JPH0790670A - シャドウマスクの製造方法 - Google Patents
シャドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH0790670A JPH0790670A JP23701793A JP23701793A JPH0790670A JP H0790670 A JPH0790670 A JP H0790670A JP 23701793 A JP23701793 A JP 23701793A JP 23701793 A JP23701793 A JP 23701793A JP H0790670 A JPH0790670 A JP H0790670A
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- Japan
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- electrodeposit
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は厚さ数十μｍのシャドウマスク
を経済的に製造可能とする方法の提供を目的とする。 【構成】 チタン箔、ステンレス箔などの厚さ０．
１ｍｍ以下の金属箔の表面にレジスト層を設け、該レジ
スト層に所望のマスクを用いてパターンを形成し、露出
した金属面に電気めっきを施して厚さ数十μｍの電着物
を得、金属箔を湾曲させて該電着物より金属箔を剥離し
て電着物を得、これをシャドウマスクとする。 【効果】本発明の方法によれば、厚さ数十μｍのシャド
ウマスクを極めて高い製品率で製造できる。又、本発明
の方法はリール・トウ・リール方式に採用可能であるた
め、シャドウマスクの量産化に極めて有効である。
を経済的に製造可能とする方法の提供を目的とする。 【構成】 チタン箔、ステンレス箔などの厚さ０．
１ｍｍ以下の金属箔の表面にレジスト層を設け、該レジ
スト層に所望のマスクを用いてパターンを形成し、露出
した金属面に電気めっきを施して厚さ数十μｍの電着物
を得、金属箔を湾曲させて該電着物より金属箔を剥離し
て電着物を得、これをシャドウマスクとする。 【効果】本発明の方法によれば、厚さ数十μｍのシャド
ウマスクを極めて高い製品率で製造できる。又、本発明
の方法はリール・トウ・リール方式に採用可能であるた
め、シャドウマスクの量産化に極めて有効である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はシャドウマスクの製造方
法に関し、特に厚さが数十μｍという極めて薄いシャド
ウマスクの製造方法に関する。
法に関し、特に厚さが数十μｍという極めて薄いシャド
ウマスクの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ディスプレー用カラー受像管を初め、一
般家庭用のテレビ受像管に至るまで、高精密、高精細の
受像管が求められるようになってきている。これに伴
い、受像管内に用いるシャドウマスクも高精密、高精細
のものが求められてきている。例えば、シャドウマスク
のパターンがスリット状の場合、スリット幅５０μｍ、
スリットとスリットとの間隔が２００〜２５０μｍで±
５μｍの寸法精度が要求されている。
般家庭用のテレビ受像管に至るまで、高精密、高精細の
受像管が求められるようになってきている。これに伴
い、受像管内に用いるシャドウマスクも高精密、高精細
のものが求められてきている。例えば、シャドウマスク
のパターンがスリット状の場合、スリット幅５０μｍ、
スリットとスリットとの間隔が２００〜２５０μｍで±
５μｍの寸法精度が要求されている。
【０００３】しかしながら、従来の方法で上記要求を満
たすシャドウマスクを製造することはできない。という
のは、従来のシャドウマスクの製造法は、例えば鋼板の
表面にレジスト層を設け、所望の形状のマスクを用いて
露光し、現像し、次いで塩化第二鉄液を用いてエッチン
