JPH08100028A - 反応性ケイ素基を有するイソブチレン系重合体の製造法 - Google Patents

反応性ケイ素基を有するイソブチレン系重合体の製造法

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JPH08100028A
JPH08100028A JP25733394A JP25733394A JPH08100028A JP H08100028 A JPH08100028 A JP H08100028A JP 25733394 A JP25733394 A JP 25733394A JP 25733394 A JP25733394 A JP 25733394A JP H08100028 A JPH08100028 A JP H08100028A
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isobutylene
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general formula
reactive silicon
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Application number
JP25733394A
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English (en)
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Hiroshi Fujisawa
博 藤沢
Yoshinori Yamanaka
祥道 山中
Yoshikuni Deguchi
義国 出口
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【構成】ヒドロシリル化反応を密閉系で、かつ比較的高
い温度で行うことにより、反応性ケイ素基を有するイソ
ブチレン系重合体を製造する。オレフィン基を有するイ
ソブチレン系重合体とヒドロシラン化合物とのヒドロシ
リル化反応を、密閉系で、かつ反応温度40℃以上で行
うことにより、反応性ケイ素基を有するイソブチレン系
重合体を製造する。 【効果】 反応性ケイ素基を有するイソブチレン系重合
体を製造する際に用いる高価な白金錯体触媒の使用量を
低減することができ、その結果製造原価を下げ、より安
価な製品を市場に提供することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は接着剤、粘着剤、塗料、
コーティング材、シーリング材、電気電子用封止材とし
て有用な、反応性ケイ素基を有するイソブチレン系重合
体の製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】反応性ケイ素基を有する重合体は、接着
剤、コーティング材、改質剤および各種シーリング材の
原料として有用である。反応性ケイ素基としては、ケイ
素原子上の置換基として、水素原子、アルコキシ基、ア
シルオキシ基、ハロゲン原子等を有するケイ素基を挙げ
ることができるが、例えば、特開昭63−6041号公
報には、アルコキシシリル基を有するイソブチレン系重
合体が、湿分などによって硬化し、耐候性、耐水性、耐
熱性、電気絶縁性、ガスバリアー性等に優れたゴム弾性
体を与えることが示されている。上記特開昭63−60
41号公報には、ビニリデン型又はビニル型オレフィン
を有するイソブチレン系重合体のヒドロシリル化反応に
より、反応性ケイ素基を有するイソブチレン系重合体が
得られることが簡単に述べられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ヒドロシリル
化反応時に用いるヒドロシリル化触媒は、ほとんどが高
価な貴金属触媒であり、製品化されたイソブチレン系重
合体も高価格となることが避けられなかった。上記特開
昭63−6041号公報には、触媒の必要量について
は、何ら記載されておらず、今回、本発明者らが、白金
錯体触媒の必要量について検討したところ、上記特開昭
63−6041号公報、製造例1に準じた場合に必要な
白金錯体触媒量が、イソブチレン系重合体の末端のオレ
フィン量にたいして、モル比が1×10-3当量程度であ
ることが明らかになった。
【0004】また一般に、ヒドロシリル化反応速度は反
応温度に依存し、温度が高くなるほど反応速度は大きく
なることから、本発明者らは反応温度を上げることによ
り、白金錯体触媒量を減らした場合でも、十分な反応速
度でヒドロシリル化反応をおこなえると考えた。しか
