の電極と第2の電極との間に電圧を印加することにより
沿面コロナ放電を生起する空間領域を有し、前記第3の
電極は、前記第2の電極との間に第2の絶縁層を介在さ
せて設けられ、イオン導出用の開口部を有する静電潜像
形成装置において、前記第3の電極を、前記第2の絶縁
層上に導電性材料を印刷した後、焼成することにより形
成するとともに、前記第2の絶縁層及び第3の電極の開
口部を、リフトオフ法により形成し、前記第2の絶縁層
及び第3の電極の開口部の開口幅を第2の電極の開口部
の開口幅と同等あるいは順次開口幅を小さくするように
構成されている。
That is, the present invention comprises an insulating substrate, a first electrode, a second electrode, a third electrode, a first insulating layer, and a second insulating layer. The first electrode and the second electrode are provided in a matrix on the insulating substrate with the first insulating layer interposed therebetween, and the second electrode is
A space region in which a creeping corona discharge is generated by applying a voltage between the first electrode and the second electrode, wherein the third electrode has a second insulating layer between the second electrode and the second electrode. In the electrostatic latent image forming apparatus having an opening for ion derivation, the third electrode is printed by printing a conductive material on the second insulating layer and then baked. In addition, the opening of the second insulating layer and the third electrode is formed by a lift-off method, and the opening width of the opening of the second insulating layer and the third electrode is set to the opening of the second electrode. The opening width is configured to be equal to or sequentially smaller than the opening width of the portion.

【0010】[0010]

【作用】この発明においては、第3の電極を、前記第2
の絶縁層上に導電性材料を印刷した後、焼成することに
より形成するように構成されているので、第3の電極
を、第1の電極及び第2の電極と同様に印刷及び焼成工
程により形成することができ、第3の電極を容易にしか
も精度良く形成することができる。また、前記第2の絶
縁層及び第3の電極の開口部を、リフトオフ法により形
成し、前記第2の絶縁層及び第3の電極の開口部の開口
幅を第2の電極の開口部の開口幅と同等あるいは順次開
口幅を小さくするように構成されているので、第3の電
極の開口部を容易に精度良く形成することができるとと
もに、イオンの導出を効率良く行なうことができる。
In the present invention, the third electrode is connected to the second electrode.
Is formed by printing a conductive material on the insulating layer and baking the same, so that the third electrode is formed by a printing and baking process in the same manner as the first electrode and the second electrode. Accordingly, the third electrode can be easily and accurately formed. Further, the openings of the second insulating layer and the third electrode are formed by a lift-off method, and the opening widths of the openings of the second insulating layer and the third electrode are adjusted to the opening width of the opening of the second electrode. Since the opening width is configured to be equal to or successively smaller than the opening width, the opening of the third electrode can be easily and accurately formed, and ions can be efficiently extracted.

【0011】[0011]

【実施例】以下にこの発明を図示の実施例に基づいて説
明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below based on the illustrated embodiment.

