JPH05124253A - Ion flow electrostatic recording head - Google Patents
Ion flow electrostatic recording headInfo
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- JPH05124253A JPH05124253A JP28997991A JP28997991A JPH05124253A JP H05124253 A JPH05124253 A JP H05124253A JP 28997991 A JP28997991 A JP 28997991A JP 28997991 A JP28997991 A JP 28997991A JP H05124253 A JPH05124253 A JP H05124253A
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- Japan
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- electrode
- electrodes
- dielectric layer
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- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
- Electrophotography Using Other Than Carlson'S Method (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は例えば静電記録装置で
使用されるイオンフロー静電記録ヘッドに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ion flow electrostatic recording head used in, for example, an electrostatic recording device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に、例えば静電印刷等の技術分野で
は高電流密度のイオンを発生させ、これを抽出して選択
的に被帯電部材に付与してこの被帯電部材を画像状に帯
電させる静電記録装置が知られている。2. Description of the Related Art Generally, in the technical field of electrostatic printing, for example, ions of high current density are generated, and these ions are extracted and selectively applied to a member to be charged to charge the member to be imaged. Electrostatic recording devices are known.
【０００３】この静電記録装置に用いられる静電記録ヘ
ッドは誘電体層とその誘電体層の一方の側に固着され、
第１の方向に伸びる複数の第１電極と、誘電体層の他方
の側に固着され、第１電極の伸び方向と交差する方向に
伸びる複数の第２電極とを有し、複数の第１電極と複数
の第２電極とでマトリックスを構成する。An electrostatic recording head used in this electrostatic recording apparatus is fixed to a dielectric layer and one side of the dielectric layer,
A plurality of first electrodes extending in the first direction and a plurality of second electrodes fixed to the other side of the dielectric layer and extending in a direction intersecting the extension direction of the first electrodes; The electrode and the plurality of second electrodes form a matrix.
【０００４】このマトリックスの選択された部分に対応
する第１電極と第２電極との間に交互に高電圧を印加す
ることにより、その部分に対向する第２電極の近傍に正
・負のイオンが発生する。この発生したイオンを選択的
に抽出して被帯電部材を帯電させることができる。した
がって、マトリックス構造の電極を選択的に駆動するこ
とにより、ドットによる静電記録を行なうことができ
る。By alternately applying a high voltage between the first electrode and the second electrode corresponding to the selected portion of this matrix, positive and negative ions are generated in the vicinity of the second electrode facing the portion. Occurs. The generated ions can be selectively extracted to charge the member to be charged. Therefore, electrostatic recording by dots can be performed by selectively driving the electrodes having a matrix structure.
【０００５】ところで、イオンフロー静電記録ヘッドの
動作時には誘電体層の表面で放電現象を生じさせている
ので、イオンフロー静電記録ヘッドの駆動中はこの誘電
体層の表面は高電圧の放電中にさらされることになる。By the way, since a discharge phenomenon is caused on the surface of the dielectric layer during operation of the ion flow electrostatic recording head, the surface of the dielectric layer is discharged at a high voltage during driving of the ion flow electrostatic recording head. Will be exposed inside.
【０００６】ここで、使用される誘電体層を形成する誘
電物質はイオン発生のために印加される高電圧でも絶縁
破壊しないことが要求される。また、イオンの発生を効
率よくするため、高い誘電率を持つものが適している。
そして、高電位差がかかり誘電体表面で放電現象を発生
させるため高い耐コロナ性も要求される。Here, it is required that the dielectric material used for forming the dielectric layer does not cause dielectric breakdown even at a high voltage applied to generate ions. Further, in order to efficiently generate ions, one having a high dielectric constant is suitable.
Further, since a high potential difference is applied to cause a discharge phenomenon on the surface of the dielectric, high corona resistance is also required.
【０００７】そこで、例えば、特開平２−１５３７６０
号公報ではこのイオンフロー静電記録ヘッドの誘電体層
の材料としてシリコーン変性ポリエステルアルキド樹脂
中に酸化チタンの粉末を混在させたものを使用してい
る。Therefore, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2-153760.
In the publication, as a material for the dielectric layer of this ion flow electrostatic recording head, a material in which titanium oxide powder is mixed in a silicone-modified polyester alkyd resin is used.
【０００８】また、イオンフロー静電記録ヘッドの第２
電極の材料としてはステンレス鋼が使用され、この第２
電極を誘電体層に固着する接着剤としては粘着剤である
シリコーン系の感圧接着剤が用いられている。A second ion flow electrostatic recording head is also provided.
Stainless steel is used as the material for the electrodes.
Silicone pressure-sensitive adhesive, which is an adhesive, is used as an adhesive for fixing the electrodes to the dielectric layer.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】特開平２−１５３７６
０号公報のように第２電極を誘電体層に固着する接着剤
として使用されているシリコーン系の粘着剤は剥離力に
対しては強いが剪断力には弱い特性がある。そのため、
このシリコーン系の粘着剤を第２電極を誘電体層に固着
する接着剤として使用した場合には後加工や使用上の
熱、または機械的応力による剪断力に十分に耐えること
ができないので、第１電極と第２電極との間に位置ずれ
が発生し、このイオンフロー静電記録ヘッドを用いて画
像を形成する場合に画像が低下する問題があった。Problems to be Solved by the Invention JP-A-2-15376
The silicone-based pressure-sensitive adhesive used as an adhesive for fixing the second electrode to the dielectric layer as disclosed in JP-A No. 0-133 is strong against peeling force but weak against shearing force. for that reason,
When this silicone adhesive is used as an adhesive for fixing the second electrode to the dielectric layer, it cannot withstand heat due to post-processing or use, or shear force due to mechanical stress. There is a problem that a positional deviation occurs between the first electrode and the second electrode, and the image deteriorates when an image is formed using this ion flow electrostatic recording head.
