JPH08108039A - 排ガス処理装置 - Google Patents

排ガス処理装置

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JPH08108039A
JPH08108039A JP6245606A JP24560694A JPH08108039A JP H08108039 A JPH08108039 A JP H08108039A JP 6245606 A JP6245606 A JP 6245606A JP 24560694 A JP24560694 A JP 24560694A JP H08108039 A JPH08108039 A JP H08108039A
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JP
Japan
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exhaust gas
duct
neutralization tower
water supply
tower
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Pending
Application number
JP6245606A
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English (en)
Inventor
Toshio Ikeda
俊男 池田
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NETSUSHII KOGYO KK
Original Assignee
NETSUSHII KOGYO KK
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/77Liquid phase processes
    • B01D53/78Liquid phase processes with gas-liquid contact
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46Removing components of defined structure
    • B01D53/68Halogens or halogen compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2257/00Components to be removed
    • B01D2257/20Halogens or halogen compounds
    • B01D2257/204Inorganic halogen compounds
    • B01D2257/2045Hydrochloric acid

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Abstract

(57)【要約】 【目的】排ガス中の有害成分を簡単かつ耐久性に富む装
置によって経済的に除去すること。 【構成】第1ダクト14と第2ダクト18を備えた中和
塔12内に排気ガスを導入する。中和塔12内のランダ
ムに積層されている中和剤39によって排ガス中の有害
成分が化学反応し、この中和剤39の表面に付着する。
所定期間経過後にポンプ26を駆動することによって水
供給パイプ24から中和剤39の表面にむけて水が供給
されこの中和剤39の表面が洗浄される。再び新たな表
面が露呈した中和剤39に対して排ガスがさらに送りこ
まれ、これが繰り返し排ガス中の有害成分の除去に使わ
れることになる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、排ガス処理装置に関
し、一層詳細には塩化ビニール等を燃焼する際に生じる
排ガス中の有害成分を中和させることにより外部へ放出
させるとともに当該中和剤を洗浄して繰り返し使用する
ことによって排ガス処理を可能とする排ガス処理装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】現在、一般廃棄物、産業廃棄物を処理す
るには埋設処理かもしくは焼却処理が行われている。こ
の廃棄物中には塩化ビニールを含む高分子化合物が比較
的的多く含まれている。これらを燃焼処理することによ
って大気中に有害ガスが放出されることはしばしば指摘
されている通りである。
【0003】従来、これらの有害ガスをできるだけ少な
くしょうとする試みがなされてきた。例えば、湿式中和
塔では排ガス中の塩化水素等の有害成分に対しては水に
溶融させたアルカリ水を噴霧し中和を行う。しかしなが
ら、この種の湿式中和塔では処理装置自体が比較的高価
であり、装置の取り扱いが面倒であるとともに焼却炉側
から供給される排ガスの量が特定されず、この結果、該
排ガス中に含まれる有害成分がどの程度であるかを把握
することができないために、湿式中和塔内に供給される
アルカリ水の量も特定できず、処理作業が煩雑とならざ
るを得なかった。さらにまたアルカリ成分によって中和
塔を構成する機器の腐食等が著しく促進され、結局、耐
久性に難点があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の不都
合を悉く克服するためになされたものであって、繰り返
し利用可能な中和剤を用いて簡単な構成でしかも耐久性
に富みランニングコストを低廉に抑えることが可能な排
ガス処理装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、本発明は、排ガスを発生する焼却装置の排気口に
連通する第1のダクトと前記第1ダクトが連結される中
和塔と前記中和塔の排出口に連結される第2のダクトと
からなり、前記中和塔の内部に水供給手段を配設すると
ともにペレット状の多数の中和剤を前記中和塔内に装填
し前記第1ダクトから挿入される排ガス中の成分を前記
中和塔内の中和剤と反応させて前記第2ダクトから外部
へ排出し、一方、所定時間経過後に前記水供給手段を付
勢して前記中和塔内へ水を供給して前記中和剤表面に付
着した反応成分を除去することを特徴とする。
【0006】
【作用】第1のダクトから導入される排ガスは中和塔内
のペレット状の多数の中和剤に接する。その際、中和剤