【0012】図2及び図3はこの発明に係る静電潜像形
成装置の一実施例を示すものである。図において、1は
静電潜像形成装置としての記録ヘッドを示すものであ
り、この記録ヘッド1は、セラミックス等からなる平面
矩形状の絶縁性基板2を備えている。この絶縁性基板2
の表面には、図3に示すように、第1の電極として複数
且つ直線状の駆動電極3、3…が互いに平行に設けられ
ているとともに、これらの駆動電極3、3…上には、絶
縁層16を介して駆動電極3、3…と交差するように第
2の電極として複数の制御電極4、4…が設けられてお
り、両電極3、3…及び4、4…によってマトリクスが
形成されている。上記制御電極4、4…には、図3及び
図4に示すように、駆動電極3、3…と交差する位置
に、沿面コロナ放電を生じる空間領域としての円形の開
口部5、5…が設けられている。これらの絶縁性基板
2、絶縁層16、駆動電極3及び制御電極4によって、
図3に示すように、イオン生成部6が構成されている。
FIGS. 2 and 3 show an embodiment of the electrostatic latent image forming apparatus according to the present invention. In the drawing, reference numeral 1 denotes a recording head as an electrostatic latent image forming apparatus, and the recording head 1 includes a planar rectangular insulating substrate 2 made of ceramics or the like. This insulating substrate 2
As shown in FIG. 3, a plurality of linear drive electrodes 3, 3,... Are provided in parallel with each other as first electrodes, and on these drive electrodes 3, 3,. A plurality of control electrodes 4, 4,... Are provided as second electrodes so as to intersect with the drive electrodes 3, 3,... Via the insulating layer 16, and a matrix is formed by the two electrodes 3, 3,. Is formed. As shown in FIGS. 3 and 4, the control electrodes 4, 4,... Have circular openings 5, 5,. Is provided. By these insulating substrate 2, insulating layer 16, drive electrode 3 and control electrode 4,
As shown in FIG. 3, the ion generator 6 is configured.

【0013】また、上記イオン生成部6の制御電極4の
下面には、図2に示すように、絶縁層としてのスペーサ
層7を介在させて、第3の電極としてのスクリーン電極
8が設けられている。スペーサ層7は、図5に示すよう
に、絶縁性基板2と長さが略等しく、幅がやや狭い平面
矩形状に形成されており、接着等の手段によって第1の
絶縁性基板2に固着されている。このスペーサ層7に
は、制御電極3、3…の開口部5、5…に対応した位置
に、同開口部5、5…と同じ大きさの開口部9、9…が
設けられている。また、スクリーン電極8には、制御電
極3、3…の開口部5、5…に対応した位置に、同開口
部5、5…と同じ径のイオン導出領域としての開口部1
0、10…が設けられている。
As shown in FIG. 2, a screen electrode 8 as a third electrode is provided on the lower surface of the control electrode 4 of the ion generator 6 with a spacer layer 7 as an insulating layer interposed therebetween. ing. As shown in FIG. 5, the spacer layer 7 is formed in a flat rectangular shape having a length substantially equal to that of the insulating substrate 2 and a slightly smaller width, and is fixed to the first insulating substrate 2 by means such as adhesion. Have been. In the spacer layer 7, openings 9, 9,... Having the same size as the openings 5, 5,. Also, the screen electrode 8 has an opening 1 as an ion deriving region having the same diameter as the openings 5, 5,... At positions corresponding to the openings 5, 5,.
0, 10,... Are provided.

【0014】上記の如く構成される記録ヘッド1は、図
2に示すように、潜像担持体としての誘電体ドラム11
と所定の距離Lを隔てて対向するように配設される。上
記距離Lは、例えば150〜350μm程度に設定され
る。この誘電体ドラム11は、導電性基板12の表面に
誘電体層13を形成して構成されている。
As shown in FIG. 2, the recording head 1 constructed as described above has a dielectric drum 11 as a latent image carrier.
And at a predetermined distance L from each other. The distance L is set to, for example, about 150 to 350 μm. This dielectric drum 11 is formed by forming a dielectric layer 13 on the surface of a conductive substrate 12.

【0015】そして、上記記録ヘッド1は、図2に示す
ように、駆動電極3、3…とスクリーン電極8との間に
交流電源17が接続されており、この交流電源17によ
って両電極3、8間に高周波高電圧が印加されるように
なっている。一方、制御電極4、4…には、イオン制御
電源18により選択的にパルス電圧が、スクリーン電極
8には、直流電源19により直流電圧が、それぞれ印加
されるようになっている。
As shown in FIG. 2, the recording head 1 has an AC power supply 17 connected between the drive electrodes 3, 3,... And the screen electrode 8. A high-frequency high voltage is applied between 8. On the other hand, a pulse voltage is selectively applied to the control electrodes 4, 4... By an ion control power supply 18, and a DC voltage is applied to the screen electrode 8 by a DC power supply 19.