【００１０】また、この誘電体層の表面と第２電極１本
毎の接着面積は数平方ミリ程度であり、この微小面積の
第２電極を位置ずれが起こらないように定位置に固定
し、熱的および機械的な後加工工程中や使用中の熱的経
時変化に耐えるようにするためには粘着剤の粘着力より
も接着力が強い接着剤を使用する必要がある。Further, the surface area of the dielectric layer and the bonding area of each second electrode are about several square millimeters, and the second electrode having a very small area is fixed at a fixed position so as not to be displaced. In order to withstand thermal aging during thermal and mechanical post-processing steps and during use, it is necessary to use an adhesive that has a stronger adhesion than the adhesive.
【００１１】さらに、第２電極には１００μｍ程度の大
きさの小孔からなる開口部が数千個程度形成されている
ので、これらの開口部以外の場所に選択的に接着剤を塗
布して第２電極を誘電体層に接着することは困難であっ
た。Further, since the second electrode is formed with several thousands of openings consisting of small holes each having a size of about 100 μm, an adhesive is selectively applied to a place other than these openings. It was difficult to bond the second electrode to the dielectric layer.
【００１２】そのため、第２電極を誘電体層に接着する
接着作業時には接着剤を介して第２電極と誘電体層との
間を貼り合わせた後、第２電極の開口部内に付着してい
る余分な接着剤を洗浄によって除去することが必要にな
る。Therefore, at the time of the bonding work for bonding the second electrode to the dielectric layer, the second electrode and the dielectric layer are bonded to each other with an adhesive and then adhered in the opening of the second electrode. Excess adhesive needs to be removed by washing.
【００１３】しかしながら、第２電極に形成されている
１００μｍ程度の微小な大きさの数千個程度の多数の開
口部内を洗浄する場合にはその洗浄作業中に各開口部内
に残留する余分な接着剤のみでなく、各開口部の周辺の
接着剤も一緒に削られてしまうので、第２電極における
各開口部の周辺の第１電極側の表面に金属面がむき出し
状態で露出されてしまうアンダーカット部が形成される
問題があった。この場合、第２電極の各開口部は第１電
極側の表面から他面側の表面まで開口面積が略同一な状
態で形成されているが、第２電極の各開口部が１００μ
ｍ程度の微小な大きさに形成されているので、第２電極
の各開口部の洗浄作業中、洗浄液の流れ具合の変化等に
よって第２電極の各開口部に形成されるアンダーカット
部の大きさにばらつきが発生するおそれがあった。However, when the inside of a large number of thousands of openings of a minute size of about 100 μm formed on the second electrode is cleaned, excess adhesive remaining in each opening during the cleaning operation is performed. Not only the agent but also the adhesive around each opening is scraped together, so that the metal surface is exposed in a bare state on the surface of the second electrode near the first electrode around each opening. There was a problem that the cut portion was formed. In this case, each opening of the second electrode is formed in a state where the opening area is substantially the same from the surface on the first electrode side to the surface on the other side, but each opening of the second electrode is 100 μm.
Since it is formed in a minute size of about m, the size of the undercut portion formed in each opening of the second electrode during the cleaning operation of each opening of the second electrode due to changes in the flow condition of the cleaning liquid and the like. There is a possibility that variations may occur.
【００１４】また、金属面がむき出し状態で露出されて
いるアンダーカット部の部分と接着剤に覆われた部分と
では放電に寄与する電流密度が異なるので、アンダーカ
ット部の大きさにばらつきが発生した場合には第２電極
の各開口部からのイオン発生量がばらつき、イオンの発
生が不安定になるおそれがあった。そのため、このイオ
ンフロー静電記録ヘッドを用いて画像を形成する場合に
は画像にむらが生じ、安定した均質の画像が得られない
問題があった。Further, since the current density contributing to the discharge is different between the undercut portion where the metal surface is exposed and the portion covered with the adhesive, the size of the undercut portion varies. In that case, the amount of ions generated from each opening of the second electrode may vary, and the generation of ions may become unstable. Therefore, when an image is formed using this ion flow electrostatic recording head, there is a problem in that the image becomes uneven and a stable and homogeneous image cannot be obtained.
【００１５】この発明は上記事情に着目してなされたも
ので、その目的は、熱的および機械的な後加工工程中や
使用中の熱的経時変化による第２電極の位置ずれを防止
することができるとともに、第２電極の各開口部からの
イオン発生量を均一化することができ、画像にむらがな
く、安定した均質の画像を得ることができるイオンフロ
ー静電記録ヘッドを提供することにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to prevent displacement of the second electrode due to thermal aging during thermal and mechanical post-processing steps and during use. Provided is an ion flow electrostatic recording head capable of uniforming the amount of ions generated from each opening of the second electrode and obtaining a stable and homogeneous image without unevenness in the image. It is in.
【００１６】[0016]
【課題を解決するための手段】この発明は絶縁基板上に
同方向に略直線状に延設され、略平行に並設された複数
の第１電極と、これらの第１電極と交差する方向に延設
され、前記第１電極とともにマトリックスを形成し、こ
のマトリックスに対応する部位に開口部が形成された複
数の第２電極と、この第２電極に対して前記第１電極と
は反対側に配置され、前記マトリックスに対応する部位
に開口部が形成された第３電極と、前記第１電極と第２
電極との間に設けられた誘電体層と、前記第２電極と第
３電極との間に設けられ、前記マトリックスに対応する
部位に開口部が形成された絶縁体層とを備えたイオンフ
ロー静電記録ヘッドにおいて、金属箔に前記第２電極の
パターンをエッチングさせて形成された前記第２電極の
前記開口部における前記誘電体層との接合面側に前記開
口部よりも開口面積が大きいハーフエッチ部を設けると
ともに、前記第２電極と前記誘電体層との接合面に嫌気
性接着剤による接着面を設けたものである。SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, a plurality of first electrodes extending in a substantially straight line in the same direction on an insulating substrate and arranged side by side substantially in parallel, and a direction intersecting these first electrodes. A plurality of second electrodes extending in the same direction and forming a matrix together with the first electrode, and having openings formed at portions corresponding to the matrix, and a side opposite to the first electrode with respect to the second electrode. And a third electrode having an opening formed in a portion corresponding to the matrix, the first electrode and the second electrode.