グし、その後レジスト層を剥離するものである。このよ
うな方法で得られたものは、オーバーエッチングなどの
理由により加工精度は低くなり、前記±５μｍという寸
法精度は確保できない。
たすシャドウマスクを製造することはできない。という
のは、従来のシャドウマスクの製造法は、例えば鋼板の
表面にレジスト層を設け、所望の形状のマスクを用いて
露光し、現像し、次いで塩化第二鉄液を用いてエッチン
グし、その後レジスト層を剥離するものである。このよ
うな方法で得られたものは、オーバーエッチングなどの
理由により加工精度は低くなり、前記±５μｍという寸
法精度は確保できない。
【０００４】又、仮に前記寸法精度が達成できたとして
も、シャドウマスク自体が厚いため、電子線がスリット
の側壁に当たり、反射してブラウン管の蛍光面の像の鮮
明さを損ない、画面に鮮明度のばらつきが発生する。さ
らに、受像管が大型化すると、端部での前記電子線のス
リット側壁での反射の影響は大きくなる。その結果鮮明
度のばらつきはいっそう激しくなる。
も、シャドウマスク自体が厚いため、電子線がスリット
の側壁に当たり、反射してブラウン管の蛍光面の像の鮮
明さを損ない、画面に鮮明度のばらつきが発生する。さ
らに、受像管が大型化すると、端部での前記電子線のス
リット側壁での反射の影響は大きくなる。その結果鮮明
度のばらつきはいっそう激しくなる。
【０００５】このような欠点を無くすために種々の検討
が試みられ、その結果シャドウマスク自体の厚さを数十
μｍ以下にするという要求が前記寸法精度に加重されて
きている。そして、このようなシャドウマスクを得る方
法としてめっき法が検討され、実用化の試みがなされて
いる。
が試みられ、その結果シャドウマスク自体の厚さを数十
μｍ以下にするという要求が前記寸法精度に加重されて
きている。そして、このようなシャドウマスクを得る方
法としてめっき法が検討され、実用化の試みがなされて
いる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】この試みられているめ
っき法は、金属板を陰極とし、その表面にレジスト層を
設け、所定のマスクを用いて露光し、現像してシャドウ
マスクのパターンを形成し、露出した金属面に鉄を所望
の厚さに電着させ、次いでレジスト層を除去し、電着物
を陰極より剥離して電着物を得、これをシャドウマスク
とするものである。
っき法は、金属板を陰極とし、その表面にレジスト層を
設け、所定のマスクを用いて露光し、現像してシャドウ
マスクのパターンを形成し、露出した金属面に鉄を所望
の厚さに電着させ、次いでレジスト層を除去し、電着物
を陰極より剥離して電着物を得、これをシャドウマスク
とするものである。
【０００７】このめっき法は、前記したオーバーエッチ
ングなどの危険はなく、かつ電着物の厚さを数十μｍと
薄くできる。よってこの方法を用いれば、厚さと寸法精
度に関する前記要求を満足させうるものが得られるはず
である。しかし、このめっき法で得られたシャドウマス
クが±５μｍという寸法精度の要求を満たすことはな
い。又、このめっき法はバッチ処理であるため、一時に
多量のシャドウマスクを製造することは困難である。本
発明は、上記状況に管がみてなされたものであり、厚さ
数十μｍのシャドウマスクを製造するに際し、上記欠点
がなく、経済的にシャドウマスクを製造することを可能
とする方法の提供を目的とするものである。
ングなどの危険はなく、かつ電着物の厚さを数十μｍと
薄くできる。よってこの方法を用いれば、厚さと寸法精
度に関する前記要求を満足させうるものが得られるはず
である。しかし、このめっき法で得られたシャドウマス
クが±５μｍという寸法精度の要求を満たすことはな
い。又、このめっき法はバッチ処理であるため、一時に
多量のシャドウマスクを製造することは困難である。本
発明は、上記状況に管がみてなされたものであり、厚さ
数十μｍのシャドウマスクを製造するに際し、上記欠点
がなく、経済的にシャドウマスクを製造することを可能
