JPH0790184A

JPH0790184A - 耐光及び耐薬品性樹脂組成物

Info

Publication number: JPH0790184A
Application number: JP17537994A
Authority: JP
Inventors: Atsuo Akata; 充生赤田; Emiko Daimon; 恵美子大門; Yuji Hama; 裕司濱; Takashi Kameshima; 隆亀島; Kazuhiro Kono; 和浩河野
Original assignee: Otsuka Chemical Co Ltd
Current assignee: Otsuka Chemical Co Ltd
Priority date: 1993-07-27
Filing date: 1994-07-27
Publication date: 1995-04-04

Abstract

(57)【要約】【目的】本発明は、高いレベルでしかも長期的に安定
した耐光及び耐薬品性を有する樹脂組成物を提供するこ
とを目的とする。【構成】本発明の樹脂組成物は、合成樹脂及び重量平
均分子量１０００〜４５０００の紫外線吸収性重合体を
含有するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、耐光及び耐薬品性樹脂
組成物に関する。

【０００２】

【従来技術とその課題】高強度、高耐久性及び良好な成
形加工性を有する合成樹脂は、例えば自動車、電気・電
子、建築等の広範な産業分野において汎用されている
が、日光等の紫外線を含む光に晒されると、紫外線によ
って劣化や変色を受け、分子量低下ひいては強度低下を
起こすという欠点を有している。

【０００３】合成樹脂の紫外線に対する耐久性（耐光
性）を向上させるために、紫外線吸収剤を添加すること
が通常行なわれている。このような紫外線吸収剤として
は、例えば２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２′−
ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール類や
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾフェノ
ン等が知られている。しかしながら、これら従来の紫外
線吸収剤は低分子量の低沸点化合物であるため、これら
を合成樹脂に添加すると種々の不都合を生ずる。例えば
紫外線吸収剤を多量に添加すると、相分離を起こして合
成樹脂の透明性や機械的強度を低下させることになる。
そこで紫外線吸収剤の添加を極力少量に止めているが、
その場合には合成樹脂の耐光性を満足できる程度に向上
し得ない。また紫外線吸収剤は合成樹脂の成形時に揮散
又は熱分解したり、或いは成形品表面に滲み出すため、
長期に亙って安定な耐光性を合成樹脂に付与することが
不可能になる。

【０００４】上記のような欠点を解消するために、上記
紫外線吸収剤にビニル基等の重合性二重結合を有する基
を付与し、このものを重合させて高分子量化し、樹脂と
の相溶性を改善したり、紫外線吸収剤の揮散、熱分解、
滲出等を防止しようとする試みがなされている（特開昭
６０−３８４１１号公報、特開昭６２−１８１３６０号
公報、特開平３−２８１６８５号公報等）。しかしなが
ら、これら紫外線吸収性重合体にも、次に示すような欠
点があり、改善の余地が残されている。即ち、合成樹脂
の種類によっては相溶性が不充分であり、やはり合成樹
脂の機械的強度を低下させる。この傾向は特にポリオレ
フィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の熱可
塑性樹脂に顕著である。また長期的な耐光性の点でも未
だ満足できるものではない。

【０００５】更に、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエステル、熱
可塑性ポリウレタン樹脂等の熱可塑性樹脂は極めて高い
機械的強度を有し、各種成形用材料として広く用いられ
ているが、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
カーボネート、ポリエステル及び熱可塑性ポリウレタン
樹脂はアルカリ成分によって分解を受け、その機械的強
度が低下するという欠点があり、またポリアミド樹脂は
メタノール等の汎用の溶剤に溶解するという欠点があ
り、いずれも耐アルカリ性や耐溶剤性等の耐薬品性の改
善が望まれている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記従来
技術の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、従来か
ら開発されている紫外線吸収性重合体の中でも特定の重
量平均分子量を有するものが、広い範囲の合成樹脂との
相溶性に優れ、合成樹脂の好ましい特性を損なうことな
く優れた耐光性を付与することができ、しかも合成樹脂
の成形時に揮散や熱分解を生ずることがなく且つ成形品
表面に滲出することがないため、合成樹脂に長期に亙っ
て安定な耐光性を付与し得ることを見い出した。更に上
記特定の重量平均分子量を有する紫外線吸収性重合体
は、耐アルカリ性や耐溶剤性に乏しい合成樹脂に優れた
耐アルカリ性や耐溶剤性を付与し得ることをも見い出し
た。本発明は、斯かる知見に基づき完成されたものであ
る。

