JPH0782824B2 - Ｘ線発生装置用ターゲット - Google Patents
Ｘ線発生装置用ターゲットInfo
- Publication number
- JPH0782824B2 JPH0782824B2 JP2024603A JP2460390A JPH0782824B2 JP H0782824 B2 JPH0782824 B2 JP H0782824B2 JP 2024603 A JP2024603 A JP 2024603A JP 2460390 A JP2460390 A JP 2460390A JP H0782824 B2 JPH0782824 B2 JP H0782824B2
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- Japan
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- electron beam
- cooling water
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、線形加速器等に使用するＸ線発生装置用ター
ゲットに関するものである。
ゲットに関するものである。
従来のこの種のＸ線発生装置用ターゲットとしては、第
４図および第５図に示すように構成されたものである。
４図および第５図に示すように構成されたものである。
第４図は従来のＸ線発生装置用ターゲットを示す断面
図、第５図はターゲット座とターゲット取付けフランジ
とのろう付け部分を拡大して示す断面図である。同図に
おいて、１は電子線1aを加速するための加速管で、この
加速管１の上部は電子線発生装置（図示せず）に連結さ
れており、下部には、後述するターゲット取付けフラン
ジが取付けられるフランジ1bが設けられている。そし
て、この加速管１は、真空ポンプ（図示せず）に接続さ
れ、電子線加速時（Ｘ線発生時）にはその内部が真空状
態にされるように構成されている。
図、第５図はターゲット座とターゲット取付けフランジ
とのろう付け部分を拡大して示す断面図である。同図に
おいて、１は電子線1aを加速するための加速管で、この
加速管１の上部は電子線発生装置（図示せず）に連結さ
れており、下部には、後述するターゲット取付けフラン
ジが取付けられるフランジ1bが設けられている。そし
て、この加速管１は、真空ポンプ（図示せず）に接続さ
れ、電子線加速時（Ｘ線発生時）にはその内部が真空状
態にされるように構成されている。
２は前記加速管１のフランジ1bに締付けボルト３によっ
て締結されて加速管１の下部を密閉するターゲット取付
けフランジで、このターゲット取付けフランジ２におけ
る加速管１の中空部分と対応する部位にはターゲット本
体４を有するターゲット座５がろう材６によってろう付
けされている。このターゲット座５は、ターゲット取付
けフランジ２の貫通穴2aに嵌合してろう付けされてい
る。
て締結されて加速管１の下部を密閉するターゲット取付
けフランジで、このターゲット取付けフランジ２におけ
る加速管１の中空部分と対応する部位にはターゲット本
体４を有するターゲット座５がろう材６によってろう付
けされている。このターゲット座５は、ターゲット取付
けフランジ２の貫通穴2aに嵌合してろう付けされてい
る。
前記ターゲット本体４は、タングステンや白金によって
形成され、加速された電子が衝突することよってＸ線７
を発生するものである。前記ターゲット座５は、放熱性
の観点から銅等の熱伝導率の高い材料によって形成され
ている。また、前記ろう材６は、ターゲット座５とター
ゲット取付けフランジ２との間を真空シールすると共
に、後述する冷却水が漏洩するのを阻止するようにター
ゲット座５の全周にわたって設けられている。さらに、
前記ターゲット取付けフランジ２の内部には、ターゲッ
ト座冷却用の冷却水が通水される冷却水通路８が形成さ
れている。この冷却水通路８は、ターゲット取付けフラ
ンジ２の前記貫通穴2aにターゲット座５を嵌合しろう付
けすることによって、ターゲット座５を内壁の一部とす
るように形成されている。そして、冷却水がターゲット
座５の表面に沿って流れるようにその流路が設定されて
いる。
形成され、加速された電子が衝突することよってＸ線７
を発生するものである。前記ターゲット座５は、放熱性
の観点から銅等の熱伝導率の高い材料によって形成され
ている。また、前記ろう材６は、ターゲット座５とター