An ion flow including a dielectric layer provided between an electrode and an insulator layer provided between the second electrode and the third electrode and having an opening formed in a portion corresponding to the matrix. In the electrostatic recording head, the opening area of the opening of the second electrode formed by etching the pattern of the second electrode on the metal foil is larger than that of the opening on the side of the joint surface with the dielectric layer. A half-etched portion is provided, and an adhesive surface formed by an anaerobic adhesive is provided on the joint surface between the second electrode and the dielectric layer.
【００１７】[0017]
【作用】上記の構成において、第２電極と誘電体層との
接合面をシリコーン系の感圧接着剤よりも接着力が強い
嫌気性接着剤によって接着させることにより、熱的およ
び機械的な後加工工程中や使用中の熱的経時変化による
第２電極の位置ずれを防止するとともに、第２電極の開
口部における誘電体層との接合面側のハーフエッチ部に
よって予め一定のアンダーカット部を設けておくことに
より、第２電極を誘電体層に接着する接着作業時に接着
剤を介して第２電極と誘電体層との間を貼り合わせた
後、第２電極の開口部内に付着している余分な接着剤を
洗浄によって除去する際に、第２電極の各開口部に形成
されるアンダーカット部の大きさにばらつきが発生する
ことを防止して第２電極の各開口部からのイオン発生量
を均一化して安定にイオンを発生させるようにしたもの
である。In the above structure, the anaerobic adhesive, which has a stronger adhesive force than the silicone pressure-sensitive adhesive, is used to bond the bonding surface between the second electrode and the dielectric layer. The second electrode is prevented from being displaced due to thermal aging during the working process or during use, and a constant undercut portion is previously formed by the half-etched portion of the opening of the second electrode on the side of the joint surface with the dielectric layer. By providing the second electrode to the dielectric layer, the second electrode and the dielectric layer are bonded to each other with an adhesive during the bonding work for bonding the second electrode to the dielectric layer, and then the second electrode is attached to the opening of the second electrode. When the excess adhesive present is removed by cleaning, it is possible to prevent variations in the size of the undercut portions formed in the openings of the second electrode and to prevent the ions from the openings of the second electrode from varying. Stabilizes the amount generated It is obtained by the on so as to generate.
【００１８】[0018]
【実施例】以下、本発明の第１の実施例について図１乃
至図３を参照して説明する。図１（Ａ），（Ｂ）は静電
記録装置で使用されるイオンフロー静電記録ヘッド１の
要部の概略構成を示すもので、２はイオン発生部、３は
イオン流制御部である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1A and 1B show a schematic configuration of a main part of an ion flow electrostatic recording head 1 used in an electrostatic recording apparatus, 2 is an ion generating unit, and 3 is an ion flow control unit. ..
【００１９】イオン発生部２にはイオン発生用の複数の
第１電極４…と複数の第２電極５…とが設けられてお
り、これらの第１電極４…と第２電極５…との間には誘
電体からなる誘電体層６が配設されている。A plurality of first electrodes 4 for generating ions and a plurality of second electrodes 5 for ion generation are provided in the ion generating section 2, and these first electrodes 4 ... And second electrodes 5 ... A dielectric layer 6 made of a dielectric material is disposed between them.
【００２０】なお、静電記録ヘッド１には絶縁基板７が
設けられており、この絶縁基板７上に一方向に延びる複
数の第１電極４…が略平行に並設されている。また、誘
電体層６は絶縁基板７における第１電極４…の配設面側
に設けられている。The electrostatic recording head 1 is provided with an insulating substrate 7, and a plurality of first electrodes 4 ... Which extend in one direction are arranged in parallel on the insulating substrate 7. The dielectric layer 6 is provided on the surface of the insulating substrate 7 on which the first electrodes 4 are arranged.
【００２１】さらに、複数の第２電極５…は誘電体層６
における絶縁基板７とは反対側の面に第１電極４…と交
差する方向に並設させた状態で嫌気性接着剤Ｓによって
固着されており、第１電極４…と第２電極５…とによっ
てマトリックスが構成されている。そして、第２電極５
…にはこのマトリックスと対応する部位にそれぞれ開口
部５ａ…が形成されている。Further, the plurality of second electrodes 5 ...
Is fixed to the surface opposite to the insulating substrate 7 by the anaerobic adhesive S in a state of being juxtaposed in a direction intersecting with the first electrodes 4 ... The matrix is composed of. And the second electrode 5
.. are formed with openings 5a ..
【００２２】また、各第２電極５の開口部５ａには図２
に示すように誘電体層６との接合面側（図２中で下面
側）にこの開口部５ａよりも開口面積が大きいハーフエ
ッチ部５ｂが形成されている。The opening 5a of each second electrode 5 has a structure shown in FIG.
As shown in FIG. 3, a half-etched portion 5b having an opening area larger than that of the opening 5a is formed on the side of the surface to be joined with the dielectric layer 6 (the lower surface side in FIG. 2).
【００２３】一方、イオン流制御部３には第２電極５…
に対して第１電極４…とは反対側に配置された帯状の第
３電極８が設けられている。この第３電極８には第１電
極４…と第２電極５…とのマトリックスと対応する部位
に開口部８ａ…が形成されている。さらに、第２電極５
…と第３電極８との間には絶縁体層９が配設されてい
る。この絶縁体層９には第２電極５…および第３電極８
の各開口部５ａ…、８ａ…と対応する部位に開口部９ａ
が形成されている。On the other hand, the ion flow controller 3 has a second electrode 5 ...
On the other hand, a strip-shaped third electrode 8 arranged on the side opposite to the first electrodes 4 is provided. The third electrode 8 is provided with openings 8a at positions corresponding to the matrix of the first electrodes 4 and the second electrodes 5. Further, the second electrode 5
An insulating layer 9 is provided between the ... And the third electrode 8. The insulating layer 9 has the second electrode 5 ... And the third electrode 8
, 8a ..., and the openings 9a are formed at the portions corresponding to the openings 5a.