【０００７】即ち、本発明は、合成樹脂及び重量平均分
子量１０００〜４５０００の紫外線吸収性重合体を含有
する耐光及び耐薬品性樹脂組成物に係る。

【０００８】本発明において、合成樹脂としては、特に
限定がなく従来公知のものを広く使用することができる
が、紫外線吸収性重合体の添加し易さ等を考慮すると、
熱可塑性樹脂がより好適に使用できる。熱可塑性樹脂と
しては、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ア
クリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアミド、ポリエステ
ル、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢ
Ｓ）樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、塩化ビニル−塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニ
トリル−スチレン（ＡＳ）樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリ
フェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリエーテルスル
ホン、ポリエーテルエーテルケトン、液晶プラスチック
等を挙げることができる。この中でも、例えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリオレフィン、ポリカ
ーボネート、ポリスチレン、アクリル樹脂、メタクリル
樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ＡＢＳ樹脂、熱可塑
性ポリウレタン樹脂等を好ましく使用できる。更にこれ
らの中でもポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
カーボネート、ポリエステル、熱可塑性ポリウレタン樹
脂等の耐アルカリ性に乏しい熱可塑性樹脂やポリアミド
等の耐溶剤性に乏しい熱可塑性樹脂を特に好ましく使用
できる。本発明ではこれら合成樹脂を１種単独で使用し
てもよいし、２種以上混合して使用してもよい。

【０００９】本発明において、紫外線吸収性重合体とし
ては、通常重量平均分子量が１０００〜４５０００程
度、好ましくは１０００〜２００００程度のものを使用
するのがよい。重量平均分子量が１０００未満であると
成形品表面への滲出が起こる傾向となり、逆に重量平均
分子量が４５０００を越えると樹脂との相溶性が不充分
になる虞れが生ずるので、いずれも好ましくない。

【００１０】紫外線吸収性重合体としては、重量平均分
子量が上記の範囲内にある限り特に制限がなく従来公知
のものを広く使用することができるが、具体的には下記
一般式（１）〜（４）で表わされる紫外線吸収性化合物
（以下「紫外線吸収性モノマー」という）の単独重合
体、前記紫外線吸収性モノマーを２種以上重合させた重
合体（以下「同族重合体」という）及び前記紫外線吸収
性モノマーとこれと共重合可能なモノマーとの共重合体
を例示できる。

【００１１】一般式

【００１２】

【化５】

【００１３】〔式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、そのうち
の少なくとも１つが基

【００１４】

【化６】

【００１５】（式中Ｒ⁴は炭素数１〜１０の直鎖又は分
枝鎖状アルキレン基を示す。Ｒ⁵は水素原子又は炭素数
１〜４の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を示す。ｍは０又
は１を示す。）を示し、他は同一又は異なって炭素数１
〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、シア
ノ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、カルボキシル基又
はアルコキシカルボニル基を示す。〕で表わされるベン
ゾトリアゾール類。

【００１６】一般式

【００１７】

【化７】

【００１８】〔式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は前記に同
じ。〕で表わされるベンゾフェノン類。

【００１９】一般式

【００２０】

【化８】

【００２１】〔式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は前記に同
じ。〕で表わされるサリチル酸エステル類。

【００２２】一般式

【００２３】

【化９】

【００２４】〔式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は前記に同
じ。〕で表わされるシアノアクリレート類。

【００２５】上記〔化６〕で示される基としては、基

【００２６】

【化１０】

【００２７】〔式中Ｒ^4'は炭素数１〜４の直鎖又は分枝
鎖状アルキレン基を示す。Ｒ^5'は水素原子又はメチル基
を示す。〕で表わされる基を好ましく例示できる。紫外
線吸収剤への上記〔化６〕や〔化１０〕で表わされる重
合性二重結合含有基の導入は、例えば特開昭６０−３８
４１１号公報、特開昭６２−１８１３６０号公報、特開
平３−２８１６８５号公報等に記載の方法に従って行な
うことができる。

【００２８】上記一般式（１）〜（４）で示される各種
紫外線吸収性モノマーの中でも、特に一般式（１）で表
わされるベンゾトリアゾール類が好適である。一般式
（１）で表わされるベンゾトリアゾール類の中でも、一
般式