し、反応温度を上げることにより、逆に、オレフィンを
有するイソブチレン系重合体が多量に残存し、反応性ケ
イ素基を有するイソブチレン系重合体の収率が低くなる
ことがあり、反応温度を上げても何ら利点がないという
問題が生じた。本発明の目的は、反応性ケイ素基を有す
るイソブチレン系重合体の収率を下げることなく、該重
合体を製造する際に用いる高価な白金錯体触媒の使用量
を低減することにより製造原価を下げ、より安価な製品
を市場に提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは耐
圧容器中、密閉系での、反応温度40℃以上でのヒドロ
シリル化反応について検討をおこない、本発明を完成し
た。ヒドロシリル化反応を耐圧容器中、密閉系でおこな
うことにより、反応性ケイ素基を有するイソブチレン系
重合体の収率を下げることなく、白金錯体触媒量を低減
することが可能となった。すなわち本発明は、一般式
(I):
【0006】
【化6】
【0007】〔式中、R1、R2、R3は水素原子又は炭
素数1〜5の1価の有機基を示し、同じであっても異な
っていてもよい。R4は炭素数1〜5の1価の有機基を
示し、aは0〜2の整数であり、R4が2個以上となる
場合は、同じであっても異なっていてもよい。Xはハロ
ゲン原子、アルコキシ基又はオルガノシロキシ基を示
し、2個以上となる場合は同じであっても異なっていて
もよい。〕又は一般式(II):
【0008】
【化7】
【0009】〔式中、R1、R2、R3、R4、Xおよびa
は上記に同じ。〕で表される反応性ケイ素基を有するイ
ソブチレン系重合体を密閉系でのヒドロシリル化反応に
より得ることを特徴とする反応性ケイ素基を有するイソ
ブチレン系重合体の製造法に関する。さらに、本発明
は、一般式(III)
【0010】
【化8】
【0011】〔式中、R5、R6、R7は水素原子又は炭
素数1〜5の1価の有機基を示し、同じであっても異な
っていてもよい。〕で表される基を有するイソブチレン
系重合体の、一般式(IV):
【0012】
【化9】
【0013】〔式中、R4は炭素数1〜5の1価の有機
基を示し、aは0〜2の整数であり、R4が2個以上と
なる場合は、同じであっても異なっていてもよい。Xは
ハロゲン原子、アルコキシ基又はオルガノシロキシ基を
示し、2個以上となる場合は、同じであっても異なって
いてもよい。〕で表される化合物によるヒドロシリル化
反応を、白金錯体を触媒として、密閉系、反応温度40
℃以上でおこなうことを特徴とする反応性ケイ素基を有
するイソブチレン系重合体の製造法に関する。また、本
発明においては、下記の態様が好ましい。 1.上記一般式(III)で表される基が、下記(A)も
しくは(B):
【0014】
【化10】
【0015】または(A)と(B)の混合物であり、さ
らに上記一般式(IV)で表される化合物が、トリクロロ
シラン、メチルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン
よりなる群より選ばれること、 2.上記ヒドロシリル化反応の触媒として用いる白金錯
体の使用量を上記一般式(III) で表される基にたいし
て、モル比で5×10-4当量以下とすること、本発明に
おける、反応性ケイ素基とは、ケイ素原子上の置換基と
して、ハロゲン原子、アルコキシ基、又はオルガノシロ
キシ基を示すが、具体的には、以下の基が好ましい。
【0016】
【化11】
【0017】本発明において、上記一般式(III) で表さ
れる基としては、以下の構造を有するものが好ましい。
【0018】
【化12】
【0019】また、さらに好ましいのは、以下に示す構
造を有するものである。
【0020】
【化13】
【0021】本発明において、上記一般式(IV)で表さ
れる化合物としては、例えば、トリクロロシラン、メチ
ルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン、トリブロモ
シラン、メチルジブロモシラン、ジメチルブロモシラ
ン、トリメトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジ
メチルメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジ
エトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、トリメチル
シロキシジクロロシラン、トリメチルシロキシメチルク
ロロシラン、トリメチルシロキシジメトキシシラン、ト
リメチルシロキシメチルクロロシラン等を用いるが、好
ましいものとしては、トリクロロシラン、メチルジクロ
ロシラン、ジメチルクロロシランを挙げることができ
