JPH06206339A - Ion flow electrostatic recording head - Google Patents

Ion flow electrostatic recording head

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JPH06206339A
JPH06206339A JP346993A JP346993A JPH06206339A JP H06206339 A JPH06206339 A JP H06206339A JP 346993 A JP346993 A JP 346993A JP 346993 A JP346993 A JP 346993A JP H06206339 A JPH06206339 A JP H06206339A
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JP
Japan
Prior art keywords
electrode
electrodes
recording head
electrostatic recording
ion flow
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Withdrawn
Application number
JP346993A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naohito Shiga
直仁 志賀
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
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Publication of JPH06206339A publication Critical patent/JPH06206339A/en
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Abstract

PURPOSE:To suppress a dielectric paste from flowing and spreading at the time of application, uniformize a distance between a first electrode and a second electrode at any position, uniformize an ion generating amount at any position and obtain a high image quality and an enhanced durability. CONSTITUTION:On the both sides of a group of first electrodes 13 of an ion flow electrostatic recording head 11, dummy electrodes 14 extending in parallel to the first electrodes 13 are so disposed as to be spaced from the first electrode group by a distance not less than a distance between the first electrodes 13.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は静電式の印刷や複写に利
用されるイオンフロー静電記録ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ion flow electrostatic recording head used for electrostatic printing and copying.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、例えば静電印刷等において、高
電流密度のイオンを発生させ、これを抽出して選択的に
被帯電部材に付与して、この被帯電部材を画像状に帯電
させる静電記録装置が知られている。
2. Description of the Related Art Generally, for example, in electrostatic printing, ions of high current density are generated, and the ions are extracted and selectively applied to a member to be charged, and the member to be charged is imagewise charged. Electronic recording devices are known.

【0003】図4はこの静電記録装置に用いられるイオ
ンフロー静電記録ヘッド1の概略構成を示すものであ
る。図4中、2は絶縁基板で、この絶縁基板2上に複数
の第1電極3…が設けられている。これらの複数の第1
電極3…は一方向に向けて略平行に並設されている。
FIG. 4 shows a schematic structure of an ion flow electrostatic recording head 1 used in this electrostatic recording apparatus. In FIG. 4, reference numeral 2 denotes an insulating substrate, on which a plurality of first electrodes 3 ... Are provided. First of these multiple
The electrodes 3 ... Are arranged substantially parallel to each other in one direction.

【0004】また、4は誘電体層で、この誘電体層4の
一方の面に第1電極3…が固着されている。さらに、誘
電体層4の他方の面には第1電極3…の伸び方向と交差
する方向に伸びる複数の第2電極6…が接着剤5を介し
て固着されており、第1電極3…と第2電極6…とによ
ってマトリックスが構成されている。そして、第2電極
6…にはこのマトリックスと対応する部位にそれぞれイ
オン発生用の開口部6a…が形成されている。
Reference numeral 4 denotes a dielectric layer, and the first electrodes 3 ... Are fixed to one surface of the dielectric layer 4. Further, a plurality of second electrodes 6 extending in a direction intersecting with the extending direction of the first electrodes 3 are fixed to the other surface of the dielectric layer 4 with an adhesive 5, and the first electrodes 3 ... And the second electrode 6 ... Form a matrix. Further, the second electrodes 6 ... Are respectively formed with openings 6a for ion generation at the portions corresponding to this matrix.

【0005】また、誘電体層4の第2電極6…の並設面
側には第2電極6…を埋設する状態で絶縁体層7が設け
られている。この絶縁体層7には第2電極6…の各開口
部6a…と対応する部位に開口部7a…が形成されてい
る。
Further, an insulator layer 7 is provided on the side of the dielectric layer 4 on which the second electrodes 6 are arranged side by side in a state of embedding the second electrodes 6. In this insulator layer 7, openings 7a ... Are formed at portions corresponding to the openings 6a.

【0006】さらに、絶縁体層7の表面には帯状の第3
電極8が接着されている。この第3電極8には第1電極
3…と第2電極6…とのマトリックスと対応する部位に
開口部8a…が形成されている。この第3電極8の開口
部8a…は絶縁体層7の開口部7a…および第2電極6
…の開口部6a…と連通されてイオンフロー静電記録ヘ
ッド1のイオン流通過口9…が形成されている。
Further, the surface of the insulating layer 7 has a strip-shaped third layer.
The electrode 8 is adhered. The third electrode 8 is provided with openings 8a ... In a portion corresponding to the matrix of the first electrode 3 ... And the second electrode 6 ... The openings 8a of the third electrode 8 are the openings 7a of the insulator layer 7 and the second electrode 6.
The ion flow passage opening 9 of the ion flow electrostatic recording head 1 is formed in communication with the openings 6a of.