【００２９】

【化１１】

【００３０】〔式中、Ｒ^1'は水素原子又は低級アルキル
基を示す。Ｒ^2'は基

【００３１】

【化１２】

【００３２】（式中Ｒ^4'及びＲ^5'は前記に同じ。）を示
す。〕で表わされるベンゾトリアゾール類が特に好適で
ある。

【００３３】上記紫外線吸収性モノマーと共重合可能な
モノマーとしては、例えばメタクリル酸、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、
メタクリル酸ブチル、メタクリル酸オクチル、メタクリ
ル酸ノニル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等のメ
タクリル酸及びそのアルキルエステル、アクリル酸、ア
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピ
ル、アクリル酸ブチル、アクリル酸オクチル、アクリル
酸ノニル等のアクリル酸及びそのアルキルエステル、メ
チルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビ
ニルエーテル等のアルキルビニルエーテル、ギ酸ビニ
ル、酢酸ビニル、アクリル酸ビニル、酪酸ビニル、カプ
ロン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等のアルキルビニル
エステル、アクリロニトリル、塩化ビニル、スチレン等
を挙げることができる。これらは１種単独で又は２種以
上混合して使用される。

【００３４】上記紫外線吸収性モノマーとこれと共重合
可能なモノマーとの使用割合としては、特に制限されず
広い範囲内から適宜選択することができるが、得られる
紫外線吸収性共重合体と合成樹脂との相溶性、合成樹脂
の透明性や機械的強度に対する影響等を考慮すると、通
常得られる上記共重合体中に紫外線吸収性モノマーが１
０〜７０重量％程度、好ましくは２０〜５０重量％程度
含有されるように両者を配合するのがよい。

【００３５】本発明の紫外線吸収性重合体は、紫外線吸
収性モノマーの１種又は２種以上を単独重合させるか、
該モノマーと上記共重合可能なモノマーとを共重合させ
ることにより製造される。重合方法としては、従来公知
の方法を広く採用することができ、例えば溶液重合法、
懸濁重合法、乳化重合法等を挙げることができる。

【００３６】溶液重合法を採用する場合、例えば適当な
溶媒中にて重合開始剤の存在下に前記モノマーの少なく
とも１種以上を重合させればよい。ここで溶媒として
は、従来公知のものを広く使用でき、例えば酢酸メチ
ル、酢酸エチル等のエステル類、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトン、シクロヘキ
サン、メチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロ
フラン等のエーテル類等を挙げることができる。これら
溶媒は、１種単独で又は２種以上混合して使用すること
ができる。また重合開始剤としても従来公知のものを広
く使用でき、例えばベンゾイルパーオキシド等の過酸化
物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物等を
挙げることができ、これら重合開始剤も１種単独で又は
２種以上混合して使用され得る。重合開始剤の使用量は
特に限定されるものではないが、通常モノマー使用量の
０．１〜５モル％程度とするのがよい。

【００３７】上記特定の重量平均分子量の重合体は、公
知の分子量調節法に従って得ることができる。斯かる分
子量調節法としては、例えば四塩化炭素、ラウリルメル
カプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を
添加する方法等を挙げることができる。この重合反応
は、通常室温〜１３０℃程度、好ましくは５０〜１００
℃程度の温度下で行なわれ、通常２〜１２０時間程度、
好ましくは３〜４８時間程度で終了する。

【００３８】本発明組成物中に配合される上記合成樹脂
及び紫外線吸収性重合体の配合割合としては、特に制限
がなく広い範囲内から適宜選択できるが、通常前者：後
者を重量比で８０〜９９．９９５：２０〜０．００５、
好ましくは９０〜９９．９：１０〜０．１となるように
配合するのがよい。

【００３９】本発明組成物には、更に必要に応じて酸化
防止剤、光安定剤、加工安定剤、老化防止剤、相溶化剤
等の公知の添加剤の少なくとも１種を配合することがで
きる。酸化防止剤としては、例えば１，６−ヘキサンジ
オール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、３，５−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホ
ネート−ジエチルエステル等のヒンダードフェノール系
酸化防止剤、ジラウリル３，３′−ジチオジプロピオ
ネート等の有機イオウ系酸化防止剤、トリアルキルフェ
ニルホスフェート等のリン系酸化防止剤等を挙げること
ができる。光安定剤としては、例えばビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート等
のヒンダードアミン系光安定剤、ジブチルジチオカルバ
ミン酸ニッケル等のニッケル塩系光安定剤等を挙げるこ
とができる。加工安定剤としては、例えばトリス（２，
４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフェート等の
リン系加工安定剤等を挙げることができる。老化防止剤
としては、例えば１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキセン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェ
ニレンジアミン等を挙げることができる。また相溶化剤
としては、例えばスチレン−ブタジエン−スチレン・ブ
ロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチ
レン・ブロック共重合体等の熱可塑性ゴム等を挙げるこ
とができる。これら添加剤の配合量は特に制限されない
が、通常合成樹脂に対して０．０１〜２０重量％程度用
いるのがよい。

