JPH08102281A - 電子ビーム加工装置 - Google Patents

電子ビーム加工装置

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JPH08102281A
JPH08102281A JP6237859A JP23785994A JPH08102281A JP H08102281 A JPH08102281 A JP H08102281A JP 6237859 A JP6237859 A JP 6237859A JP 23785994 A JP23785994 A JP 23785994A JP H08102281 A JPH08102281 A JP H08102281A
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electron beam
converging
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focal length
lens
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JP6237859A
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Hiroshi Noguchi
洋 野口
Masashi Yamakawa
正志 山川
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K15/00—Electron-beam welding or cutting
    • B23K15/02—Control circuits therefor

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  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 棒状陰極２２の経時変化に伴う電子ビームの
焦点位置の変動を自動補正して溶接不良を未然に防止す
る。 【構成】 棒状電極２２に印加するバイアス電圧をモニ
タするバイアス電圧検出回路２７を設け、予め測定した
バイアス電圧と焦点位置の変動との関係から焦点位置の
変動を零にするために、収束コイル４、５に流すレンズ
電流値をレンズ電流自動補正回路２８により設定して、
棒状電極２２の経時変化に伴う焦点距離の変動を防止す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、電子ビーム加工装
置、特に電子ビームの焦点距離を常に一定にするように
磁界レンズに供給されるレンズ電流あるいは焦点補正用
電界レンズを自動補正する制御回路を備えた電子ビーム
加工装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の電子ビーム加工装置の一
例としては、特開昭５９ー１２８７４８号公報に記載さ
れたものが知られている。図６はこの公報に記載された
従来の電子ビーム加工装置の回路図である。図６に示す
ように、従来の電子ビーム加工装置は、被溶接物２を収
容した溶接室１と、電子ビーム３を発生する電子ビーム
発生手段としての電子銃６と、被溶接物２と電子銃６と
の間に直列に配置され、電子銃６により発生された電子
ビーム３を収束させて溶接室１内の被溶接物２へ照射さ
せる２つの収束コイル４、５とを有する。電子銃６は、
後述するように、電子ビーム３を発生させるためのフィ
ラメント電源７、衝撃用電源８、及びバイアス電源９に
より給電される。
【０００３】符号１０は電子ビーム３を加速する加速用
電源で、この加速用電源１０は平滑用コンデンサ１４、
整流器１５、及び昇圧変圧器１６からなり、昇圧変圧器
１６の一次巻き線側は電圧調整器１７を介して交流電源
２０に接続され、その二次巻き線側は整流器１５の入力
側に接続され、整流器１５の出力側は、一端を衝撃用電
源８及びバイアス電源９に接続されると共に、他端を、
電子ビーム電流を検出する検出用抵抗１３を介して接地
されている。また、整流器１５の両出力端間には、互い
に直列接続された加速用電源電圧検出用の分圧抵抗器１
１、１２が接続され、これら分圧抵抗器１１、１２の中
間点は電圧調整器１７を制御するコントローラ１８に接
続され、コントローラ１８は加速電流設定器１９に接続