はランダムに前記中和塔内に十分に装填されているため
に排ガスは乱流となって中和塔内を上昇する。このと
き、排ガス中に含まれる有害ガス、例えば、塩化ビニー
ル等の焼却後に発生するHClを含むガス等は前記中和
剤と反応し中和され、該反応成分が前記中和剤の表面に
付着されるに至る。このようにして中和され無害化され
た排ガスは第2ダクトから外部へ排出される。
【0007】一方、前記中和剤に付着した反応成分は所
定時間経過後に水供給手段から勢いよく噴射される水に
よってその表層面から除去され、中和塔の下部へと自然
落下する。そして、この中和塔の下部から前記反応成分
が除去され、前記中和剤は新たな反応面を外部に露呈し
て次なる排ガス処理に待機する。
【0008】
【実施例】次に、本発明に係る排ガス処理装置について
好適な実施例を挙げ、添付の図面を参照しながら以下詳
細に説明する。
【0009】図1において、参照符号10は本発明にか
かる排ガス処理装置を示す。前記排ガス処理装置10は
円筒状の中和塔12を含み、当該中和塔12の下部には
図示しない燃焼炉の排ガス導出口に連通される継目なし
の第1のダクト14が連結されている。前記第1ダクト
14は中和塔12の底部に臨みこの接続口には比較的細
かいメッシュを有する網部材16が設けられている。該
第1ダクト14の底部には開閉自在に蓋部材15が設け
られ、前記網部材16で捕捉された比較的大きな塵埃を
外部に取り出すために供せられる。中和塔12の上部側
壁にはこの中和塔12内で反応処理された後、無害化し
た排ガスを外部へ導出するための第2のダクト18が設
けられている。中和塔12の底部は図示するように傾斜
した底盤20を有し、この底盤20は水平面に対して傾
斜角度を5度に選定している。底盤20の上部には二層
にわたってパンチングメタル22a、22bが配設さ
れ、一方、前記底盤20の略中央部から水供給パイプ2
4が前記中和塔12の軸線に沿って上方へと延在してい
る。水供給パイプ24の円筒状の周壁部には多数の孔が
穿設されその孔にはノズル(図示せず)が装着されてい
る。水供給パイプ24の下端部にはポンプ26が介装さ
れ、このポンプ26によって強制的に水供給パイプ24
から洗浄水が中和塔12内へ供給されるよう構成されて
いる。
【0010】さらに、中和塔12の底部には清掃口3
0、ドレン抜き孔32が設けられるとともに該中和塔1
2の上方にはオーバーフローする洗浄水を外部へ導出す
るための孔部34および前記中和塔12の上部開口部を
閉塞して必要に応じて開閉自在な防爆弁36を含む蓋部
材37が設けられている。
【0011】以上の如き構成において、使用に際して
は、中和塔12の内部はレベルLまで中和剤39が装填
される。中和剤39は好ましくはアーモンド形のペレッ
トがよく、その原料は消石灰(Ca(OH2 ))、セメ
ント、水からなる。消石灰は70〜90重量%であり、
セメントは5〜25重量%であり、水は5〜25重量%
が好ましい。これらの原料をミルにて混練し、混練され
た中和成分を100〜200kg/cm2 の圧力で加圧
成形し、自然乾燥させる。該中和剤39にセメントを添
加した理由は消石灰の単独成形よりも遙に強度が上がり
中和反応時にペレットの崩壊を防ぐという効果が得られ
るためである。このように形成された中和剤39は中和
塔12内にレベルLまでランダムに装填されると、ペレ
ット間の隙間が15〜20%になる。
【0012】本発明にかかる排ガス処理装置は基本的に
は以上のように構成されるものであり、次にその作用に
ついて説明する。
【0013】図示しない焼却炉から導出される排ガスは
第1ダクト14から中和塔12内に導入される。このと
き、網部材16はそのメッシュ以上の大きな塵埃をここ
で除去する。中和塔12内に導入された排ガスは互いに
孔部が交互に画成されたパンチングメタル22a、22
bを通過し、乱流となってまんべんなく該中和塔12内
に拡散する。
【0014】ここで、中和剤39相互の隙間は15〜2
0%(表面積)であるために排ガスは中和剤39の表面
と接触するに至る。ここで、中和剤39と排ガスとの反
応をみれば、排ガス等は中和剤39を通過後は、例え
ば、HClを含む場合には処理後にはCaCl2 が生成
され、SO2 が含まれる場合にはCaSO2 が生成され
る。従って、第2ダクト18からは略無害化した排ガス
が外部へと導出されることになる。中和剤39の表面に
は前記のような反応成分が徐々に付着するに至る。所定
期間経過後、ポンプ26が付勢される。この結果、水が
水供給パイプ24を通ってノズルから勢いよく中和塔1
2の内部へと噴射される。この強制的に送られる水によ
って中和剤39の表面の前記反応成分は洗浄され傾斜角
5度の底盤20に徐々に堆積する。これらの洗浄され底
盤20に堆積された反応成分もまた無害であることは勿
論である。そして、これらは清掃口30を開くことによ
って取り除かれる。このように洗浄水の噴霧によって新
たな反応表面が露呈した中和剤39に対し、第1ダクト
14から排ガスが送り込まれる。
【0015】中和剤39が徐々に減少されたことが確認
された場合、たとえば、防爆弁36を含む蓋部材29を
開成し新たな中和剤39を中和塔12内へ導入すればよ
い。オーバーフロー用孔部34は前記水供給パイプ24
からの中和剤洗浄用の水がここに到達するとき、余剰な
水として外部へ導出するためのものである。
【0016】
【発明の効果】本発明によれば、以上のように排ガスを
乾燥状態にある中和剤で十分除去することができる。し
かもこの中和剤は中和塔内に十分に且つランダムに積層
されているために排ガスとまんべんなく接触することが
でき、効果的に排ガス中の有害成分を化学反応によって
除去することができる。
【0017】中和剤はさらに水供給手段からの洗浄水に
よってその反応成分が表面から除去され新たな反応表面
を外部に露呈させることができる。結局、この中和剤は
繰り返し使用することが可能となる。本発明は極めて簡
単な構成であり、しかも従来技術に比し、耐久性にも優
れることから極めて経済的であるという効果が得られ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の排ガス処理装置にかかる概略縦断説明
図である。
【符号の説明】
10…排ガス処理装置 12…中和塔 14…第1ダクト 18…第2ダク
ト 24…水供給パイプ 26…ポンプ 39…中和剤