【００４０】本発明の組成物は、合成樹脂が使用される
全ての用途に使用可能であるが、特に日光又は紫外線を
含む光に晒される可能性のある用途に特に好適に使用で
きる。その具体例としては、例えばガラス代替品とその
表面コーティング材、住居、施設、輸送機器等の窓ガラ
ス、採光ガラス及び光源保護ガラス用のコーティング
材、住居、施設、輸送機器等の内外装材及び内外装用塗
料、蛍光灯、水銀灯等の紫外線を発する光源用部材、精
密機械、電子電気機器用部材、各種ディスプレーから発
生する電磁波等の遮断用材、食品、化学品、薬品等の容
器又は包装材、農工業用シート又はフィルム材、印刷
物、染色物、染顔料等の退色防止剤、日焼け止めクリー
ム、シャンプー、リンス、整髪料等の化粧品、スポーツ
ウェア、ストッキング、帽子等の衣料用繊維製品及び繊
維、カーテン、絨毯、壁紙等の家庭用内装品、プラスチ
ックレンズ、コンタクトレンズ、義眼等の医療用器具、
光学フィルター、プリズム、鏡、写真材料等の光学用
品、テープ、インク等の文房具、標示板、標示器等とそ
の表面コーティング材等を挙げることができる。

【００４１】

【発明の効果】本発明によれば、高いレベルでしかも長
期的に安定した耐光及び耐薬品性を有する樹脂組成物を
提供することができる。

【００４２】

【実施例】以下に合成例（紫外線吸収性重合体の製造
例）、実施例及び比較例を掲げて本発明をより一層明ら
かにする。

【００４３】合成例１冷却管、窒素導入管、温度計及び攪拌器を備えたガラス
製フラスコに、２−〔２′−ヒドロキシ−５′−（メタ
クリロイルオキシエチル）フェニル〕ベンゾトリアゾー
ル２０ｇ、メタクリル酸メチル８０ｇ、テトラヒドロフ
ラン１１９ｍｌ及びアゾビスイソブチロニトリル０．７
２ｇを加え、均一溶液とした。この溶液を、窒素ガス導
入下に、７０℃に加熱して３時間重合した。得られた反
応液を大過剰量のメタノールに投入し、析出した沈殿を
濾取し、４０℃で１５時間真空乾燥し、微黄色粉状重合
体７４ｇを得た。このものは、標準ポリスチレンを基準
とするＧＰＣ分析により、重量平均分子量４．２×１０
⁴のものと確認した。またＮＭＲスペクトル及び極大吸
収波長における吸光度から、該重合体が上記モノマー化
合物の重合体であることが確認された。また該重合体に
は、上記ベンゾトリアゾール系モノマーが２３重量％含
まれていた。

【００４４】合成例２２−〔２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキ
シエチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール４０ｇ、メタ
クリル酸メチル６０ｇ、テトラヒドロフラン１００ｍｌ
及びアゾビスイソブチロニトリル０．６０ｇを使用する
以外は上記合成例１と同様に操作し、淡黄色粉状重合体
６１ｇを得た。このものは、重量平均分子量０．５×１
０⁴であり、上記ベンゾトリアゾール系モノマーが４６
重量％含まれていた。

【００４５】合成例３２−〔２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキ
シエチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール２５．８ｇ、
スチレン７４ｇ、テトラヒドロフラン１００ｍｌ及びア
ゾビスイソブチロニトリル０．６６ｇを使用する以外は
上記合成例１と同様に操作し、淡黄色粉状重合体４５ｇ
を得た。このものは、重量平均分子量０．５×１０⁴で
あり、上記ベンゾトリアゾール系モノマーが５４重量％
含まれていた。

【００４６】合成例４２−〔２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−
５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル〕ベ
ンゾトリアゾール１５．１ｇ、スチレン８４．９ｇ、テ
トラヒドロフラン１１０ｍｌ及びアゾビスイソブチロニ
トリル０．６６ｇを使用する以外は上記合成例１と同様
に操作し、微黄色粉状重合体４９ｇを得た。このもの
は、重量平均分子量１．５×１０⁴であり、上記ベンゾ
トリアゾール系モノマーが２０重量％含まれていた。

【００４７】合成例５２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシ）エ
トキシベンゾフェノン２６．２ｇ、メタクリル酸メチル
８７．８ｇ、ラウリルメルカプタン０．１ｇ、酢酸エチ
ル１２０ｍｌ及びアゾビスイソブチロニトリル０．７５
ｇを使用し、且つ重合時間を１０時間とする以外は上記
合成例１と同様に操作し、微黄色粉状重合体８８ｇを得
た。このものは、重量平均分子量２．４×１０⁴であ
り、上記ベンゾフェノン系モノマーが２２重量％含まれ
ていた。