【0007】そして、イオンフロー静電記録ヘッド1の
動作時には印字信号にもとづいて第1電極3…と第2電
極6…との間のマトリックスが適宜選択され、選択され
たマトリックス部分に対応する第1電極3…と第2電極
6…との間に交流電圧が印加される。
When the ion flow electrostatic recording head 1 is in operation, the matrix between the first electrodes 3 ... And the second electrodes 6 ... Is properly selected based on the print signal, and the matrix corresponding to the selected matrix portion is selected. An alternating voltage is applied between the first electrode 3 and the second electrode 6.

【0008】これにより、選択されたマトリックス部分
に対応する第2電極6…の開口部6a…内の近傍部位に
正・負イオンが発生する。このとき、第2電極6…と第
3電極8との間にはバイアス電圧が印加され、その極性
によって決まるイオンのみが第2電極6…の開口部6a
…内の近傍部位に発生したイオンから抽出される。
As a result, positive / negative ions are generated in the vicinity of the openings 6a ... Of the second electrodes 6 ... Corresponding to the selected matrix portion. At this time, a bias voltage is applied between the second electrode 6 ... And the third electrode 8, and only the ions determined by the polarity thereof are opened 6a of the second electrode 6.
It is extracted from the ions generated in the vicinity of the inside.

【0009】そして、抽出されたイオンは絶縁体層7の
開口部7aおよび第3電極8の開口部8a…を通過し、
図示しない誘電体ドラムを局部的に帯電させる。したが
って、第1電極3…および第2電極6…の選択的駆動に
より、誘電体ドラム上にドット潜像を形成することがで
きる。
Then, the extracted ions pass through the opening 7a of the insulator layer 7 and the opening 8a of the third electrode 8,
A dielectric drum (not shown) is locally charged. Therefore, a dot latent image can be formed on the dielectric drum by selectively driving the first electrode 3 ... And the second electrode 6 ...

【0010】ここで使用される絶縁基板2と第1電極3
の材料としては例えばガラス強化エポキシ樹脂基板上に
銅箔を接着剤で、或いは接着剤なしで直接接着し、この
銅箔をエッチングにて複数の第1電極3…を並設させた
第1電極3の回路パターンを形成したものが用いられ
る。
Insulating substrate 2 and first electrode 3 used here
As the material of the first electrode, for example, a copper foil is directly adhered onto a glass reinforced epoxy resin substrate with or without an adhesive, and the copper foil is etched to form a plurality of first electrodes 3 ... What formed the circuit pattern of 3 is used.

【0011】また、誘電体層4を形成する誘電物質はイ
オン発生のために印加される高電圧でも絶縁破壊しない
ことが要求される。さらに、この誘電体層4はイオンを
効率良く発生させ、絶縁破壊にも耐えられる程度の厚さ
を必要とするため、高誘電率を有するものが適してい
る。
Further, it is required that the dielectric material forming the dielectric layer 4 does not cause dielectric breakdown even at a high voltage applied to generate ions. Furthermore, this dielectric layer 4 needs to have a thickness that can efficiently generate ions and withstand dielectric breakdown, so that one having a high dielectric constant is suitable.

【0012】そこで、例えば特開平2−153760号
公報ではイオンフロー静電記録ヘッド1の第1電極3の
材料には銅箔を使用し、誘電体層4の材料としてはシリ
コーン変性ポリエステルアルキド樹脂中に酸化チタン粉
を混在させた誘電体ペーストを用いている。
Therefore, for example, in JP-A-2-153760, a copper foil is used as the material of the first electrode 3 of the ion flow electrostatic recording head 1, and a silicone-modified polyester alkyd resin is used as the material of the dielectric layer 4. A dielectric paste in which titanium oxide powder is mixed is used.

【0013】また、第2電極6の材料としてはステンレ
ス鋼の箔が用いられている。そして、この第2電極6を
誘電体層4に固着する場合にはシリコーン系の感圧接着
剤が用いられている。
A foil of stainless steel is used as the material of the second electrode 6. When the second electrode 6 is fixed to the dielectric layer 4, a silicone pressure sensitive adhesive is used.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】一般に、特開平2−1
53760号公報に開示されているような誘電体層4を
形成させる誘電体ペーストは液体であるために、高粘度
ではあるがやや流動し易い問題がある。そのため、図5
に示すように誘電体ペーストがスクリーン印刷等で絶縁
基板2および第1電極3の上に塗布された際に、誘電体
層4の端縁部分はゆっくりと流動しながら周辺に広が
り、硬化条件下で固まるので、絶縁基板2および第1電
極3の上に塗布後、固着された誘電体層4の端縁部分に
は中央の平滑面Sの位置よりも肉厚が薄くなる薄肉部T
が形成される問題がある。
SUMMARY OF THE INVENTION Generally, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-1
Since the dielectric paste for forming the dielectric layer 4 as disclosed in Japanese Patent No. 53760 is liquid, it has a high viscosity, but there is a problem in that it easily flows. Therefore,
When the dielectric paste is applied to the insulating substrate 2 and the first electrode 3 by screen printing or the like as shown in, the edge portion of the dielectric layer 4 slowly flows and spreads to the periphery, and is hardened under curing conditions. Since it is hardened by, the thin-walled portion T whose thickness is thinner than the position of the central smooth surface S at the edge portion of the fixed dielectric layer 4 after being applied on the insulating substrate 2 and the first electrode 3.
Is formed.