ゲット取付けフランジ２との間を真空シールすると共
に、後述する冷却水が漏洩するのを阻止するようにター
ゲット座５の全周にわたって設けられている。さらに、
前記ターゲット取付けフランジ２の内部には、ターゲッ
ト座冷却用の冷却水が通水される冷却水通路８が形成さ
れている。この冷却水通路８は、ターゲット取付けフラ
ンジ２の前記貫通穴2aにターゲット座５を嵌合しろう付
けすることによって、ターゲット座５を内壁の一部とす
るように形成されている。そして、冷却水がターゲット
座５の表面に沿って流れるようにその流路が設定されて
いる。
９は冷却水を冷却水通路８へ供給するための給水管、10
は冷却水を冷却水通路８から排出するための排水管で、
これらはターゲット取付けフランジ２に接続されてい
る。11は前記加速管１内の気密を保つためのガスケット
で、このガスケット11は、加速管１のフランジ1bとター
ゲット取付けフランジ２との間に介装されている。な
お、両フランジ1b,2のシート面にはガスケット11に食い
込むエッジ部1c,2bがそれぞれ設けられている。
は冷却水を冷却水通路８から排出するための排水管で、
これらはターゲット取付けフランジ２に接続されてい
る。11は前記加速管１内の気密を保つためのガスケット
で、このガスケット11は、加速管１のフランジ1bとター
ゲット取付けフランジ２との間に介装されている。な
お、両フランジ1b,2のシート面にはガスケット11に食い
込むエッジ部1c,2bがそれぞれ設けられている。
12はＸ線７の照射野を決めるためのコリメータ（Ｘ線シ
ールド）で、このコリメータ12は前記ターゲット取付け
フランジ２の下側に空間13をおいて設置されている。な
お、図中ＡはＸ線７の照射範囲を示す。
ールド）で、このコリメータ12は前記ターゲット取付け
フランジ２の下側に空間13をおいて設置されている。な
お、図中ＡはＸ線７の照射範囲を示す。
このように構成された従来のＸ線発生装置用ターゲット
では、ターゲット取付けフランジ２が加速管１内の電子
線発生室内と大気とを画成する蓋体として機能するの
で、蓋体にターゲット支持機能と冷却機能の両方をもた
せることができ、Ｘ線発生装置の装置構成を簡素化でき
るという利点がある。
では、ターゲット取付けフランジ２が加速管１内の電子
線発生室内と大気とを画成する蓋体として機能するの
で、蓋体にターゲット支持機能と冷却機能の両方をもた
せることができ、Ｘ線発生装置の装置構成を簡素化でき
るという利点がある。
第５図において14は前記空間13の温度（大気温度）より
低温の冷却水を前記冷却水通路８に流した際にターゲッ
ト座５の表面に結露する水滴を示す。15は前記空間13内
の空気分子、16はこの空気分子15に電子線1aやＸ線７が
衝突した際に発生するオゾン分子、17は前記水滴14とオ
ゾン分子16とが結合して生成される過酸化水素水であ
る。
低温の冷却水を前記冷却水通路８に流した際にターゲッ
ト座５の表面に結露する水滴を示す。15は前記空間13内
の空気分子、16はこの空気分子15に電子線1aやＸ線７が
衝突した際に発生するオゾン分子、17は前記水滴14とオ
ゾン分子16とが結合して生成される過酸化水素水であ
る。
次に、このように構成された従来のＸ線発生装置用ター
ゲットの動作について説明する。
ゲットの動作について説明する。
このターゲットによってＸ線を発生させるには、電子線
1aを加速管１によって加速し、ターゲット本体４に衝突
させる。ターゲット本体４に衝突する大部分の電子線２
は、ターゲット本体４およびターゲット座５を通過中に
吸収され、同時にＸ線７を発生させる。発生したＸ線７
は、空間13を通りコリメータ12によって放射角を整えら
れ、外部に導かれてＸ線源として利用される。なお、Ｘ
線７は空間13を通過する時に空気分子15と衝突し、オゾ
ン分子16を発生させる。このオゾン分子16はこの空間13
内に充満される。一方、電子線1aの衝突によって発生し
た熱は、ターゲット取付けフランジ２内を流される冷却
水にターゲット座５を介して伝導されて放熱される。冷
却水の温度が空間13の気温より低い時には、ターゲット
座５およびターゲット取付けフランジ２の下面、言い換
えれば空間13側の大気と接する面に、空間13中の水分が
結露して水滴14が付着する。そして、この水滴14に上述
したオゾン分子16が取り込まれ、過酸化水素水17が生成
される。特に、ターゲット座５とターゲット取付けフラ
ンジ２とのろう接部分の溝中には、第５図に示すよう