る。また、本発明においては、上記一般式(IV)で表さ
れる化合物は、上記一般式(III)で表される基が1種類
の単一の基であっても、2種類以上よりなるものであっ
ても、通常、全ての炭素−炭素二重結合にたいして、モ
ル比で0.1〜50倍量使用するが、0.5〜3倍量使
用することがより好ましい。
【0022】本発明において、ヒドロシリル化反応の触
媒としては、通常、周期表上第V族、第VI族、又は第VI
II族の金属錯体又は金属粉末を使用するが、白金錯体又
はロジウム錯体が好ましい。具体的には、例えば、H2
PtCl6・6H2O、PhCl(PPh33、白金アセ
チルアセトナート錯体、白金ジビニルテトラメチルジシ
ロキサン錯体、白金粉末等が好ましい。尚、使用される
触媒が高価なものであるほど本発明の有用性が大きく、
好ましいが、安価な触媒を使用してヒドロシリル化反応
を行うことも本発明の範囲に含まれる。また、本発明に
おいて、ヒドロシリル化反応時に用いる触媒量は、上記
一般式 (III)で表される基の量(2種類以上ある場合は
その総量)にたいして、モル比で、通常1×10-6〜1
×10-2当量であるが、好ましくは、1×10-6〜5×
10-4当量である。
【0023】本発明において、ヒドロシリル化反応温度
は、通常40〜300℃であるが、好ましくは50〜1
50℃である。反応温度が40℃よりも低いと、ヒドロ
シリル化反応が遅くなってしまい、300℃以上では、
上記一般式(IV)で表される化合物が分解する場合があ
る。また、ヒドロシリル化反応の反応時間は、通常10
〜1800分であるが、好ましくは30〜900分であ
る。また、上記ヒドロシリル化反応をおこなう際には、
必要に応じて、希釈剤を用いて反応系の粘度を下げるこ
とも可能である。希釈剤としては、通常、一般的にヒド
ロシリル化反応の際に用いる溶剤あるいは各種可塑剤が
使用可能であり、具体的には、ヘプタン、オクタン、ヘ
キサン等の脂肪族炭化水素、又はトルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素、又は、PS−32(出光石油化学
製)、アルケン68、アロニックス200P(いずれも
日本石油洗剤製)等の炭化水素系可塑剤を挙げることが
できる。
【0024】本発明においては、上記ヒドロシリル化反
応の原料として使用する上記一般式(III)で表される基
を有するイソブチレン系重合体を、公知の方法に準じて
製造している〔J.P.Kennedy, B.Ivan 著、Designed Pol
ymers by CARBOCATIONIC MACROMOLECULAR ENGINEERIN
G, Hanser Publishers (1992)、特開昭63−6041
号公報、特開平1−261405号公報他〕。本発明に
おいては、カチオン重合法の一種であるイニファー法に
より、イソブチレン系重合体を製造している。通常、イ
ニファー法では、以下の成分を必須成分とし、これらを
低温で混合することによりイソブチレン系重合体を得て
いる。 イソブチレンを含有するカチオン重合性モノマー イニファー(開始剤兼連鎖移動剤) ルイス酸
【0025】本発明において、イソブチレンを含有する
カチオン重合性モノマーとは、イソブチレンのみからな
るモノマーに限定されるものではなく、イソブチレンの
50重量%(以下、単に「%」と記す)以下をイソブチ
レンと共重合し得るカチオン重合性モノマーで置換した
モノマーを意味する。イソブチレンと共重合し得るカチ
オン重合性モノマーとしては、例えば炭素数5〜12の
オレフィン類、共役ジェン類、ビニルエーテル類、芳香
族ビニル化合物類、ノルボルネン類、ビニルシラン類等
が挙げられる。これらの中でも炭素数5〜12のオレフ
ィン類および芳香族ビニル化合物類等が好ましい。
【0026】イソブチレンと共重合し得るカチオン重合
性モノマーとしては、通常、具体的には、2−ブテン、
2−メチル−1−ブテン、3−メチル−2−ブテン、ペ
ンテン、ヘキセン、シクロヘキセン、ビニルシクロヘキ
サン、5−エチリデンノルボルネン、5−プロピリデン
ノルボルネン、ブタジエン、イソプレン、シクロペンタ
ジエン、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテ
ル、イソブチルビニルエーテル、ビニルカルバゾール、
メトキシスチレン、エトキシスチレン、t−ブトキシス
チレン、ヘキセニルオキシスチレン、スチレン、α−メ
チルスチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、ク
ロロメチルスチレン、クロロスチレン、β−ビネン、イ
ンデン、ビニルトリクロロシラン、ビニルメチルジクロ