されている。
【０００４】電子銃６は、フィラメント２１と、そのフ
ィラメント２１内に配置された棒状陰極２２と、フィラ
メント２１の周囲に配置されたウエネルト電極２３とか
なり、フィラメント２１はフィラメント電源７に接続さ
れ、棒状陰極２２は衝撃電源８に接続され、ウエネルト
電極２３はバイアス電源９に接続されている。バイアス
電源９は電子ビーム電流設定器２５に接続されたコント
ローラ２４によりウエネルト電極２３へ供給する電流を
制御される。コントローラ２４は整流器１５の出力端の
一方と検出抵抗器１３との間に接続されている。
【０００５】また、符号２７は、収束コイル４、５へ供
給する電流値を設定することにより収束コイル４、５の
焦点位置を設定するための収束コイル電流設定器であ
る。
【０００６】次に、上記従来装置の動作について説明す
る。まず、フィラメント電源７から供給される電流によ
り電子銃６のフィラメント２１が加熱され、そこから発
生する熱電子を衝撃電源８により加速して棒状陰極２２
に当てて衝撃加熱することによりその表面より熱電子を
発生させる。この発生した熱電子を、加速用電源１０で
加速することにより、電子ビーム３が発生する。この発
生した電子ビーム３を収束コイル４、５により収束させ
溶接室１内の被溶接物２に当てることにより、被溶接物
２の接合面を溶融して、溶接を行う。
【０００７】一方、電子ビーム３の電流量の制御は、三
極式真空管のグリッドと同じ働きをするウエネルト電極
２３に、棒状陰極２２に対して負の電位であるバイアス
電源７より負電位を与えて行うが、電子ビーム電流量
は、検出抵抗器１３により検出してこれをコントローラ
２４にフィードバックする。これは電子ビーム電流設定
器２５の設定電流によって制御される。
【０００８】また、電子ビーム３を得るための加速電源
１０は、交流電源２０の交流電圧を電圧調整器１７によ
り所定電圧に変圧して昇圧変換器１６の一次側に供給さ
れ、昇圧変換器１６により昇圧された二次電圧を整流器
１５、平滑コンデンサ１４を介して整流して直流高電圧
を発生させる。この直流高電圧の制御は、分圧抵抗器１
１、１２によりコントローラ１８にフィードバックさ
れ、加速電圧設定器１９の設定電圧になるように制御さ
れる。
【０００９】また、収束コイル４、５の焦点位置の制御
は、電子ビーム電流設定器２５により設定された設定電
流値に対して発生する熱電子量に対応して、予め測定し
た最適焦点距離を得るために収束コイル４、５に流すコ
イル電流値をレンズ電流設定器２７により設定する。
【００１０】尚、同一の被溶接物２を溶接する場合に
は、通常は、電子ビーム電流設定器２５及びレンズ電流
設定器２７により設定する各電流値は、溶接中は変化さ
せないで、同一の加工条件に設定して行う。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の電子ビーム
加工装置においては、収束コイル電流は、電子ビーム電
流設定値に対して設定された一定値に制御される。ここ
で、熱電子の衝撃加熱により棒状陰極２２の外周側面が
消耗してフィラメント２１と棒状陰極２２の外周との間
の距離が増大した場合、フィラメント２１と棒状陰極２
２との電界強度が弱くなるため、棒状陰極２２の加熱温
度が低下する。その結果、同一電子ビーム電流設定値に
設定しておいても発生する熱電子量が経時的に変化する
ため焦点距離もそれに伴い変化する。この場合、オペレ
ータが焦点距離を日常的に監視して棒状陰極２２の加速
電源１０を調整するか、収束コイル電流値を調整して焦
点距離を人為的に合わせるという繁雑で、熟練を要する
作業が必要となり、この作業に失敗すると溶接不良が発
生するという問題点があった。
【００１２】そこで本発明は、上述した従来例の問題点
を解決するためになされたもので、棒状陰極の経時変化
に伴う電子ビームの焦点距離位置の変動を自動補正する
ことにより加工不良を未然に防止することができる電子
ビーム加工装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係る電
子ビーム加工装置は、電子ビームを発生する電子ビーム
発生手段と、その電子ビーム発生手段により発生された
電子ビームを所定位置に収束させるビーム収束手段と、
前記電子ビーム発生手段へ供給されるバイアス電圧をモ
ニタするモニタ手段と、そのモニタ手段の出力に応じて
電子ビームの焦点距離を常に一定にするように、前記ビ
