JPH03174980A - プラズマトーチ - Google Patents

プラズマトーチ

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JPH03174980A
JPH03174980A JP2075721A JP7572190A JPH03174980A JP H03174980 A JPH03174980 A JP H03174980A JP 2075721 A JP2075721 A JP 2075721A JP 7572190 A JP7572190 A JP 7572190A JP H03174980 A JPH03174980 A JP H03174980A
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JP
Japan
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electrode
gas
axis
plasma
tip
Prior art date
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Pending
Application number
JP2075721A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshio Koike
小池 義夫
Etsuo Nakano
中野 悦男
Hitoshi Ueno
等 上野
Akira Kojo
昭 古城
Tetsuya Iizuka
哲也 飯塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koike Sanso Kogyo Co Ltd
Koike Sanso Kogyo KK
Original Assignee
Koike Sanso Kogyo Co Ltd
Koike Sanso Kogyo KK
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Publication date
Application filed by Koike Sanso Kogyo Co Ltd, Koike Sanso Kogyo KK filed Critical Koike Sanso Kogyo Co Ltd
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は被加工材の溶接や切断等に用いられるプラズマ
トーチに関するものである。
〈従来の技術〉 今日、鉄鋼やステンレス鋼等の被加工材をプラズマジェ
ットによって溶接し、或いは切断することが行われ、そ
の際にはプラズマトーチが使用されている。
前記被加工材を例えばプラズマジェットによって切断す
る場合、プラズマジェットの熱エネルギによる被加工材
の加熱−溶融と、速度エネルギによる溶融物の除去とを
略同時に且つ連続的に行うことで、被加工材に連続した
カーフ(切溝)を形成して切断するものである。
また放電によって発生したプラズマは、動作ガス及び冷
却されたノズルによるサーマルピンチ効果によって細い
気流に絞られる。従って、前記サーマルピンチ効果を向
上させることで、径の細いプラズマジェットを得ること
が可能であり、且つカーフの寸法を小さくして切断効率
を高めることが可能である。
従来のプラズマトーチにあっては、第7図に示すように
ノズル50と電極51とを絶縁する絶縁体52に、電極
52の軸と平行で且つ斜めのガス通流孔53を形成して
動作ガスを旋回させるためのガスガイドとして構成し、
動作ガスが前記通流孔53を通ることにより電極51の
軸の周囲に動作ガスの螺旋状旋回流を生ずるようにして
いる。
〈発明が解決しようとした課題〉 然し、前記従来のプラズマトーチにあっては、ガス通流
孔53から噴出するガスはノズル5oの先端に向かって
電極51の軸と平行に旋回するようになり、電pi5]
の先端部分に於いては動作ガスの密度が小さく、且つガ
ス噴出部分と他の部分とで旋回圧が僅かに異なるため効
率の良いサーマルピンチ効果を得ることが困難であった
また電極51の先端部分に於ける動作ガスの密度が小さ
く且つ旋回速度が低下すると、電極51に於けるアーク
の発生点が一定しなくなり、シリースアークが発生する
ようになって電極の寿命を低下さセる一要因となる。
また絶縁体52を動作ガスを旋回させるためのガスガイ
ドとして使用しているが、絶縁体52としては一般にセ
ラミックスを使用するために、これに微小なガス通流孔
53を形成するのは容易ではない等の問題があった。
本発明の目的は、動作ガスを効率良く旋回させることで
プラズマに対するサーマルピンチ効果を向上させること
が出来、また製造の容易なプラズマトーチを提供するも
のである。
〈課題を解決するための手段〉 上記課題を解決するために本発明のプラズマトーチは、
アークを発生するための電極とプラズマジェットを噴出
するためのノズルを有し、前記電極の軸の周囲に動作ガ
スを旋回させて噴出させるよう構成したプラズマトーチ
に於いて、前記動作ガスを電極の軸に対して傾斜させる