【0015】したがって、複数の第1電極3…群のうち
両側最外部に配置された第1電極3の部分では第1電極
3上の誘電体層4の厚さが他の部分よりも薄くなるの
で、図6に示すように誘電体層4の上にシリコーン系の
感圧接着剤5を用いて第2電極6を貼り付けた場合には
両側最外部に配置された第1電極3の部分で第1電極3
と第2電極6との間の距離が他の場所より小さくなる問
題がある。
Therefore, the thickness of the dielectric layer 4 on the first electrode 3 is smaller in the portion of the first electrode 3 disposed on the outermost sides on both sides of the plurality of first electrodes 3 ... Therefore, as shown in FIG. 6, when the second electrode 6 is pasted on the dielectric layer 4 using the silicone pressure-sensitive adhesive 5, the portion of the first electrode 3 located on the outermost sides on both sides. The first electrode 3
There is a problem that the distance between the second electrode 6 and the second electrode 6 becomes smaller than that in other places.

【0016】このように第1電極3と第2電極6との間
隔が全ての場所で均一になっていない場合には両電極
3,6間の放電に、場所によって強弱が発生してしま
い、均一なイオンを発生できなくなる。そのため、両側
最外部に配置された第1電極3の部分ではイオン発生量
が他の場所とは異なるので、高精細な画質が得られなく
なる問題がある。
As described above, when the distance between the first electrode 3 and the second electrode 6 is not uniform at all the places, the discharge between the electrodes 3 and 6 has a different strength depending on the place. It becomes impossible to generate uniform ions. Therefore, since the amount of generated ions is different in the portions of the first electrodes 3 arranged on the outermost sides of both sides compared with other places, there is a problem that high-definition image quality cannot be obtained.

【0017】また、第1電極3上の誘電体層4の厚さが
他の部分よりも薄い両側最外部に配置された第1電極3
の部分では静電記録ヘッド1の動作時における高電圧下
での耐久性が低い問題もある。
Further, the thickness of the dielectric layer 4 on the first electrode 3 is thinner than that of the other portions, and the first electrodes 3 arranged on the outermost sides on both sides.
There is also a problem in that the durability is low under high voltage during the operation of the electrostatic recording head 1.

【0018】本発明は上記事情に着目してなされたもの
で、その目的は、誘電体ペースト塗布時の流動と広がり
を抑え、第1の電極と第2の電極との間の距離をいずれ
の場所でも均一にし、イオン発生量がいずれの場所でも
均一な、高画質で、耐久性が高いイオンフロー静電記録
ヘッドを提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and its purpose is to suppress the flow and spread at the time of coating the dielectric paste, and to set the distance between the first electrode and the second electrode to any value. An object of the present invention is to provide an ion flow electrostatic recording head having high image quality and high durability, which is uniform in location and the amount of generated ions is uniform in any location.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明は絶縁基板上に一
方向にかつ平行に延設された複数の第1電極と、この第
1電極と交差する方向に延設され、前記第1電極ととも
にマトリックスを形成し、このマトリックスに対応する
部位に開口部が形成された複数の第2電極と、この第2
電極に対し前記第1電極とは反対側に配置され、前記マ
トリックスに対応する部位に開口部が形成された第3電
極と、前記第1電極と第2電極との間に設けられた誘電
体層と、前記第2電極と第3電極との間に設けられ、前
記マトリックスに対応する部位に開口部が形成された絶
縁体層とを具備するイオンフロー静電記録ヘッドにおい
て、前記第1電極群の両側に、前記第1電極と平行に延
設されたダミー電極を前記各第1電極間のそれぞれの間
隔以上の間隔を存して設けたものである。
According to the present invention, a plurality of first electrodes extending in one direction and in parallel on an insulating substrate and a plurality of first electrodes extending in a direction intersecting with the first electrodes are provided. And a plurality of second electrodes each having an opening formed in a portion corresponding to the matrix and the second electrode.
A dielectric provided between the first electrode and the second electrode, which is disposed on the side opposite to the first electrode with respect to the electrode and has a third electrode having an opening formed in a portion corresponding to the matrix. An ion flow electrostatic recording head comprising a layer and an insulator layer provided between the second electrode and the third electrode and having an opening formed in a portion corresponding to the matrix, wherein the first electrode Dummy electrodes extending in parallel with the first electrodes are provided on both sides of the group with a space equal to or larger than the space between the first electrodes.

【0020】[0020]

【作用】イオンフロー静電記録ヘッドの製造時に絶縁基
板および第1電極上に塗布した誘電体ペーストが硬化す
るまでの間に流動した際に、その流動をダミー電極上の
みで発生させることにより、第1電極群の上の誘電体層
の厚さを均一化し、第1電極と第2電極との間の距離を
均一に確保するようにしたものである。
When the dielectric paste applied on the insulating substrate and the first electrode flows during the process of manufacturing the ion flow electrostatic recording head until it hardens, the flow is generated only on the dummy electrode. The thickness of the dielectric layer on the first electrode group is made uniform to ensure a uniform distance between the first electrode and the second electrode.