ロシラン、ビニルジメチルクロロシラン、ビニルジメチ
ルメトキシシラン、ビニルトリメチルシラン、ジビニル
ジクロロシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニル
ジメチルシラン、1,3−ジビニル−1,1,3,3−
テトラメチルジシロキサン、トリビニルメチルシラン、
γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキ
シシラン等を使用する。
【0027】これらの中では、2−ブテン、シクロペン
タジエン、5−エチリデンノルボルネン、イソブチルビ
ニルエーテル、メトキシスチレン、スチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等がより好ましい。これらイソブチレン
と共重合し得るカチオン重合性モノマーは、1種単独で
イソブチレンと併用してもよいし、2種以上で併用して
もよい。本発明において、使用するイニファーとして
は、通常、具体的には例えば
【0028】
【化14】
【0029】
【化15】
【0030】のような複数の重合開始点を有する化合物
が挙げられる。また、重合開始点は1個であっても、分
子内に官能基を有する以下のような化合物も、イニファ
ーとして好ましい。
【0031】
【化16】
【0032】本発明において、ルイス酸はカチオン重合
反応の触媒であり、通常、具体的には、BCl3、Al
Cl3、Al(CH2CH3)Cl2、TiCl4、SnC
4、SbCl5等を使用する。本発明において、イソブ
チレン系重合体の数平均分子量(Mn)およびMw/M
n値は、ポリスチレンゲルカラム〔昭和電工(株)製S
hodex K−804移動相:クロロホルム〕を用い
たGPCより求めている(ポリスチレン換算値)。本発
明において、GPCより求める数平均分子量(Mn)は
通常500〜300000であるが、好ましくは、10
00〜50000である。Mnが500より小さい場合
はイソブチレン系重合体特有の優れた特徴が無くなり、
また、300000より大きくなると重合体が固体状に
なり、作業性が極端に悪くなってしまう。
【0033】
【作用】一般に、ヒドロシリル化反応速度は反応温度に
依存し、温度が高くなるほど反応速度は大きくなり、反
応温度を上げることにより、白金錯体触媒量を減らした
場合でも、十分な反応速度でヒドロシリル化反応をおこ
なえると考えらた。しかし、ヒドロシリル化に用いるS
i−H基を有する化合物の沸点が比較的低い場合には、
通常おこなっている開放系での反応条件下では、反応温
度はSi−H基を有する化合物の沸点による制約をう
け、すなわち反応温度を上げすぎた場合には、Si−H
基を有する化合物が蒸発して反応系外に出ていってしま
うものと考えられる。これに対して本発明は、耐圧容器
中、密閉系でのヒドロシリル化反応を行うことにより、
反応温度を上げても、沸点の比較的低い、Si−H基を
有する化合物が、蒸発して反応系外へ放出されることな
く、その結果、反応性ケイ素基を有するイソブチレン系
重合体の収率が下がることがないものと考えられる。
【0034】
【実施例】次に、実施例をあげて、本発明をよりいっそ
う明らかにするが、本発明は、実施例により何ら限定さ
れるものではない。 実施例1 オレフィン基を末端に有するイソブチレン系重合体A
〔以下、これを単に重合体Aと記す〕10.0g〔オレ
フィン末端(計)1.37mmol〕、ヘプタン15m
l、白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体〔以
下、これを単にPt(ビニル)と記す〕1.37×10
-4mmol(キシレン溶液)、およびメチルジクロロシ
ラン(2.74mmol)0.285mlを、200m
lの耐圧ガラス製液化ガス採取管中に仕込み、密閉系1
00℃で、マグネチックスターラーを用いて10時間攪
拌した。その後、メタノール(24.7mmol)1.
0ml、オルトギ酸トリメチル(18.3mmol)
2.0mlを加えてから、80℃で2時間攪拌した後、
揮発分を留去した。重合体Aの特性を表1に、反応生成
物の特性を表2に示す。
【0035】実施例2 オレフィン基を有するイソブチレン系重合体B〔以下、
これを重合体Bと記す〕10.0g〔オレフィン末端
(計)1.49mmol〕、ヘプタン15ml、Pt
(ビニル)2.98×10-4mmol(キシレン溶
液)、およびメチルジクロロシラン(2.98mmo
l)0.310mlを200mlの耐圧ガラス製液化ガ
ス採取管中に仕込み、密閉系100℃で、12時間攪拌
した。その後、メタノール(24.7mmol)1.0
ml、オルトギ酸トリメチル(18.3mmol)2.
