JPH0788657A - プラズマトーチ - Google Patents
プラズマトーチInfo
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- JPH0788657A JPH0788657A JP5236313A JP23631393A JPH0788657A JP H0788657 A JPH0788657 A JP H0788657A JP 5236313 A JP5236313 A JP 5236313A JP 23631393 A JP23631393 A JP 23631393A JP H0788657 A JPH0788657 A JP H0788657A
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- Japan
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- plasma
- plasma arc
- swirling
- plasma torch
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- Arc Welding In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】酸化性ガスを旋回させて電極の周囲に供給し、
旋回させたプラズマアークによって被加工材を切断する
に際し、切断面の垂直度の改善をはかる。 【構成】旋回させたプラズマアーク17を噴射する一次ノ
ズル部材４に対向させて二次ノズル孔６ａを有する二次
ノズル部材６を配置する。二次ノズル孔６ａの上流側に
軸流噴射部材15，旋回噴射部材16を選択的に配置する。
センタリングストーン14によって旋回したプラズマアー
ク17は、旋回成分が軸流18或いは旋回流20によって打ち
消され、被加工材19の表面に対し垂直で且つプラズマト
ーチ１の軸心１ａに対し平行な流れとなり、切断面の垂
直度を改善する。
旋回させたプラズマアークによって被加工材を切断する
に際し、切断面の垂直度の改善をはかる。 【構成】旋回させたプラズマアーク17を噴射する一次ノ
ズル部材４に対向させて二次ノズル孔６ａを有する二次
ノズル部材６を配置する。二次ノズル孔６ａの上流側に
軸流噴射部材15，旋回噴射部材16を選択的に配置する。
センタリングストーン14によって旋回したプラズマアー
ク17は、旋回成分が軸流18或いは旋回流20によって打ち
消され、被加工材19の表面に対し垂直で且つプラズマト
ーチ１の軸心１ａに対し平行な流れとなり、切断面の垂
直度を改善する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は切断面の垂直度を向上さ
せることが出来るプラズマトーチに関するものである。
せることが出来るプラズマトーチに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】非鉄金属や非金属を切断する場合、タン
グステン電極を用い該電極にプラズマガスとしてアルゴ
ンガスや水素ガスを供給し、発生させたプラズマアーク
をプラズマトーチと平行な軸流としてノズルから噴射す
るプラズマトーチが提供されている。このプラズマトー
チでは、切断面に傾斜が生じることがなく、良好な切断
面を形成し得ることが知られている。
グステン電極を用い該電極にプラズマガスとしてアルゴ
ンガスや水素ガスを供給し、発生させたプラズマアーク
をプラズマトーチと平行な軸流としてノズルから噴射す
るプラズマトーチが提供されている。このプラズマトー
チでは、切断面に傾斜が生じることがなく、良好な切断
面を形成し得ることが知られている。
【０００３】鋼板やステンレス鋼板を切断する場合、プ
ラズマガスとして酸素ガスや空気等の酸化性ガスを用い
ている。酸化性ガスを使用するプラズマトーチに於い
て、電極に銅やタングステンを用いた場合、該電極が直
ちに酸化して消耗する。このため、電極としてカップ状
に形成した銅材の表面にハフニウムを埋設して構成した
ものを用いている。
ラズマガスとして酸素ガスや空気等の酸化性ガスを用い
ている。酸化性ガスを使用するプラズマトーチに於い
て、電極に銅やタングステンを用いた場合、該電極が直