【0021】[0021]

【実施例】以下、本発明の一実施例について図1
(A),(B)乃至図3を参照して説明する。図1
(A),(B)は静電記録装置のイオンフロー静電記録
ヘッド11の概略構成を示すもので、12はイオンフロ
ー静電記録ヘッド11の絶縁基板である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An embodiment of the present invention will now be described with reference to FIG.
This will be described with reference to (A), (B) to FIG. Figure 1
(A) and (B) show a schematic structure of the ion flow electrostatic recording head 11 of the electrostatic recording apparatus, and 12 is an insulating substrate of the ion flow electrostatic recording head 11.

【0022】この絶縁基板12上にはイオン発生用の誘
導電極である複数の第1電極13…が設けられている。
これらの複数の第1電極13…は一方向に向けて略平行
に並設されている。さらに、第1電極13…群の両側に
は第1電極13と平行に延設されたダミー電極14が各
第1電極13間のそれぞれの間隔以上の間隔を存して設
けられている。
A plurality of first electrodes 13, which are induction electrodes for ion generation, are provided on the insulating substrate 12.
The plurality of first electrodes 13 ... Are arranged in parallel in one direction. Further, dummy electrodes 14 extending in parallel with the first electrodes 13 are provided on both sides of the first electrode 13 ... Group with a space equal to or larger than the space between the first electrodes 13.

【0023】また、絶縁基板12および第1電極13…
上、ダミー電極14上には誘電体層15が設けられてい
る。この誘電体層15の表面には接着剤16を介して放
電電極である複数の第2電極17…が固着されている。
Further, the insulating substrate 12 and the first electrode 13 ...
A dielectric layer 15 is provided on the upper and dummy electrodes 14. A plurality of second electrodes 17, which are discharge electrodes, are fixed to the surface of the dielectric layer 15 via an adhesive 16.

【0024】さらに、複数の第2電極17…は誘電体層
15における絶縁基板12とは反対側の面に配置され、
第1電極13…と交差する方向に並設されており、第1
電極13…と第2電極17…とによってマトリックスが
構成されている。そして、第2電極17…にはこのマト
リックスと対応する部位にそれぞれイオン発生用の開口
部17a…が形成されている。
Further, the plurality of second electrodes 17 ... Are arranged on the surface of the dielectric layer 15 opposite to the insulating substrate 12,
Are arranged side by side in a direction intersecting with the first electrodes 13 ...
A matrix is composed of the electrodes 13 and the second electrodes 17. Then, the second electrodes 17 ... Are respectively formed with openings 17a for ion generation at the portions corresponding to this matrix.

【0025】また、誘電体層15の第2電極17…の並
設面側には第2電極17…を埋設する状態で絶縁体層1
8が設けられている。この絶縁体層18には第2電極1
7…の各開口部17a…と対応する部位に開口部18a
…が形成されている。
Further, the insulator layer 1 is formed by embedding the second electrodes 17 on the side of the dielectric layer 15 on which the second electrodes 17 are arranged in parallel.
8 are provided. The second electrode 1 is formed on the insulator layer 18.
An opening 18a is provided at a portion corresponding to each opening 17a of 7 ...
... is formed.

【0026】さらに、絶縁体層18の表面には帯状の第
3電極19が接着されている。この第3電極19には第
1電極13…と第2電極17…とのマトリックスと対応
する部位に開口部19a…が形成されている。この第3
電極19の開口部19a…は絶縁体層18の開口部18
a…および第2電極17…の開口部17a…と連通され
てイオンフロー静電記録ヘッド11のイオン流通過口2
0…が形成されている。
Further, a strip-shaped third electrode 19 is adhered to the surface of the insulating layer 18. The third electrode 19 is provided with openings 19a ... In a portion corresponding to the matrix of the first electrode 13 ... And the second electrode 17. This third
The openings 19 a of the electrode 19 are the openings 18 of the insulator layer 18.
a and the opening portions 17a of the second electrodes 17 ... Are communicated with the ion flow passage opening 2 of the ion flow electrostatic recording head 11.
0 ... is formed.

【0027】そして、イオンフロー静電記録ヘッド11
の動作時には印字信号にもとづいて第1電極13…と第
2電極17…との間のマトリックスが適宜選択され、選
択されたマトリックス部分に対応する第1電極13…と
第2電極17…との間に交流電圧が印加される。
Then, the ion flow electrostatic recording head 11
During the operation of, the matrix between the first electrode 13 ... And the second electrode 17 ... Is appropriately selected based on the print signal, and the first electrode 13 ... And the second electrode 17 ... Corresponding to the selected matrix portion. An alternating voltage is applied between them.