Are formed.
【００２４】そして、イオンカートリッジ１の動作時に
は印字信号にもとづいて第１電極４…と第２電極５…と
の間のマトリックスが適宜選択され、選択されたマトリ
ックス部分に対応する第１電極４…と第２電極５…との
間に交流電圧が印加される。これにより、選択されたマ
トリックス部分に対応する第２電極５…の開口部５ａ…
内の近傍部位に正負イオンが発生する。このとき、第２
電極５…と第３電極８との間にはバイアス電圧が印加さ
れ、その極性によって決まるイオンのみが第２電極５…
の開口部５ａ…内の近傍部位に発生したイオンから抽出
される。そして、抽出されたイオンは絶縁体層９の開口
部９ａおよび第３電極８の開口部８ａ…を通過し、図示
しない誘電体ドラムを局部的に帯電させる。したがっ
て、第１電極４…および第２電極５…の選択的駆動によ
り、誘電体ドラム上にドット潜像を形成することができ
る。During the operation of the ion cartridge 1, the matrix between the first electrodes 4 ... And the second electrodes 5 ... Is appropriately selected based on the print signal, and the first electrodes 4 ... Corresponding to the selected matrix portion. AC voltage is applied between the second electrode 5 and the second electrode 5. As a result, the openings 5a ... Of the second electrodes 5 ... Corresponding to the selected matrix portion.
Positive and negative ions are generated in the vicinity of the inside. At this time, the second
A bias voltage is applied between the electrodes 5 ... And the third electrode 8, and only the ions determined by the polarity of the bias voltage ...
Are extracted from the ions generated in the vicinity of the openings 5a ... Then, the extracted ions pass through the openings 9a of the insulating layer 9 and the openings 8a of the third electrode 8 to locally charge a dielectric drum (not shown). Therefore, a dot latent image can be formed on the dielectric drum by selectively driving the first electrode 4 ... And the second electrode 5.
【００２５】次に、上記イオンフロー静電記録ヘッド１
の製造方法について詳細に説明する。まず、絶縁基板７
は厚さ１００μｍのガラス−エポキシＦＲＰ（繊維強化
プラスチック基板）板によって形成されている。この絶
縁基板７に厚さ１８μｍの銅箔を一体に貼り付けた電気
基板を準備し、この電気基板にエッチング加工でパター
ニングし、絶縁基板７上に一方向に延びる複数の第１電
極４…を回路形成させる。このように絶縁基板７上に第
１電極４…を回路形成したのち、絶縁基板７を洗浄し、
乾燥させる。Next, the ion flow electrostatic recording head 1 described above is used.
The manufacturing method will be described in detail. First, the insulating substrate 7
Is formed of a glass-epoxy FRP (fiber reinforced plastic substrate) plate having a thickness of 100 μm. An electric substrate is prepared by integrally adhering a copper foil having a thickness of 18 μm to this insulating substrate 7, and the electric substrate is patterned by etching to form a plurality of first electrodes 4 ... Which extend in one direction on the insulating substrate 7. Form a circuit. After forming the circuit of the first electrodes 4 on the insulating substrate 7 in this manner, the insulating substrate 7 is washed,
dry.
【００２６】さらに、絶縁基板７および第１電極４…上
に誘電体層６を形成する。この誘電体層６の形成時には
酸化チタンをフィラーとし、シリコーン変性アルキド樹
脂をバインダーとした誘電体ペーストを作成する。Further, the dielectric layer 6 is formed on the insulating substrate 7 and the first electrodes 4. At the time of forming the dielectric layer 6, a dielectric paste using titanium oxide as a filler and a silicone-modified alkyd resin as a binder is prepared.
【００２７】次に、絶縁基板７および第１電極４…上に
例えばメタルマスク版を用いてスクリーン印刷機によ
り、誘電体ペーストを印刷して塗布する。続いて、スク
リーン印刷された誘電体ペーストを乾燥させたのち、加
熱硬化させることにより、図３（Ａ）に示すように例え
ば厚さ３３μｍ程度の誘電体層６が形成される。Next, a dielectric paste is printed and applied on the insulating substrate 7 and the first electrodes 4 by a screen printer using a metal mask plate, for example. Subsequently, the screen-printed dielectric paste is dried and then heat-cured to form a dielectric layer 6 having a thickness of, for example, about 33 μm as shown in FIG.
【００２８】また、この誘電体層６の上に第２電極５…
が嫌気性アクリル系接着剤Ｓを介して接着される。この
場合、第２電極５…は予め例えば厚さ３０μｍ程度のス
テンレス箔をフォトエッチング等で複数の第２電極５…
および各第２電極５の開口部５ａがそれぞれパターニン
グされた電極板によって形成されている。ここで、各第
２電極５の開口部５ａは図２に示すように直径Ｌ1 が１
３０μｍに形成されている。On the dielectric layer 6, the second electrodes 5 ...
Are bonded via the anaerobic acrylic adhesive S. In this case, the second electrodes 5 ... Are made of a plurality of second electrodes 5 ...
The openings 5a of the respective second electrodes 5 are formed by patterned electrode plates. Here, the opening 5a of each second electrode 5 has a diameter L 1 of 1 as shown in FIG.
It is formed to 30 μm.
【００２９】さらに、この電極板は第２電極５…および
各第２電極５の開口部５ａがそれぞれパターニングされ
て形成された後、各第２電極５の開口部５ａにおける誘
電体層６との接合面側の開口部５ａの外周にフォトエッ
チング等で幅Ｌ2 が３０μｍ以上、深さＬ3 が３〜１０
μｍのハーフエッチ部５ｂが形成される。Further, this electrode plate is formed by patterning the second electrodes 5 and the openings 5a of the respective second electrodes 5, and then forming the dielectric layer 6 in the openings 5a of the respective second electrodes 5. The width L 2 is 30 μm or more and the depth L 3 is 3 to 10 on the outer periphery of the opening 5a on the bonding surface side by photoetching or the like.