に、毛細管現象により水滴14および過酸化水素水17が多
く蓄えられる。
1aを加速管１によって加速し、ターゲット本体４に衝突
させる。ターゲット本体４に衝突する大部分の電子線２
は、ターゲット本体４およびターゲット座５を通過中に
吸収され、同時にＸ線７を発生させる。発生したＸ線７
は、空間13を通りコリメータ12によって放射角を整えら
れ、外部に導かれてＸ線源として利用される。なお、Ｘ
線７は空間13を通過する時に空気分子15と衝突し、オゾ
ン分子16を発生させる。このオゾン分子16はこの空間13
内に充満される。一方、電子線1aの衝突によって発生し
た熱は、ターゲット取付けフランジ２内を流される冷却
水にターゲット座５を介して伝導されて放熱される。冷
却水の温度が空間13の気温より低い時には、ターゲット
座５およびターゲット取付けフランジ２の下面、言い換
えれば空間13側の大気と接する面に、空間13中の水分が
結露して水滴14が付着する。そして、この水滴14に上述
したオゾン分子16が取り込まれ、過酸化水素水17が生成
される。特に、ターゲット座５とターゲット取付けフラ
ンジ２とのろう接部分の溝中には、第５図に示すよう
に、毛細管現象により水滴14および過酸化水素水17が多
く蓄えられる。
しかるに、上述したように過酸化水素水17が生成される
と、これによってターゲット座５およびろう材６が浸食
されてしまう。すなわち、Ｘ線発生装置の装置構成を簡
素化することができる反面、長期にわたって使用すると
前記過酸化水素水17によってターゲット座５およびろう
材６が浸食されてターゲット座５とターゲット取付けフ
ランジ２との隙間から水洩れを起こしてしまうという問
題があった。
と、これによってターゲット座５およびろう材６が浸食
されてしまう。すなわち、Ｘ線発生装置の装置構成を簡
素化することができる反面、長期にわたって使用すると
前記過酸化水素水17によってターゲット座５およびろう
材６が浸食されてターゲット座５とターゲット取付けフ
ランジ２との隙間から水洩れを起こしてしまうという問
題があった。
本発明に係る第１の発明は、ターゲット支持部材におけ
る大気と触れる端面にターゲット台用加温部材を取付け
たものである。また、第２の発明は、冷却水通路に供給
する冷却水を大気温度と略同温度に加温した温水とした
ものである。さらに、第３の発明は、ターゲット台およ
びターゲット支持部材における大気と触れる端面に耐蝕
性の高い金属からなる被覆層を設け、ターゲット台の端
面を密封したものである。
る大気と触れる端面にターゲット台用加温部材を取付け
たものである。また、第２の発明は、冷却水通路に供給
する冷却水を大気温度と略同温度に加温した温水とした
ものである。さらに、第３の発明は、ターゲット台およ
びターゲット支持部材における大気と触れる端面に耐蝕
性の高い金属からなる被覆層を設け、ターゲット台の端
面を密封したものである。
本発明に係る第１および第２の発明においては、ターゲ
ット台およびターゲット支持部材が暖められるから、大
気に晒される部分に水分が結露するのを抑えることがで
きる。また、本発明に係る第３の発明においては、ター
ゲット台が大気に晒されなくなり、ターゲット台の大気
側を覆う被覆層の表面に、過酸化水素水となる水滴が付
着することになる。
ット台およびターゲット支持部材が暖められるから、大
気に晒される部分に水分が結露するのを抑えることがで
きる。また、本発明に係る第３の発明においては、ター
ゲット台が大気に晒されなくなり、ターゲット台の大気
側を覆う被覆層の表面に、過酸化水素水となる水滴が付
着することになる。
以下、本発明に係る第１の発明を第１図に示す実施例に
よって詳細に説明する。
よって詳細に説明する。
第１図は本発明に係る第１の発明のＸ線発生装置用ター
ゲットを示す断面図で、同図において前記第４図および
第５図で説明したものと同一もしくは同等部材について
は、同一符号を付し詳細な説明は省略する。第１図にお
いて、21はターゲット台用加温部材としてのヒータで、
このヒータ21は環状に形成されており、ターゲット支持
部材としてのターゲット取付けフランジ２の下面（空間
13と対応する面）に取付けられている。なお、ターゲッ
ト座５が本発明に係るターゲット台を構成している。
ゲットを示す断面図で、同図において前記第４図および
第５図で説明したものと同一もしくは同等部材について
は、同一符号を付し詳細な説明は省略する。第１図にお