【0028】これにより、選択されたマトリックス部分
に対応する第2電極17…の開口部17a…内の近傍部
位に正・負イオンが発生する。このとき、第2電極17
…と第3電極19との間にはバイアス電圧が印加され、
その極性によって決まるイオンのみが第2電極17…の
開口部17a…内の近傍部位に発生したイオンから抽出
される。
As a result, positive and negative ions are generated in the vicinity of the openings 17a of the second electrodes 17 corresponding to the selected matrix portion. At this time, the second electrode 17
A bias voltage is applied between ... And the third electrode 19,
Only the ions determined by the polarity are extracted from the ions generated in the vicinity of the openings 17a of the second electrodes 17 ...

【0029】そして、抽出されたイオンは絶縁体層18
の開口部18aおよび第3電極19の開口部19a…を
通過し、図示しない誘電体ドラムを局部的に帯電させ
る。したがって、第1電極13…および第2電極17…
の選択的駆動により、誘電体ドラム上にドット潜像を形
成することができる。
Then, the extracted ions are used as the insulator layer 18
Through the openings 18a and the openings 19a of the third electrode 19 to locally charge the dielectric drum (not shown). Therefore, the first electrode 13 ... And the second electrode 17 ...
It is possible to form a dot latent image on the dielectric drum by selectively driving.

【0030】次に、図1(A),(B)のイオンフロー
静電記録ヘッド11の製造方法について詳細に説明す
る。まず、絶縁基板12上に第1電極13…が形成され
る。この場合、絶縁基板12は例えば厚さ100μmの
フレキシブルガラス繊維強化エポキシ基板である。そし
て、この絶縁基板12上に厚さ5μmの銅箔が接着剤な
しにラミネートされたものを、フォトエッチングにより
所定の第1電極13の回路パターンが形成される。
Next, a method of manufacturing the ion flow electrostatic recording head 11 of FIGS. 1A and 1B will be described in detail. First, the first electrodes 13 ... Are formed on the insulating substrate 12. In this case, the insulating substrate 12 is, for example, a flexible glass fiber reinforced epoxy substrate having a thickness of 100 μm. Then, a copper foil having a thickness of 5 μm is laminated on the insulating substrate 12 without an adhesive, and a predetermined circuit pattern of the first electrode 13 is formed by photoetching.

【0031】この時、同時に、第1の電極13…群の両
側に第1の電極13と平行に延設されたダミー電極14
が形成される。このダミー電極14は第1の電極13…
群に対して隣接する一対の第1電極13,12間の間隔
(例えば100μm)以上の間隔(例えば110μm)
を存して配置されている。さらに、ダミー電極14の幅
寸法は第1電極13の幅寸法(例えば110μm)と略
同一に設定されている。
At this time, at the same time, the dummy electrodes 14 extending parallel to the first electrodes 13 on both sides of the first electrode group 13 ...
Is formed. The dummy electrode 14 is the first electrode 13 ...
An interval (for example, 110 μm) or more between the pair of first electrodes 13 and 12 adjacent to the group (for example, 100 μm)
Has been placed. Further, the width dimension of the dummy electrode 14 is set to be substantially the same as the width dimension of the first electrode 13 (for example, 110 μm).

【0032】さらに、第1電極13のパターン間の絶縁
基板12上および第1電極13上、ダミー電極14上に
は誘電体層15が形成される。この誘電体層15の形成
作業時には予め酸化チタンをフィラーとし、シリコーン
変性ポリエステルアルキド樹脂系バインダーからなる誘
電体ペーストが作成される。
Further, a dielectric layer 15 is formed on the insulating substrate 12 between the patterns of the first electrodes 13, the first electrodes 13 and the dummy electrodes 14. During the work of forming the dielectric layer 15, titanium oxide is used as a filler and a dielectric paste made of a silicone-modified polyester alkyd resin-based binder is prepared in advance.

【0033】この誘電体ペーストは絶縁基板12上およ
び第1電極13…上、ダミー電極14上にスクリーン印
刷によって塗布される。さらに、塗布された誘電体ペー
ストは乾燥された後、150℃5時間で硬化され、絶縁
基板12上および第1電極13…上に厚さ33μmの誘
電体層15が形成される。
This dielectric paste is applied by screen printing on the insulating substrate 12, the first electrodes 13, ..., And the dummy electrodes 14. Further, the applied dielectric paste is dried and then cured at 150 ° C. for 5 hours to form a dielectric layer 15 having a thickness of 33 μm on the insulating substrate 12 and the first electrodes 13.

【0034】次に、誘電体層15の表面上に図3に示す
ようにシリコーン系感圧接着剤16を介して第2電極1
7…の電極板が固着される。この第2電極17…は予め
厚さ30μmのステンレス箔にエッチング等で複数の第
2電極17…および各第2電極17の開口部17a…か
らなる電極パターンがそれぞれパターニングされた電極
板によって形成されている。
Next, as shown in FIG. 3, the second electrode 1 is formed on the surface of the dielectric layer 15 via a silicone pressure sensitive adhesive 16.
The electrode plates 7 ... are fixed. The second electrodes 17 ... Are formed by an electrode plate in which a 30 .mu.m thick stainless steel foil is previously patterned by etching or the like to form a plurality of second electrodes 17 ... And an opening 17a of each second electrode 17 is patterned. ing.