【0016】こうすることによって、選択的に電圧が印
加された駆動電極3と制御電極4との間の電位差によ
り、図6に示すように、開口部5において沿面コロナ放
電Rを生起させ、この沿面コロナ放電Rによって発生し
たイオンIを、制御電極4とスクリーン電極8との間に
選択的に形成される電界によって加速若しくは吸収し、
スクリーン電極8の開口部10からイオン流Sを制御し
て放出し、誘電体ドラム11上に画像信号に応じた静電
潜像の形成を行なうようになっている。
By doing so, a surface corona discharge R is generated in the opening 5 as shown in FIG. 6 due to the potential difference between the drive electrode 3 and the control electrode 4 to which a voltage is selectively applied. The ions I generated by the creeping corona discharge R are accelerated or absorbed by an electric field selectively formed between the control electrode 4 and the screen electrode 8,
The ion stream S is controlled and emitted from the opening 10 of the screen electrode 8 to form an electrostatic latent image on the dielectric drum 11 according to an image signal.

【0017】ところで、この実施例では、前記第3の電
極が、前記第2の絶縁層上に導電性材料を印刷した後、
焼成することにより形成されている。
In this embodiment, after the third electrode prints a conductive material on the second insulating layer,
It is formed by firing.

【0018】すなわち、上記記録ヘッドは、図1及び図
7に示すように、次のようにして製造される。
That is, as shown in FIGS. 1 and 7, the recording head is manufactured as follows.

【0019】まず、アルミナやジルコニア等のセラミク
スによって形成された絶縁性基板2上に、図7(a)に
示すように、タングステンや銀等からなる導電性材料を
溶媒中にペースト状に分散させた導電性インクにより、
駆動電極3、3…を所定の形状に印刷した後、この駆動
電極3、3…が印刷形成された絶縁性基板2を焼成す
る。
First, as shown in FIG. 7A, a conductive material made of tungsten, silver, or the like is dispersed in a solvent in the form of a paste on an insulating substrate 2 formed of ceramics such as alumina or zirconia. Conductive ink
After the driving electrodes 3, 3,... Are printed in a predetermined shape, the insulating substrate 2 on which the driving electrodes 3, 3,.

【0020】次に、図7(b)に示すように、絶縁性の
高いガラス等を溶媒中にペースト状に分散させた絶縁性
インクにより絶縁層16を印刷し、焼成する。
Next, as shown in FIG. 7B, the insulating layer 16 is printed with an insulating ink in which glass or the like having a high insulating property is dispersed in a solvent in the form of a paste, and baked.

【0021】その後、上記絶縁層16上に、図7(c)
に示すように、フォトレジストをスピンコートし、この
フォトレジスト20に所定のマスクを介して露光硬化さ
せた後、フォトレジスト20の未硬化部分をエッチング
により除去し、制御電極4、4…の円形の開口部5、5
…に対応した位置に、フォトレジスト20を残置する。
After that, on the insulating layer 16, FIG.
As shown in FIG. 7, after a photoresist is spin-coated, the photoresist 20 is exposed and cured through a predetermined mask, and then the uncured portion of the photoresist 20 is removed by etching, and the circular shape of the control electrodes 4, 4,... Openings 5, 5
The photoresist 20 is left at the position corresponding to.

【0022】さらに、上記の如くフォトレジスト20が
形成された絶縁層16上に、図7(d)に示すように、
ニッケル等からなる導電性インクにより制御電極4、4
…を所定の形状に形成した後、図7(e)に示すよう
に、フォトレジスト20上に残置した導電性インクを削
り取る。
Further, on the insulating layer 16 on which the photoresist 20 is formed as described above, as shown in FIG.
The control electrodes 4 and 4 are made of conductive ink made of nickel or the like.
Are formed in a predetermined shape, the conductive ink remaining on the photoresist 20 is scraped off as shown in FIG.