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】排ガスを発生する焼却装置の排気口に連通
    する第1のダクトと前記第1ダクトが連結される中和塔
    と前記中和塔の排出口に連結される第2のダクトとから
    なり、 前記中和塔の内部に水供給手段を配設するとともにペレ
    ット状の多数の中和剤を前記中和塔内に装填し前記第1
    ダクトから挿入される排ガス中の成分を前記中和塔内の
    中和剤と反応させて前記第2ダクトから外部へ排出し、 一方、所定時間経過後に前記水供給手段を付勢して前記
    中和塔内へ水を供給して前記中和剤表面に付着した反応
    成分を除去することを特徴とする排ガス処理装置。
  2. 【請求項2】請求項1記載の装置において、水供給手段
    は中和塔内に設けられた水供給パイプと前記水供給パイ
    プに装着された多数のノズルと前記水供給パイプに強制
    的に水を送給するためのポンプとからなることを特徴と
    する排ガス処理装置。
  3. 【請求項3】請求項1または2記載の装置において、中
    和剤がペレット状であることを特徴とする排ガス処理装
    置。
JP6245606A 1994-10-11 1994-10-11 排ガス処理装置 Pending JPH08108039A (ja)

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JP6245606A JPH08108039A (ja) 1994-10-11 1994-10-11 排ガス処理装置
US08/369,696 US5612004A (en) 1994-10-11 1995-01-06 Exhaust gas processing system

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US5612004A (en) 1997-03-18

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