【0035】そして、この第2電極17…の電極板は図
1(A)に示すように第2電極17…の各開口部17a
…を複数の第1電極13…に位置合わせした状態で、誘
電体層15上に接着剤16を介して接合される。
The electrode plate of the second electrodes 17 ... As shown in FIG. 1 (A), the openings 17a of the second electrodes 17 ...
Are aligned with the plurality of first electrodes 13 and are joined to the dielectric layer 15 via the adhesive 16.

【0036】さらに、上記絶縁基板12、第2電極17
…およびその開口部17a…内の誘電体層15上に感光
性絶縁フィルム(ソルダーレジスト)が真空ラミネート
され、絶縁体層18が形成される。その後、この絶縁フ
ィルムに通常の感光性フィルムと同様に、露光・現像等
のフォトエッチング処理が施されて複数の第2電極17
…の開口部17a…に対応したイオン流通過用の開口部
18a…が形成される。
Further, the insulating substrate 12 and the second electrode 17 are provided.
, And its openings 17a on the dielectric layer 15 are vacuum laminated with a photosensitive insulating film (solder resist) to form an insulating layer 18. Thereafter, this insulating film is subjected to photoetching treatment such as exposure and development in the same manner as a normal photosensitive film, so that a plurality of second electrodes 17 are formed.
The openings 18a for passing the ion flow are formed corresponding to the openings 17a.

【0037】次に、このように形成された絶縁体層18
の上に例えば厚さ30μm程度のステンレス箔に第2電
極17…の開口部17a…と対応した開口部19a…が
形成された第3電極19がシリコーン系感圧接着剤によ
って接着される。
Next, the insulator layer 18 thus formed
A third electrode 19 in which openings 19a ... Corresponding to the openings 17a of the second electrodes 17 ... Are formed on a stainless steel foil having a thickness of about 30 μm is bonded by a silicone pressure sensitive adhesive.

【0038】この第3電極19の接着作業時には絶縁体
層18の開口部18aと第3電極19の開口部19aと
が位置決めされた状態で第3電極19が絶縁体層18上
に重ね合わされ、イオンフロ−静電記録ヘッド11が製
造される。なお、絶縁体層18と第3電極19とは粘着
剤や両面テープで貼り合わせる他、第3電極19を片面
テープで絶縁体層18に貼り付けてもよい。
At the time of bonding the third electrode 19, the third electrode 19 is superposed on the insulator layer 18 with the opening 18a of the insulator layer 18 and the opening 19a of the third electrode 19 positioned. The ion flow electrostatic recording head 11 is manufactured. The insulator layer 18 and the third electrode 19 may be attached to the insulator layer 18 with a single-sided tape, instead of being attached with an adhesive or a double-sided tape.

【0039】そこで、上記構成のものにあっては第1電
極13…群の両側に、第1電極13と平行に延設された
ダミー電極14を各第1電極13間のそれぞれの間隔以
上の間隔を存して設けたので、イオンフロー静電記録ヘ
ッド11の製造時に絶縁基板12および第1電極13…
上に誘電体ペーストを塗布した際に、この誘電体ペース
トが硬化するまでの間の誘電体ペーストの端縁部位の流
動をダミー電極14上のみで発生させることができる。
Therefore, in the structure described above, dummy electrodes 14 extending parallel to the first electrodes 13 are provided on both sides of the first electrode 13 ... Since the gaps are provided at intervals, the insulating substrate 12 and the first electrode 13 ... When the ion flow electrostatic recording head 11 is manufactured.
When the dielectric paste is applied on top, the flow of the edge portion of the dielectric paste until the dielectric paste is hardened can be generated only on the dummy electrode 14.

【0040】そのため、誘電体ペーストが硬化するまで
の間の誘電体ペーストの端縁部位の流動部分が従来のよ
うに複数の第1電極13…群のうち両側最外部に配置さ
れた第1電極13の部分まで広がることを防止すること
ができるので、従来に比べて第1電極13…群の上の誘
電体層15の厚さを均一化し、第1電極13と第2電極
17との間の距離を均一に確保することができる。した
がって、第1の電極13と第2の電極17との間の距離
をいずれの場所でも均一に保持し、イオン発生量をいず
れの場所でも均一な状態で保持することができるので、
高画質化を図ることができ、かつ静電記録ヘッド1の動
作時における高電圧下での耐久性の向上を図ることがで
きる。
Therefore, the flow portion of the edge portion of the dielectric paste until the dielectric paste is hardened is the first electrode arranged on the outermost side on both sides of the plurality of first electrode 13 ... Since it can be prevented from spreading to the portion of 13, the thickness of the dielectric layer 15 on the first electrode 13 ... Group is made uniform as compared with the conventional case, and the gap between the first electrode 13 and the second electrode 17 is made uniform. It is possible to secure a uniform distance. Therefore, the distance between the first electrode 13 and the second electrode 17 can be kept uniform at any place, and the amount of generated ions can be kept uniform at any place.
It is possible to improve the image quality and improve the durability under high voltage during the operation of the electrostatic recording head 1.