と共に前記電極の軸の周囲に旋回させて噴出させるため
の通流孔を設けて構成されるものである。
前記プラズマトーチに於いて、動作ガスの電極の軸に対
する傾斜角度は60度乃至100度の範囲にあることが
好ましい。
また前記電極とノズルとを絶縁する絶縁体の先端にガス
ガイド部材を取り付け、前記ガスガイド部材に電極の軸
に対して傾斜させて前記動作ガスを旋回噴出させるため
の通流孔を形成することが好ましい。
〈作用〉 上記手段によれば、動作ガスを効率良く旋回さセて通流
孔から噴出させることが出来る。このためサーマルピン
チ効果を向上させてプラズマを細く絞ることが出来る。
また電極の先端部分に於ける動作ガスの密度を高めるこ
とが出来、このため、アークの発生点を安定させること
が出来る。
即ち、通流孔は電極の軸に対し60度〜100度の範囲
に於ける所定の傾斜角度を有している。このため、動作
ガスを電極の先端部分から該電極の軸に沿って高い密度
と高い速度で旋回させることが出来る。従って、電極の
先端部分では高密度、高速度の動作ガスを作用させるこ
とでアークの発生点を安定させると共に、プラズマの軸
方向に沿って鞘状に包むことでサーマルピンチ効果を向
上させることが出来る。
また通流孔を絶縁体とは別体のガスガイド部材に形成す
ることにより、微小孔である通流孔を容易に形成するこ
とが出来る。
〈実施例〉 次に上記手段を適用した本発明の実施例に係るプラズマ
トーチについて説明する。
第1図はプラズマトーチの断面説明図であり、第2図は
要部斜視説明図である。
本実施例に係るプラズマトーチは電極の軸に対し略直角
(略90度)に傾斜させた通流孔を構成したものである
先ずプラズマトーチの全体構成について説明すると、l
は銅等の導電性部材よりなる電極であって、先端中央に
ハフニウム1aを埋め込んであると共に、後部は中空に
形成されている。更に電極1の後部には導電性部材より
なる内筒2が取り付けられている。即ち、前記内筒2を
電源に接続することにより電極1がマイナス電極となる
ものである。
また前記電極1の先部には絶縁部材3が該電極lと同心
的に取り付けられている。この絶縁部材3は電極1と後
述するノズル5とを電気的に絶縁するものであり、本実
施例にあってはセラミックスよりなる筒状に構成され、
先端には前記電極lを嵌入するための孔3aが形成され
、該孔3aに嵌入した電極1の先部が露出するように取
り付けられている。更に絶縁部材3の先端外周にはリン
グ状の段部3bが形成されている。
4は前記絶縁部材3の段部3bに取り付けられるガスガ
イド部材であって、快削黄銅をリング状に構成し、且つ
その内径は前記絶縁部材3の段部3bに嵌着し得る寸法
に形成されている。またガスガイド部材4の外周は第3
図(a)、 (b)に示すように、円弧状の円弧部4a
の間に等間隔で四ケ所に面取りした面取部4bが形成さ
れ、夫々の面取部4bには外部から内部へ貫通する通流
孔4cが形成されている。この通流孔4cはガスガイド
部材4の軸心(電極1の軸9)に対して直角方向であっ
て、外部から内部へ向かって斜めに形成されている。即
ち、ガスガイド部材4の内周円の接線方向に形成した通
流孔4cが該部材4の外部から内部へ斜めに向かうよう
に形成されている。このため、第・3図(a)、 (b
)の矢印に示すように動作ガスが部材外部から通流孔4
cを通って内部に流入すると、軸心に対して直角方向平
面で旋回するようになるものである。
次乙こ5はノズルであり、後部5aの内径は前記ガスガ
イド4の円弧部4aに嵌着し得る寸法に形成され、後部
からテーパ部5bにより先細となり、先端にはプラズマ
ジェット及び動作ガスを噴出するための噴出孔5cが形
成されている。
前記ノズル5の後部外周には第1図に示すように冷却水
通路6a、6bを有する中空冷却部材6が0リング7を
介して嵌着されており、この冷却部材6の内部には内筒
2及び絶縁部材3と一定間隔を隔てることによりガス通
路8が形成されている。また前記内筒2の内部には先部
が電極1の中空部に挿入された冷却筒10が設けられ、
核部10と内筒2間に一定の間隙を形成することにより
冷却水通路11が形成され、この通路11が前記冷却部
材6の冷却水通路6aと連通ずるように構成されている
また前記冷却部材6の外周には外筒12が設けられ、外
筒12の先端はノズル5の先部を覆うように構成されて
いる。尚、前記外筒12と冷却部材6間、及び電8ii
lと内筒2間には夫々気密保持用○リング13.14が
設けられている。
ここで冷却水の流れについて説明すると、前記冷却筒I
Oから流入した冷却水は第1図の矢印aに示すように電
極1の中空部を通って通路11へ至り、該通路11から
冷却部材6の一方側通路6aを通り、更にノズル5と外
筒12との間を通って通路6bから排出される。これに
より冷却水と接する電極l及びノズル5が冷却されるこ
ととなる。
またガス通路8に供給された動作ガスの流れは第1図矢
印すに示すように絶縁部材3の外周からガスガイド部材
4の面取部4bに形成した通流孔4cを通って電極lの
先端に至り、ノズル5の噴出孔5cから噴出するもので
ある。
次に前記の如く構成されたプラズマトーチの作用につい