とする方法の提供を目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の方法は、導体を陰極とし、該陰極表面にレジスト層
を設け、該レジスト層に所望のマスクを用いてパターン
を形成し、露出した陰極表面に電気めっきを施して電着
物を得、該電着物を陰極と分離してシャドウマスクとす
るシャドウマスクの製造方法において、陰極として金属
箔を用い、該陰極と前記電着鉄とを分離するに際し、陰
極を湾曲させるものであり、好ましくは陰極として厚さ
０．１ｍｍ以下のチタン箔、又はステンレス箔を用い、
電着物を電着鉄とするものである。
明の方法は、導体を陰極とし、該陰極表面にレジスト層
を設け、該レジスト層に所望のマスクを用いてパターン
を形成し、露出した陰極表面に電気めっきを施して電着
物を得、該電着物を陰極と分離してシャドウマスクとす
るシャドウマスクの製造方法において、陰極として金属
箔を用い、該陰極と前記電着鉄とを分離するに際し、陰
極を湾曲させるものであり、好ましくは陰極として厚さ
０．１ｍｍ以下のチタン箔、又はステンレス箔を用い、
電着物を電着鉄とするものである。
【０００９】
【作用】本発明に於いて、陰極を厚さ０．１ｍｍ以下の
金属箔とするのは、こうすることにより陰極を湾曲させ
ることが可能となるからである。陰極を湾曲させ、電着
物を陰極より剥離すると、電着物に寸法精度を悪化させ
るような歪みを与えないですむからである。又、電着物
剥離後の陰極の再使用も可能であるからである。
金属箔とするのは、こうすることにより陰極を湾曲させ
ることが可能となるからである。陰極を湾曲させ、電着
物を陰極より剥離すると、電着物に寸法精度を悪化させ
るような歪みを与えないですむからである。又、電着物
剥離後の陰極の再使用も可能であるからである。
【００１０】陰極を繰り返し使用すると陰極表面が荒
れ、電着物と陰極との密着性が増大する場合がある。こ
のような場合、電着物を上とし、陰極を回転ローラー上
で回転させ、スクレーパーを回転ローラー部の陰極表面
上に、接線方向に設けることで容易に電着物を剥離する
ことが可能である。このようにして剥離して得た電着物
の寸法精度は悪化していない。
れ、電着物と陰極との密着性が増大する場合がある。こ
のような場合、電着物を上とし、陰極を回転ローラー上
で回転させ、スクレーパーを回転ローラー部の陰極表面
上に、接線方向に設けることで容易に電着物を剥離する
ことが可能である。このようにして剥離して得た電着物
の寸法精度は悪化していない。
【００１１】上記したことから容易に分かるように、本
発明の方法はリール・トウ・リール方式を用いた連続化
に適用可能である。連続化できれば生産コストの低下の
実現が容易であることは明かである。
発明の方法はリール・トウ・リール方式を用いた連続化
に適用可能である。連続化できれば生産コストの低下の
実現が容易であることは明かである。
【００１２】金属箔として使用できるものは、基本的に
電着物と剥離可能な金属箔である。例えば電着物が電解
鉄の場合、使用できる金属箔はチタン箔、ステンレス
箔、銅箔などであるが、チタン箔、ステンレス箔が剥離
性よりより好ましく、推奨される。
電着物と剥離可能な金属箔である。例えば電着物が電解
鉄の場合、使用できる金属箔はチタン箔、ステンレス
箔、銅箔などであるが、チタン箔、ステンレス箔が剥離
性よりより好ましく、推奨される。
【００１３】
【実施例】次に本発明の実施例について述べる。
【００１４】（実施例１）長さ２００ｍｍ、幅１５０ｍ
ｍ、厚さ０．１ｍｍのチタン箔の表面にフォトレジスト
（東京応化工業株式会社製ＰＭＥＲ）を厚さ４０μｍに
なるように塗布し、幅５０μｍのスリットが２５０μｍ
間隔で３３５本並ぶマスクを接し、４２０ｍｊの紫外線
を照射し、現像してパターニングを行った。
ｍ、厚さ０．１ｍｍのチタン箔の表面にフォトレジスト
（東京応化工業株式会社製ＰＭＥＲ）を厚さ４０μｍに
なるように塗布し、幅５０μｍのスリットが２５０μｍ
間隔で３３５本並ぶマスクを接し、４２０ｍｊの紫外線