【0023】次に、同様な手法により制御電極4、4…
が形成された絶縁層16上に、図7(f)に示すよう
に、ガラスペーストによりスペーサ層7と、導電性材料
によりスクリーン電極8とを積層させて、焼成する。
Next, the control electrodes 4, 4,...
As shown in FIG. 7F, the spacer layer 7 is laminated with a glass paste and the screen electrode 8 is laminated with a conductive material on the insulating layer 16 on which is formed, and baked.

【0024】こうすることによって、図7(g)に示す
ように、絶縁性基板2上に、駆動電極3、3…と、絶縁
層16と、制御電極4、4…と、スペーサ層7と、スク
リーン電極8とを、順次積層させた状態に形成する。
By doing so, as shown in FIG. 7 (g), the drive electrodes 3, 3,..., The insulating layer 16, the control electrodes 4, 4,. And the screen electrode 8 are sequentially laminated.

【0025】このように、スクリーン電極8が、スペー
サ層7上に導電性材料を印刷した後、焼成することによ
り形成するように構成されているので、スクリーン電極
8を、駆動電極3、3…や制御電極4、4…と同様に印
刷及び焼成工程により形成することができ、スクリーン
電極8を容易にしかも精度良く形成することができる。
また、スクリーン電極8が、スペーサ層7上に導電性材
料を印刷した後、焼成することにより形成するように構
成されているので、潜像形成密度を高密度化した場合で
もイオン導出用開口部10、10…の形成が容易且つ高
精度に行うことができる。さらに、スクリーン電極8を
積層形成するスペーサ層7の開口部9、9…は、スクリ
ーン電極8のイオン導出用開口部10、10…と同じ径
に形成することができるので、イオンの放出を効率良く
行うことができる。
As described above, since the screen electrode 8 is formed by printing a conductive material on the spacer layer 7 and then firing the same, the screen electrode 8 is formed by driving the drive electrodes 3, 3,. And the control electrodes 4, 4,..., Can be formed by a printing and baking process, and the screen electrode 8 can be formed easily and accurately.
Further, since the screen electrode 8 is formed by printing a conductive material on the spacer layer 7 and then baking the conductive material, even when the latent image formation density is increased, the ion lead-out opening is formed. Can be formed easily and with high precision. Furthermore, the openings 9, 9,... Of the spacer layer 7 for laminating the screen electrodes 8 can be formed to have the same diameter as the ion leading openings 10, 10,. Can do well.

【0026】第二実施例 図8はこの発明の第二の実施例を示すものであり、前記
実施例と同一の部分には同一の符号を付して説明する
と、この実施例では、制御電極4、4…に形成される開
口部5、5…と、スペーサ層7に形成される開口部9、
9…と、スクリーン電極8に形成されるイオン導出領域
としての開口部10、10…が、図8に示すように、先
端側が開口幅が狭くなるように設定されている。こうす
ることによって、上記スクリーン電極8のイオン導出用
開口部10、10…から放出されるイオンIを集中させ
ることができ、高密度且つ高解像度の静電潜像を形成す
ることができる。
Second Embodiment FIG. 8 shows a second embodiment of the present invention. The same portions as those of the above embodiment are denoted by the same reference numerals and described. ., And openings 9 formed in the spacer layer 7,
9 and the openings 10, 10... Formed as ion extraction regions formed in the screen electrode 8 are set such that the opening width is narrower on the tip end side as shown in FIG. By doing so, the ions I emitted from the ion leading openings 10, 10,... Of the screen electrode 8 can be concentrated, and a high-density and high-resolution electrostatic latent image can be formed.

【0027】この実施例では、上記絶縁層16上に形成
されるフォトレジスト20の形状を、露光条件及び乾燥
条件を制御することにより、図9及び図10に示すよう
に、先端側の開口幅が徐々に狭くなるような凸形状に形
成する。
In this embodiment, as shown in FIGS. 9 and 10, the shape of the photoresist 20 formed on the insulating layer 16 is controlled by controlling the exposure conditions and the drying conditions. Is formed in a convex shape such that the width gradually becomes narrower.