いて、21はターゲット台用加温部材としてのヒータで、
このヒータ21は環状に形成されており、ターゲット支持
部材としてのターゲット取付けフランジ２の下面（空間
13と対応する面）に取付けられている。なお、ターゲッ
ト座５が本発明に係るターゲット台を構成している。
このヒータ21を備えたＸ線発生装置用ターゲットにおい
ては、冷却水をターゲット取付けフランジ２の冷却水通
路８に流す前に、ヒータ21に予め通電しておく。すなわ
ち、冷却水通水前にターゲット取付けフランジ２および
ターゲット座５の表面温度を空間13の気温より充分に高
い温度にまで上昇させておき、その後冷却水を流す。そ
して、冷却水が空間13と同等の温度になるまでその状態
を維持させる。
ては、冷却水をターゲット取付けフランジ２の冷却水通
路８に流す前に、ヒータ21に予め通電しておく。すなわ
ち、冷却水通水前にターゲット取付けフランジ２および
ターゲット座５の表面温度を空間13の気温より充分に高
い温度にまで上昇させておき、その後冷却水を流す。そ
して、冷却水が空間13と同等の温度になるまでその状態
を維持させる。
このようにヒータ21によって加温することによって、タ
ーゲット座５およびターゲット取付けフランジ２におけ
る大気に晒される部分に水分が結露するのを抑えること
ができる。したがって、オゾン分子と水滴との反応によ
る過酸化水素水が生成されるのを防ぐことができる。
ーゲット座５およびターゲット取付けフランジ２におけ
る大気に晒される部分に水分が結露するのを抑えること
ができる。したがって、オゾン分子と水滴との反応によ
る過酸化水素水が生成されるのを防ぐことができる。
本発明に係る第２の発明を第２図に示す実施例によって
詳細に説明する。
詳細に説明する。
第２図は本発明に係る第２の発明のＸ線発生装置用ター
ゲットを示す断面図で、同図において前記第４図および
第５図で説明したものと同一もしくは同等部材について
は、同一符号を付し詳細な説明は省略する。第２図にお
いて、22は冷却水を加温するための温水器で、この温水
器22は、冷却水を空間13と略等しい温度に暖め温水とな
るように構成されており、給水管８に接続されている。
このように温水器22を備えたＸ線発生装置用ターゲット
においては、温水器22入口の水温が空間13の温度と同等
になるまで冷却水を流すことによって、ターゲット座５
およびターゲット取付けフランジ２が暖められ、ターゲ
ット座５およびターゲット取付けフランジ２における大
気に晒される部分に水分が結露するのを抑えることがで
きる。したがって、オゾン分子と水滴との反応による過
酸化水素水が生成されるのを防ぐことができる。
ゲットを示す断面図で、同図において前記第４図および
第５図で説明したものと同一もしくは同等部材について
は、同一符号を付し詳細な説明は省略する。第２図にお
いて、22は冷却水を加温するための温水器で、この温水
器22は、冷却水を空間13と略等しい温度に暖め温水とな
るように構成されており、給水管８に接続されている。
このように温水器22を備えたＸ線発生装置用ターゲット
においては、温水器22入口の水温が空間13の温度と同等
になるまで冷却水を流すことによって、ターゲット座５
およびターゲット取付けフランジ２が暖められ、ターゲ
ット座５およびターゲット取付けフランジ２における大
気に晒される部分に水分が結露するのを抑えることがで
きる。したがって、オゾン分子と水滴との反応による過
酸化水素水が生成されるのを防ぐことができる。
次に、本発明に係る第３の発明を第３図に示す実施例に
よって詳細に説明する。
よって詳細に説明する。
第３図は本発明に係る第３の発明のＸ線発生装置用ター
ゲットを示す断面図で、同図において前記第４図および
第５図で説明したものと同一もしくは同等部材について
は、同一符号を付し詳細な説明は省略する。第３図にお
いて、23はターゲット座５およびろう付け部分における
大気と晒される面を密封するための被覆層を示す。この
被覆層23は、ターゲット取付けフランジ２およびターゲ
ット座５の下面（空間13と対応する面）にクロムめっき
等の耐蝕性の高い金属めっきを一連に施すことによって
形成されている。また、この被覆層23は、ターゲット取
付けフランジ２の前記下面にターゲット座５のろう付け
部を覆うように設けられている。
ゲットを示す断面図で、同図において前記第４図および
第５図で説明したものと同一もしくは同等部材について
は、同一符号を付し詳細な説明は省略する。第３図にお
