JPH0787893B2 - 圧力制御装置 - Google Patents
圧力制御装置Info
- Publication number
- JPH0787893B2 JPH0787893B2 JP31483789A JP31483789A JPH0787893B2 JP H0787893 B2 JPH0787893 B2 JP H0787893B2 JP 31483789 A JP31483789 A JP 31483789A JP 31483789 A JP31483789 A JP 31483789A JP H0787893 B2 JPH0787893 B2 JP H0787893B2
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- JP
- Japan
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- pressure
- pressure control
- gas
- reaction chamber
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/002—Component parts of these vessels not mentioned in B01J3/004, B01J3/006, B01J3/02 - B01J3/08; Measures taken in conjunction with the process to be carried out, e.g. safety measures
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、真空系を備えた半導体素子製造装置の圧力制
御装置に関するものである。
御装置に関するものである。
従来の技術 近年、真空系を備えた半導体素子製造装置においては反
応室排気口の排気能力を制御して反応室の圧力をコント
ロールすることが重要な技術であり、排気能力を制御す
る方法の一つに、排気系に流量制御されたN2ガスを導入
する装置が従来より用いられている。
応室排気口の排気能力を制御して反応室の圧力をコント
ロールすることが重要な技術であり、排気能力を制御す
る方法の一つに、排気系に流量制御されたN2ガスを導入
する装置が従来より用いられている。
従来技術の一例を第２図を用いて説明する。第２図にお
いて、１は反応室であり、プロセスガス導入口２とガス
排出口３を有している。４は反応室１の圧力計、５は圧
力制御コントローラ、６は質量流量コントローラであ
り、圧力制御コントローラ５は圧力計４で計測した圧力
により質量流量コントローラ６を制御する。７はエアオ
ペレートバルブであり、ガス排出口３と真空ポンプ８と
の間を連結する排気配管９に接続され、質量流量コント
ローラ６を介してバラストN2ガスを排気配管９に導入す
る。
いて、１は反応室であり、プロセスガス導入口２とガス
排出口３を有している。４は反応室１の圧力計、５は圧
力制御コントローラ、６は質量流量コントローラであ
り、圧力制御コントローラ５は圧力計４で計測した圧力
により質量流量コントローラ６を制御する。７はエアオ
ペレートバルブであり、ガス排出口３と真空ポンプ８と
の間を連結する排気配管９に接続され、質量流量コント
ローラ６を介してバラストN2ガスを排気配管９に導入す
る。
反応室１にガス導入口２から導入されたプロセスガスは
ガス排出口３から排気配管９を通して真空ポンプ８によ
り排出される。真空ポンプ８の排気能力および排気配管
９のコンダクタンスは一定であるため、反応室１の到達
圧力は導入されるプロセスガス流量により決定される。
プロセスガス流量を固定した場合、反応室１の圧力を到
達圧力以上に設定するためには、エアオペレートバルブ
７を開き、バラストN2ガスを排気配管９に導入し、ガス
排出口３の排気能力を低下させることにより実現でき
る。反応室１の圧力制御は、圧力制御コントローラ５で
設定圧力と圧力計４からの実際の圧力との比較により、
バラストN2ガスの排気配管９への導入を制御する質量流
量コントローラ６に対してN2流量の増減を決定するクロ
ーズドループ制御で実施されている。
ガス排出口３から排気配管９を通して真空ポンプ８によ
り排出される。真空ポンプ８の排気能力および排気配管
９のコンダクタンスは一定であるため、反応室１の到達
圧力は導入されるプロセスガス流量により決定される。
プロセスガス流量を固定した場合、反応室１の圧力を到
達圧力以上に設定するためには、エアオペレートバルブ
７を開き、バラストN2ガスを排気配管９に導入し、ガス
排出口３の排気能力を低下させることにより実現でき
る。反応室１の圧力制御は、圧力制御コントローラ５で
設定圧力と圧力計４からの実際の圧力との比較により、
バラストN2ガスの排気配管９への導入を制御する質量流
量コントローラ６に対してN2流量の増減を決定するクロ
ーズドループ制御で実施されている。
発明が解決しようとする課題 しかしながら従来の圧力制御方法では、圧力計とバラス
トN2導入口が離れている場合、実圧力に対する質量流量
コントローラの流量制御へのフィードバックが遅れるた
め、圧力制御開始時点で過度のバラストN2が排気系に流
れこみ、反応室の圧力が一時的にオーバーシュートする
という問題があった。
トN2導入口が離れている場合、実圧力に対する質量流量
コントローラの流量制御へのフィードバックが遅れるた
め、圧力制御開始時点で過度のバラストN2が排気系に流
れこみ、反応室の圧力が一時的にオーバーシュートする
という問題があった。
本発明は、上記のようなバラストN2ガスを用いた圧力制
御装置において、その圧力制御特性を改善することので
きる圧力制御方法を提供することを目的とするものであ
る。
御装置において、その圧力制御特性を改善することので
きる圧力制御方法を提供することを目的とするものであ
る。
課題を解決するための手段 上記、バラストガスを用いた圧力制御装置における圧力
制御特性を改善するために、本発明では、たとえばマニ
ュアルまたはオープンループで制御可能な流量コントロ
ールバルブを質量流量コントローラの上流側に直列に配
置した構成を有するものである。
制御特性を改善するために、本発明では、たとえばマニ
ュアルまたはオープンループで制御可能な流量コントロ
ールバルブを質量流量コントローラの上流側に直列に配
置した構成を有するものである。
作用 上記構成により、所望する圧力を実現するために必要な
バラストガス量をあらかじめ調査し、この流量以上のバ
ラストガスが流路を流れないように質量流量コントロー
ラの上流に配置された流量コントロールバルブの開度を
調整することにより、反応室圧力のオーバーシュートを
防ぐことができる。
バラストガス量をあらかじめ調査し、この流量以上のバ
