JPH05104776A - Production of ion flow electrostatic recording head - Google Patents

Production of ion flow electrostatic recording head

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JPH05104776A
JPH05104776A JP27100491A JP27100491A JPH05104776A JP H05104776 A JPH05104776 A JP H05104776A JP 27100491 A JP27100491 A JP 27100491A JP 27100491 A JP27100491 A JP 27100491A JP H05104776 A JPH05104776 A JP H05104776A
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JP
Japan
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electrode
dielectric layer
electrodes
adhesive
dielectric
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP27100491A
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Japanese (ja)
Inventor
Kunihisa Koo
邦寿 小尾
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
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Publication of JPH05104776A publication Critical patent/JPH05104776A/en
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Abstract

PURPOSE:To enhance the image quality of an electrostatic latent image by uniformizing a discharge state by uniformly applying an adhesive to the entire surface of a dielectric layer. CONSTITUTION:Dielectric paste prepared by dispersing a filler composed of a fine powder of inorg. matter in an org. polymeric material containing a solvent is applied to an insulating substrate 7 and dried and cured to form a dielectric layer 6. Next, the surface 60 of the dielectric layer 6 is irradiated with ultraviolet rays to be modified so as to enhance the wettability of an adhesive S and a second electrode 5 is fixed to the surface 6a of the dielectric layer 6 through the adhesive S.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は例えば静電式の印刷や複
写を行なう静電記録装置で使用されるイオンフロー静電
記録ヘッドの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing an ion flow electrostatic recording head used in an electrostatic recording apparatus for performing electrostatic printing or copying.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、例えば静電印刷等において、高
電流密度のイオンを発生させ、これを抽出して選択的に
被帯電部材に付与して、この被帯電部材を画像状に帯電
させる静電記録装置が知られている。
2. Description of the Related Art Generally, in electrostatic printing or the like, for example, a high current density ion is generated and selectively extracted and applied to a member to be charged, and the member to be charged is imagewise charged. Electronic recording devices are known.

【0003】この静電記録装置に用いられるイオンフロ
ー静電記録ヘッドは誘電体層とその誘電体層の一方の側
に固着され、第1の方向に伸びる複数の第1電極と、誘
電体層の他方の側に固着され、第1電極の伸び方向と交
差する方向に伸びる複数の第2電極とを有し、複数の第
1電極と複数の第2電極とでマトリックスを構成する。
An ion flow electrostatic recording head used in this electrostatic recording apparatus has a dielectric layer and a plurality of first electrodes fixed to one side of the dielectric layer and extending in a first direction, and the dielectric layer. A plurality of second electrodes fixed to the other side of the first electrode and extending in a direction intersecting the extension direction of the first electrode, and the plurality of first electrodes and the plurality of second electrodes form a matrix.

【0004】このマトリックスの選択された部分に対応
する第1電極と第2電極との間に交互に高電圧を印加す
ることにより、その部分に対向する第2電極の近傍に正
・負のイオンが発生する。この発生したイオンを選択的
に抽出して被帯電部材を帯電させることができる。した
がって、マトリックス構造の電極を選択的に駆動するこ
とにより、ドットによる静電記録を行なうことができ
る。
By alternately applying a high voltage between the first electrode and the second electrode corresponding to the selected portion of this matrix, positive and negative ions are generated in the vicinity of the second electrode facing the portion. Occurs. The generated ions can be selectively extracted to charge the member to be charged. Therefore, electrostatic recording by dots can be performed by selectively driving the electrodes having a matrix structure.

【0005】ところで、ここで使用される誘電体層を形
成する誘電物質はイオン発生のために印加される高電圧
でも絶縁破壊しないことが要求される。また、誘電体層
はイオンを効率よく発生させ、絶縁破壊にも耐えられる
厚さを必要とするため、誘電率の高いものが要求され
る。
By the way, it is required that the dielectric material forming the dielectric layer used here does not cause dielectric breakdown even at a high voltage applied for ion generation. Further, the dielectric layer needs to have a high dielectric constant because it needs a thickness that efficiently generates ions and can withstand dielectric breakdown.

【0006】さらに、誘電体層と第2電極との間を接着
する接着剤の条件としては高電圧印加によって発生する
熱に耐えることができる耐熱性、誘電体層と第2電極と
の間の熱膨脹率の差によって発生する応力に耐えられる
可撓性、さらにイオンフロー静電記録ヘッドの組み立て
工程時に作用する引っ張り剪断力に耐えられる高接着
力、イオン発生による放電に強い耐コロナ放電性が要求
される。
Further, the conditions of the adhesive for adhering the dielectric layer and the second electrode are heat resistance capable of withstanding heat generated by application of a high voltage, and the adhesive between the dielectric layer and the second electrode. Flexibility to withstand the stress generated by the difference in coefficient of thermal expansion, high adhesive strength to withstand the tensile shearing force that acts during the assembly process of the ion flow electrostatic recording head, and corona discharge resistance that is strong against discharge due to ion generation are required. To be done.

【0007】そこで、例えば、特開平2−153760
号公報ではこの誘電体層を形成する誘電物質としてシリ
コーン変性ポリエステルアルキド樹脂といった有機高分
子材料中に酸化チタンの微粉末を分散させてペースト状
にしたものが使用されている。そして、この誘電体ペー
ストをフレキシブル基板上に塗布し、加熱硬化させるこ
とにより、誘電体層が形成されている。また、接着剤と
してはシリコーン系感圧接着剤が使用されている。
Therefore, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2-153760.
In the publication, as a dielectric substance forming this dielectric layer, a fine powder of titanium oxide is dispersed in an organic polymer material such as a silicone-modified polyester alkyd resin to form a paste. Then, the dielectric layer is formed by applying this dielectric paste on a flexible substrate and curing it by heating. Further, a silicone pressure sensitive adhesive is used as the adhesive.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上記特開平2−153
760号公報のように誘電体層と第2電極との間を接着
する接着剤としてシリコーン系感圧接着剤を使用した場
合には粘着力のみで誘電体層表面と第2電極表面との間
を固定する必要がある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION Problems to be Solved by the Invention
When a silicone-based pressure-sensitive adhesive is used as an adhesive for adhering the dielectric layer and the second electrode as in Japanese Patent Publication No. 760, the adhesion between the surface of the dielectric layer and the surface of the second electrode is only due to the adhesive force. Need to be fixed.