て説明する。
先ずノズル5を直流電源のプラス側に接続すると共に内
筒2をマイナス側に接続し、ガス通路8に窒素ガス、酸
素ガス或いは空気等の動作ガスを供給すると、電極1と
ノズル5との間にパイロットアークが発生し、このパイ
ロットアークが動作ガスによって噴出孔5cからノズル
5の外部に噴出する。前記パイロットアークが図示しな
い被加工材に到達したとき、この被加工材を直流電源の
プラス側に接続すると、電極lと被加工材との間にメイ
ンアークが発生する。前記アークによって動作ガスがプ
ラズマ化され、プラズマジェットとして噴出孔5cから
噴出し、被加工材に対する溶接或いは切断等の作業を行
うものである。
このときガスガイド部材4に形成された通流孔4cを通
った動作ガスは、第3図に示すように電極lの軸9、即
ち、プラズマジェットの噴射方向に対して直角平面で旋
回するように噴出するために、電極lの先端には高密度
の旋回流が生じた状態となると共に、軸9の周囲を高速
で旋回する。
このため、電極1の先端から発生するアークの発生点が
一定となり、常に電極の中央のハフニウムla部分から
発生するようになる。
また前記高速のガス旋回噴出流は放電によって発生した
プラズマに対するサーマルピンチ効果をより高めること
となり、プラズマジェットの収縮を促進させることが可
能となる。このため、径の細いプラズマジェットを得る
ことが可能となり、従って、精密加工が可能となるもの
である。
第4図(a)はガスガイド部材4に形成した通流孔4c
を軸9に対しプラズマジェットの噴出方向に角度α傾斜
させた場合の模式説明図であり、同図(b)はガスガイ
ド部材4の説明図である。
前述の実施例では、通流孔4cを軸9に対し直角方向に
形成して動作ガスを噴出させるようにしたが、本実施例
では該孔4cを軸9に対しプラズマジェットの噴出方向
に60度〜90度の範囲に於ける所望の角度α傾斜させ
たものである。通流孔4Cは前述の実施例と同様に、ガ
スガイド部材4の外部から内部に対して形成されており
、且つガスガイド部材4の内周円に対し接線方向に形成
されている。
また第5図(a)はガスガイド部材4に形成した通流孔
4cを軸9に対しプラズマジェットの噴出方向とは反対
方向に角度α傾斜させた場合の説明図であり、同図(b
)はガスガイド部材4の説明図である。
この場合、通流孔4cはプラズマジェットの噴出方向と
は反対方向に傾斜しており、角度αは90度〜100度
の範囲に設定されている。
第6図は動作ガスとして酸素ガスを用い、電流30Aの
条件に於ける通流孔4cの傾斜角度αを種々の値に設定
して行った実験結果を示すものであり、従って、通流孔
4Cの傾斜角度αと噴出孔5Cの径、即ち、プラズマジ
ェットの径との関係を表すものである。
同図によればプラズマトーチを同一条件で作動させたと
き、プラズマジェットの径は通流孔4cの傾斜角度によ
って大きく影響されることが明らかである。
ここで、被加工材に対し精密加工を施す場合には、プラ
ズマジェットの径が0.7閣以下、好ましくは0.65
mm以下に絞られていることが必要である。
同図に示すように、通流孔4cの軸9に対する傾斜角度
αが60度及び100度のとき、プラズマジェットの径
は約0.65mとなり、また傾斜角度αが90度のとき
、プラズマジェットの径は0.6 amとなる。
尚、前述した実施例では絶縁部材3とガスガイド部材4
とを別体とした例を示したが、これ等は一部材によって
構成しても良いものである。
〈発明の効果〉 本発明は前述した如く、通流孔から噴出する動作ガスを
電極の軸に対して傾斜させて旋回噴出するようにしたの
で、電極先端部分に高密度且つ高速度のガス旋回流を生
じさせることが出来、このため電極に於けるアークの発
生点を安定させ、電極寿命を向上させることが出来る。
また電極の先端部分から該電極の袖に沿って動作ガスの
高速旋回流を得ることが出来るため、プラズマに対する
サーマルピンチ効果を向上させることが出来るため、極
めて細いプラズマジェットを形成することが出来る。こ
のため、被加工材に対する精密加工を実施することが出
来る。
また通流孔を絶縁体とは別体のガスガイド部材に形成し
た場合には、ガスガイド部材を加工の容易な材質を用い
ることが出来るため、微小な通流孔を容易に形成するこ
とが出来る等の特徴を有するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図はプラズマトーチの断面説明図、第2図は要部斜
視説明図、第3図(a)、 (b)はガスガイド部材ノ
説明図、第4図(al、 (b)及び第5図(a)、 
(b)は通流孔を傾斜させた場合の説明図、第6図は通
流孔の傾斜角度とプラズマジェットの径との関係を示す
説明図、第7図は従来技術の説明図である。 ■は電極、laはハフニウム、2は内筒、3は絶縁部材
、3aは孔、3bは段部、4はガスガイド部材、4aは
円弧部、4bは面取部、4cは通流孔、5はノズル、5
aは後部、5bはテーパ部、5cは噴出孔、6は冷却部
材、8はガス通路、9は電極の軸、lOは冷却筒、11
は冷却水通路、12は外筒である。 特許出側人  小池酸素工業株式会社