【0028】その他の構成及び作用は前記第一の実施例
と同一であるので、その説明を省略する。
The other constructions and operations are the same as those of the first embodiment, and the description thereof will be omitted.

【0029】第三実施例 図11はこの発明の第三の実施例を示すものであり、前
記実施例と同一の部分には同一の符号を付して説明する
と、この実施例では、制御電極4、4…に形成される開
口部5、5…と、スペーサ層7に形成される開口部9、
9…と、スクリーン電極8に形成されるイオン導出領域
としての開口部10、10…が、図11に示すように、
制御電極4、4…に形成される開口部5、5…の開口径
が小さく設定されており、この制御電極4、4…上に形
成されるスペーサ層7の開口部9、9…とスクリーン電
極8のイオン導出用開口部10、10…は、先端側が開
口幅が狭くなるように設定されている。こうすることに
よって、開口径が小さく設定された制御電極4、4…の
開口部5、5…によって沿面コロナ放電Rを効率良く発
生させることができるとともに、スクリーン電極8のイ
オン導出用開口部10、10…から放出されるイオンI
を集中させることができ、高密度且つ高解像度の静電潜
像を形成することができる。
Third Embodiment FIG. 11 shows a third embodiment of the present invention. The same portions as those of the above embodiment are denoted by the same reference numerals and described. ., And openings 9 formed in the spacer layer 7,
9 and openings 10, 10... Formed as ion extraction regions formed in the screen electrode 8, as shown in FIG.
The opening diameters of the openings 5, 5,... Formed in the control electrodes 4, 4,... Are set to be small, and the openings 9, 9,. .. Of the electrode 8 are set such that the leading end side has a narrower opening width. In this way, the creeping corona discharge R can be efficiently generated by the openings 5, 5,... Of the control electrodes 4, 4,. , Ions I released from
And a high-density and high-resolution electrostatic latent image can be formed.

【0030】この実施例では、絶縁性基板2上に形成さ
れるフォトレジスト20が、図12に示すように、制御
電極4、4…の開口部5、5…に対応した径の小さな基
端部20aと、この基端部20aより径の大きな上部2
0bとから構成されている。
In this embodiment, as shown in FIG. 12, the photoresist 20 formed on the insulating substrate 2 has a base end having a small diameter corresponding to the openings 5, 5,... Of the control electrodes 4, 4,. Part 20a and an upper part 2 having a larger diameter than the base end part 20a.
0b.

【0031】その他の構成及び作用は前記第一の実施例
と同一であるので、その説明を省略する。
The other constructions and operations are the same as those of the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0032】[0032]

【発明の効果】この発明は以上の構成及び作用よりなる
もので、第3の電極の形成が容易であり、コストダウン
が可能のであるとともに、潜像形成密度を高密度化した
場合でもイオン導出用開口部の形成が容易且つ高精度に
行うことができ、更に、イオンの放出を効率良く行うこ
とが可能な静電潜像形成装置を提供することができる。
According to the present invention, the third electrode is easily formed, the cost can be reduced, and ions can be extracted even when the latent image formation density is increased. It is possible to provide an electrostatic latent image forming apparatus capable of easily and highly accurately forming an opening for use, and capable of efficiently discharging ions.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 図1はこの発明に係る静電潜像形成装置の一
実施例を示す要部断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an essential part showing an embodiment of an electrostatic latent image forming apparatus according to the present invention.

【図2】 図2はこの発明に係る静電潜像形成装置の一
実施例を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment of the electrostatic latent image forming apparatus according to the present invention.

【図3】 図3はイオン生成部を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating an ion generation unit.

【図4】 図4は同装置の電極を形成した絶縁基板を示
す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing an insulating substrate on which electrodes of the device are formed.