【0009】しかしながら、感圧接着剤には剥離力に対
しては強いが、剪断力には弱い特性があるので、上記従
来構成のものにあってはイオンフロー静電記録ヘッドの
組み立て工程の後工程で作用する引っ張り剪断力や、1
00℃前後の熱加工時の熱、或いはイオンフロー静電記
録ヘッドの使用中のイオン発生現象による発熱(80
℃)による応力に感圧接着剤が耐えることができず、誘
電体層と第2電極との間の位置ずれが発生し、静電潜像
の画質が低下する問題があった。
However, since the pressure-sensitive adhesive has a characteristic that it is strong against peeling force but weak against shearing force, the conventional pressure-sensitive adhesive described above has a characteristic that after the assembly process of the ion flow electrostatic recording head. Tensile shear force that acts in the process, 1
Heat during thermal processing at around 00 ° C or heat generated by ion generation during use of the ion flow electrostatic recording head (80
The pressure-sensitive adhesive cannot withstand the stress caused by (.degree. C.), a positional shift occurs between the dielectric layer and the second electrode, and the image quality of the electrostatic latent image deteriorates.

【0010】そこで、近年では感圧接着剤よりも剪断力
に対して強い嫌気性アクリル系接着剤により、誘電体層
と第2電極との間を接着する構成にしたものが採用され
ている。
Therefore, in recent years, a structure has been adopted in which the dielectric layer and the second electrode are bonded by an anaerobic acrylic adhesive which is more resistant to shearing force than a pressure sensitive adhesive.

【0011】この場合、誘電体層と第2電極との間の接
着剤は誘電体層と比較して誘電率が著しく低いので、イ
オンフロー静電記録ヘッド全体の誘電特性であるイオン
発生のし易さを一定水準に確保するためには誘電体層の
上に配置される低誘電率の接着層の厚さは5μm以下に
抑える必要がある。
In this case, since the adhesive between the dielectric layer and the second electrode has a remarkably low dielectric constant as compared with the dielectric layer, the generation of ions, which is the dielectric characteristic of the entire ion flow electrostatic recording head, is prevented. In order to ensure a certain level of ease, it is necessary to keep the thickness of the low dielectric constant adhesive layer disposed on the dielectric layer to 5 μm or less.

【0012】しかしながら、誘電体層の表面はシリコー
ン変性された樹脂表面であるので、嫌気性アクリル系接
着剤を溶剤希釈して誘電体層の表面に薄く数ミクロン程
度で塗布する際に、誘電体層の表面で接着剤が撥水し、
均一な薄い接着剤層を形成することができない問題があ
る。その結果、イオンフロー静電記録ヘッドからの放電
状態が不均一になり易く、イオンの発生量がばらつくの
で、静電潜像の画像品質にばらつきが発生する問題があ
る。
However, since the surface of the dielectric layer is a silicone-modified resin surface, when the anaerobic acrylic adhesive is diluted with a solvent and applied to the surface of the dielectric layer with a thickness of about several microns, the dielectric The adhesive repels water on the surface of the layer,
There is a problem that a uniform thin adhesive layer cannot be formed. As a result, the state of discharge from the ion flow electrostatic recording head is likely to be non-uniform, and the amount of generated ions varies, which causes the problem that the image quality of the electrostatic latent image varies.

【0013】本発明は上記事情に着目してなされたもの
で、その目的は、誘電体層の表面全体に均一に接着剤を
塗布することができ、放電状態を均一化して静電潜像の
画像品質を向上させることができるイオンフロー静電記
録ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to be able to uniformly apply an adhesive to the entire surface of the dielectric layer, to make the discharge state uniform and to form an electrostatic latent image. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an ion flow electrostatic recording head that can improve image quality.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明は絶縁基板上に同
方向に略直線状に延設され、略平行に並設された複数の
第1電極と、これらの第1電極の延設方向と異なる方向
に延設され、前記第1電極とともにマトリックスを構成
し、かつ、このマトリックスと対応する部位に開口部が
形成された複数の第2電極と、前記第2電極に対して前
記第1電極とは反対側に配置され、前記マトリックスと
対応する部位に開口部が形成された第3電極と、前記第
1電極と第2電極との間に配設された誘電体層と、前記
第2電極と第3電極との間に配設された絶縁体とを有
し、前記絶縁体における前記マトリックスと対応する部
位に開口部が形成されたイオンフロー静電記録ヘッドの
製造方法において、前記絶縁基板上に前記第1電極を形
成する第1電極形成工程と、前記第1電極が形成された
前記絶縁基板上に、溶剤を含む有機高分子材料中に無機
物微粉末からなるフィラーを分散させた誘電体ペースト
を塗布したのち、乾燥、硬化させて前記誘電体層を形成
する誘電体層形成工程と、前記誘電体層上に紫外線を照
射して前記誘電体層の表面を接着剤の濡れ性を向上させ
る状態に改質する紫外線照射工程と、前記誘電体層の表
面上に接着剤を介して前記第2電極を固着する第2電極
固着工程と、前記第2電極上に、前記絶縁体、前記第3
電極を順次積層させてヘッド本体を形成させる本体形成
工程とを具備したものである。
According to the present invention, a plurality of first electrodes are provided on an insulating substrate in a substantially straight line extending in the same direction and arranged in parallel in a substantially parallel manner, and the extending direction of these first electrodes. A plurality of second electrodes extending in a different direction from each other, forming a matrix with the first electrode, and having an opening formed in a portion corresponding to the matrix; and the first electrode with respect to the second electrode. A third electrode disposed on the opposite side of the electrode and having an opening formed in a portion corresponding to the matrix; a dielectric layer disposed between the first electrode and the second electrode; A method of manufacturing an ion flow electrostatic recording head, comprising: an insulator disposed between two electrodes and a third electrode, wherein an opening is formed in a portion of the insulator corresponding to the matrix. First electrode formation for forming the first electrode on an insulating substrate Then, on the insulating substrate on which the first electrode is formed, a dielectric paste in which a filler composed of an inorganic fine powder is dispersed in an organic polymer material containing a solvent is applied, and then dried and cured to form the A dielectric layer forming step of forming a dielectric layer; an ultraviolet ray irradiating step of irradiating the dielectric layer with ultraviolet rays to modify the surface of the dielectric layer into a state in which the wettability of the adhesive is improved; A second electrode fixing step of fixing the second electrode on the surface of the dielectric layer via an adhesive; and the insulator and the third electrode on the second electrode.
A main body forming step of forming a head main body by sequentially laminating electrodes.