ちに酸化して消耗する。このため、電極としてカップ状
に形成した銅材の表面にハフニウムを埋設して構成した
ものを用いている。
【０００４】上記プラズマトーチでは、プラズマガスと
なる酸化性ガスをプラズマトーチの軸心と平行な軸流と
して噴射した場合、電極の表面に於けるプラズマアーク
の発生基点が安定せず、プラズマアークそのものが不安
定となったりシリースアークが発生する虞があるという
問題がある。このため、電極の周囲にプラズマガスを旋
回させて供給することにより、プラズマアークの発生基
点の安定化をはかるように構成されるのが一般である。
なる酸化性ガスをプラズマトーチの軸心と平行な軸流と
して噴射した場合、電極の表面に於けるプラズマアーク
の発生基点が安定せず、プラズマアークそのものが不安
定となったりシリースアークが発生する虞があるという
問題がある。このため、電極の周囲にプラズマガスを旋
回させて供給することにより、プラズマアークの発生基
点の安定化をはかるように構成されるのが一般である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】然し、上記プラズマト
ーチでは、プラズマガスの旋回方向と切断の進行方向と
に応じて切断面の垂直度が異なるという問題がある。即
ち、例えば図５に示すように、被加工材の上面から見て
切断の進行方向に対しプラズマガスが右旋回している場
合、被加工材に於ける右側の切断面の垂直度が確保し得
るが、左側の切断面は傾斜が大きく製品となり得ないと
いう問題がある。
ーチでは、プラズマガスの旋回方向と切断の進行方向と
に応じて切断面の垂直度が異なるという問題がある。即
ち、例えば図５に示すように、被加工材の上面から見て
切断の進行方向に対しプラズマガスが右旋回している場
合、被加工材に於ける右側の切断面の垂直度が確保し得
るが、左側の切断面は傾斜が大きく製品となり得ないと
いう問題がある。
【０００６】本発明の目的は、プラズマガスの旋回方向
及び切断の進行方向の如何に関わらず、切溝の両側の切
断面の垂直度を改善することが出来るプラズマトーチを
提供することにある。
及び切断の進行方向の如何に関わらず、切溝の両側の切
断面の垂直度を改善することが出来るプラズマトーチを
提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題は、切断の進行
方向右側ではプラズマトーチの進行ベクトルとプラズマ
アークの旋回ベクトルが打ち消し合ってプラズマアーク
が被加工材の表面に対し略垂直方向の流れ（切断面に対
し平行な流れ）を持って作用し、且つ左側ではプラズマ
トーチの進行ベクトルとプラズマアークの旋回ベクトル
が相乗して切断面に対し大きな旋回成分を持って作用す
ることにより発生するものと考えられる。
方向右側ではプラズマトーチの進行ベクトルとプラズマ
アークの旋回ベクトルが打ち消し合ってプラズマアーク
が被加工材の表面に対し略垂直方向の流れ（切断面に対
し平行な流れ）を持って作用し、且つ左側ではプラズマ
トーチの進行ベクトルとプラズマアークの旋回ベクトル
が相乗して切断面に対し大きな旋回成分を持って作用す
ることにより発生するものと考えられる。
【０００８】従って、プラズマアークの旋回方向及び切
断の進行方向の如何に関わらず、切断面に対し直接作用
するガスの流れを略平行な方向とすることで、即ち、プ
ラズマアークに沿って該アークの旋回を打ち消すような
二次気流を噴射することで、切断面の垂直度の改善をは
かることが可能となる。
断の進行方向の如何に関わらず、切断面に対し直接作用
するガスの流れを略平行な方向とすることで、即ち、プ
ラズマアークに沿って該アークの旋回を打ち消すような
二次気流を噴射することで、切断面の垂直度の改善をは
かることが可能となる。
【０００９】従って、上記課題を解決するために本発明
に係るプラズマトーチは、電極の周囲に旋回させた酸化
性ガスを供給してノズルから旋回したプラズマアークを
噴射するプラズマトーチに於いて、前記ノズルの周囲に
二次ノズルを配置すると共に該二次ノズルから前記プラ
ズマアークの旋回を打ち消す二次気流を噴射させるよう
に構成したものである。
に係るプラズマトーチは、電極の周囲に旋回させた酸化
性ガスを供給してノズルから旋回したプラズマアークを
噴射するプラズマトーチに於いて、前記ノズルの周囲に
