JPH0798830B2 - N−ホスホノメチルグリシンを製造するための過酸化物法 - Google Patents

N−ホスホノメチルグリシンを製造するための過酸化物法

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JPH0798830B2
JPH0798830B2 JP3006989A JP698991A JPH0798830B2 JP H0798830 B2 JPH0798830 B2 JP H0798830B2 JP 3006989 A JP3006989 A JP 3006989A JP 698991 A JP698991 A JP 698991A JP H0798830 B2 JPH0798830 B2 JP H0798830B2
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    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
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    • C07F9/3808Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
    • C07F9/3813N-Phosphonomethylglycine; Salts or complexes thereof

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、N- ホスホノメチルグ
リシンの製造方法に関し、特にN- ホスホノメチルイミ
ノジ酢酸を過酸化物を用いてN-ホスホノメチルグリシ
ンに転化することによりN- ホスホノメチルグリシンを
製造することに関する。
【0002】
【従来の技術】グリホセート(glyphosate)の一般的な名
前でも知られているN- ホスホノメチルグリシンは、種
々の雑草を防除するのに有用な非常に効果的で商業的に
重要な植物性毒素(phytotoxicant) である。極めて多種
類の多年性及び一年生イネ科及び広葉雑草に対し茎葉処
理される。工業的用途には、倉庫地区及び他の非農耕地
の道路際、水路及び送電線に沿った雑草の防除が含まれ
る。通常N- ホスホノメチルグリシンは、溶液、好まし
くは水中の種々の塩の形で除草剤組成物中に配合され
る。
【0003】フランツ(Franz)による米国特許第
3,950,402号明細書には、N−ホスホノメチル
イミノジ酢酸、水、及び貴金属から選択された金属触媒
からなる混合物を形成し、その混合物を上昇させた温度
(低収率を避けるため70℃より高い)へ加熱し、前記
混合物を遊離酸素含有ガスと接触させることによりN−
ホスホノメチルグリシンを製造する方法が記載されてい
る。
【0004】フランツによる米国特許第3,954,8
48号明細書には、N−ホスホノメチルイミノジ酢酸を
過酸化水素の如き酸化剤と酸性水性媒体中で強酸の存在
下で約70℃〜約100℃の温度で反応させることによ
りN−ホスホノメチルグリシンを製造する方法が記載さ
れている。N−ホスホノメチルイミノジ酢酸1モル当た
り過酸化水素を少なくとも2モル、好ましくはそれより
多く用いるべきであることが記載されている。
【0005】ハンガリア特許出願第187,347号明
細書には、銀、鉄、錫、鉛、マンガン又はモリブデンの
化合物から選択された金属化合物を、触媒として有効な
量(catalytic amount)用いて、N−
ホスホノメチルイミノジ酢酸を過酸化水素で酸化するこ
とによりN−ホスホノメチルグリシンを製造する方法が
記載されている。モリブデン酸塩が好ましい。80℃よ
り低い温度では通常汚染された最終生成物が得られる。
典型的には、反応は80℃より高く、好ましくは100
℃より高い温度で大気圧を越えた圧力で行われ、この場
合、中間体N−オキシドは、それが形成されると迅速に
分解される。許容出来る収率でN−ホスホノメチルグリ
シンを得るためには、N−ホスホノメチルイミノジ酢酸
1モル当たり2モル当量の過酸化物を用いるべきである
ことが更に記載されている。
【0006】N−ホスホノメチルグリシンを製造するの
に上記方法によって満足な結果が得られているが、それ
らは全て、過剰の量の過酸化物の使用、強鉱酸の使用、
及び(又は)上昇させた温度及び圧力での反応といった
一つ以上の欠点を有する。今度、塩酸又は硫酸の如き強
鉱酸を用いることなく、N−ホスホノメチルイミノジ酢
酸を希望のN−ホスホノメチルグリシンへ酸化するのに
実質的に化学量論的な量の過酸化物を用いて、穏やかな
温度及び大気圧でN−ホスホノメチルグリシンを高収率
で生ずる方法が与えられる。
【0007】[本発明の要約] N−ホスホノメチルイミノジ酢酸を過酸化物で酸化して