【0015】[0015]

【作用】上記の方法によれば、イオンフロー静電記録ヘ
ッドの製造時には第1電極が形成された絶縁基板上に、
溶剤を含む有機高分子材料中に無機物微粉末からなるフ
ィラーを分散させた誘電体ペーストを塗布したのち、乾
燥、硬化させて誘電体層が形成され、その後、誘電体層
上に紫外線を照射することにより、誘電体層の表面が接
着剤の濡れ性を向上させる状態に改質される。続いて、
この状態で誘電体層の表面上に接着剤を塗布することに
より、誘電体層の表面全体に均一に接着剤を塗布するこ
とができるようにしたものである。
According to the above method, when the ion flow electrostatic recording head is manufactured, the insulating substrate on which the first electrode is formed,
After applying a dielectric paste in which a filler composed of an inorganic fine powder is dispersed in an organic polymer material containing a solvent, it is dried and cured to form a dielectric layer, and then the dielectric layer is irradiated with ultraviolet rays. As a result, the surface of the dielectric layer is modified into a state in which the wettability of the adhesive is improved. continue,
By applying an adhesive agent on the surface of the dielectric layer in this state, the adhesive agent can be applied uniformly on the entire surface of the dielectric layer.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明の第1の実施例を図1乃至図3
を参照して説明する。図1(A),(B)は本実施例の
イオンフロー静電記録ヘッド1の要部の概略構成を示す
もので、2はイオン発生部、3はイオン流制御部であ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
Will be described. 1 (A) and 1 (B) show a schematic structure of a main part of an ion flow electrostatic recording head 1 of this embodiment, 2 is an ion generating part, and 3 is an ion flow control part.

【0017】また、イオン発生部3にはイオン発生用の
複数の第1電極4…と複数の第2電極5…とが設けられ
ており、これらの第1電極4…と第2電極5…との間に
は誘電体からなる誘電体層6が配設されている。この誘
電体層6は溶剤を含む有機高分子材料中に誘電率が大き
い無機物微粉末からなるフィラーを分散させた誘電体ペ
ーストを塗布したのち、乾燥、硬化させて形成されてい
る。
Further, the ion generating section 3 is provided with a plurality of first electrodes 4 for ion generation and a plurality of second electrodes 5 for ion generation. These first electrodes 4 and second electrodes 5 ... A dielectric layer 6 made of a dielectric material is disposed between and. The dielectric layer 6 is formed by applying a dielectric paste in which a filler made of an inorganic fine powder having a large dielectric constant is dispersed in an organic polymer material containing a solvent, and then drying and curing the paste.

【0018】なお、静電記録ヘッド1には絶縁基板7が
設けられており、この絶縁基板7上に一方向に延びる複
数の第1電極4…が略平行に並設されている。また、誘
電体層6は絶縁基板7における第1電極4…の配設面側
に設けられている。
The electrostatic recording head 1 is provided with an insulating substrate 7, and a plurality of first electrodes 4 ... Which extend in one direction are arranged in parallel on the insulating substrate 7. The dielectric layer 6 is provided on the surface of the insulating substrate 7 on which the first electrodes 4 are arranged.

【0019】さらに、複数の第2電極5…は誘電体層6
における絶縁基板7とは反対側の面に第1電極4…と交
差する方向に並設させた状態で接着剤Sによって固着さ
れており、第1電極4…と第2電極5…とによってマト
リックスが構成されている。そして、第2電極5…には
このマトリックスと対応する部位にそれぞれ開口部5a
…が形成されている。
Further, the plurality of second electrodes 5 ...
Are adhered to each other by an adhesive S on the surface opposite to the insulating substrate 7 in a direction intersecting with the first electrodes 4 ... And the matrix is formed by the first electrodes 4 ... And the second electrodes 5. Is configured. Then, the second electrodes 5 ... Are provided with openings 5a at the portions corresponding to the matrix.
... is formed.

【0020】また、イオン流制御部4には第2電極5…
に対して第1電極4…とは反対側に配置された帯状の第
3電極8が設けられている。この第3電極8には第1電
極4…と第2電極5…とのマトリックスと対応する部位
に開口部8a…が形成されている。さらに、第2電極5
…と第3電極8との間には絶縁体9が配設されている。
この絶縁体9には第2電極5…および第3電極8の各開
口部5a…、8a…と対応する部位に開口部9aが形成
されている。
Further, the ion flow controller 4 has a second electrode 5 ...
On the other hand, a strip-shaped third electrode 8 arranged on the side opposite to the first electrodes 4 is provided. The third electrode 8 is provided with openings 8a at positions corresponding to the matrix of the first electrodes 4 and the second electrodes 5. Further, the second electrode 5
An insulator 9 is arranged between the ... And the third electrode 8.
The insulator 9 is provided with openings 9a at portions corresponding to the openings 5a ..., 8a ... Of the second electrode 5 ... And the third electrode 8.