A half-etched portion 5b of μm is formed.
【００３０】なお、各第２電極５のハーフエッチ部５ｂ
は予め両面ウェットエッチングで各第２電極５の誘電体
層６との接合面側の表面およびその反対側の表面にそれ
ぞれ同径の開口部５ａを形成した後、開口芯を合わせて
誘電体層６との接合面側のみ片面ウェットエッチングを
施すことにより形成することができるが、他の形成方法
として両面ウェットエッチングで各第２電極５の誘電体
層６との接合面側の表面およびその反対側の表面にそれ
ぞれ異径の開口部を形成することにより、開口部５ａお
よびハーフエッチ部５ｂを同時に形成することも可能で
ある。The half-etched portion 5b of each second electrode 5
Is formed in advance by double-sided wet etching on the surface of each second electrode 5 on the side of the surface to be joined to the dielectric layer 6 and on the surface on the opposite side thereof, and then the opening cores are aligned and the dielectric layer is aligned. 6 can be formed by performing one-sided wet etching only on the joint surface side with 6, but as another forming method, double-sided wet etching can be used to form the second electrode 5 on the joint surface side with the dielectric layer 6 and vice versa. It is also possible to form the openings 5a and the half-etched portions 5b at the same time by forming openings of different diameters on the side surface.
【００３１】また、嫌気性アクリル系接着剤Ｓはトルエ
ンで４倍に希釈したものを、誘電体層６および絶縁基板
７の上にスプレーまたはディッピング等の手段で塗布す
る。そして、塗布された嫌気性アクリル系接着剤Ｓを例
えば７０℃で５分間加熱し、溶剤分を揮発・乾燥させた
のち、図３（Ｂ）に示すようにこの電極板の第２電極５
…の開口部５ａ…を複数の第１電極４…に位置合わせさ
せた状態で第２電極５…がこの嫌気性アクリル系接着剤
Ｓを介して誘電体層６上に接着される。The anaerobic acrylic adhesive S diluted four times with toluene is applied onto the dielectric layer 6 and the insulating substrate 7 by spraying or dipping. Then, the applied anaerobic acrylic adhesive S is heated, for example, at 70 ° C. for 5 minutes to volatilize and dry the solvent, and then, as shown in FIG.
The second electrodes 5 are adhered to the dielectric layer 6 via the anaerobic acrylic adhesive S with the openings 5a of ... Are aligned with the plurality of first electrodes 4.
【００３２】この後、誘電体層６上に第２電極５…が接
着された積層体をアセトン溶媒中で、１分間振盪させて
第２電極５…の開口部５ａ…内に残留した余分な嫌気性
アクリル系接着剤Ｓの洗浄作業が行なわれる。After that, the laminated body in which the second electrodes 5 are adhered on the dielectric layer 6 is shaken in an acetone solvent for 1 minute, and an extra portion left in the openings 5a of the second electrodes 5 is left. The cleaning operation of the anaerobic acrylic adhesive S is performed.
【００３３】さらに、この洗浄作業の終了後、第２電極
５…と誘電体層６および絶縁基板７との間に挟まれた嫌
気性アクリル系接着剤Ｓを１３０℃の熱板上で１０分
間、８kg／cm2 の荷重下で加熱硬化させる。Further, after the completion of this cleaning operation, the anaerobic acrylic adhesive S sandwiched between the second electrodes 5, ... And the dielectric layer 6 and the insulating substrate 7 is placed on a hot plate at 130 ° C. for 10 minutes. And heat cure under a load of 8 kg / cm 2 .
【００３４】なお、嫌気性接着剤Ｓとしてはアクリル
系、シリコーン系の接着剤が一般的であるが、主鎖、側
鎖の末端にビニル基を有し、過酸化物を混在させた系で
あれば他の樹脂系の接着剤でもよい。As the anaerobic adhesive S, acrylic and silicone adhesives are generally used. However, the anaerobic adhesive S has a vinyl group at the ends of the main chain and side chains and a mixture of peroxides. Other resin-based adhesives may be used as long as they are present.
【００３５】続いて、この第２電極５…および誘電体層
６の上に絶縁体層９を形成する例えば厚さ１００μｍ程
度の感光性絶縁フィルム（ソルダーレジスト）を真空ラ
ミネートする。さらに、この感光性絶縁フィルムに露光
・現像等のフォトエッチング処理を施して複数の第２電
極５…の開口部５ａ…と対応した開口部９ａを形成す
る。Subsequently, a photosensitive insulating film (solder resist) having a thickness of, for example, about 100 μm for forming an insulating layer 9 on the second electrodes 5 ... And the dielectric layer 6 is vacuum laminated. Further, the photosensitive insulating film is subjected to photoetching treatment such as exposure and development to form openings 9a corresponding to the openings 5a of the plurality of second electrodes 5.
【００３６】さらに、このように形成された絶縁体層９
の上に例えば厚さ３０μｍ程度のステンレス箔に第２電
極５…の開口部５ａ…と対応した開口部８ａ…が形成さ
れた第３電極８が接合される。この場合、第３電極８が
その開口部８ａ…を第２電極５…の開口部５ａ…と対応
させた状態で位置決めして重ね合わされることにより、
イオンフロ−静電記録ヘッド１が製造される。なお、絶
縁体層９と第３電極８とは粘着剤や両面テープで貼り合
わせる他、第３電極８を片面テープで絶縁体層９に押さ
え付ける構成にしてもよい。Further, the insulating layer 9 thus formed
A third electrode 8 having openings 8a ... Corresponding to the openings 5a of the second electrodes 5 ... Is joined to the stainless foil having a thickness of, for example, about 30 .mu.m. In this case, the third electrode 8 is positioned and overlapped with the openings 8a ... In correspondence with the openings 8a of the second electrodes 5 ,.
The ion flow electrostatic recording head 1 is manufactured. The insulator layer 9 and the third electrode 8 may be attached to each other with an adhesive or a double-sided tape, or the third electrode 8 may be pressed against the insulator layer 9 with a single-sided tape.