【0041】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではない。例えば、上記実施例において、絶縁基板1
2上に銅箔を用いて第1電極13とダミー電極14を形
成する代わりに、銀系導電性ペーストを用いて第1電極
13とダミー電極14の所定の回路パターンをスクリー
ン印刷により絶縁基板12上に形成させる構成にしても
よい。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above embodiment, the insulating substrate 1
Instead of forming the first electrode 13 and the dummy electrode 14 on the second electrode 13 by using a copper foil, a predetermined circuit pattern of the first electrode 13 and the dummy electrode 14 is screen-printed on the insulating substrate 12 by using a silver-based conductive paste. You may make it the structure formed on it.

【0042】ここで、用いる導電性ペーストは例えばイ
ー・エス・エル・ニッポン製の「1110−S」(商品
名)である。そして、この導電性ペーストは絶縁基板1
2上にスクリーン印刷により塗布された後、150℃
で、5時間硬化させて、15μmの厚さを得るようにな
っている。
The conductive paste used here is, for example, "1110-S" (trade name) manufactured by ESL Nippon. Then, this conductive paste is used as the insulating substrate 1.
2 is applied by screen printing on 2 and then 150 ℃
Then, it is cured for 5 hours to obtain a thickness of 15 μm.

【0043】また、絶縁基板12としてアルミナ基板を
用いるとともに、この絶縁基板12上に金系有機金属導
体ペーストを用いて第1電極13とダミー電極14の所
定の回路パターンをスクリーン印刷により形成させる構
成にしてもよい。ここで、用いる導体ペーストは例えば
イー・エス・エル・ニッポン製の「D−8083」で
(商品名)である。そして、この導電性ペーストは絶縁
基板12上にスクリーン印刷により塗布された後、58
0℃で、10分硬化させて、3μmの厚さを得るように
なっている。
Further, an alumina substrate is used as the insulating substrate 12, and a predetermined circuit pattern of the first electrode 13 and the dummy electrode 14 is formed on the insulating substrate 12 by screen printing using a gold-based organic metal conductor paste. You may The conductor paste used here is, for example, “D-8083” (trade name) manufactured by ESL Nippon. Then, this conductive paste is applied to the insulating substrate 12 by screen printing, and then 58
It is cured at 0 ° C. for 10 minutes to obtain a thickness of 3 μm.

【0044】また、絶縁基板12としてはポリイミドを
用いてもよい。さらに、ダミー電極14の厚さは原則と
して第1電極13と同一に設定されているが、ダミー電
極14の幅や表面の材質によって適宜変えても良い。な
お、電極制御回路上、このダミー電極14に印加電圧を
掛けて他の第1電極13の印加電圧とバランスをとる構
成にしてもよい。
Polyimide may be used as the insulating substrate 12. Furthermore, although the thickness of the dummy electrode 14 is set to be the same as that of the first electrode 13 in principle, it may be appropriately changed depending on the width of the dummy electrode 14 and the surface material. In addition, in the electrode control circuit, a configuration may be adopted in which an applied voltage is applied to the dummy electrode 14 to balance the applied voltage to the other first electrodes 13.

【0045】また、誘電体層15は誘電体粉末、例えば
誘電率の大きい無機物粉末を溶剤を含む有機高分子材料
中、或いはセラミック系バインダー中に分散させたペー
スト状のものを、絶縁基板12上に塗布後、乾燥、硬化
させたものを用いる。ここで、誘電体粉末としては例え
ば酸化チタン、チタン酸バリウム、ジルコン酸鉛等を用
いることができる。但し、誘電体ペーストの粘度が高す
ぎると流動性は小さくできるが表面の平滑性は確保でき
ず、逆に低すぎると表面の平滑性は確保できるが流動性
が大きくなり、第1電極13上の誘電体層14が形成で
きなくなる。従って、目指す厚さを確保できる粘度とす
る必要がある。
As the dielectric layer 15, a dielectric powder, for example, an inorganic powder having a large dielectric constant is dispersed in an organic polymer material containing a solvent or in a ceramic binder, and a paste-like material is formed on the insulating substrate 12. It is used after being applied and dried and cured. Here, as the dielectric powder, for example, titanium oxide, barium titanate, lead zirconate, or the like can be used. However, if the viscosity of the dielectric paste is too high, the fluidity can be reduced but the surface smoothness cannot be ensured. On the contrary, if the viscosity is too low, the surface smoothness can be ensured but the fluidity becomes large, and thus the surface of the first electrode 13 cannot be ensured. The dielectric layer 14 cannot be formed. Therefore, it is necessary to have a viscosity that can secure the desired thickness.