【００４８】合成例６メタクリル酸メチルの代りにスチレン８７．８ｇを使用
する以外は上記合成例５と同様に操作し、微黄色粉状重
合体８１ｇを得た。このものは、重量平均分子量０．９
×１０⁴であり、上記ベンゾフェノン系モノマーが２２
重量％含まれていた。

【００４９】合成例７２−ヒドロキシ−４−メタクリロイルオキシメチル安息
香酸フェニル２０ｇ、テトラヒドロフラン１２０ｍｌ及
びアゾビスイソブチロニトリル０．７２ｇを使用する以
外は上記合成例１と同様に操作し、微黄色粉状重合体７
８ｇを得た。このものは、重量平均分子量１．１×１０
⁴であり、上記ヒドロキシ安息香酸フェニル系モノマー
が２５重量％含まれていた。

【００５０】合成例８２−シアノ−３−フェニル−３−（４−メタクリロイル
オキシフェニル）プロペニル酸メチル２０ｇ、テトラヒ
ドロフラン１２０ｍｌ及びアゾビスイソブチロニトリル
０．７２ｇを使用する以外は上記合成例１と同様に操作
し、微黄色粉状重合体６３ｇを得た。このものは、重量
平均分子量１．８×１０⁴であり、上記フェニルプロペ
ニル酸メチル系モノマーが２４重量％含まれていた。

【００５１】合成例９冷却管、窒素導入管、温度計及び攪拌器を供えたガラス
製フラスコに、２−〔２′−ヒドロキシ−５′−（メタ
クリロイルオキシエチル）フェニル〕ベンゾトリアゾー
ル４．９ｇ、スチレン１７．２ｇ、メチルエチルケトン
８００ｍｌ及びアゾビスイソブチロニトリル６．６ｇを
加え、均一溶液とした。この溶液を、窒素ガス導入下
に、８０℃に加熱して７時間重合した。得られた反応液
を２０％含水メタノール０．８リットルに投入し、析出
した沈殿を濾取し、減圧乾燥して、微黄色粉状重合体
２．８ｇを得た。このものは、重量平均分子量１．７×
１０³であり、上記ベンゾトリアゾール系モノマーが３
１重量％含まれていた。

【００５２】比較合成例１冷却管、窒素導入管、温度計及び攪拌器を備えたガラス
製フラスコに、２−〔２′−ヒドロキシ−５′−（メタ
クリロイルオキシエチル）フェニル〕ベンゾトリアゾー
ル３．２３ｇ、スチレン９．３６ｇ、メチルエチルケト
ン１０００ｍｌ及びアゾビスイソブチロニトリル４９．
２ｇを加え、均一溶液とした。この溶液を、窒素ガス導
入下に、８０℃に加熱して１４時間重合した。得られた
反応液を減圧下に濃縮した後、真空ポンプによる減圧下
に浴温１２０℃の油浴上で加熱して不純物を除去し、黄
色油状の重合体１４．８ｇを得た。このものは、標準ポ
リスチレンを基準とするＧＰＣ分析により、重量平均分
子量５．７×１０²であり、ピークは２．１×１０²か
ら９．５×１０²の間の広がりを有していた。またＮＭ
Ｒスペクトル及び極大吸収波長における吸光度から、該
重合体が上記モノマー化合物の重合体であることが確認
された。該重合体の上記ベンゾトリアゾール系モノマー
含量は１７重量％であった。

【００５３】比較合成例２冷却管、窒素導入管、温度計及び攪拌器を備えたガラス
製フラスコに、２−〔２′−ヒドロキシ−５′−（メタ
クリロイルオキシエチル）フェニル〕ベンゾトリアゾー
ル１２．５ｇ、スチレン７５ｇ、テトラヒドロフラン１
０００ｍｌ及びアゾビスイソブチロニトリル０．１５ｇ
を使用する以外は上記合成例１と同様に操作し、微黄色
粉状重合体７８．４ｇを得た。このものは、重量平均分
子量６．４×１０⁴であり、上記ベンゾトリアゾール系
モノマーが２７重量％含まれていた。

【００５４】実施例１及び比較例１ポリプロピレン１００重量部に対し、上記合成例で得た
紫外線吸収性重合体又は従来の紫外線吸収剤を下記表１
に示す割合で混合し、射出成形してＪＩＳ２号ダンベル
を得た。