二次ノズルを配置すると共に該二次ノズルから前記プラ
ズマアークの旋回を打ち消す二次気流を噴射させるよう
に構成したものである。
【００１０】上記プラズマトーチに於いて、前記二次ノ
ズルのノズル孔の上流側に二次気流をプラズマトーチの
軸心と平行に噴射させる軸流噴射部材、又は二次気流を
プラズマアークの旋回方向と反対方向に旋回させて噴射
させる旋回噴射部材を配置することが好ましい。
ズルのノズル孔の上流側に二次気流をプラズマトーチの
軸心と平行に噴射させる軸流噴射部材、又は二次気流を
プラズマアークの旋回方向と反対方向に旋回させて噴射
させる旋回噴射部材を配置することが好ましい。
【００１１】
【作用】上記プラズマトーチによれば、切溝の両側の切
断面の垂直度を改善することが出来る。即ち、プラズマ
アークの旋回を二次ノズルから噴射する二次気流によっ
て打ち消すことで、切断面に与えるプラズマアークの旋
回による影響を排除することが可能となり、垂直度を改
善することが出来る。
断面の垂直度を改善することが出来る。即ち、プラズマ
アークの旋回を二次ノズルから噴射する二次気流によっ
て打ち消すことで、切断面に与えるプラズマアークの旋
回による影響を排除することが可能となり、垂直度を改
善することが出来る。
【００１２】二次ノズルのノズル孔の上流側に二次気流
をプラズマトーチの軸心と平行な流れ（軸流）として噴
射する軸流噴射部材を配置して二次気流を噴射すること
で、該二次気流によってプラズマアークの旋回を打ち消
すことが出来る。
をプラズマトーチの軸心と平行な流れ（軸流）として噴
射する軸流噴射部材を配置して二次気流を噴射すること
で、該二次気流によってプラズマアークの旋回を打ち消
すことが出来る。
【００１３】また二次ノズルのノズル孔の上流側に二次
気流をプラズマアークの旋回方向と反対方向に旋回させ
る旋回噴射部材を配置して二次気流を噴射することで、
該二次気流によってプラズマアークの旋回を打ち消すこ
とが出来る。
気流をプラズマアークの旋回方向と反対方向に旋回させ
る旋回噴射部材を配置して二次気流を噴射することで、
該二次気流によってプラズマアークの旋回を打ち消すこ
とが出来る。
【００１４】従って、切断面にプラズマアークの旋回に
よる影響を与えることがなく、且つ電極の表面に於ける
プラズマアークの発生基点を安定させてプラズマアーク
を発生させることが出来る。
よる影響を与えることがなく、且つ電極の表面に於ける
プラズマアークの発生基点を安定させてプラズマアーク
を発生させることが出来る。
【００１５】
【実施例】以下、上記プラズマトーチの実施例について
図を用いて説明する。図１はプラズマトーチの模式断面
図、図２は軸流噴射部材の構成を説明する図、図３は旋
回噴射部材の構成を説明する図、図４はプラズマアーク
と二次気流の関係を説明する図である。
図を用いて説明する。図１はプラズマトーチの模式断面
図、図２は軸流噴射部材の構成を説明する図、図３は旋
回噴射部材の構成を説明する図、図４はプラズマアーク
と二次気流の関係を説明する図である。
【００１６】図に於いて、プラズマトーチ１の軸心１ａ
上にハフニウムからなる電極材２ａを埋設した電極２が
配置されており、この電極２は内部に冷却水を流通させ
る冷却パイプ３の先端に着脱可能に装着されている。電
極２と対向して一次ノズル孔４ａを有する一次ノズル部
材４が配置され、プラズマトーチ１の内部に配置された
パイプ状の隔壁部材５に着脱可能に装着されている。ま
た一次ノズル部材４と対向して二次ノズル孔６ａを有す
る二次ノズル部材６が配置され、トーチ本体７に着脱可
能に装着されている。
上にハフニウムからなる電極材２ａを埋設した電極２が
配置されており、この電極２は内部に冷却水を流通させ
る冷却パイプ３の先端に着脱可能に装着されている。電
極２と対向して一次ノズル孔４ａを有する一次ノズル部
材４が配置され、プラズマトーチ１の内部に配置された
パイプ状の隔壁部材５に着脱可能に装着されている。ま
た一次ノズル部材４と対向して二次ノズル孔６ａを有す
る二次ノズル部材６が配置され、トーチ本体７に着脱可
能に装着されている。
【００１７】上記構成に於いて、電極材２ａ，一次ノズ
ル孔４ａ，二次ノズル孔６ａは夫々プラズマトーチ１の
軸心１ａ上に配列されている。またプラズマトーチ１の