【００３７】そこで、上記構成のものにあっては第２電
極５…と誘電体層６との間の接合面をシリコーン系の感
圧接着剤よりも接着力が強い嫌気性接着剤Ｓによって接
着させたので、熱的および機械的な後加工工程中や使用
中の熱的経時変化による第２電極５…の位置ずれを防止
することができる。Therefore, in the case of the above-mentioned structure, the bonding surface between the second electrodes 5 ... And the dielectric layer 6 is bonded by the anaerobic adhesive S having a stronger adhesive force than the silicone pressure sensitive adhesive. As a result, it is possible to prevent the positional deviation of the second electrodes 5 due to a thermal change with time during a thermal and mechanical post-processing step or during use.
【００３８】さらに、第２電極５…の開口部５ａ…にお
ける誘電体層６との接合面側にこの開口部５ａよりも開
口面積が大きいハーフエッチ部５ｂを形成し、このハー
フエッチ部５ｂによって予め一定のアンダーカット部を
設けたので、第２電極５…を誘電体層６に接着する接着
作業時に接着剤Ｓを介して第２電極５…と誘電体層６と
の間を貼り合わせた後、第２電極５…の開口部５ａ…内
に付着している余分な接着剤Ｓをアセトン洗浄によって
除去する際に、第２電極５の各開口部５ａに形成される
アンダーカット部の大きさにばらつきが発生することを
防止することができる。Further, a half-etched portion 5b having an opening area larger than that of the opening 5a is formed on the side of the opening 5a of the second electrode 5 which is to be joined to the dielectric layer 6, and this half-etched portion 5b is used. Since a certain undercut portion is provided in advance, the second electrode 5 and the dielectric layer 6 are bonded to each other via the adhesive S during the bonding work for bonding the second electrode 5 and the dielectric layer 6. The size of the undercut portion formed in each opening 5a of the second electrode 5 when the excess adhesive S adhering to the inside of the opening 5a of the second electrode 5 is removed by washing with acetone. It is possible to prevent variation in the height.
【００３９】そのため、従来に比べて第２電極５…の各
開口部５ａからのイオン発生量を均一化して安定にイオ
ンを発生させることができるので、イオンフロー静電記
録ヘッド１を用いて画像を形成する場合に画像にむらが
なく、安定した均質の画像を得ることができる。Therefore, compared with the conventional case, the amount of ions generated from each opening 5a of the second electrode 5 can be made uniform and ions can be generated stably, so that the image can be generated using the ion flow electrostatic recording head 1. When forming the image, there is no unevenness in the image, and a stable and homogeneous image can be obtained.
【００４０】また、上記構成のイオンフロー静電記録ヘ
ッド１の各第２電極５の開口部５ａが直径Ｌ1 が１３０
μｍに形成されている場合には、ハーフエッチ部５ｂは
誘電体層６との接合面側の開口部５ａの外周に幅Ｌ2 が
３０μｍ以上、深さＬ3 が３〜１０μｍに形成すること
が望ましい。Further, the opening 5a of each second electrode 5 of the ion flow electrostatic recording head 1 having the above structure has a diameter L 1 of 130.
When the half-etched portion 5b is formed to have a width L 2 of 30 μm or more and a depth L 3 of 3 to 10 μm, the half-etched portion 5b is formed on the outer periphery of the opening 5a on the side of the surface to be joined to the dielectric layer 6. Is desirable.
【００４１】ここで、ハーフエッチ部５ｂの深さＬ3 が
３μｍ未満では本発明の効果が期待できず、１０μｍを
超える場合にはハーフエッチ部５ｂの内部空間での洗浄
液の流れが激しくなるので、洗浄作業中に各開口部５ａ
内に残留する余分な接着剤Ｓのみでなく、各開口部５ａ
の周辺の接着剤Ｓも一緒に削られ、アンダーカット部が
さらに拡大される上、第２電極５の厚さが薄くなり、剛
性が低下する問題がある。したがって、ハーフエッチ部
５ｂの深さＬ3 は第２電極５の厚さの１０％以上、１／
３以下程度である３〜１０μｍに設定することが好まし
い。Here, if the depth L 3 of the half-etched portion 5b is less than 3 μm, the effect of the present invention cannot be expected, and if it exceeds 10 μm, the flow of the cleaning liquid in the internal space of the half-etched portion 5b becomes violent. , Each opening 5a during cleaning work
Not only the extra adhesive S remaining inside, but also each opening 5a
There is a problem that the adhesive S around the is also shaved together, the undercut portion is further enlarged, and the thickness of the second electrode 5 becomes thin, and the rigidity is reduced. Therefore, the depth L 3 of the half-etched portion 5b is 10% or more of the thickness of the second electrode 5, 1 /
It is preferably set to 3 to 10 μm, which is about 3 or less.
【００４２】また、ハーフエッチ部５ｂの大きさは誘電
体層６との接合面側の開口部５ａの外周に幅Ｌ2 が３０
μｍ未満に形成しても本発明の効果が期待できない。な
お、開口部５ａの外周の幅Ｌ2 が大きすぎると隣接する
隣のハーフエッチ部５ｂとの間隔が小さくなり、第２電
極５の接着面積の減少により、第２電極５の接着強度が
極端に低下する問題がある。そのため、隣接する隣のハ
ーフエッチ部５ｂとの間隔は３０μｍ以上に設定するこ
とが必要である。The size of the half-etched portion 5b is such that the width L 2 is 30 at the outer periphery of the opening 5a on the side of the surface to be joined to the dielectric layer 6.
Even if the thickness is less than μm, the effect of the present invention cannot be expected. If the outer peripheral width L 2 of the opening 5a is too large, the distance between the adjacent half-etched portions 5b becomes small, and the adhesive area of the second electrode 5 decreases, so that the adhesive strength of the second electrode 5 becomes extremely large. There is a problem of falling. Therefore, it is necessary to set the gap between the adjacent half-etched portions 5b to be 30 μm or more.