【００５５】

【表１】

【００５６】得られたダンベルをサンシャインウェザー
メーターによる暴露試験に供し、所定時間暴露後引張り
強度試験を行ない、それぞれの引張り破壊伸び率を調べ
た。試験条件を以下に示す。

【００５７】暴露試験；使用機種：デューサイクルサンシャインウェザーメータ
ーＷＥＬ−ＳＵＮ−ＤＣ、スガ試験機（株）製光源：カーボンアーク降雨サイクル：１２０分毎に１８分間降雨温度：ブラックパネル８０℃ 引張り強度試験；使用機種：島津オートグラフＤＳＣ、（株）島津製作所
製条件：２００ｋｇ／ＦＳ、クロスヘッドスピード５０ｍ
ｍ／分、ＧＬ＝３０ｍｍ試験結果を図１に示す。図１か
ら、本発明品が従来品に比し優れた耐光性を有している
ことが判る。

【００５８】実施例２及び比較例２ポリ塩化ビニル１００重量部に対し、上記合成例で得た
紫外線吸収性重合体又は従来の紫外線吸収剤を下記表２
に示す割合で混合し、射出成形して厚さ１．６ｍｍの平
板を得た。得られた平板を、実施例１と同様にして暴露
試験に供した。結果を表２に併せて示す。

【００５９】

【表２】

【００６０】実施例３及び比較例３ポリ塩化ビニリデン１００重量部に対し、上記合成例で
得た紫外線吸収性重合体又は従来の紫外線吸収剤を下記
表３に示す割合で混合し、射出成形して厚さ１．６ｍｍ
の平板を得た。得られた平板を、実施例１と同様にして
暴露試験に供した。結果を表３に併せて示す。

【００６１】

【表３】

【００６２】実施例４及び比較例４ポリスチレン１００重量部に対し、上記合成例で得た紫
外線吸収性重合体又は従来の紫外線吸収剤を下記表４に
示す割合で混合し、射出成形して厚さ１．６ｍｍの平板
を得た。

【００６３】

【表４】

【００６４】得られた平板を、実施例１と同様にして暴
露試験に供した後、色差計（商品名：カラーコンピュー
ターＳＭ−２、スガ試験機（株））を用いて平板表面の
色差（ΔＥａｂ＊）を定量した。結果を図２に示す。図
２より、本発明品が従来品に比し優れた耐光性を有する
ことが判る。

【００６５】実施例５及び比較例５アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体１０
０重量部に対し、上記合成例で得た紫外線吸収性重合体
又は従来の紫外線吸収剤を下記表５に示す割合で混合
し、射出成形して厚さ１．６ｍｍの平板を得た。

【００６６】

【表５】

【００６７】得られた平板を、実施例１と同様にして暴
露試験に供した後、色差計（商品名：カラーコンピュー
ターＳＭ−２、スガ試験機（株））を用いて平板表面の
色差（ΔＥａｂ＊）を定量した。結果を図３に示す。図
３より、本発明品が従来品に比し優れた耐光性を有する
ことが判る。

【００６８】実施例６及び比較例６ポリカーボネート１００重量部に対し、上記合成例で得
た紫外線吸収性重合体又は従来の紫外線吸収剤を下記表
６に示す割合で混合し、射出成形して厚さ１．６ｍｍの
平板を得た。

【００６９】

【表６】

【００７０】得られた平板を、実施例１と同様にして暴
露試験に供した後、色差計（商品名：カラーコンピュー
ターＳＭ−２、スガ試験機（株））を用いて平板表面の
色差（ΔＥａｂ＊）を定量した。結果を図４に示す。図
４より、本発明品が従来品に比し優れた耐光性を有する
ことが判る。

【００７１】実施例７及び比較例７〜８上記合成例で得た紫外線吸収性重合体又は従来の紫外線
吸収剤とポリスチレンとをテトラクロルエタン中で下記
表７に示す配合量で混合し、均一溶液とした。これらの
溶液を、スピンコーターを用いて直径３０ｍｍ、厚さ１
ｍｍの石英ガラス製ディスク上に滴下し、厚さ０．９〜
１．０μｍの均一薄膜を作成した。該ディスクを７０℃
の温水中に入れ、該薄膜の３４０ｎｍにおける吸光度を
２時間毎に測定した。