内部には冷却パイプ３と隔壁部材５との間にプラズマガ
スを流通させる通路８が構成され、且つ隔壁部材５とト
ーチ本体７の間に二次気流を形成するガスを流通させる
二次通路９が構成されている。
ル孔４ａ，二次ノズル孔６ａは夫々プラズマトーチ１の
軸心１ａ上に配列されている。またプラズマトーチ１の
内部には冷却パイプ３と隔壁部材５との間にプラズマガ
スを流通させる通路８が構成され、且つ隔壁部材５とト
ーチ本体７の間に二次気流を形成するガスを流通させる
二次通路９が構成されている。
【００１８】通路８はホース10によってプラズマガスの
供給源11と接続されている。また二次通路９も同様にホ
ース12によって二次気流を形成するガスの供給源13と接
続されている。
供給源11と接続されている。また二次通路９も同様にホ
ース12によって二次気流を形成するガスの供給源13と接
続されている。
【００１９】通路８にはプラズマガスを旋回させて電極
２の表面（電極材２ａの表面）に噴射するセンタリング
ストーン14が設けられている。このセンタリングストー
ン14には軸心１ａを中心とする円周方向に傾斜させた複
数の孔14ａが形成されており、プラズマガスが孔14ａを
通過することによって該孔14ａの傾斜に応じて旋回し得
るように構成されている。
２の表面（電極材２ａの表面）に噴射するセンタリング
ストーン14が設けられている。このセンタリングストー
ン14には軸心１ａを中心とする円周方向に傾斜させた複
数の孔14ａが形成されており、プラズマガスが孔14ａを
通過することによって該孔14ａの傾斜に応じて旋回し得
るように構成されている。
【００２０】上記の如くプラズマガスを旋回させた状態
で電極２の表面に噴射することによって、電極材２ａに
於けるプラズマアークの発生基点を安定した状態で軸心
１ａと一致させることが可能であり、シリースアークが
発生する虞を減少させ、且つ安定したプラズマアークを
形成して加工することが可能となる。
で電極２の表面に噴射することによって、電極材２ａに
於けるプラズマアークの発生基点を安定した状態で軸心
１ａと一致させることが可能であり、シリースアークが
発生する虞を減少させ、且つ安定したプラズマアークを
形成して加工することが可能となる。
【００２１】二次通路９には、図２に示す軸流噴射部材
15、或いは図３に示す旋回噴射部材16が選択的に配置さ
れている。前記各部材15，16は一次ノズル孔４ａから旋
回した状態で噴射されるプラズマアークの外周に沿って
二次気流を軸流或いは旋回流として噴射させるものであ
り、これ等の各部材15，16によって形成される二次気流
はプラズマアークの旋回を打ち消す機能を有する。
15、或いは図３に示す旋回噴射部材16が選択的に配置さ
れている。前記各部材15，16は一次ノズル孔４ａから旋
回した状態で噴射されるプラズマアークの外周に沿って
二次気流を軸流或いは旋回流として噴射させるものであ
り、これ等の各部材15，16によって形成される二次気流
はプラズマアークの旋回を打ち消す機能を有する。
【００２２】即ち、図４（ａ）に示すように、旋回させ
たプラズマアーク17の周囲に沿わせて軸流18としての二
次気流を噴射した場合、プラズマアーク17の旋回成分は
軸流18によって打ち消されて二次ノズル孔６ａからの距
離の増加に伴って減衰する。またプラズマアーク17は軸
流18によって包み込まれる。このため、被加工材19に作
用するプラズマアーク17及び軸流18は切断面に対し略平
行な方向の流れとなる。従って、切断面の垂直度の改善
をはかることが可能となる。
たプラズマアーク17の周囲に沿わせて軸流18としての二
次気流を噴射した場合、プラズマアーク17の旋回成分は
軸流18によって打ち消されて二次ノズル孔６ａからの距
離の増加に伴って減衰する。またプラズマアーク17は軸
流18によって包み込まれる。このため、被加工材19に作
用するプラズマアーク17及び軸流18は切断面に対し略平
行な方向の流れとなる。従って、切断面の垂直度の改善
をはかることが可能となる。
【００２３】また同図（ｂ）に示すように、旋回させた
プラズマアーク17の周囲に沿わせて該アーク17の旋回方
向と反対方向に旋回させた旋回流20としての二次気流を
噴射した場合、プラズマアーク17の旋回成分は旋回流20
によって打ち消され、二次ノズル孔６ａからの距離の増