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アークを発生するための電極とプラズマジェット
    を噴出するためのノズルとを有し、前記電極の軸の周囲
    に動作ガスを旋回させて噴出させるよう構成したプラズ
    マトーチに於いて、前記動作ガスを電極の軸に対して傾
    斜させると共に電極の軸の周囲に旋回させて噴出させる
    ための通流孔を設けたことを特徴としたプラズマトーチ
  2. (2)前記動作ガスの電極の軸に対する傾斜角度が60
    度乃至100度の範囲にあることを特徴とした請求項(
    1)記載のプラズマトーチ。
  3. (3)前記電極とノズルとを絶縁する絶縁体の先端にガ
    スガイド部材を取り付け、前記ガスガイド部材に電極の
    軸に対して傾斜させて前記動作ガスを旋回噴出させるた
    めの通流孔を形成したことを特徴とした請求項(1)記
    載のプラズマトーチ。
JP2075721A 1989-09-25 1990-03-27 プラズマトーチ Pending JPH03174980A (ja)

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JP2075721A JPH03174980A (ja) 1989-09-25 1990-03-27 プラズマトーチ

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1-246415 1989-09-25
JP24641589 1989-09-25
JP2075721A JPH03174980A (ja) 1989-09-25 1990-03-27 プラズマトーチ

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ID=26416878

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JP2075721A Pending JPH03174980A (ja) 1989-09-25 1990-03-27 プラズマトーチ

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