を照射し、現像してパターニングを行った。
【００１５】その後、表１に示す組成の電気鉄めっき液
を用い、表２に示す条件でチタン箔を陰極として電気鉄
めっきを行い、厚さ１５μｍの電着物を得た。次いで、
電着面が下となるように陰極を机の上に置き、チタン箔
を湾曲させて電着物とチタン板とを剥離した。剥離は極
めて容易であり、電着物はほとんど湾曲しなかった。こ
の結果、得られた電着物に歪みはなかった。
を用い、表２に示す条件でチタン箔を陰極として電気鉄
めっきを行い、厚さ１５μｍの電着物を得た。次いで、
電着面が下となるように陰極を机の上に置き、チタン箔
を湾曲させて電着物とチタン板とを剥離した。剥離は極
めて容易であり、電着物はほとんど湾曲しなかった。こ
の結果、得られた電着物に歪みはなかった。
【００１６】得られた電着物を厚さ５ｍｍのガラス板で
押さえ、最小読み取り幅１μｍの光学式測長機（大日本
スクリーン株式会社製）を用いて、全スリットの端から
１ｍｍなかの部分のスリット幅を測定し、隣接する各々
のスリット幅の寸法の差を求めた。その結果、得られた
寸法誤差は±５μｍであり、シャドウマスクとして使用
可能なものであることが分かった。
押さえ、最小読み取り幅１μｍの光学式測長機（大日本
スクリーン株式会社製）を用いて、全スリットの端から
１ｍｍなかの部分のスリット幅を測定し、隣接する各々
のスリット幅の寸法の差を求めた。その結果、得られた
寸法誤差は±５μｍであり、シャドウマスクとして使用
可能なものであることが分かった。
【００１７】チタン箔が再使用可能の間は同一チタン箔
を用いて合計２０回の上記作業を行い、２０枚の電着物
を得、全数上記と同様にして寸法誤差を求め、シャドウ
マスクとして使用可能なものの割合（製品率）を求め
た。その結果、製品率は８０％であった。なお、使用し
た新品のチタン箔は４枚であった。
を用いて合計２０回の上記作業を行い、２０枚の電着物
を得、全数上記と同様にして寸法誤差を求め、シャドウ
マスクとして使用可能なものの割合（製品率）を求め
た。その結果、製品率は８０％であった。なお、使用し
た新品のチタン箔は４枚であった。
【００１８】 表１ ＦｅＣｌ2・４Ｈ2Ｏ ２．０１ モル ＣａＣｌ2 １．６２ モル サッカリン ９．１３ ミリモル ＣＨ3（ＣＨ2）6ＣＨ2ＯＳＯ3Ｎａ ０．３０ ミリモル
【００１９】 表２ 温 度 ９０ ℃ 陰極電流密度 ５ Ａ／ｄｍ2 陽 極 白金 めっき時間 １８ 分
【００２０】（実施例２）実施例１で用いた陰極と同じ
大きさ、同じ厚さのステンレス箔を陰極として用いた以
外は実施例１と同様にしてシャドウマスクを２０枚製造
し、実施例１と同様にして製品率を求めた。
大きさ、同じ厚さのステンレス箔を陰極として用いた以
外は実施例１と同様にしてシャドウマスクを２０枚製造
し、実施例１と同様にして製品率を求めた。
【００２１】製品率は７９％であり、チタン箔を用いた
場合とほぼ同様な値が得られた。又、用いた新品のステ
ンレス箔は合計５枚であった。なお、実施例１と本実施
例との製品率の差、新品の箔の枚数の差は電着鉄と陰極
材質との密着性の差に起因すると思われる。
場合とほぼ同様な値が得られた。又、用いた新品のステ
ンレス箔は合計５枚であった。なお、実施例１と本実施
例との製品率の差、新品の箔の枚数の差は電着鉄と陰極
材質との密着性の差に起因すると思われる。
【００２２】（実施例３）実施例１で用いた陰極と同じ
大きさで、厚さ０．０５ｍｍのチタン箔を陰極として用
いた以外は実施例１と同様にしてシャドウマスクを２０
枚製造し、実施例１と同様にして製品率を求めた。
大きさで、厚さ０．０５ｍｍのチタン箔を陰極として用
いた以外は実施例１と同様にしてシャドウマスクを２０
枚製造し、実施例１と同様にして製品率を求めた。
【００２３】製品率は８１％であり、実施例１とほぼ同
様な値が得られた。又、用いた新品のチタン箔は合計４
枚であった。
様な値が得られた。又、用いた新品のチタン箔は合計４
枚であった。
【００２４】（比較例１）実施例１で用いた陰極と同じ