【図5】 図5は同装置のスクリーン電極を形成した絶
縁基板を示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing an insulating substrate on which a screen electrode is formed in the same device.

【図6】 図6はこの発明に係る静電潜像形成装置の一
実施例の動作を示す断面説明図である。
FIG. 6 is an explanatory sectional view showing the operation of the embodiment of the electrostatic latent image forming apparatus according to the present invention.

【図7】 図7(a)〜(g)は同装置の製造工程をそ
れぞれ示す断面図である。
7 (a) to 7 (g) are cross-sectional views each showing a manufacturing process of the device.

【図8】 図8はこの発明に係る静電潜像形成装置の第
二の実施例を示す要部断面図である。
FIG. 8 is a sectional view of a main part of a second embodiment of the electrostatic latent image forming apparatus according to the present invention.

【図9】 図9は同実施例の製造工程を示す断面図であ
る。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the embodiment.

【図10】 図10は同実施例の製造工程を示す断面図
である。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the embodiment.

【図11】 図11はこの発明に係る静電潜像形成装置
の第三の実施例を示す要部断面図である。
FIG. 11 is a sectional view of a main part of a third embodiment of the electrostatic latent image forming apparatus according to the present invention.

【図12】 図12は同実施例の製造工程を示す断面図
である。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the embodiment.

【図13】 図13は従来の静電潜像形成装置を示す要
部平面図である。
FIG. 13 is a plan view of a main part showing a conventional electrostatic latent image forming apparatus.

【図14】 図14は同断面図である。FIG. 14 is a sectional view of the same.

【図15】 図15はスクリーン電極を取り付けた状態
を示す平面図である。
FIG. 15 is a plan view showing a state where a screen electrode is attached.

【図16】 図16は同断面図である。FIG. 16 is a sectional view of the same.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2…絶縁性基板、3…駆動電極、4…制御電極、5…開
口部、7…スペーサ層、8…スクリーン電極、10…開
口部、
2 ... insulating substrate, 3 ... drive electrode, 4 ... control electrode, 5 ... opening, 7 ... spacer layer, 8 ... screen electrode, 10 ... opening,

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B41J 2/415 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) B41J 2/415

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 絶縁性基板と、第1の電極と、第2の電
極と、第3の電極と、第1の絶縁層と、第2の絶縁層を
具備し、前記第1の電極と第2の電極は、前記第1の絶
縁層を挟んで前記絶縁性基板上にマトリクス状に設けら
れ、前記第2の電極は、前記第1の電極と第2の電極と
の間に電圧を印加することにより沿面コロナ放電を生起
する空間領域を有し、前記第3の電極は、前記第2の電
極との間に第2の絶縁層を介在させて設けられ、イオン
導出用の開口部を有する静電潜像形成装置において、前
記第3の電極を、前記第2の絶縁層上に導電性材料を印
刷した後、焼成することにより形成するとともに、前記
第2の絶縁層及び第3の電極の開口部を、リフトオフ法
により形成し、前記第2の絶縁層及び第3の電極の開口
部の開口幅を第2の電極の開口部の開口幅と同等あるい
は順次開口幅を小さくしたことを特徴とする静電潜像形
成装置。
An insulating substrate, a first electrode, a second electrode, a third electrode, a first insulating layer, and a second insulating layer, wherein the first electrode The second electrode is provided in a matrix on the insulating substrate with the first insulating layer interposed therebetween, and the second electrode applies a voltage between the first electrode and the second electrode. A third electrode provided with a second insulating layer interposed between the third electrode and the second electrode, and an opening for deriving ions; The third electrode is formed by printing a conductive material on the second insulating layer, and then firing the printed material, and forming the third electrode on the second insulating layer and the third electrode. The opening of the second electrode is formed by a lift-off method, and the opening width of the opening of the second insulating layer and the third electrode is set to the second width. An electrostatic latent image forming apparatus characterized in that the opening width is made equal to or successively smaller than the opening width of the electrode opening.
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