ーム収束手段へ供給されるレンズ電流を自動補正する補
正回路とから構成される。
【００１４】請求項２の発明に係る電子ビーム加工装置
は、電子ビームを発生する電子ビーム発生手段と、その
電子ビーム発生手段により発生された電子ビームを所定
位置に収束させるビーム収束手段と、前記電子ビーム発
生手段の陰極温度をモニタするモニタ手段と、そのモニ
タ手段の出力に応じて電子ビームの焦点距離を常に一定
にするように、前記ビーム収束手段へ供給されるレンズ
電流を自動補正する補正回路とから構成される。
【００１５】請求項３の発明に係る電子ビーム加工装置
は、電子ビームを発生する電子ビーム発生手段と、その
電子ビーム発生手段により発生された電子ビームを所定
位置に収束させるビーム収束手段と、前記電子ビーム発
生手段へ供給されるバイアス電圧をモニタするモニタ手
段と、前記ビーム収束手段の焦点距離を補正するための
焦点補正用電界レンズと、前記モニタ手段の出力に応じ
て電子ビームの焦点距離を常に一定にするように前記焦
点補正用電界レンズを自動補正制御する補正回路とから
構成される。
【００１６】請求項４の発明に係る電子ビーム加工装置
は、電子ビームを発生する電子ビーム発生手段と、その
電子ビーム発生手段により発生された電子ビームを所定
位置に収束させるビーム収束手段と、前記電子ビーム発
生手段の陰極温度をモニタするモニタ手段と、前記ビー
ム収束手段の焦点距離を補正するための焦点補正用電界
レンズと、前記モニタ手段の出力に応じて電子ビームの
焦点距離を常に一定にするように前記焦点補正用電界レ
ンズを自動補正制御する補正回路とから構成される。
【００１７】
【作用】請求項１の発明における電子ビーム加工装置で
は、前記電子ビーム発生手段へ供給されるバイアス電圧
を前記モニタ手段によりモニタして、そのモニタ手段の
出力に応じて電子ビームの焦点距離が常に一定になるよ
うに、補正回路により前記ビーム収束手段へ供給される
レンズ電流を自動的に補正する。
【００１８】請求項２の発明における電子ビーム加工装
置では、前記電子ビーム発生手段の陰極温度を前記モニ
タ手段によりモニタして、そのモニタ手段の出力に応じ
て電子ビームの焦点距離が常に一定になるように、補正
回路により前記ビーム収束手段へ供給されるレンズ電流
を自動的に補正する。
【００１９】請求項３の発明における電子ビーム加工装
置では、前記電子ビーム発生手段へ供給されるバイアス
電圧を前記モニタ手段によりモニタして、そのモニタ手
段の出力に応じて電子ビームの焦点距離が常に一定にな
るように、補正回路により前記焦点補正用電界レンズを
自動的に補正する。
【００２０】請求項４の発明における電子ビーム加工装
置では、前記電子ビーム発生手段の陰極温度を前記モニ
タ手段によりモニタして、そのモニタ手段の出力に応じ
て電子ビームの焦点距離が常に一定になるように、補正
回路により前記焦点補正用電界レンズを自動的に補正す
る。
【００２１】
【実施例】以下、本発明の実施例につき添付図面を参照
して説明する。 実施例１．図１は本発明の第１実施例による電子ビーム
加工装置を表す回路図である。この図において、符号１
ー２５及び２７は上述した図６の従来例と同一の構成部
材を示している。本実施例は、これらの構成部材以外
に、バイアス電源９から電子銃６のウエネルト電極２３
へ供給されるバイアス電流を検出するモニタ手段として
のバイアス電流検出回路２６と、フィラメント電源７及
び衝撃用電源８から電子銃６のフィラメント２１及び棒
状陰極２２へそれぞれ供給される電流を、棒状陰極２２
の経時変化に応じて自動的に補正するレンズ電流自動補
正回路２８とを備えている。尚、収束レンズ４、５は本
発明のビーム収束手段を構成し、レンズ電流自動補正回
路２８は、本発明のモニタ手段の出力に応じて電子ビー
ムの焦点距離を常に一定にするように、ビーム収束手段
へ供給されるレンズ電流を自動補正する補正回路を構成
する。
【００２２】次にこの実施例の動作について説明する。
フィラメント電源７から供給される電流により電子銃６
のフィラメント２１が加熱され、そこから発生する熱電
子を衝撃電源８により加速して棒状陰極２２に当てて衝
撃加熱することによりその表面より熱電子を発生させ
る。このようにして発生した熱電子を、加速用電源１０
で加速することにより、電子ビーム３が発生する。
【００２３】棒状陰極２２が経時変化して棒状陰極２２