大きさで、厚さ０．２ｍｍのチタン板を陰極として用い
た以外は実施例１と同様にしてシャドウマスクを２０枚
製造し、実施例１と同様にして製品率を求めた。
大きさで、厚さ０．２ｍｍのチタン板を陰極として用い
た以外は実施例１と同様にしてシャドウマスクを２０枚
製造し、実施例１と同様にして製品率を求めた。
【００２５】製品率は５０％であり、実施例１の製品率
より大幅に低いものとなった。これは、チタン板が厚く
湾曲させ難いため、剥離時に電着物に無理が掛かったた
めと思われる。
より大幅に低いものとなった。これは、チタン板が厚く
湾曲させ難いため、剥離時に電着物に無理が掛かったた
めと思われる。
【００２６】（比較例２）実施例１で用いた陰極と同じ
大きさで、厚さ０．２ｍｍのチタン板を陰極として用
い、電着物の剥離に際し、電着物を湾曲させて剥離した
以外は実施例１と同様にしてシャドウマスクを２０枚製
造し、実施例１と同様にして製品率を求めた。
大きさで、厚さ０．２ｍｍのチタン板を陰極として用
い、電着物の剥離に際し、電着物を湾曲させて剥離した
以外は実施例１と同様にしてシャドウマスクを２０枚製
造し、実施例１と同様にして製品率を求めた。
【００２７】製品率は僅かに５％であり、得られた電着
物はほとんど湾曲し、シャドウマスクとして使用に耐え
ないものであった。
物はほとんど湾曲し、シャドウマスクとして使用に耐え
ないものであった。
【００２８】
【発明の効果】本発明の方法によれば、厚さ数十μｍの
シャドウマスクを極めて高い製品率で製造できる。又、
本発明の方法はリール・トウ・リール方式に採用可能で
あるため、シャドウマスクの量産化に極めて有効であ
る。
シャドウマスクを極めて高い製品率で製造できる。又、
本発明の方法はリール・トウ・リール方式に採用可能で
あるため、シャドウマスクの量産化に極めて有効であ
る。
Claims (3)
- 【請求項１】 陰極表面にレジスト層を設け、該レジ
スト層に所望のマスクを用いてパターンを形成し、露出
した陰極表面に電気めっきを施して厚さ数十μｍの電着
物を得、該電着物を陰極と分離してシャドウマスクとす
るシャドウマスクの製造方法において、陰極として金属
箔を用い、該陰極と前記電着鉄とを分離するに際し、陰
極を湾曲させることを特徴とするシャドウマスクの製造
方法。 - 【請求項２】 陰極として厚さ０．１ｍｍ以下のチタ
ン箔、又はステンレス箔を用いることを特徴とする請求
項１記載のシャドウマスクの製造方法。 - 【請求項３】 電着物が電着鉄であることを特徴とす
る請求項１又は２記載のシャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23701793A JPH0790670A (ja) | 1993-09-24 | 1993-09-24 | シャドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23701793A JPH0790670A (ja) | 1993-09-24 | 1993-09-24 | シャドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0790670A true JPH0790670A (ja) | 1995-04-04 |
Family
ID=17009159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23701793A Pending JPH0790670A (ja) | 1993-09-24 | 1993-09-24 | シャドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0790670A (ja) |
-
1993
- 1993-09-24 JP JP23701793A patent/JPH0790670A/ja active Pending
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