0mlを加えてから、80℃で2時間攪拌した後、揮発
分を留去した。重合体Bの特性を表1に、反応生成物の
特性を表2に併せて示す。
【0036】
【表1】
【0037】比較例1 ヒドロシリル化反応を開放系でおこなったこと以外は、
実施例1と同様にして反応をおこない、イソブチレン系
重合体の特性を評価した。結果を表2に併せて示す。
【0038】
【表2】
【0039】実施例1と比較例1より、ヒドロシリル化
反応を密閉系でおこなうことにより、イソブチレン系重
合体の末端へのシリル基の導入率が大幅に向上すること
が明らかになった。また、実施例1および実施例2にお
いては、特開昭63−6041号公報の製造例1に準じ
た場合に必要とされた量よりも少ない触媒量で、十分な
ヒドロシリル化反応を行うことができた。
【0040】
【発明の効果】本発明は、密閉系での、比較的高温での
ヒドロシリル化反応により、従来のヒドロシリル化反応
よりも極めて少量の触媒量で、収率を下げることなく、
反応性ケイ素基を有するイソブチレン系重合体を製造す
ることができる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I): 【化1】 〔式中、R1、R2、R3は水素原子又は炭素数1〜5の
    1価の有機基を示し、同じであっても異なっていてもよ
    い。R4は炭素数1〜5の1価の有機基を示し、aは0
    〜2の整数であり、R4が2個以上となる場合は、同じ
    であっても異なっていてもよい。Xはハロゲン原子、ア
    ルコキシ基又はオルガノシロキシ基を示し、2個以上と
    なる場合は同じであっても異なっていてもよい。〕又は
    一般式(II): 【化2】 〔式中、R1、R2、R3、R4、Xおよびaは上記に同
    じ。〕で表される反応性ケイ素基を有するイソブチレン
    系重合体を密閉系でのヒドロシリル化反応により得るこ
    とを特徴とする反応性ケイ素基を有するイソブチレン系
    重合体の製造法。
  2. 【請求項2】 一般式(III): 【化3】 〔式中、R5、R6、R7は水素原子又は炭素数1〜5の
    1価の有機基を示し、同じであっても異なっていてもよ
    い。〕で表される基を有するイソブチレン系重合体の一
    般式(IV): 【化4】 〔式中、R4は炭素数1〜5の1価の有機基を示し、a
    は0〜2の整数であり、R4が2個以上となる場合は、
    同じであっても異なっていてもよい。Xはハロゲン原
    子、アルコキシ基又はオルガノシロキシ基を示し、2個
    以上となる場合は、同じであっても異なっていてもよ
    い。〕で表される化合物によるヒドロシリル化反応を、
    白金錯体を触媒として、密閉系、反応温度40℃以上で
    おこなうことを特徴とする反応性ケイ素基を有するイソ
    ブチレン系重合体の製造法。
  3. 【請求項3】 上記一般式(III)で表される基が、下記
    (A)もしくは(B): 【化5】 または(A)と(B)の混合物であり、さらに上記一般
    式(IV)で表される化合物が、トリクロロシラン、メチ
    ルジクロロシラン、ジメチルクロロシランよりなる群よ
    り選ばれることを特徴とする請求項2記載の反応性ケイ
    素基を有するイソブチレン系重合体の製造法。
  4. 【請求項4】 上記ヒドロシリル化反応の触媒として用
    いる白金錯体の使用量を上記一般式(III) で表される基
    にたいして、モル比で5×10-4当量以下とすることを
    特徴とする請求項2又は3記載の反応性ケイ素基を有す
    るイソブチレン系重合体の製造法。
JP25733394A 1994-09-28 1994-09-28 反応性ケイ素基を有するイソブチレン系重合体の製造法 Pending JPH08100028A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6087461A (en) * 1997-06-25 2000-07-11 Dow Corning Limited Process for making silyl endblocked organic polymers
JP2016125040A (ja) * 2015-01-08 2016-07-11 Jxエネルギー株式会社 イソブチレン系共重合体、これを含んでなるゴム組成物、および架橋ゴム組成物

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