得られるN−ホスホノメチルイミノジ酢酸−N−オキシ
ドをN−ホスホノメチルグリシンに転化することにより
N−ホスホノメチルグリシンを製造する方法において、
鉄、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、及び銅からなる
群から選択された金属、又は水溶性バナジウム塩、第一
鉄塩、及び第一銅塩からなる群から選択された化合物
を、触媒として有効な量添加することを含む改良した方
法によって上記及び他の利点が達成される。
【0008】〔本発明の詳細な記述〕中間体、N−ホス
ホノメチルイミノジ酢酸−N−オキシドは当業者に知ら
れており、多くの方法によって製造することができる。
例えば、その中間体はフランツによる米国特許第3,9
50,402号、又は米国特許第3,954,848号
の教示によって製造することができる。ハンガリア特許
出願第187,347号明細書では、中間体は、銀、
鉄、錫、鉛、マンガン又はモリブデンの化合物の存在下
で過酸化物を用いることによりN−ホスホノメチルイミ
ノジ酢酸から形成されている。フランツによる米国特許
第4,062,669号明細書では、N−オルガノ−N
−ホスホノメチルグリシンを酸性又は塩基性の条件下で
過酸化物で酸化している。他の方法も当業者には知られ
ているであろう。
【0009】当業者に知られた多くの種類の過酸化物
を、N−ホスホノメチルイミノジ酢酸−N−オキシドを
製造するのに用いることができる。適当な過酸化物に
は、過酸化水素、過蟻酸、過酢酸、過安息香酸、ペルオ
キシトリフルオロ酢酸、過酸化ベンゾイル、ベンゼン
ペルスルホン酸等が含まれる。過酸化水素が好ましく、
濃厚な溶液(即ち、約30%〜60%)の形の過酸化水
素を用いるのが有利である。
【0010】本発明の方法では、触媒として有効な量の
水溶性モリブデン化合物又は水溶性タングステン化合物
の存在下で、N−ホスホノメチルイミノジ酢酸を過酸化
物と接触させることによりN−ホスホノメチルイミノジ
酢酸−N−オキシドを製造することが好ましい。水溶性
タングステン化合物が特に好ましい。
【0011】N−ホスホノメチルイミノジ酢酸−N−オ
キシドを製造する方法の温度は、約20℃位の低さから
約70℃まで変えることができる。約20℃より低い温
度を用いることはできるが、そのような温度は冷却する
必要があるであろうし、得られる利点はない。70℃よ
り高い温度では、N−ホスホノメチルイミノジ酢酸−N
−オキシドの分解が観察され、それは希望のN−ホスホ
ノメチルグリシンの最終的収率に影響を与える。約20
℃〜約65℃の温度が好ましい。
【0012】N−ホスホノメチルイミノジ酢酸をN−ホ
スホノメチルイミノジ酢酸−N−オキシドへ酸化する触
媒として有用なタングステンの塩は当業者に知られてい
る。タングステン塩は反応媒体に可溶性であることが必
要なだけである。適当なタングステン化合物にはタング
ステン酸、1,2−タングストホスフェート、及びタン
グステン酸バリウムが含まれる。タングステン酸ナトリ
ウム、タングステン酸カリウム等の如きアルカリ金属タ
ングステン酸塩が満足な結果を与え、アルカリ金属タン
グステン酸塩が好ましい。
【0013】N−ホスホノメチルイミノジ酢酸をN−ホ
スホノメチルイミノジ酢酸−N−オキシドへ酸化する触
媒として有用なモリブデン塩も当業者に知られている。
モリブデン塩は反応媒体に可溶性であることが必要なだ
けである。適当なモリブデン化合物には三塩化モリブデ
ニル等の如きモリブデンハロゲン化物、モリブデン酸ナ
トリウム等の如きアルカリ金属モリブデン酸塩、又はモ
リブデン酸アンモニウム又はアルカリ金属モリブデン酸
塩の如き一層複雑な塩が含まれる。モリブデン酸ナトリ
ウム及びモリブデン酸アンモニウムが好ましい。
【0014】N−ホスホノメチルイミノジ酢酸を中間体
N−ホスホノメチルイミノジ酢酸−N−オキシドへ転化
するための触媒の量は広い範囲内で変えることができ
る。N−ホスホノメチルイミノジ酢酸の重量に基づいて
約0.01〜約5重量%の触媒濃度が満足な結果を与え
る。約0.01重量%より少ない触媒濃度では、反応は
遅く、約5重量%より大きい濃度では、そのような高い
濃度でも害はないが、特別な利点は見られない。N−ホ
スホノメチルイミノジ酢酸の重量に基づいて約0.01
重量%〜約1重量%用いるのが好ましい。
【0015】本発明の方法では、過酸化物の量は、N−
ホスホノメチルイミノジ酢酸を中間体N−ホスホノメチ
ルイミノジ酢酸−N−オキシドへ転化するのに必要な化
学量論的量にするのがよい。当業者には分かるように、
化学量論的量より少ない量の過酸化物を用いると希望の
N−ホスホノメチルグリシンの収率は低くなる。N−ホ
スホノメチルイミノジ酢酸を中間体へ定量的に確実に転