の外周とフィラメント２１の内周までの距離が増大する
と、一般的に棒状陰極２２の温度が低下して発生する熱
電子量が減少する。そこで、ビーム電流（電子ビームの
発生量）が一定になるように、バイアス電源９からウエ
ネルト電極２３へ印加されるバイアス電圧を制御する
が、バイアス電圧を変えると、電子ビーム３の焦点距離
が変動する。
【００２４】本発明では、バイアス電圧検出回路２６で
検出したバイアス電圧を基にして、レンズ電流自動補正
回路２８で補正した値をレンズ電流設定器２７の設定値
とすることにより、棒状陰極２２が経時変化した場合に
も、棒状陰極２２の焦点距離を一定に保つことができ
る。
【００２５】図７は本実施例による測定結果を示すグラ
フで、縦軸はバイアス電圧、棒状陰極２２の温度（図７
の左側）、及び電子銃６すなわち電子ビーム３の焦点位
置の変動値（図７の右側）を表し、横軸は棒状陰極２２
の加熱時間を表している。
【００２６】図７から明らかなように、棒状陰極６の加
熱時間が長くなると、棒状陰極６の経時変化（外周径の
減少）によりその温度が低下する。また、ビーム電流が
一定になるように制御するためのバイアス電圧も低下す
る。このような棒状陰極温度及びバイアス電圧の変化に
伴い、上記従来例で述べたように、レンズ電流を一定値
にしておくと焦点位置の変動が大きくなっていく。
【００２７】例えば、レンズ電流値（収束コイル４、５
へ供給される電流値）を１３００ｍＡに一定にした場
合、棒状陰極加熱時間が約１２５Ｈｒ（時間）後に焦点
位置の変動値は約１ｍｍとなり、バイアス電圧は約１２
２２Ｖ、棒状陰極温度は約２７８０°Ｋである。この焦
点位置の変動を零にする、すなわち加熱時間が０（零）
Ｈｒ時点の焦点位置にするには、レンズ電流値を１３２
０ｍＡにすればよいことが実験により確かめられた。従
って、棒状陰極加熱時間１２５Ｈｒにおけるバイアス電
圧とレンズ電流値及び棒状陰極温度とレンズ電流値との
関係が決定できる。この関係をバイアス電圧及び棒状陰
極温度の各変化値毎に実験により求めておけば、バイア
ス電圧又は棒状陰極温度をモニタしておくことにより焦
点位置の変動値が零になるようなレンズ電流値を設定で
きる。
【００２８】本実施例による結果を図７の焦点位置の変
動曲線（レンズ電流補正有り）に示す。この図から、焦
点位置は約３００Ｈｒの加熱時間にわたり、殆ど変動が
無くなっていることが分かる。
【００２９】尚、上記実施例では、経時変化により陰極
温度が低下する一般的な場合について説明したが、材
質、構成の相違により、陰極温度が時間と共に上昇して
いく場合にも、上記実施例と同様の作用効果を奏する。
【００３０】実施例２．図２は本発明の第２実施例によ
る電子ビーム加工装置を表す回路図である。この実施例
は、図１の回路において、バイアス電源９からウエネル
ト電極２３へ供給されるバイアス電圧を検出するバイア
ス電圧検出回路２６に代えて、棒状陰極２２の近傍の雰
囲気温度を測定する陰極温度測定装置２９を設け、この
陰極温度測定装置２９の出力をレンズ電流自動補正回路
２８へ入力し、このレンズ電流自動補正回路２８により
レンズ電流設定器２７の設定値を検出温度に応じて変更
制御するようにしたもので、その他の構成及び作用は図
１の第１実施例と同様である。尚、この実施例では、棒
状陰極２２の検出温度の低下に応じてレンズ電流設定器
２７の設定値を増大させる。
【００３１】このようして、陰極温度測定装置２９によ
り測定した陰極温度を基にしてレンズ電流自動補正回路
２８で補正した値をレンズ電流設定器２７の設定値とす
ることにより、棒状陰極２２の経時変化により陰極温度
が変化した場合にも、焦点距離を略一定に保つことがで
きる。
【００３２】実施例３．図３は本発明の第３実施例によ
る電子ビーム加工装置を表す回路図である。この実施例
では、上記図１の第１実施例のように、バイアス電圧検
出回路２６により検出したバイアス電圧に基づき、収束
コイル４、５に与えるレンズ電流を補正するのではな
く、別個に設けた焦点補正用電界レンズ３０によりビー
ム焦点を補正するようにしたものである。すなわち、図
４に示すように、焦点補正用電界レンズ３０は、電子ビ
ーム３の進行方向に所定距離を存して配置され、相互に
絶縁されたリング状電極３０ａ、３０ｂと、それらのリ
ング状電極３０ａ、３０ｂに電圧を印加する電源３０ｃ
とからなり、電源３０ｃよりリング状電極３０ａ、３０