【0021】そして、イオンカ−トリッジ1の動作時に
は印字信号にもとづいて第1電極4…と第2電極5…と
の間のマトリックスが適宜選択され、選択されたマトリ
ックス部分に対応する第1電極4…と第2電極5…との
間に交流電圧が印加される。これにより、選択されたマ
トリックス部分に対応する第2電極5…の開口部5a…
内の近傍部位に正負イオンが発生する。このとき、第2
電極5…と第3電極8との間にはバイアス電圧が印加さ
れ、その極性によって決まるイオンのみが第2電極5…
の開口部5a…内の近傍部位に発生したイオンから抽出
される。そして、抽出されたイオンは絶縁体9の開口部
9aおよび第3電極8の開口部8a…を通過し、図示し
ない誘電体ドラムを局部的に帯電させる。したがって、
第1電極4…および第2電極5…の選択的駆動により、
誘電体ドラム上にドット潜像を形成することができる。
When the ion cartridge 1 is in operation, the matrix between the first electrodes 4 ... And the second electrodes 5 ... Is appropriately selected based on the print signal, and the first electrodes 4 corresponding to the selected matrix portion. An alternating voltage is applied between the second electrode 5 ... As a result, the openings 5a ... Of the second electrodes 5 ... Corresponding to the selected matrix portion.
Positive and negative ions are generated in the vicinity of the inside. At this time, the second
A bias voltage is applied between the electrodes 5 ... And the third electrode 8, and only the ions determined by the polarity of the bias voltage ...
Are extracted from the ions generated in the vicinity of the openings 5a ... Then, the extracted ions pass through the openings 9a of the insulator 9 and the openings 8a of the third electrode 8 to locally charge a dielectric drum (not shown). Therefore,
By selectively driving the first electrode 4 ... And the second electrode 5 ...
A dot latent image can be formed on the dielectric drum.

【0022】次に、図1(A),(B)のイオンフロー
静電記録ヘッドの製造方法について詳細に説明する。ま
ず、絶縁基板7上に第1電極4…が形成される(第1電
極形成工程)。この場合、絶縁基板7は例えば厚さ10
0μm程度の合成樹脂材料、例えばポリイミド等のフレ
キシブル絶縁基板(FPC)が使用される。そして、こ
の絶縁基板7上に厚さ9μmの銅箔が貼着されたのち、
エッチング加工でパターニングし、第1電極4…が形成
される。
Next, a method of manufacturing the ion flow electrostatic recording head shown in FIGS. 1A and 1B will be described in detail. First, the first electrodes 4 ... Are formed on the insulating substrate 7 (first electrode forming step). In this case, the insulating substrate 7 has, for example, a thickness of 10
A synthetic resin material of about 0 μm, for example, a flexible insulating substrate (FPC) such as polyimide is used. Then, after a copper foil having a thickness of 9 μm is stuck on the insulating substrate 7,
Patterning is performed by etching to form the first electrodes 4 ...

【0023】次に、絶縁基板7上の第1電極4のパター
ン間および第1電極4…上に誘電体層6が形成される
(誘電体層形成工程)。この誘電体層6の形成時には予
め例えば酸化チタンをフィラーとし、シリコーン変性ポ
リエステルアルキド樹脂をバインダーとした誘電体ペー
ストを作成する。なお、フィラーの誘電率が大きい無機
物微粉末としては酸化チタン以外にもチタン酸バリウ
ム、ジルコン酸鉛等が使用される。
Next, the dielectric layer 6 is formed between the patterns of the first electrodes 4 on the insulating substrate 7 and on the first electrodes 4 ... (Dielectric layer forming step). At the time of forming the dielectric layer 6, for example, a dielectric paste using titanium oxide as a filler and a silicone-modified polyester alkyd resin as a binder is prepared in advance. In addition to titanium oxide, barium titanate, lead zirconate, or the like is used as the inorganic fine powder having a large dielectric constant of the filler.

【0024】この誘電体ペーストは絶縁基板7上の第1
電極4のパターン間および第1電極4…上に例えばスク
リーン印刷によって塗布される。続いて、塗布された誘
電体ペーストを例えば100℃で1時間加熱し、誘電体
ペースト中に含有する溶剤を揮発、除去させたのち、さ
らに、150℃で5時間加熱硬化させ、図2(A)に示
すように例えば厚さ33μmの誘電体層6が形成され
る。
This dielectric paste is the first paste on the insulating substrate 7.
It is applied, for example, by screen printing between the patterns of the electrodes 4 and on the first electrodes 4. Then, the applied dielectric paste is heated, for example, at 100 ° C. for 1 hour to volatilize and remove the solvent contained in the dielectric paste, and then, it is further cured by heating at 150 ° C. for 5 hours. ), The dielectric layer 6 having a thickness of 33 μm, for example, is formed.

【0025】次に、誘電体層6上に紫外線を照射して誘
電体層6の表面6aを接着剤の濡れ性を向上させる状態
に改質する紫外線照射工程が行なわれる。この工程では
バッチ処理式密閉型の紫外線改質装置が使用される。こ
の紫外線改質装置は所定量の被照射物を一括して装置内
に収納し、装置内を密閉した状態で紫外線を被照射物に
照射して内部空気をオゾン化し、処理する装置である。
Next, an ultraviolet irradiation step is performed in which the dielectric layer 6 is irradiated with ultraviolet rays to modify the surface 6a of the dielectric layer 6 to a state in which the wettability of the adhesive is improved. In this process, a batch type closed type ultraviolet reformer is used. This ultraviolet ray reforming device is a device for accommodating a predetermined amount of an object to be irradiated all together in the apparatus, and irradiating the object to be irradiated with ultraviolet rays in a state where the inside of the apparatus is sealed to make the internal air into ozone and treating it.