ラストガスが流路を流れないように質量流量コントロー
ラの上流に配置された流量コントロールバルブの開度を
調整することにより、反応室圧力のオーバーシュートを
防ぐことができる。
実施例 以下本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は本発明の一実施例の圧力制御装置の系統図であ
る。第１図において、質量流量コントローラ６の上流側
にオープンループで制御可能な流量コントロールバルブ
10が設けられ、さらに遠隔操作により流量コントロール
バルブ10の流量調整が可能な流量設定器11が設けられて
いる。これ以外は、第２図の従来の構成と同様である。
また、流量コントロールバルブ10はマニュアルで流量を
設定できるように構成されてもよい。
る。第１図において、質量流量コントローラ６の上流側
にオープンループで制御可能な流量コントロールバルブ
10が設けられ、さらに遠隔操作により流量コントロール
バルブ10の流量調整が可能な流量設定器11が設けられて
いる。これ以外は、第２図の従来の構成と同様である。
また、流量コントロールバルブ10はマニュアルで流量を
設定できるように構成されてもよい。
上記の構成により、バラストN2ガスを用いた圧力制御動
作を以下に説明する。反応室１にガス導入口２より毎分
一定量のプロセスガスを流し、反応室１の圧力をたとえ
ば300mTorrに保つために、質量流量コントローラ６が制
御したバラストN2ガス量は毎分2000ccであるとする。こ
の場合、流量コントロールバルブ10の流量設定を毎分25
00cc以内となるように流量設定器11により設定する。し
たがって、質量流量コントローラ６の制御可能な流量が
5000ccであっても、この流路を流れるN2ガス量は2500cc
以内に制限されているため、圧力制御開始時点で過度の
バラストN2ガスが排気系に流れこむことはなく、反応室
１の圧力が急激にオーバーシュートすることはない。
作を以下に説明する。反応室１にガス導入口２より毎分
一定量のプロセスガスを流し、反応室１の圧力をたとえ
ば300mTorrに保つために、質量流量コントローラ６が制
御したバラストN2ガス量は毎分2000ccであるとする。こ
の場合、流量コントロールバルブ10の流量設定を毎分25
00cc以内となるように流量設定器11により設定する。し
たがって、質量流量コントローラ６の制御可能な流量が
5000ccであっても、この流路を流れるN2ガス量は2500cc
以内に制限されているため、圧力制御開始時点で過度の
バラストN2ガスが排気系に流れこむことはなく、反応室
１の圧力が急激にオーバーシュートすることはない。
発明の効果 以上のように、本発明によれば、所望の圧力を実現する
ために必要なバラストガス量以上の流量が質量流量コン
トローラを通して流れないように流量コントロールバル
ブの開度を調整することにより、圧力制御開始時点での
反応室圧力の急激な上昇を防止することができ、反応室
内の化学反応の急激な進行を防止することができる優れ
た圧力制御装置を実現できるものである。
ために必要なバラストガス量以上の流量が質量流量コン
トローラを通して流れないように流量コントロールバル
ブの開度を調整することにより、圧力制御開始時点での
反応室圧力の急激な上昇を防止することができ、反応室
内の化学反応の急激な進行を防止することができる優れ
た圧力制御装置を実現できるものである。
第１図は本発明の一実施例の圧力制御装置の概略系統
図、第２図は従来の圧力制御装置の概略系統図である。 １……反応室、２……プロセスガス導入口、３……ガス
排出口、４……圧力計、５……圧力制御コントローラ、
６……質量流量コントローラ、７……エアオペレートバ
ルブ、８……真空ポンプ、９……排気配管、10……流量
コントロールバルブ、11……流量設定器。
図、第２図は従来の圧力制御装置の概略系統図である。 １……反応室、２……プロセスガス導入口、３……ガス
排出口、４……圧力計、５……圧力制御コントローラ、
６……質量流量コントローラ、７……エアオペレートバ
ルブ、８……真空ポンプ、９……排気配管、10……流量
コントロールバルブ、11……流量設定器。
Claims (1)
- 【請求項１】バラストガスを質量流量コントローラによ
り制御して、反応室の排気配管に導入し、反応室の圧力
制御を行う真空系の圧力制御装置であって、流量コント
ロールバルブをバラストガス流路に対して質量流量コン
トローラの上流に配置した圧力制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31483789A JPH0787893B2 (ja) | 1989-12-04 | 1989-12-04 | 圧力制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31483789A JPH0787893B2 (ja) | 1989-12-04 | 1989-12-04 | 圧力制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03174242A JPH03174242A (ja) | 1991-07-29 |
| JPH0787893B2 true JPH0787893B2 (ja) | 1995-09-27 |
Family
ID=18058198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31483789A Expired - Fee Related JPH0787893B2 (ja) | 1989-12-04 | 1989-12-04 | 圧力制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0787893B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3023313B2 (ja) * | 1996-05-21 | 2000-03-21 | 国際電気株式会社 | ウェーハ処理方法及び拡散炉 |
| JP4918121B2 (ja) * | 2009-08-04 | 2012-04-18 | シーケーディ株式会社 | 排気圧力制御システム及び排気圧力制御方法 |
-
1989
- 1989-12-04 JP JP31483789A patent/JPH0787893B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03174242A (ja) | 1991-07-29 |
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Legal Events
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