【００７２】従来の紫外線吸収剤（比較例７）及び比較
合成例１の重合体（比較例８、分子量１０００未満）を
用いたものは、これらの溶出により吸光度がほぼ直線的
に減少した。これに対し、合成例９の重合体（実施例
７、本発明物、分子量１７００）を用いたものは溶出
（滲出し）がなく、吸光度が初期と同程度に保持されて
いた。それぞれの薄膜の３４０ｎｍにおける初期吸光度
（Ａ₀）、１０時間後の吸光度（Ａ₁₀）及び吸光度保持
率（％、Ａ₁₀／Ａ₀）を表７に併記する。

【００７３】

【表７】

【００７４】また、１０時間後のディスクを実施例１と
同様のサンシャインウエザーメーターで暴露試験を行な
ったところ、実施例７で得たディスクは５００時間経過
後も目視による変化は認められなかったのに対して、比
較例７で得たディスクは２００時間で黄色化が確認され
た。従って、本発明組成物が安定な耐光性を有している
ことが判る。

【００７５】比較例９ポリカーボネート樹脂１００重量部に、比較合成例２の
紫外線吸収性重合体（分子量４５０００以上）１．０重
量部を混合し、実施例６と同様に射出成形して厚さ１．
６ｍｍの平板を得た。

【００７６】この平板は、灰白色の薄い濁りを有してい
た。一方前記したように、実施例６のものは透明であっ
た。上記比較合成例２の重合体の添加量を増加させる
と、更に灰白色の濁りは顕著になり、１０重量部の添加
により白色の不均一層が生じた。このことから、上記比
較合成例２の重合体とポリカーボネート樹脂との相溶性
が不良であることが明らかである。

【００７７】実施例８及び比較例１０上記合成例２で得た紫外線吸収性重合体又は従来の紫外
線吸収剤とポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）とをテ
トラクロルエタン中で下記表８に示す配合量で混合し、
均一溶液とした。これらの溶液を用いて、実施例７で示
した方法と同様にして厚さ約１μｍの均一薄膜を調製し
た。該ディスクを７０℃の温水中に入れ、該薄膜の３４
０ｎｍにおける吸光度を２時間毎に測定した。結果を表
８に示す。

【００７８】

【表８】

【００７９】表８の結果から、本発明の組成物において
は、紫外線吸収性重合体が樹脂マトリックス中に完全に
保持されて溶出（滲出し）することが全くないことが判
明した。

【００８０】実施例９及び比較例１１〜１２合成例６で得た紫外線吸収性重合体１１ｍｇとポリカー
ボネート８９ｍｇ（実施例９）、従来の紫外線吸収剤
（２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−オクチル
フェニル）ベンゾトリアゾール）５ｍｇとポリカーボネ
ート９５ｍｇ（比較例１１）又はポリカーボネート１０
０ｍｇ（比較例１２）をそれぞれテトラクロルエタン５
ｍｌに均一溶解し、実施例７と同様にしてそれぞれ厚さ
約１．１μｍの薄膜を調製した。得られた薄膜の３４０
ｎｍ及び２３１ｎｍにおける吸光度（Ａ₀）はそれぞれ
０．３３３及び２．５１（実施例９）、０．２６３及び
２．４６（比較例１１）又は２．６２（比較例１２，２
３１ｎｍにおける吸光度のみ測定）であった。該薄膜を
７０℃の２％水酸化ナトリウム水溶液中に入れ、該膜の
３４０ｎｍ又は２３１ｎｍにおける吸光度（Ａ_t）を２
時間毎に測定し、保持率をＡ_t／Ａ_oとして表わした。
結果を図５に示した。

【００８１】図５に示す結果から、高温のアルカリ水溶
液中において、従来の紫外線吸収剤を含むポリカーボネ
ート膜又はポリカーボネート単独膜では紫外線吸収剤の
溶出（３４０ｎｍでの保持率の減少）に加えてポリカー
ボネート膜の溶解（２３１ｎｍにおける保持率の減少）
が顕著であるのに対し、本発明の紫外線吸収性重合体組
成物からなる膜では紫外線吸収性能は全く低下すること
がないのに加え樹脂組成物に対して耐アルカリ性が付与
できることが判る。

【００８２】実施例１０及び比較例１３合成例６で得た紫外線吸収性重合体１５ｍｇとポリエチ
レンテレフタレート８５ｍｇ（実施例１０）又は従来の
紫外線吸収剤（２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチル
フェニル）ベンゾトリアゾール）５ｍｇとポリエチレン
テレフタレート９５ｍｇ（比較例１３）をそれぞれ実施
例９と同様にして薄膜とした。得られた薄膜を実施例９
と同様にして７０℃の２％水酸化ナトリウム水溶液中に
入れた。１０時間後の紫外線吸収性能及び膜の保持率を
測定したところ、比較例１３では紫外線吸収性能が８５
％、膜の保持率が５０％それぞれ低下したのに対し、実
施例１０ではいずれもほぼ１００％保持されていた。