【0046】また、誘電体ペーストの有機高分子材料と
しては熱硬化性アルキド樹脂やエポキシ樹脂等の樹脂成
分を有機溶剤に溶解させたものを、セラミック系バイン
ダーとしては低融点ガラスや水ガラス等を用いることが
できる。さらに、その他本発明の要旨を逸脱しない範囲
で種々変形実施できることは勿論である。
As the organic polymer material of the dielectric paste, a resin component such as thermosetting alkyd resin or epoxy resin dissolved in an organic solvent is used, and as the ceramic binder, low melting glass or water glass is used. Can be used. Furthermore, it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明によれば第1電極群の両側に、第
1電極と平行に延設されたダミー電極を各第1電極間の
それぞれの間隔以上の間隔を存して設けたので、誘電体
ペースト塗布時の流動と広がりを抑え、第1の電極と第
2の電極との間の距離をいずれの場所でも均一にし、イ
オン発生量をいずれの場所でも均一にすることができ、
高画質化および耐久性の向上を図ることができる。
According to the present invention, since the dummy electrodes extending in parallel with the first electrodes are provided on both sides of the first electrode group with a spacing not less than the respective spacings between the first electrodes. , It is possible to suppress the flow and spread at the time of applying the dielectric paste, make the distance between the first electrode and the second electrode uniform at any place, and make the ion generation amount uniform at any place,
Higher image quality and improved durability can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明の一実施例を示すもので、(A)は
イオンフロ−静電記録ヘッドの概略構成を示す要部の縦
断面図、(B)はイオンフロ−静電記録ヘッドの断面斜
視図。
1A and 1B show an embodiment of the present invention, in which FIG. 1A is a longitudinal sectional view of a main part showing a schematic configuration of an ion flow electrostatic recording head, and FIG. 1B is a sectional perspective view of the ion flow electrostatic recording head. Fig.

【図2】 誘電体層の積層状態を示す要部の縦断面図。FIG. 2 is a vertical cross-sectional view of a main part showing a laminated state of dielectric layers.

【図3】 第2電極を誘電体層に接着させた状態を示す
要部の縦断面図。
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of a main part showing a state in which a second electrode is adhered to a dielectric layer.

【図4】 従来のイオンフロ−静電記録ヘッドの概略構
成を示す要部の縦断面図。
FIG. 4 is a vertical cross-sectional view of a main part showing a schematic configuration of a conventional ion flow electrostatic recording head.

【図5】 誘電体層の積層状態を示す要部の縦断面図。FIG. 5 is a vertical cross-sectional view of a main part showing a laminated state of dielectric layers.

【図6】 第2電極を誘電体層に接着させた状態を示す
要部の縦断面図。
FIG. 6 is a vertical cross-sectional view of a main part showing a state in which a second electrode is bonded to a dielectric layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12…絶縁基板,13…第1電極,14…ダミー電極,
15…誘電体層,17…第2電極,18…絶縁体層,1
9…第3電極。
12 ... Insulating substrate, 13 ... First electrode, 14 ... Dummy electrode,
15 ... Dielectric layer, 17 ... Second electrode, 18 ... Insulator layer, 1
9 ... Third electrode.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁基板上に一方向にかつ平行に延設さ
れた複数の第1電極と、この第1電極と交差する方向に
延設され、前記第1電極とともにマトリックスを形成
し、このマトリックスに対応する部位に開口部が形成さ
れた複数の第2電極と、この第2電極に対し前記第1電
極とは反対側に配置され、前記マトリックスに対応する
部位に開口部が形成された第3電極と、前記第1電極と
第2電極との間に設けられた誘電体層と、前記第2電極
と第3電極との間に設けられ、前記マトリックスに対応
する部位に開口部が形成された絶縁体層とを具備するイ
オンフロー静電記録ヘッドにおいて、前記第1電極群の
両側に、前記第1電極と平行に延設されたダミー電極を
前記各第1電極間のそれぞれの間隔以上の間隔を存して
設けたことを特徴とするイオンフロー静電記録ヘッド。
1. A plurality of first electrodes extending in one direction and in parallel on an insulating substrate, and a plurality of first electrodes extending in a direction intersecting with the first electrodes to form a matrix together with the first electrodes. A plurality of second electrodes each having an opening formed in a portion corresponding to the matrix, and the second electrode being disposed on the side opposite to the first electrode, and having an opening formed in the portion corresponding to the matrix. A third electrode, a dielectric layer provided between the first electrode and the second electrode, and an opening portion provided between the second electrode and the third electrode and corresponding to the matrix. In an ion flow electrostatic recording head including a formed insulator layer, dummy electrodes extending parallel to the first electrodes are provided on both sides of the first electrode group between the first electrodes. Characterized by being provided with an interval larger than the interval Ion flow electrostatic recording head.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0770491A1 (en) * 1995-10-26 1997-05-02 Hewlett-Packard Company Address electrode structure for toner projection printer
JP2008047786A (en) * 2006-08-21 2008-02-28 Fuji Electric Device Technology Co Ltd Insulating film forming method

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