【００４３】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではない。例えば、上記実施例では第２電極５…を誘
電体層６の上に接着する接着剤として嫌気性アクリル系
接着剤Ｓを使用したものを示したが、紫外線硬化型の嫌
気性アクリル系接着剤Ｓを使用してもよい。The present invention is not limited to the above embodiment. For example, although the anaerobic acrylic adhesive S is used as the adhesive for adhering the second electrodes 5 on the dielectric layer 6 in the above-described embodiment, an ultraviolet curable anaerobic acrylic adhesive is used. S may be used.
【００４４】この場合には嫌気性アクリル系接着剤Ｓを
使用して第２電極５…を誘電体層６の上に接着したの
ち、第２電極５…の開口部５ａ…内の接着剤Ｓをエーテ
ルとエタノールとの重量比３：１の混合溶媒により溶解
・除去するようになっている。そして、これ以外は上記
実施例と同様の方法でイオンフロ−静電記録ヘッド１が
製造される。この場合、第２電極５…の開口部５ａ…内
の残留接着剤Ｓの洗浄・除去は接着剤Ｓの加熱硬化前に
行ない加熱硬化は９０℃、１時間行なう。なお、この残
留接着剤Ｓの洗浄・除去は超音波を併用した方が効果が
増大するので、有効である。In this case, the anaerobic acrylic adhesive S is used to bond the second electrodes 5 on the dielectric layer 6, and then the adhesive S in the openings 5a of the second electrodes 5 ... Is dissolved and removed with a mixed solvent of ether and ethanol in a weight ratio of 3: 1. Then, the ion flow electrostatic recording head 1 is manufactured by the same method as in the above embodiment except for this. In this case, the residual adhesive S in the openings 5a of the second electrodes 5 is washed and removed before the adhesive S is heated and cured, and the cured adhesive is heated at 90 ° C. for 1 hour. It should be noted that the cleaning and removal of the residual adhesive S is more effective when ultrasonic waves are used together, so that it is effective.
【００４５】また、第２電極５…の開口部５ａ…内は空
気中に露出され、空気に触れているので、嫌気性の接着
剤Ｓが硬化しにくい。そのため、第２電極５…の開口部
５ａ…内の残留接着剤Ｓの洗浄・除去が容易になる。Since the insides of the openings 5a of the second electrodes 5 are exposed to the air and are in contact with the air, the anaerobic adhesive S is hard to cure. Therefore, the residual adhesive S in the openings 5a of the second electrodes 5 can be easily washed and removed.
【００４６】なお、外部にはみだしている紫外線硬化型
の嫌気性アクリル系接着剤Ｓを紫外線の照射によって十
分に硬化させることができる。また、嫌気性の接着剤Ｓ
を使用した場合には触媒として銅イオンを用いることに
より、硬化促進が可能となる。The ultraviolet-curable anaerobic acrylic adhesive S protruding to the outside can be sufficiently cured by irradiation with ultraviolet rays. Also, the anaerobic adhesive S
When is used, the curing can be promoted by using copper ions as a catalyst.
【００４７】そこで、上記構成のように第２電極５…を
誘電体層６の上に接着する接着剤として紫外線硬化型の
嫌気性アクリル系接着剤Ｓを使用した場合には第２電極
５…のような金属との接着力が強固になるので、機械
的、熱的な力を受けても第２電極５…の位置ずれを一層
効果的に防止することができる。Therefore, when the ultraviolet curable anaerobic acrylic adhesive S is used as the adhesive for adhering the second electrodes 5 on the dielectric layer 6 as in the above-described structure, the second electrodes 5 ... Since the adhesive force with the metal as described above becomes strong, it is possible to more effectively prevent the displacement of the second electrodes 5 ... Even if a mechanical or thermal force is applied.
【００４８】さらに、第２電極５…を誘電体層６の上に
接着する接着剤として嫌気性シリコーン系接着剤Ｓを使
用してもよい。この場合には嫌気性シリコーン系接着剤
Ｓを使用して第２電極５…を誘電体層６の上に接着した
のち、第２電極５…の開口部５ａ…内の接着剤Ｓをトル
エン溶媒中で１分間振盪させて溶解・除去するようにな
っている。そして、これ以外は上記実施例と同様の方法
でイオンフロ−静電記録ヘッド１が製造される。この場
合、第２電極５…の開口部５ａ…内の残留接着剤Ｓの洗
浄・除去作業は接着剤Ｓの常温硬化後に行ない、硬化時
間は２時間程度である。Further, an anaerobic silicone adhesive S may be used as an adhesive for adhering the second electrodes 5 on the dielectric layer 6. In this case, the anaerobic silicone adhesive S is used to bond the second electrodes 5 on the dielectric layer 6, and then the adhesive S in the openings 5a of the second electrodes 5 is replaced with a toluene solvent. It is shaken for 1 minute to dissolve and remove. Then, the ion flow electrostatic recording head 1 is manufactured by the same method as in the above embodiment except for this. In this case, the cleaning / removing work of the residual adhesive S in the openings 5a of the second electrodes 5 is performed after the adhesive S is cured at room temperature, and the curing time is about 2 hours.
【００４９】そこで、この実施例のように嫌気性シリコ
ーン系接着剤Ｓを使用した場合には常温での硬化が可能
になるうえ、接着剤Ｓの嫌気性によって第２電極５…の
開口部５ａ…内の接着剤Ｓが硬化しにくくなり、第２電
極５…の開口部５ａ…内の残留接着剤Ｓの洗浄・除去が
容易になる。さらに、その他この発明の要旨を逸脱しな
い範囲で種々の変形実施できることは勿論である。Therefore, when the anaerobic silicone adhesive S is used as in this embodiment, it can be cured at room temperature, and the anaerobic nature of the adhesive S causes the openings 5a of the second electrodes 5 ... The adhesive S in the inside becomes hard to cure, and the residual adhesive S in the openings 5a of the second electrodes 5 can be easily washed and removed. Further, it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.