化させるため僅かに過剰の過酸化物を用いることはでき
るが、余り過剰な過酸化物を用いても利点はなく、中間
体をN−ホスホノメチルグリシンへ転化するのに第一鉄
塩又は第一銅塩の如き水溶性化合物を用いた場合、過剰
の過酸化物は有害になることがある。
【0016】N−ホスホノメチルイミノジ酢酸からN−
ホスホノメチルイミノジ酢酸−N−オキシドを製造する
のに用いられる方法とは無関係に、中間体を、鉄金属、
亜鉛金属、アルミニウム金属、バナジウム金属、又は銅
金属からなる群から選択された、触媒として有効な量の
物質と接触させる。別法として、バナジウム化合物、第
一鉄塩、及び第一銅塩の水溶性塩からなる群から選択さ
れた化合物は、中間体N−ホスホノメチルイミノジ酢酸
−N−オキシドを希望のN−ホスホノメチルグリシンへ
転化することができる。反応混合物に可溶性の適当なバ
ナジウム化合物には、五酸化バナジウム、硫酸バナジウ
ム、塩化バナジウム等が含まれる。本発明の方法で用い
ることができる適当な水溶性第一鉄化合物には、硫酸第
一鉄、塩化第一鉄、臭化第一鉄等の如き第一鉄ハロゲン
化物が含まれる。本発明の方法で用いることができる適
当な水溶性第一銅塩には、塩化第一銅、臭化第一銅、硫
酸第一銅等が含まれる。水溶性化合物の中でバナジウム
化合物が好ましく、硫酸バナジルが特に好ましい。
【0017】N−ホスホノメチルイミノジ酢酸−N−オ
キシドをN−ホスホノメチルグリシンへ転化するための
触媒の量は、用いられる触媒、及びN−ホスホノメチル
イミノジ酢酸からその中間体を生成させるのに必要な量
を越えた過酸化物の量に依存する。鉄、亜鉛、アルミニ
ウム、バナジウム、及び銅の如き金属が用いられた場
合、中間体N−ホスホノメチルイミノジ酢酸−N−オキ
シドをN−ホスホノメチルグリシンへ転化する反応速度
は存在する金属の表面積に依存し、存在するN−ホスホ
ノメチルイミノジ酢酸−N−オキシドの重量に基づいて
約0.1重量%〜約10重量%の金属を用いるのが好ま
しい。更に、大きな表面積を与える任意の形、例えば、
ウール、粉末又は微粒子の形の金属を用いるのが好まし
い。しかし、触媒として水溶性化合物が用いられた場
合、過剰の過酸化物がその水溶性化合物と反応し、その
過剰の過酸化物と反応するのに必要な量の化合物の外
に、N−ホスホノメチルイミノジ酢酸−N−オキシドか
らN−ホスホノメチルグリシンへの反応に触媒作用を及
ぼすのに充分な量の水溶性化合物も存在すべきである。
【0018】触媒として働くために、過酸化物との反応
後に残っている水溶性化合物の量は、N−ホスホノメチ
ルイミノジ酢酸−N−オキシドの量に基づいて少なくと
も0.005重量%であるべきである。5%位の高い、
或はそれ以上に高い過剰の水溶性化合物を用いることも
できるが、中間体からN−ホスホノメチルグリシンへの
転化にとって一層高い濃度を用いることには利点はない
ように見えるが、そのような高い濃度でも害はない。全
ての過剰の過酸化物との反応後、N−ホスホノメチルイ
ミノジ酢酸−N−オキシドの重量に基づき約0.01重
量%〜約2重量%の水溶性化合物を用いるのが好まし
い。
【0019】中間体、N−ホスホノメチルイミノジ酢酸
−N−オキシドを希望のN−ホスホノメチルグリシンへ
転化するのに必要な温度は広い範囲内で変えることがで
きる。屡々激しいガスの発生が起き、N−ホスホノメチ
ルイミノジ酢酸−N−オキシドからN−ホスホノメチル
グリシンへの転化は発熱的であるので、室温(約20
℃)又は室温に近い温度で触媒を添加するのが好まし
い。反応容器を冷却するか、または触媒導入量を低くく
することにより反応温度を約80℃より低く保つのが好
ましい。約80℃より高い温度でもN−ホスホノメチル
グリシンを与えるが、幾らかの収率の低下が起きるであ
ろう。
【0020】出発材料としてのN−ホスホノメチルイミ
ノジ酢酸の濃度は、本発明の方法で広い範囲内で変える
ことができる。例えば、50重量%までのN−ホスホノ
メチルイミノジ酢酸を含有する水性懸濁物を用いること
ができる。一層高い濃度でN−ホスホノメチルイミノジ
酢酸を用いることもできるが、それはスラリーの濃さの
ため処理しにくくなることがある。一方、約5重量%の
N−ホスホノメチルイミノジ酢酸を含むN−ホスホノメ
チルイミノジ酢酸水溶液を用いることもできる。一層低
い濃度でも用いることはできるが、本発明の方法で多量
の液体を処理しなければならなくなる。約20重量%〜
約40重量%のN−ホスホノメチルイミノジ酢酸を含む
水性スラリーを用いるのが好ましい。
【0021】N−ホスホノメチルイミノジ酢酸出発材料
は、当業者に知られた方法により製造することができ
る。例えば、この材料は、硫酸の存在下でホルムアルデ
ヒド、イミノジ酢酸、及びオルト燐酸の反応により製造
することができる。この反応から得られるN−ホスホノ
メチルイミノジ酢酸混合物は本発明の方法で直接用いる