【0026】そして、この紫外線改質装置の動作時には
装置内の低圧水銀ランプから放射される365nm、2
53.7nmおよび184.9nmの紫外線が5分間、
誘電体層6の表面6a全面に均一に照射される。このと
き、装置の内部空気はオゾン化され、このオゾンの雰囲
気ガス中で、誘電体層6の表面温度が150℃以下で保
持される。この紫外線改質装置の動作によって誘電体層
6の表面6aが接着剤の濡れ性を向上させる状態に改質
される。
During operation of the ultraviolet reforming device, the low-pressure mercury lamp in the device emits 365 nm, 2
53.7 nm and 184.9 nm UV light for 5 minutes,
The entire surface 6a of the dielectric layer 6 is uniformly irradiated. At this time, the air inside the apparatus is ozonized, and the surface temperature of the dielectric layer 6 is maintained at 150 ° C. or lower in the atmospheric gas of this ozone. By the operation of this ultraviolet modifying device, the surface 6a of the dielectric layer 6 is modified into a state in which the wettability of the adhesive is improved.

【0027】さらに、誘電体層6の表面6aを改質処理
した後、アセトンで3倍に希釈した例えば日本ロックタ
イト社製の『LI−504』(商品名)等のアクリル系
嫌気性接着剤Sがディッピング法により、図2(B)に
示すように膜厚が4μmになるように誘電体層6の表面
6aと絶縁基板7の表面とに塗布される。この後、接着
剤Sが60℃で1分間加熱乾燥され、アセトンを揮発、
除去させる。
Further, after modifying the surface 6a of the dielectric layer 6, the acrylic anaerobic adhesive S such as "LI-504" (trade name) manufactured by Nippon Loctite Co., Ltd., which is diluted three times with acetone, is used. Is applied to the surface 6a of the dielectric layer 6 and the surface of the insulating substrate 7 by the dipping method so that the film thickness becomes 4 μm as shown in FIG. Then, the adhesive S is heated and dried at 60 ° C. for 1 minute to volatilize the acetone,
To remove.

【0028】続いて、予め例えば厚さ30μmのステン
レス箔に第2電極5…および開口部5a…のパターンを
パターニングして形成された電極板における誘電体層6
との接着面側の表面に例えば日本ロックタイト社製の
『プライマーN』(商品名)Pがスプレー塗布され、常
温乾燥される。その後、この電極板が誘電体層6の表面
6aに被せられ、図2(C)に示すように複数の第1電
極4…と第2電極5…の開口部5a…とが対応するよう
に第2電極5…を誘電体層6上に配置した状態で圧着さ
れてこの第2電極5…が誘電体層6上に固定される(第
2電極固着工程)。
Then, the dielectric layer 6 in the electrode plate is formed by previously patterning the pattern of the second electrodes 5 ... And the openings 5a ... On a stainless steel foil having a thickness of 30 μm, for example.
For example, "Primer N" (trade name) P manufactured by Nippon Loctite Co., Ltd. is spray-coated on the surface of the bonding surface side with and is dried at room temperature. Then, this electrode plate is covered on the surface 6a of the dielectric layer 6 so that the plurality of first electrodes 4 ... And the openings 5a of the second electrodes 5 correspond to each other as shown in FIG. 2 (C). The second electrodes 5 are fixed on the dielectric layer 6 by pressure bonding with the second electrodes 5 arranged on the dielectric layer 6 (second electrode fixing step).

【0029】次に、第2電極5…の開口部5a…内に残
留している接着剤Sがエーテルによって超音波洗浄され
て除去される。その後、この接着剤Sが90℃で1時間
加熱硬化されるとともに、溶剤分が揮発、乾燥される。
Next, the adhesive S remaining in the openings 5a of the second electrodes 5 ... Is ultrasonically cleaned with ether and removed. Thereafter, the adhesive S is heated and cured at 90 ° C. for 1 hour, and the solvent component is volatilized and dried.

【0030】続いて、第2電極5…上に、絶縁体層9、
第3電極8を順次積層させてイオンフロー静電記録ヘッ
ド1のヘッド本体を形成させる本体形成工程が行なわれ
る。この本体形成工程では第2電極5…の上に絶縁体層
9を形成する例えば厚さ100μm程度の感光性絶縁フ
ィルム(ソルダーレジスト)を真空ラミネートする。そ
の後、この感光性絶縁フィルムに露光、現像等のフォト
エッチング処理を施して複数の第2電極5…の開口部5
a…と対応した開口部9aを形成する。
Then, on the second electrodes 5 ...
A main body forming step of forming the head main body of the ion flow electrostatic recording head 1 by sequentially stacking the third electrodes 8 is performed. In this main body forming step, a photosensitive insulating film (solder resist) having a thickness of, for example, about 100 μm for forming the insulating layer 9 on the second electrodes 5 is vacuum laminated. After that, the photosensitive insulating film is subjected to photoetching treatment such as exposure and development so that the openings 5 of the plurality of second electrodes 5 ...
An opening 9a corresponding to a ... Is formed.

【0031】さらに、このように形成された絶縁体層9
の上に例えば厚さ30μm程度のステンレス箔に第2電
極5…の開口部5a…と対応した開口部8a…が形成さ
れた第3電極8が接着される。この場合、第3電極8に
おける絶縁体層9との接合面側の表面には開口部8a…
を除いた部分に粘着剤が塗布され、加熱硬化された状態
でこの第3電極8の開口部8a…を第2電極5…の開口
部5a…と対応させた状態で位置決めして重ね合わさ
れ、接着されることにより、イオンフロ−静電記録ヘッ
ド1が製造される。
Further, the insulating layer 9 thus formed
The third electrode 8 having the openings 8a ... Corresponding to the openings 5a of the second electrodes 5 ... In this case, the openings 8a ...
In a state where the adhesive is applied to a portion other than the area where the adhesive 8 is applied and cured by heating, the openings 8a of the third electrode 8 are positioned and overlapped with the openings 5a of the second electrode 5 ... The ion flow electrostatic recording head 1 is manufactured by being bonded.