ｂへ適宜電圧を印加することにより、電界レンズが形成
される。
【００３３】電源３０ｃは焦点自動補正回路２８ａから
の信号により制御されて、リング状電極３０ａ、３０ｂ
の電圧を適宜調節することにより、電界レンズが変化し
てビーム焦点を補正する。焦点自動補正回路２８ａは、
図１の第１実施例のレンズ電流自動補正回路２８と略同
様の働きをするが、バイアス電圧検出回路２６により検
出したバイアス電圧に基づき、収束コイル４、５に与え
るレンズ電流を補正するのではなく、焦点補正用電界レ
ンズ３０の電源３０ｃの電圧を調節するもので、検出さ
れたバイアス電圧が低下するにつれて電源電圧が増大す
るように制御する。
【００３４】このようにすれば、収束コイル４、５に流
すレンズ電流値は従来通りの設定値のままに保持してお
けばよいので、制御系の大幅な変更が不要となる。
【００３５】尚、焦点自動補正回路２８ａは、モニタ手
段の出力に応じて電子ビームの焦点距離を常に一定にす
るように、ビーム収束手段の焦点距離を補正するための
焦点補正用電界レンズを自動補正制御する補正回路を構
成する。
【００３６】実施例４．図５は本発明の第４実施例によ
る電子ビーム加工装置を表す回路図である。上記図３及
び４の実施例３では、バイアス電圧をモニタして焦点補
正用電界レンズ３０により焦点の移動を補正したが、こ
の実施例では、棒状電極２２の温度をモニタして検出温
度に基づいて焦点補正用電界レンズ３０を制御すること
により焦点を補正するようにしている。
【００３７】すなわち、この実施例は、図３の回路にお
いて、ウエネルト電極２３へ供給されるバイアス電圧を
検出するバイアス電圧検出回路２６に代えて、棒状陰極
２２の近傍の雰囲気温度を測定する陰極温度測定装置２
９を設け、この陰極温度測定装置２９の出力を焦点自動
補正回路２８ａへ入力し、この焦点自動補正回路２８ａ
により焦点補正用電界レンズ３０の電源３０ｃの電圧を
検出温度に応じて変更制御するようにしたもので、その
他の構成及び作用は図３の第３実施例と同様である。
【００３８】
【発明の効果】以上のように、請求項１の発明によれ
ば、電子ビーム加工装置は、電子ビームを発生する電子
ビーム発生手段と、その電子ビーム発生手段により発生
された電子ビームを所定位置に収束させるビーム収束手
段と、前記電子ビーム発生手段へ供給されるバイアス電
圧をモニタするモニタ手段と、そのモニタ手段の出力に
応じて電子ビームの焦点距離を常に一定にするように、
前記ビーム収束手段へ供給されるレンズ電流を自動補正
する補正回路とから構成されるので、バイアス電圧の変
化に連動してレンズ電流を制御することにより、電子ビ
ームの焦点距離を一定に保つことができ、溶接等の加工
の品質の維持、管理が容易になる効果がある。
【００３９】また、請求項２の発明によれば、電子ビー
ム加工装置は、電子ビームを発生する電子ビーム発生手
段と、その電子ビーム発生手段により発生された電子ビ
ームを所定位置に収束させるビーム収束手段と、前記電
子ビーム発生手段の陰極温度をモニタするモニタ手段
と、そのモニタ手段の出力に応じて電子ビームの焦点距
離を常に一定にするように、前記ビーム収束手段へ供給
されるレンズ電流を自動補正する補正回路とから構成さ
れるので、陰極温度の変化に連動してレンズ電流を制御
することにより、電子ビームの焦点距離を一定に保つこ
とができ、溶接等の加工の品質の維持、管理が容易にな
る効果がある。
【００４０】さらに、請求項３の発明によれば、電子ビ
ーム加工装置は、電子ビームを発生する電子ビーム発生
手段と、その電子ビーム発生手段により発生された電子
ビームを所定位置に収束させるビーム収束手段と、前記
電子ビーム発生手段へ供給されるバイアス電圧をモニタ
するモニタ手段と、前記ビーム収束手段の焦点距離を補
正するための焦点補正用電界レンズと、前記モニタ手段
の出力に応じて電子ビームの焦点距離を常に一定にする
ように前記焦点補正用電界レンズを自動補正制御する補
正回路とから構成されるので、バイアス電圧の変化に連
動して焦点補正用電界レンズの電圧を調節することによ
り、電子ビームの焦点距離を一定に保つことができ、溶
接等の加工の品質の維持、管理が容易になる上、収束コ
イルに流すレンズ電流値は従来通りの設定値のままに保
持しておけばよいので、制御系の大幅な変更が不要とな
る。
【００４１】さらにまた、請求項４の発明によれば、電
子ビーム加工装置は、電子ビームを発生する電子ビーム