ことができるが、N−ホスホノメチルイミノジ酢酸を単
離し、次にそれをここで用いるのが好ましい。
【0022】
【実施例】本発明を更に次の実施例により例示するが、
それに限定されるものではない。転化率は、出発N−ホ
スホノメチルイミノジ酢酸のモル数で他の生成化合物の
モル数を割り、100倍することにより計算されてい
る。選択性は、生成したN−ホスホノメチルグリシンの
モル数を転化N−ホスホノメチルイミノジ酢酸のモル数
で割り、100倍することにより計算されている。
【0023】実施例1 この実施例は、水溶性バナジウム塩を用いて中間体N−
ホスホノメチルイミノジ酢酸−N−オキシドをN−ホス
ホノメチルグリシンへ転化する本発明の方法を例示す
る。
【0024】(A) 100mlの丸底フラスコに、水
(25ml)、N−ホスホノメチルイミノジ酢酸(20
g)、47%過酸化水素(7.1g)、及びタングステ
ン酸ナトリウム(0.05g)を入れた。混合物を65
℃に加熱し、N−オキシドが形成されたことを示す溶液
が得られるまで(約58分)この温度に維持した。次に
この溶液を約55℃へ冷却し、更に30分間撹拌した。
【0025】(B) 室温へ冷却した後、硫酸バナジル
(0.05g、水含有量29%)を溶液へ添加した。約
5分間撹拌した後、溶液の色が青からライトグリーンへ
変化した。ゆっくりした発熱と共にガスの発生が始まっ
た。温度が約40℃に到達した時、発熱が大きく加速さ
れ65℃になり、その温度に溶液を維持するため冷却用
水を適用した。反応混合物を室温へ冷却し、固形物を濾
過し、濾液及び固形物をHPLCにより分析した。N−
ホスホノメチルイミノジ酢酸の転化率は96.7%であ
り、N−ホスホノメチルグリシンへの選択性は91.4
%であった。
【0026】実施例2 この実施例は、水溶性第一鉄塩を用いて中間体N−ホス
ホノメチルイミノジ酢酸−N−オキシドをN−ホスホノ
メチルグリシンへ転化する本発明の方法を例示する。
【0027】実施例1の工程(A)の手順を繰り返し
た。次に溶液を室温へ冷却した後、硫酸第一鉄(0.0
2g)を溶液へ添加した。ガスの発生が観察され、溶液
の温度は65℃へ上昇した。温度を70℃より低く保つ
ため冷却水を適用した。反応混合物を室温へ冷却し、固
形物を濾過し、固形物及び濾液をHPLCにより分析し
た。N−ホスホノメチルイミノジ酢酸の転化率は99.
5%であり、N−ホスホノメチルグリシンへの選択性は
93.7%であった。
【0028】実施例3 この実施例は、亜鉛金属を用いて、N−ホスホノメチル
イミノジ酢酸−N−オキシドをN−ホスホノメチルグリ
シンへ転化する本発明の方法を例示する。
【0029】(A) 100mlの丸底ガラスフラスコ
に、水(37ml)、N−ホスホノメチルイミノジ酢酸
(14.0g)、30%過酸化水素(7.2g)、二モ
リブデン酸アンモニウム四水和物(0.32g)を入れ
た。混合物を65℃に加熱し、N−オキシドが形成され
たことを示す溶液が得られるまで(約30分)この温度
に維持した。次にこの溶液を45℃へ冷却し、50分間
撹拌した。
【0030】(B) 室温へ冷却した後、亜鉛金属粉末
(0.4g)を溶液へ添加した。激しいガスの発生が観
察され、溶液の温度が約10分間で55℃へ上昇した。
反応混合物を室温へ冷却し、固形物を濾過し、濾液及び
固形物をHPLCにより分析した。N−ホスホノメチル
イミノジ酢酸の転化率は91.0%であり、N−ホスホ
ノメチルグリシンへの選択性は93.8%であった。
【0031】実施例4 この実施例は、銅金属、アルミニウム金属、及び水溶性
第一銅塩を用いて中間体N−ホスホノメチルイミノジ酢
酸−N−オキシドをN−ホスホノメチルグリシンへ転化
する場合を例示する。
【0032】実施例3の工程(A)の手順を繰り返し
た。室温へ冷却した後、N−ホスホノメチルイミノジ酢
酸−N−オキシドを含有する溶液を少量部分ずつとり、
25mlのビーカーに夫々入れた。一つの部分には銅貨
入れた。他の部分にはアルミニウム箔を入れた。第三の
部分には少量の塩化第一銅を添加し、第四の部分には金
属バナジウム添加した。どの場合でもガスの発生が観察
され、中間体、N−ホスホノメチルイミノジ酢酸−N−
オキシドがN−ホスホノメチルグリシンへ転化されたこ
とを示していた。
【0033】かなり詳細に記載した特定の態様に関連し
て本発明を記述してきたが、これは単に例示のためであ
り、本記載を考慮することにより別の態様及び操作方法
が当業者には明らかになることが分かるであろう。従っ
て、本発明の本質から離れることなく種々の変更を行う
ことができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01J 23/72 23/745 27/053 // C07B 61/00 300