いて、23はターゲット座５およびろう付け部分における
大気と晒される面を密封するための被覆層を示す。この
被覆層23は、ターゲット取付けフランジ２およびターゲ
ット座５の下面（空間13と対応する面）にクロムめっき
等の耐蝕性の高い金属めっきを一連に施すことによって
形成されている。また、この被覆層23は、ターゲット取
付けフランジ２の前記下面にターゲット座５のろう付け
部を覆うように設けられている。
このように被覆層23が設けられたＸ線発生装置用ターゲ
ットにおいては、ターゲット座５およびろう付け部分は
大気に晒されなくなり、冷却水を流すことに起因する温
度差によって生じる水滴は、被覆層23における大気に晒
される面に付着することになる。したがって、オゾンと
水滴とによって生成される過酸化水素水がターゲット座
5,ろう材６等を浸食するのを阻止することができる。
ットにおいては、ターゲット座５およびろう付け部分は
大気に晒されなくなり、冷却水を流すことに起因する温
度差によって生じる水滴は、被覆層23における大気に晒
される面に付着することになる。したがって、オゾンと
水滴とによって生成される過酸化水素水がターゲット座
5,ろう材６等を浸食するのを阻止することができる。
なお、上述した第１図ないし第３図に示す各実施例では
線形加速器に使用するＸ線発生装置用ターゲットについ
て説明したが、他の放射線機器等で、オゾン発生部分，
また、一般のオゾンと接触する箇所で過酸化水素状態と
なり浸食される部分がある機器にも適用することができ
るということはいうまでもない。
線形加速器に使用するＸ線発生装置用ターゲットについ
て説明したが、他の放射線機器等で、オゾン発生部分，
また、一般のオゾンと接触する箇所で過酸化水素状態と
なり浸食される部分がある機器にも適用することができ
るということはいうまでもない。
以上説明したように本発明に係る第１の発明は、ターゲ
ット支持部材における大気と触れる端面にターゲット台
用加温部材を取付け、また、第２の発明は、冷却水を大
気温度と略同温度に加温した温水としたため、ターゲッ
ト台およびターゲット支持部材が暖められるから、大気
に晒される部分に水分が結露するのを抑えることができ
る。したがって、過酸化水素水が生成されるのを抑え、
ターゲット台，ろう材等が過酸化水素水によって浸食さ
れるのを防ぐことができるから、Ｘ線発生装置の装置構
成を簡素化できると共に長寿命なＸ線発生装置用ターゲ
ットを得ることができる。
ット支持部材における大気と触れる端面にターゲット台
用加温部材を取付け、また、第２の発明は、冷却水を大
気温度と略同温度に加温した温水としたため、ターゲッ
ト台およびターゲット支持部材が暖められるから、大気
に晒される部分に水分が結露するのを抑えることができ
る。したがって、過酸化水素水が生成されるのを抑え、
ターゲット台，ろう材等が過酸化水素水によって浸食さ
れるのを防ぐことができるから、Ｘ線発生装置の装置構
成を簡素化できると共に長寿命なＸ線発生装置用ターゲ
ットを得ることができる。
また、本発明に係る第３の発明は、ターゲット台および
ターゲット支持部材における大気と触れる端面に耐蝕性
の高い金属からなる被覆層を設け、ターゲット台の端面
を密封したため、ターゲット台が大気に晒されなくな
り、ターゲット台の大気側を覆う被覆層の表面に、過酸
化水素水となる水滴が付着することになる。したがっ
て、オゾンと水滴とによって生成される過酸化水素水が
ターゲット台，ろう材等を浸食するのを阻止することが
できる。このため、Ｘ線発生装置の装置構成を簡素化で
きると共に長寿命なＸ線発生装置用ターゲットを得るこ
とができる。特に、このようにターゲット台を金属製被
覆層によって被覆する構成とすると、新たな装置を追加
したりせずに実施することができるから、安価に実施す
ることができ、メンテナンス費用を低く抑えることがで
きる。
ターゲット支持部材における大気と触れる端面に耐蝕性
の高い金属からなる被覆層を設け、ターゲット台の端面
を密封したため、ターゲット台が大気に晒されなくな
り、ターゲット台の大気側を覆う被覆層の表面に、過酸
化水素水となる水滴が付着することになる。したがっ
て、オゾンと水滴とによって生成される過酸化水素水が
ターゲット台，ろう材等を浸食するのを阻止することが
できる。このため、Ｘ線発生装置の装置構成を簡素化で
きると共に長寿命なＸ線発生装置用ターゲットを得るこ
とができる。特に、このようにターゲット台を金属製被