【００８３】実施例１１及び比較例１４合成例６で得た紫外線吸収性重合体１１ｍｇとポリカー
ボネート８９ｍｇ（実施例１１）、従来の紫外線吸収剤
（５−クロロ−２−（３′−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−
ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル）５ｍｇとポリカーボネート９５ｍｇ（比較例１４）
をそれぞれ実施例９と同様にして膜厚約０．９μｍの薄
膜とした。該薄膜の３４０ｎｍ及び２３１ｎｍにおける
吸光度（Ａ₀）はそれぞれ０．２６２及び２．４６（実
施例１１）、０．２８８及び２．５１（比較例１４）で
あった。該膜を９５％メタノール中に浸して還流条件下
で加熱した。途中２時間毎に該膜の吸光度を測定した。
結果を図６に示した。

【００８４】図６に示す結果から、従来の紫外線吸収剤
を含むポリカーボネート組成物は９５％メタノール中に
おいて紫外線吸収性能の低下に加えてポリカーボネート
膜の溶解が起こるのに対し、本発明の紫外線吸収性重合
体組成物からなる膜は完全な安定性を示した。

【図面の簡単な説明】

【図１】暴露試験後の本発明品（実施例１）と従来品
（比較例１）の引張り特性を示すグラフである。

【図２】暴露試験後の本発明品（実施例４）と従来品
（比較例４）の色差（ΔＥａｂ＊）を示すグラフであ
る。

【図３】暴露試験後の本発明品（実施例５）と従来品
（比較例５）の色差（ΔＥａｂ＊）を示すグラフであ
る。

【図４】暴露試験後の本発明品（実施例６）と従来品
（比較例６）の色差（ΔＥａｂ＊）を示すグラフであ
る。

【図５】アルカリ水溶液中での溶解試験における本発明
品（実施例９）と従来品（比較例１１及び比較例１２）
の紫外線吸収剤の保持率及びポリカーボネート膜の保持
率を示すグラフである。

【図６】９５％メタノール中での溶解試験における本発
明品（実施例１１）と従来品（比較例１４）の紫外線吸
収剤の保持率及びポリカーボネート膜の保持率を示すグ
ラフである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者亀島隆徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者河野和浩徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚化学株式会社徳島研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】合成樹脂及び重量平均分子量１０００〜
４５０００の紫外線吸収性重合体を含有する耐光及び耐
薬品性樹脂組成物。
【請求項２】合成樹脂がポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリス
チレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアミド、
ポリエステル、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレ
ン樹脂及び熱可塑性ポリウレタン樹脂からなる群より選
ばれた少なくとも１種である請求項１に記載の耐光及び
耐薬品性樹脂組成物。
【請求項３】合成樹脂がポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエステ
ル及び熱可塑性ポリウレタン樹脂からなる群より選ばれ
た少なくとも１種の耐アルカリ性及び／又は耐溶剤性に
乏しい合成樹脂である請求項１に記載の耐光及び耐薬品
性樹脂組成物。
【請求項４】紫外線吸収性重合体が一般式【化１】〔式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、そのうちの少なくとも
１つが基【化２】（式中Ｒ⁴は炭素数１〜１０の直鎖又は分枝鎖状アルキ
レン基を示す。Ｒ⁵は水素原子又は炭素数１〜４の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を示す。ｍは０又は１を示
す。）を示し、他は同一又は異なって炭素数１〜８のア
ルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、シアノ基、ヒ
ドロキシ基、ハロゲン原子、カルボキシル基又はアルコ
キシカルボニル基を示す。〕で表わされる紫外線吸収性
化合物の単独重合体、同族重合体及び該紫外線吸収性化
合物と共重合可能なモノマーとの共重合体からなる群よ
り選ばれた少なくとも１種である請求項１に記載の耐光
及び耐薬品性樹脂組成物。
【請求項５】紫外線吸収性重合体が一般式【化３】〔式中、Ｒ^1'は水素原子又は低級アルキル基を示す。Ｒ
^2'は基【化４】（式中Ｒ^4'は炭素数１〜４の直鎖又は分枝鎖状アルキレ
ン基を示す。Ｒ^5'は水素原子又はメチル基を示す。）を
示す。〕で表わされる紫外線吸収性化合物の単独重合
体、同族重合体及び該紫外線吸収性化合物と共重合可能
なモノマーとの共重合体からなる群より選ばれた少なく
とも１種である請求項１に記載の耐光及び耐薬品性樹脂
組成物。