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 N−ホスホノメチルイミノジ酢酸を過酸
    化物で酸化して得られるN−ホスホノメチルイミノジ酢
    酸−N−オキシドを転化することによりN−ホスホノメ
    チルグリシンを製造する方法において、存在するN−ホ
    スホノメチルイミノジ酢酸−N−オキシドの重量にもと
    づき、鉄、亜鉛、アルミニウム、バナジウム、及び銅か
    らなる群から選択された金属を触媒として0.1〜10
    重量%添加するか、又は水溶性バナジウム化合物、第一
    鉄塩、及び第一銅塩からなる群から選択された化合物を
    触媒として0.005〜5重量%添加してN−ホスホノ
    メチルイミノジ酢酸−N−オチシドをN−ホスホノメチ
    ルグリシンへ転化することを特徴とするN−ホスホノメ
    チルグリシンの製造方法。
  2. 【請求項2】 触媒が、鉄、亜鉛、アルミニウム、バナ
    ジウム、及び銅からなる群から選択された金属である請
    求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 触媒が鉄金属である請求項2に記載の方
    法。
  4. 【請求項4】 触媒が、水溶性バナジウム化合物、第一
    鉄塩、及び第一銅塩からなる群から選択される請求項1
    に記載の方法。
  5. 【請求項5】 触媒の量が0.01重量%〜2.0重量
    %である請求項4に記載の方法。
  6. 【請求項6】 触媒が水溶性第一鉄塩である又は水溶性
    バナジウム化合物である請求項4に記載の方法。
  7. 【請求項7】 触媒が硫酸バナジルである請求項6に記
    載の方法。
JP3006989A 1990-06-25 1991-01-24 N−ホスホノメチルグリシンを製造するための過酸化物法 Expired - Fee Related JPH0798830B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/542,995 US5043475A (en) 1990-06-25 1990-06-25 Peroxide process for producing N-phosphonomethylglycine
US542995 1990-06-25

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04224593A JPH04224593A (ja) 1992-08-13
JPH0798830B2 true JPH0798830B2 (ja) 1995-10-25

Family

ID=24166161

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3006989A Expired - Fee Related JPH0798830B2 (ja) 1990-06-25 1991-01-24 N−ホスホノメチルグリシンを製造するための過酸化物法

Country Status (17)

Country Link
US (1) US5043475A (ja)
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