覆層によって被覆する構成とすると、新たな装置を追加
したりせずに実施することができるから、安価に実施す
ることができ、メンテナンス費用を低く抑えることがで
きる。
第１図は本発明に係る第１の発明のＸ線発生装置用ター
ゲットを示す断面図、第２図は本発明に係る第２の発明
のＸ線発生装置用ターゲットを示す断面図、第３図は本
発明に係る第３の発明のＸ線発生装置用ターゲットを示
す断面図である。第４図は従来のＸ線発生装置用ターゲ
ットを示す断面図、第５図は従来のＸ線発生装置用ター
ゲットにおけるターゲット座とターゲット取付けフラン
ジとのろう付け部分を拡大して示す断面図である。 １……加速管、1a……電子線、1b……フランジ、２……
ターゲット取付けフランジ、４……ターゲット本体、５
……ターゲット座、６……ろう材、７……Ｘ線、８……
冷却水通路、21……ヒータ、22……温水器、23……被覆
層。
ゲットを示す断面図、第２図は本発明に係る第２の発明
のＸ線発生装置用ターゲットを示す断面図、第３図は本
発明に係る第３の発明のＸ線発生装置用ターゲットを示
す断面図である。第４図は従来のＸ線発生装置用ターゲ
ットを示す断面図、第５図は従来のＸ線発生装置用ター
ゲットにおけるターゲット座とターゲット取付けフラン
ジとのろう付け部分を拡大して示す断面図である。 １……加速管、1a……電子線、1b……フランジ、２……
ターゲット取付けフランジ、４……ターゲット本体、５
……ターゲット座、６……ろう材、７……Ｘ線、８……
冷却水通路、21……ヒータ、22……温水器、23……被覆
層。
Claims (3)
- 【請求項１】電子線が照射されてＸ線を発生するターゲ
ット本体を有し、熱良導体によって形成されたターゲッ
ト台と、このターゲット台が貫通穴に嵌合しろう付けさ
れることによってターゲット台を内壁の一部とする冷却
水通路が形成され、かつ大気と電子線発生室内とを画成
して電子線発生室を密閉するターゲット支持部材とを備
え、前記ターゲット支持部材における大気と触れる端面
にターゲット台用加温部材を取付けたことを特徴とする
Ｘ線発生装置用ターゲット。 - 【請求項２】電子線が照射されてＸ線を発生するターゲ
ット本体を有し、熱良導体によって形成されたターゲッ
ト台と、このターゲット台が貫通穴に嵌合しろう付けさ
れることによってターゲット台を内壁の一部とする冷却
水通路が形成され、かつ大気と電子線発生室内とを画成
して電子線発生室を密閉するターゲット支持部材とを備
え、前記冷却水通路に供給する冷却水を大気温度と略同
温度に加温した温水としたことを特徴とするＸ線発生装
置用ターゲット。 - 【請求項３】電子線が照射されてＸ線を発生するターゲ
ット本体を有し、熱良導体によって形成されたターゲッ
ト台と、このターゲット台が貫通穴に嵌合しろう付けさ
れることによってターゲット台を内壁の一部とする冷却
水通路が形成され、かつ大気と電子線発生室内とを画成
して電子線発生室を密閉するターゲット支持部材とを備
え、前記ターゲット台およびターゲット支持部材におけ
る大気と触れる端面に耐蝕性の高い金属からなる被覆層
を設け、ターゲット台の端面を密封したことを特徴とす
るＸ線発生装置用ターゲット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024603A JPH0782824B2 (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | Ｘ線発生装置用ターゲット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024603A JPH0782824B2 (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | Ｘ線発生装置用ターゲット |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03230460A JPH03230460A (ja) | 1991-10-14 |
| JPH0782824B2 true JPH0782824B2 (ja) | 1995-09-06 |
Family
ID=12142727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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