【0032】そこで、上記方法によればイオンフロ−静
電記録ヘッド1の製造時には第1電極4…が形成された
絶縁基板7上に、酸化チタンをフィラーとし、シリコー
ン変性ポリエステルアルキド樹脂をバインダーとした誘
電体ペーストを塗布したのち、乾燥、硬化させて誘電体
層6を形成し、その後、誘電体層6の表面6a上に紫外
線を照射することにより、誘電体層6の表面6aを接着
剤の濡れ性を向上させる状態に改質させることができ
る。
Therefore, according to the above method, titanium oxide is used as a filler and silicone-modified polyester alkyd resin is used as a binder on the insulating substrate 7 on which the first electrodes 4 are formed when the ion flow electrostatic recording head 1 is manufactured. After the dielectric paste is applied, the dielectric layer 6 is dried and cured to form the dielectric layer 6, and then the surface 6a of the dielectric layer 6 is irradiated with ultraviolet rays, so that the surface 6a of the dielectric layer 6 is coated with an adhesive. The wettability can be improved.

【0033】この場合、誘電体層6の表面6a上に照射
される365nm、253.7nmおよび184.9n
mの波長の紫外線は酸素分子を活性化し、オゾンと原子
状態の活性化酸素とを発生させるとともに、−C−C−
結合、−C−H結合等を切断し、活性化した−C・を発
生させる。そして、活性化酸素と活性化した−C・とは
結合し、−COO−、−C=0等の極性基が生成され
る。なお、波長が254nm以上の例えば365nmの
紫外線ではエネルギーが低いので、極性基の生成効果は
低くなっている。
In this case, the surface 6a of the dielectric layer 6 is irradiated with 365 nm, 253.7 nm and 184.9 n.
The ultraviolet light of the wavelength of m activates oxygen molecules to generate ozone and activated oxygen in an atomic state, and -C-C-
The bond, -C-H bond, etc. are cleaved to generate activated -C. And activated oxygen and activated -C * couple | bond together and polar groups, such as -COO- and -C = 0, are produced | generated. In addition, since the energy is low in ultraviolet rays having a wavelength of 254 nm or more, for example, 365 nm, the effect of generating polar groups is low.

【0034】そして、誘電体層6の表面6a上に365
nm、253.7nmおよび184.9nmの波長の紫
外線を照射することにより、誘電体層6の表面6aに−
COOH、−CO、−OH等の酸化による極性基が導入
され、接着剤との相溶性が増大して接着剤の濡れ性を向
上させることができる。
Then, 365 is formed on the surface 6a of the dielectric layer 6.
by irradiating ultraviolet rays having wavelengths of 25 nm, 253.7 nm and 184.9 nm to the surface 6a of the dielectric layer 6-
A polar group due to oxidation such as COOH, -CO, -OH is introduced, the compatibility with the adhesive is increased, and the wettability of the adhesive can be improved.

【0035】そのため、誘電体層6の表面6aに接着剤
Sを厚さ5μm以下程度に薄く塗布する際に、従来のよ
うに誘電体層6の表面6aで接着剤Sが撥水するおそれ
がないので、この後、続いて誘電体層6の表面6a上に
アクリル系嫌気性接着剤Sをディッピング法により塗布
した際に、誘電体層6の表面6a全体に均一に接着剤S
を塗布することができる。その結果、イオンフロー静電
記録ヘッド1からの放電状態が不均一になることを防止
することができるので、イオン発生量のばらつきを防止
して静電潜像の画像品質を向上させることができる。
Therefore, when the adhesive S is applied thinly to the surface 6a of the dielectric layer 6 to a thickness of about 5 μm or less, the adhesive S may repell on the surface 6a of the dielectric layer 6 as in the conventional case. Therefore, after that, when the acrylic anaerobic adhesive S is subsequently applied to the surface 6a of the dielectric layer 6 by the dipping method, the adhesive S is uniformly applied to the entire surface 6a of the dielectric layer 6.
Can be applied. As a result, it is possible to prevent the discharge state from the ion flow electrostatic recording head 1 from becoming non-uniform, so that it is possible to prevent variations in the amount of generated ions and improve the image quality of the electrostatic latent image. ..

【0036】また、感圧接着剤よりも剪断力に対して強
い嫌気性アクリル系接着剤Sを使用することができるの
で、イオンフロー静電記録ヘッド1の組み立て工程の後
工程で作用する引っ張り剪断力や、100℃前後の熱加
工時の熱、或いはイオンフロー静電記録ヘッド1の使用
中のイオン発生現象による発熱による応力が作用した場
合に誘電体層6と第2電極5…との間の位置ずれを発生
しにくくすることができ、静電潜像の画質低下を防止し
て耐久性の向上を図ることができる。
Further, since the anaerobic acrylic adhesive S which is more resistant to shearing force than the pressure-sensitive adhesive can be used, the tensile shearing which acts in the later step of the process of assembling the ion flow electrostatic recording head 1 can be performed. Between the dielectric layer 6 and the second electrode 5 when a force, heat during thermal processing at about 100 ° C., or stress due to heat generation due to ion generation phenomenon during use of the ion flow electrostatic recording head 1 is applied. It is possible to make it difficult to cause the positional deviation of (1), prevent deterioration of the image quality of the electrostatic latent image, and improve the durability.

【0037】また、図3はバッチ処理式密閉型の紫外線
改質装置を使用して誘電体層6の表面6a上に照射され
る紫外線の照射時間と誘電体層6の表面6aの濡れ角と
の関係を調べた実験結果である。この場合、濡れ角の数
値は大きい程、誘電体層6の表面6a上に付着した液体
が広がりにくいものである。
Further, FIG. 3 shows the irradiation time of the ultraviolet rays radiated on the surface 6a of the dielectric layer 6 and the wetting angle of the surface 6a of the dielectric layer 6 by using the batch type closed type ultraviolet modifier. It is the experimental result which investigated the relationship of. In this case, the larger the value of the wetting angle, the less likely the liquid attached to the surface 6a of the dielectric layer 6 spreads.