加に伴って軸流状となる。このため、被加工材19を切断
した場合、切断面の垂直度の改善をはかることが可能と
なる。
プラズマアーク17の周囲に沿わせて該アーク17の旋回方
向と反対方向に旋回させた旋回流20としての二次気流を
噴射した場合、プラズマアーク17の旋回成分は旋回流20
によって打ち消され、二次ノズル孔６ａからの距離の増
加に伴って軸流状となる。このため、被加工材19を切断
した場合、切断面の垂直度の改善をはかることが可能と
なる。
【００２４】軸流噴射部材15は、セラミックス等の絶縁
性を有する材料を円筒状に成形した部材にプラズマトー
チ１の軸心１ａと平行に複数の孔15ａを形成して構成さ
れている。このため、二次通路９に供給されたガスは軸
流噴射部材15の孔15ａを通過したとき軸心１ａと平行に
流れ、図４（ａ）示す軸流18として二次ノズル部材６の
二次ノズル孔６ａから外部に噴射される。
性を有する材料を円筒状に成形した部材にプラズマトー
チ１の軸心１ａと平行に複数の孔15ａを形成して構成さ
れている。このため、二次通路９に供給されたガスは軸
流噴射部材15の孔15ａを通過したとき軸心１ａと平行に
流れ、図４（ａ）示す軸流18として二次ノズル部材６の
二次ノズル孔６ａから外部に噴射される。
【００２５】従って、一次ノズル孔４ａからプラズマア
ーク17を噴射しつつ、二次ノズル孔６ａから軸流18を二
次気流として噴射させると、この軸流18はプラズマアー
ク17の外周に沿って該アーク17を被覆するように流れ
る。このとき、プラズマアーク17は軸流18によって軸心
１ａと平行に吸引され、該アーク17の旋回成分が打ち消
される。
ーク17を噴射しつつ、二次ノズル孔６ａから軸流18を二
次気流として噴射させると、この軸流18はプラズマアー
ク17の外周に沿って該アーク17を被覆するように流れ
る。このとき、プラズマアーク17は軸流18によって軸心
１ａと平行に吸引され、該アーク17の旋回成分が打ち消
される。
【００２６】旋回噴射部材16は、絶縁性を有する円筒状
の部材にプラズマトーチ１の軸心１ａを中心とする円周
方向に傾斜させた複数の孔16ａを形成して構成されてい
る。前記孔16ａの傾斜方向は、通路８に設けたセンタリ
ングストーン14の孔14ａの傾斜方向に対し反対方向に設
定されている。
の部材にプラズマトーチ１の軸心１ａを中心とする円周
方向に傾斜させた複数の孔16ａを形成して構成されてい
る。前記孔16ａの傾斜方向は、通路８に設けたセンタリ
ングストーン14の孔14ａの傾斜方向に対し反対方向に設
定されている。
【００２７】このため、二次通路９に供給されたガスは
旋回噴射部材16の孔16ａを通過したとき軸心１ａを中心
として旋回し、図４（ｂ）に示す旋回流20として二次ノ
ズル部材６の二次ノズル孔６ａから外部に噴射される。
従って、一次ノズル孔４ａから旋回状態で噴射されたプ
ラズマアーク17の旋回成分は旋回流20の旋回成分によっ
て打ち消さる。
旋回噴射部材16の孔16ａを通過したとき軸心１ａを中心
として旋回し、図４（ｂ）に示す旋回流20として二次ノ
ズル部材６の二次ノズル孔６ａから外部に噴射される。
従って、一次ノズル孔４ａから旋回状態で噴射されたプ
ラズマアーク17の旋回成分は旋回流20の旋回成分によっ
て打ち消さる。
【００２８】尚、図に於いて、21は電極２と一次ノズル
部材４及び被加工材19と接続された電源である。
部材４及び被加工材19と接続された電源である。
【００２９】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明に係る
プラズマトーチでは、旋回状態で噴射されるプラズマア
ークの旋回成分を二次気流によって打ち消すことで、プ
ラズマアークを被加工材の表面に対し略垂直方向で且つ
プラズマトーチの軸心と平行な軸流状とすることが出来
る。このため、切断の進行方向及びプラズマアークの旋
回方向に影響されることなく、切断面の垂直度を改善す
ることが出来る。
プラズマトーチでは、旋回状態で噴射されるプラズマア
ークの旋回成分を二次気流によって打ち消すことで、プ
ラズマアークを被加工材の表面に対し略垂直方向で且つ
プラズマトーチの軸心と平行な軸流状とすることが出来
る。このため、切断の進行方向及びプラズマアークの旋