【００５０】[0050]
【発明の効果】本発明によれば、金属箔に第２電極のパ
ターンをエッチングさせて形成された第２電極の開口部
における誘電体層との接合面側に開口部よりも開口面積
が大きいハーフエッチ部を設けるとともに、第２電極と
誘電体層との接合面に嫌気性接着剤による接着面を設け
たので、熱的および機械的な後加工工程中や使用中の熱
的経時変化による第２電極の位置ずれを防止することが
できるとともに、第２電極の各開口部からのイオン発生
量を均一化することができ、画像にむらがなく、安定し
た均質の画像を得ることができる。According to the present invention, the opening area of the opening of the second electrode formed by etching the pattern of the second electrode on the metal foil is larger than that of the opening on the side of the surface to be joined to the dielectric layer. Since a half-etched portion is provided and an adhesive surface with an anaerobic adhesive is provided on the bonding surface between the second electrode and the dielectric layer, it may be affected by thermal aging during thermal and mechanical post-processing steps and during use. The displacement of the second electrode can be prevented, the amount of ions generated from each opening of the second electrode can be made uniform, and a stable and homogeneous image can be obtained without unevenness in the image. ..
【図１】 この発明の第１実施例を示すもので、（Ａ）
はイオンフロー静電記録ヘッドの概略構成を示す要部の
縦断面図、（Ｂ）はイオンフロー静電記録ヘッドの断面
斜視図。FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention (A)
Is a vertical cross-sectional view of a main part showing a schematic configuration of an ion flow electrostatic recording head, and (B) is a cross-sectional perspective view of the ion flow electrostatic recording head.
【図２】 第２電極の開口部のハーフエッチ部を示す要
部の縦断面図。FIG. 2 is a vertical cross-sectional view of a main part showing a half-etched part of an opening of a second electrode.
【図３】 イオンフロー静電記録ヘッドの製造作業を説
明するもので、（Ａ）は誘電体層の形成状態を示す要部
の縦断面図、（Ｂ）は第２電極を誘電体層に接着させた
状態を示す要部の縦断面図、（Ｃ）は第２電極の上に絶
縁体層を積層させた状態を示す要部の縦断面図。3A and 3B are views for explaining a manufacturing operation of an ion flow electrostatic recording head, in which FIG. 3A is a vertical cross-sectional view of a main part showing a formation state of a dielectric layer, and FIG. FIG. 3C is a vertical cross-sectional view of a main part showing a bonded state, and FIG. 6C is a vertical cross-sectional view of a main part showing a state where an insulating layer is laminated on the second electrode.
４…第１電極，５…第２電極，５ａ，８ａ，９ａ…開口
部，５ｂ…ハーフエッチ部，６…誘電体層，７…絶縁基
板，８…第３電極，９…絶縁体層。4 ... 1st electrode, 5 ... 2nd electrode, 5a, 8a, 9a ... Opening part, 5b ... Half etch part, 6 ... Dielectric layer, 7 ... Insulating substrate, 8 ... 3rd electrode, 9 ... Insulating layer.
Claims (1)
れ、略平行に並設された複数の第１電極と、これらの第
１電極と交差する方向に延設され、前記第１電極ととも
にマトリックスを形成し、このマトリックスに対応する
部位に開口部が形成された複数の第２電極と、この第２
電極に対して前記第１電極とは反対側に配置され、前記
マトリックスに対応する部位に開口部が形成された第３
電極と、前記第１電極と第２電極との間に設けられた誘
電体層と、前記第２電極と第３電極との間に設けられ、
前記マトリックスに対応する部位に開口部が形成された
絶縁体層とを備えたイオンフロー静電記録ヘッドにおい
て、金属箔に前記第２電極のパターンをエッチングさせ
て形成された前記第２電極の前記開口部における前記誘
電体層との接合面側に前記開口部よりも開口面積が大き
いハーフエッチ部を設けるとともに、前記第２電極と前
記誘電体層との接合面に嫌気性接着剤による接着面を設
けたことを特徴とするイオンフロー静電記録ヘッド。1. A plurality of first electrodes that extend in a substantially straight line in the same direction on an insulating substrate and are arranged in parallel in a substantially parallel manner, and a plurality of first electrodes that extend in a direction intersecting the first electrodes. A matrix is formed with one electrode, and a plurality of second electrodes each having an opening formed at a portion corresponding to the matrix, and a plurality of second electrodes.
A third electrode, which is arranged on the opposite side of the first electrode from the electrode and has an opening formed in a portion corresponding to the matrix.
An electrode, a dielectric layer provided between the first electrode and the second electrode, and a dielectric layer provided between the second electrode and the third electrode,
In an ion flow electrostatic recording head including an insulator layer having an opening formed in a portion corresponding to the matrix, the second electrode formed by etching a pattern of the second electrode on a metal foil. A half-etched portion having an opening area larger than that of the opening is provided on the side of the opening that is to be joined to the dielectric layer, and a bonding surface that is an anaerobic adhesive is provided to the joining surface between the second electrode and the dielectric layer. An ion flow electrostatic recording head characterized by being provided with.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28997991A JPH05124253A (en) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | Ion flow electrostatic recording head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28997991A JPH05124253A (en) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | Ion flow electrostatic recording head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05124253A true JPH05124253A (en) | 1993-05-21 |
Family
ID=17750210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28997991A Withdrawn JPH05124253A (en) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | Ion flow electrostatic recording head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05124253A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010516514A (en) * | 2007-01-29 | 2010-05-20 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー． | Apparatus for electrostatic imaging |
-
1991
- 1991-11-06 JP JP28997991A patent/JPH05124253A/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010516514A (en) * | 2007-01-29 | 2010-05-20 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー． | Apparatus for electrostatic imaging |
| JP4824113B2 (en) * | 2007-01-29 | 2011-11-30 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー． | Apparatus for electrostatic imaging |
| EP2108138B1 (en) * | 2007-01-29 | 2020-02-26 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Apparatus for electrostatic imaging |
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