【0038】したがって、この図3からも明らかなよう
に誘電体層6の表面6a上に紫外線を照射しない状態
(紫外線を照射時間が0)では濡れ角の数値が92°程
度と大きくなっているのに対して誘電体層6の表面6a
上に照射される紫外線の照射時間が長くなるにしたがっ
て誘電体層6の表面6aの濡れ角の数値が徐々に小さく
なる状態に変化しており、誘電体層6の表面6a上に紫
外線を照射することにより、誘電体層6の表面6aを接
着剤の濡れ性を向上させる状態に改質できることがわか
る。
Therefore, as is apparent from FIG. 3, the numerical value of the wetting angle is as large as about 92 ° when the surface 6a of the dielectric layer 6 is not irradiated with ultraviolet rays (the irradiation time of ultraviolet rays is 0). In contrast to the surface 6a of the dielectric layer 6
The numerical value of the wetting angle of the surface 6a of the dielectric layer 6 gradually changes as the irradiation time of the ultraviolet light irradiated on the surface increases, and the surface 6a of the dielectric layer 6 is irradiated with the ultraviolet light. By doing so, it can be seen that the surface 6a of the dielectric layer 6 can be modified to a state in which the wettability of the adhesive is improved.

【0039】なお、第2電極5…の開口部5a…内に残
留している接着剤Sを超音波洗浄によって除去する際の
溶剤としてはエーテル以外でもエタノール、ベンゼン、
酢酸エチル、アセトンなどのように日本ロックタイト社
製の『LI−504』(商品名)等のアクリル系嫌気性
接着剤Sを溶解する溶剤を使用することができる。
The solvent used when removing the adhesive S remaining in the openings 5a of the second electrodes 5 by ultrasonic cleaning is not ether but ethanol, benzene, or the like.
A solvent that dissolves the acrylic anaerobic adhesive S such as "LI-504" (trade name) manufactured by Nippon Loctite Co., Ltd., such as ethyl acetate and acetone, can be used.

【0040】さらに、上記実施例では第3電極8と絶縁
体層9との間を粘着剤によって接合させた構成のものを
示したが、第3電極8と絶縁体層9との間を例えば両面
テープで貼り合わせたり、或いは第3電極8上から片面
テープで絶縁体層9に貼り付ける構成にしてもよい。
Further, in the above-mentioned embodiment, the structure in which the third electrode 8 and the insulating layer 9 are bonded by the adhesive is shown. However, the third electrode 8 and the insulating layer 9 are bonded to each other, for example. The structure may be such that it is attached with a double-sided tape or is attached onto the insulator layer 9 from above the third electrode 8 with a single-sided tape.

【0041】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。ここでは、誘電体層6上に紫外線を照射して誘電
体層6の表面6aを接着剤の濡れ性を向上させる状態に
改質する紫外線照射工程で使用される紫外線改質装置と
して第1の実施例のバッチ処理式密閉型に代えてインラ
イン式開放型の紫外線改質装置が用いられる。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. Here, the first ultraviolet-modifying device used in the ultraviolet-irradiating step of irradiating the dielectric layer 6 with ultraviolet rays to modify the surface 6a of the dielectric layer 6 into a state in which the wettability of the adhesive is improved. An in-line open type ultraviolet reforming apparatus is used instead of the batch processing closed type of the embodiment.

【0042】このインライン式開放型の紫外線改質装置
は被照射物をラインベルトによって入口から装置内に投
入し、出口から出るまでの間にこの装置内で紫外線を被
照射物に照射して空気をオゾン化し、処理する装置であ
る。この場合、紫外線照射量はバッチ処理式密閉型の紫
外線改質装置と同様になるようにラインベルトの速度が
調節される。この工程以外は第1の実施例と同様の方法
でイオンフロー静電記録ヘッド1が製造される。
In this in-line open type ultraviolet reforming apparatus, an object to be irradiated is introduced into the apparatus through a line belt from an inlet, and ultraviolet rays are irradiated to the object to be irradiated in the apparatus until it exits from the outlet. Is a device for converting ozone into ozone and treating it. In this case, the speed of the line belt is adjusted so that the ultraviolet irradiation amount is the same as in the batch processing type closed type ultraviolet reforming apparatus. The ion flow electrostatic recording head 1 is manufactured by the same method as in the first embodiment except for this step.