回方向に影響されることなく、切断面の垂直度を改善す
ることが出来る。
【００３０】また二次ノズル部材に形成した二次ノズル
孔の上流側に軸流噴射部材又は旋回流噴射部材を配置し
たので、これ等の噴射部材を通過した二次気流によって
プラズマアークの旋回成分を打ち消すことが出来る等の
特徴を有するものである。
孔の上流側に軸流噴射部材又は旋回流噴射部材を配置し
たので、これ等の噴射部材を通過した二次気流によって
プラズマアークの旋回成分を打ち消すことが出来る等の
特徴を有するものである。
【図１】プラズマトーチの模式断面図である。
【図２】軸流噴射部材の構成を説明する図である。
【図３】旋回噴射部材の構成を説明する図である。
【図４】プラズマアークと二次気流の関係を説明する図
である。
である。
【図５】課題を説明する図である。
１ プラズマトーチ １ａ 軸心 ２ 電極 ２ａ 電極材 ４ 一次ノズル部材 ４ａ 一次ノズル孔 ６ 二次ノズル部材 ６ａ 二次ノズル孔 ７ トーチ本体 ８ 通路 ９ 二次通路 11 プラズマガスの供給源 13 二次気流を形成するガスの供給源 14 センタリングストーン 14ａ，15ａ，16ａ 孔 15 軸流噴射部材 16 旋回噴射部材 17 プラズマアーク 18 軸流 19 被加工材 20 旋回流 21 電源
Claims (3)
- 【請求項１】 電極の周囲に旋回させた酸化性ガスを供
給してノズルから旋回したプラズマアークを噴射するプ
ラズマトーチに於いて、前記ノズルの周囲に二次ノズル
を配置すると共に該二次ノズルから前記プラズマアーク
の旋回を打ち消す二次気流を噴射させるように構成した
ことを特徴としたプラズマトーチ。 - 【請求項２】 前記二次ノズルのノズル孔の上流側に二
次気流をプラズマトーチの軸心と平行に噴射させる軸流
噴射部材を配置したことを特徴とした請求項１記載のプ
ラズマトーチ。 - 【請求項３】 前記二次ノズルのノズル孔の上流側に二
次気流をプラズマアークの旋回方向と反対方向に旋回さ
せて噴射させる旋回噴射部材を配置したことを特徴とし
た請求項１記載のプラズマトーチ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23631393A JP3260018B2 (ja) | 1993-09-22 | 1993-09-22 | プラズマ切断トーチ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23631393A JP3260018B2 (ja) | 1993-09-22 | 1993-09-22 | プラズマ切断トーチ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0788657A true JPH0788657A (ja) | 1995-04-04 |
| JP3260018B2 JP3260018B2 (ja) | 2002-02-25 |
Family
ID=16998953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23631393A Expired - Fee Related JP3260018B2 (ja) | 1993-09-22 | 1993-09-22 | プラズマ切断トーチ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3260018B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160053847A (ko) * | 2013-05-16 | 2016-05-13 | 크엘베르크-스티프텅 | 플라즈마 토치, 특히 플라즈마 절단 토치의 단일 또는 다수-부분의 절연 부품, 및 이를 가지는 플라즈마 토치와 조립체 |
| JP2016530098A (ja) * | 2013-10-04 | 2016-09-29 | シェルベリ−シュティフトゥングＫｊｅｌｌｂｅｒｇ−Ｓｔｉｆｔｕｎｇ | プラズマトーチ、特にプラズマ切断トーチ用の単一または複数部分からなる絶縁構成要素、ならびにそれを有するアセンブリおよびプラズマトーチ |
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