発生手段と、その電子ビーム発生手段により発生された
電子ビームを所定位置に収束させるビーム収束手段と、
前記電子ビーム発生手段の陰極温度をモニタするモニタ
手段と、前記ビーム収束手段の焦点距離を補正するため
の焦点補正用電界レンズと、前記モニタ手段の出力に応
じて電子ビームの焦点距離を常に一定にするように前記
焦点補正用電界レンズを自動補正制御する補正回路とか
ら構成されるので、陰極温度の変化に連動して焦点補正
用電界レンズの電圧を調節することにより、電子ビーム
の焦点距離を一定に保つことができ、溶接等の加工の品
質の維持、管理が容易になる上、収束コイルに流すレン
ズ電流値は従来通りの設定値のままに保持しておけばよ
いので、制御系の大幅な変更が不要となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の第１実施例による電子ビーム加工
装置のブロック回路図である。
【図２】 この発明の第２実施例による電子ビーム加工
装置のブロック回路図である。
【図３】 この発明の第３実施例による電子ビーム加工
装置のブロック回路図である。
【図４】 図３の電子ビーム加工装置の要部のブロック
図である。
【図５】 この発明の第４実施例による電子ビーム加工
装置のブロック回路図である。
【図６】 従来例による電子ビーム加工装置のブロック
回路図である。
【図７】 棒状陰極の加熱時間とバイアス電圧、棒状陰
極温度及び従来例と本発明による焦点位置の変動との関
係を示すグラフである。
【符号の説明】
３ 電子ビーム、４，５ ビーム収束手段としての収束
レンズ、６ 電子ビーム発生手段としての電子銃、２６
モニタ手段としてのバイアス電圧検出回路、２８ 補
正回路としてのレンズ電流自動補正回路、２８ａ 補正
回路としての焦点自動補正回路、２９ モニタ手段とし
ての陰極温度測定装置、３０ 焦点補正用電界レンズ。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 電子ビームを発生する電子ビーム発生手
    段と、その電子ビーム発生手段により発生された電子ビ
    ームを所定位置に収束させるビーム収束手段と、前記電
    子ビーム発生手段へ供給されるバイアス電圧をモニタす
    るモニタ手段と、そのモニタ手段の出力に応じて電子ビ
    ームの焦点距離を常に一定にするように、前記ビーム収
    束手段へ供給されるレンズ電流を自動補正する補正回路
    とを備えたことを特徴とする電子ビーム加工装置。
  2. 【請求項２】 電子ビームを発生する電子ビーム発生手
    段と、その電子ビーム発生手段により発生された電子ビ
    ームを所定位置に収束させるビーム収束手段と、前記電
    子ビーム発生手段の陰極温度をモニタするモニタ手段
    と、そのモニタ手段の出力に応じて電子ビームの焦点距
    離を常に一定にするように、前記ビーム収束手段へ供給
    されるレンズ電流を自動補正する補正回路とを備えたこ
    とを特徴とする電子ビーム加工装置。
  3. 【請求項３】 電子ビームを発生する電子ビーム発生手
    段と、その電子ビーム発生手段により発生された電子ビ
    ームを所定位置に収束させるビーム収束手段と、前記電
    子ビーム発生手段へ供給されるバイアス電圧をモニタす
    るモニタ手段と、前記ビーム収束手段の焦点距離を補正
    するための焦点補正用電界レンズと、前記モニタ手段の
    出力に応じて電子ビームの焦点距離を常に一定にするよ
    うに前記焦点補正用電界レンズを自動補正制御する補正
    回路とを備えたことを特徴とする電子ビーム加工装置。
  4. 【請求項４】 電子ビームを発生する電子ビーム発生手
    段と、その電子ビーム発生手段により発生された電子ビ
    ームを所定位置に収束させるビーム収束手段と、前記電
    子ビーム発生手段の陰極温度をモニタするモニタ手段
    と、前記ビーム収束手段の焦点距離を補正するための焦
    点補正用電界レンズと、前記モニタ手段の出力に応じて
    電子ビームの焦点距離を常に一定にするように前記焦点
    補正用電界レンズを自動補正制御する補正回路とを備え
    たことを特徴とする電子ビーム加工装置。
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