【0043】そこで、上記構成のものにあっても第1の
実施例と同様に紫外線照射工程によって誘電体層6の表
面6aを接着剤の濡れ性を向上させる状態に改質させる
ことができるので、誘電体層6の表面6aに接着剤Sを
厚さ5μm以下程度に薄く塗布する際に、従来のように
誘電体層6の表面6aで接着剤Sが撥水するおそれがな
く、誘電体層6の表面6a全体に均一にアクリル系嫌気
性接着剤Sを塗布することができる。そのため、この場
合もイオンフロー静電記録ヘッド1からの放電状態が不
均一になることを防止することができるので、イオン発
生量のばらつきを防止して静電潜像の画像品質を向上さ
せることができる。なお、この発明は上記実施例に限定
されるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲
で種々の変形実施できることは勿論である。
Therefore, even with the above structure, the surface 6a of the dielectric layer 6 can be modified into a state in which the wettability of the adhesive is improved by the ultraviolet irradiation step as in the first embodiment. When the adhesive S is thinly applied to the surface 6a of the dielectric layer 6 to a thickness of about 5 μm or less, there is no fear that the adhesive S will repel water on the surface 6a of the dielectric layer 6 as in the conventional case. The acrylic anaerobic adhesive S can be uniformly applied to the entire surface 6a of the layer 6. Therefore, in this case as well, it is possible to prevent the discharge state from the ion flow electrostatic recording head 1 from becoming non-uniform, so that it is possible to prevent variations in the amount of generated ions and improve the image quality of the electrostatic latent image. You can The present invention is not limited to the above-described embodiments, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明によれば第1電極が形成された絶
縁基板上に、溶剤を含む有機高分子材料中に無機物微粉
末からなるフィラーを分散させた誘電体ペーストを塗布
したのち、乾燥、硬化させて誘電体層を形成し、続いて
この誘電体層の表面上に紫外線を照射して誘電体層の表
面を接着剤の濡れ性を向上させる状態に改質し、この後
誘電体層の表面上に接着剤を介して第2電極を固着する
ようにしたので、誘電体層の表面全体に均一に接着剤を
塗布することができ、放電状態を均一化して静電潜像の
画像品質を向上させることができる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, a dielectric paste in which a filler composed of an inorganic fine powder is dispersed in an organic polymer material containing a solvent is applied onto an insulating substrate having a first electrode formed thereon, and then dried. Then, it is cured to form a dielectric layer, and then the surface of the dielectric layer is irradiated with ultraviolet rays to modify the surface of the dielectric layer to a state in which the wettability of the adhesive is improved. Since the second electrode is fixed on the surface of the layer via the adhesive, the adhesive can be uniformly applied to the entire surface of the dielectric layer, and the discharge state can be made uniform to form the electrostatic latent image. The image quality can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明の第1の実施例を示すもので、
(A)はイオンフロ−静電記録ヘッドの概略構成を示す
要部の縦断面図、(B)はイオンフロ−静電記録ヘッド
の断面斜視図。
FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention,
FIG. 1A is a vertical cross-sectional view of a main part showing a schematic configuration of an ion flow electrostatic recording head, and FIG. 1B is a cross-sectional perspective view of the ion flow electrostatic recording head.

【図2】 イオンフロ−静電記録ヘッドの製造工程を示
すもので、(A)は誘電体層の積層状態を示す縦断面
図、(B)は誘電体層の表面に接着剤を塗布した状態を
示す縦断面図、(C)は第2電極の積層状態を示す縦断
面図。
2A and 2B show a manufacturing process of an ion flow electrostatic recording head, in which FIG. 2A is a longitudinal sectional view showing a laminated state of dielectric layers, and FIG. 2B is a state in which an adhesive is applied to the surface of the dielectric layers. 2C is a vertical cross-sectional view showing the stacked state of the second electrode.

【図3】 誘電体層の表面上に照射される紫外線の照射
時間と濡れ角との関係を示す特性図。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing the relationship between the irradiation time of ultraviolet rays with which the surface of the dielectric layer is irradiated and the wetting angle.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

4…第1電極,5…第2電極,5a,8a,9a…開口
部,6…誘電体層,7…絶縁基板,8…第3電極,9…
絶縁体層。
4 ... 1st electrode, 5 ... 2nd electrode, 5a, 8a, 9a ... Opening part, 6 ... Dielectric layer, 7 ... Insulating substrate, 8 ... 3rd electrode, 9 ...
Insulator layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁基板上に同方向に略直線状に延設さ
れ、略平行に並設された複数の第1電極と、これらの第
1電極の延設方向と異なる方向に延設され、前記第1電
極とともにマトリックスを構成し、かつ、このマトリッ
クスと対応する部位に開口部が形成された複数の第2電
極と、前記第2電極に対して前記第1電極とは反対側に
配置され、前記マトリックスと対応する部位に開口部が
形成された第3電極と、前記第1電極と第2電極との間
に配設された誘電体層と、前記第2電極と第3電極との
間に配設された絶縁体とを有し、前記絶縁体における前
記マトリックスと対応する部位に開口部が形成されたイ
オンフロー静電記録ヘッドの製造方法において、前記絶
縁基板上に前記第1電極を形成する第1電極形成工程
と、前記第1電極が形成された前記絶縁基板上に、溶剤
を含む有機高分子材料中に無機物微粉末からなるフィラ
ーを分散させた誘電体ペーストを塗布したのち、乾燥、
硬化させて前記誘電体層を形成する誘電体層形成工程
と、前記誘電体層上に紫外線を照射して前記誘電体層の
表面を接着剤の濡れ性を向上させる状態に改質する紫外
線照射工程と、前記誘電体層の表面上に接着剤を介して
前記第2電極を固着する第2電極固着工程と、前記第2
電極上に、前記絶縁体、前記第3電極を順次積層させて
ヘッド本体を形成させる本体形成工程とを具備したこと
を特徴とするイオンフロー静電記録ヘッドの製造方法。
1. A plurality of first electrodes that extend in a substantially straight line in the same direction on an insulating substrate and are arranged substantially in parallel, and extend in a direction different from the extending direction of these first electrodes. , A plurality of second electrodes that form a matrix with the first electrodes and that have openings formed in portions corresponding to the matrix, and are arranged on the side opposite to the first electrodes with respect to the second electrodes. And a third electrode having an opening formed in a portion corresponding to the matrix, a dielectric layer disposed between the first electrode and the second electrode, the second electrode and the third electrode. An insulator disposed between the insulator, and an opening formed in a portion of the insulator corresponding to the matrix, wherein the first substrate is formed on the insulating substrate. Forming a first electrode, and forming the first electrode On the insulating substrate formed, after applying a dielectric paste in which a filler composed of an inorganic fine powder is dispersed in an organic polymer material containing a solvent, and then dried,
A dielectric layer forming step of curing to form the dielectric layer, and an ultraviolet ray irradiation for irradiating the dielectric layer with ultraviolet rays to modify the surface of the dielectric layer to a state in which the wettability of the adhesive is improved. A second electrode fixing step of fixing the second electrode on the surface of the dielectric layer via an adhesive, and the second electrode fixing step.
A method of manufacturing an ion flow electrostatic recording head, comprising a step of forming a head body by sequentially laminating the insulator and the third electrode on an electrode.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012526212A (en) * 2009-05-07 2012-10-25 フォトソーラー・アーエス Integration of optical elements in an insulating glass unit

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