JPH03230460A - Ｘ線発生装置用ターゲット - Google Patents
Ｘ線発生装置用ターゲットInfo
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- JPH03230460A JPH03230460A JP2460390A JP2460390A JPH03230460A JP H03230460 A JPH03230460 A JP H03230460A JP 2460390 A JP2460390 A JP 2460390A JP 2460390 A JP2460390 A JP 2460390A JP H03230460 A JPH03230460 A JP H03230460A
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- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、線形加速器等に使用するＸ線発生装置用ター
ゲットに関するものである。
ゲットに関するものである。
従来のこの種のＸ線発生装置用ターゲットとしては、第
５図および第６図に示すように構成されたものがある。
５図および第６図に示すように構成されたものがある。
第５図は従来のＸ線発生装置用ターゲットを示す断面図
、第６図はターゲット座とターゲット取付はフランジと
のろう付は部分を拡大して示す断面図である。同図にお
いて、１は電子線１ａを加速するための加速管で、この
加速管ｌの上部は電子線発生装置（図示せず）に連結さ
れており、下部には、後述するターゲット取付はフラン
ジが取付けられるフランジｌｂが設けられている。そし
て、この加速管ｌは、真空ポンプ（図示せず）に接続さ
れ、電子線加速時（Ｘ線発生時）にはその内部が真空状
態にされるように構成されている。
、第６図はターゲット座とターゲット取付はフランジと
のろう付は部分を拡大して示す断面図である。同図にお
いて、１は電子線１ａを加速するための加速管で、この
加速管ｌの上部は電子線発生装置（図示せず）に連結さ
れており、下部には、後述するターゲット取付はフラン
ジが取付けられるフランジｌｂが設けられている。そし
て、この加速管ｌは、真空ポンプ（図示せず）に接続さ
れ、電子線加速時（Ｘ線発生時）にはその内部が真空状
態にされるように構成されている。
２は前記加速管１のフランジ１ｂに締付はボルト３によ
って締結されて加速管１の下部を密閉するターゲット取
付はフランジで、このターゲット取付はフランジ２にお
ける加速管１の中空部分と対応する部位にはターゲット
４を有するターゲット座５がろう材６によってろう付け
されている。
って締結されて加速管１の下部を密閉するターゲット取
付はフランジで、このターゲット取付はフランジ２にお
ける加速管１の中空部分と対応する部位にはターゲット
４を有するターゲット座５がろう材６によってろう付け
されている。
前記ターゲット４は、タングステンや白金によって形成
され、加速された電子が衝突することよってＸｉ７を発
生するものである。前記ターゲット座５は、放熱性の観
点から銅等の熱伝導率の高い材料によって形成されてい
る。また、前記ろう材６は、ターゲット座５とターゲッ
ト取付はフランジ２との間を真空シールすると共に、後
述する冷却水が漏洩するのを阻止するようにターゲット
座５の全周にわたって設けられている。さらに、前記タ
ーゲット取付はフランジ２の内部には、ターゲット座冷
却用の冷却水が通水される冷却水通路８が形成されてい
る。この冷却水通路８は、冷却水がターゲット座５０表
面に沿って流れるようにその流路が設定されている。９
は冷却水を冷却水通路８へ供給するための給水管、１０
は冷却水を冷却水通路８から排出するための排水管で、
これらはターゲット取付はフランジ２に接続されている
。１１は前記加速管１内の気密を保つためのガスケット
で、このガスケット１１は、加速管１のフランジ１ｂと
ターゲット取付はフランジ２との間に介装されている。
され、加速された電子が衝突することよってＸｉ７を発
生するものである。前記ターゲット座５は、放熱性の観
点から銅等の熱伝導率の高い材料によって形成されてい
る。また、前記ろう材６は、ターゲット座５とターゲッ
ト取付はフランジ２との間を真空シールすると共に、後
述する冷却水が漏洩するのを阻止するようにターゲット
座５の全周にわたって設けられている。さらに、前記タ
ーゲット取付はフランジ２の内部には、ターゲット座冷
却用の冷却水が通水される冷却水通路８が形成されてい
る。この冷却水通路８は、冷却水がターゲット座５０表
面に沿って流れるようにその流路が設定されている。９
は冷却水を冷却水通路８へ供給するための給水管、１０
は冷却水を冷却水通路８から排出するための排水管で、
これらはターゲット取付はフランジ２に接続されている
。１１は前記加速管１内の気密を保つためのガスケット
で、このガスケット１１は、加速管１のフランジ１ｂと
ターゲット取付はフランジ２との間に介装されている。
なお、両フランジ１ｂ、２のシート面にはガスケット１
１に食い込むエツジ部１ｃ、２ａがそれぞれ設けられて
いる。
１に食い込むエツジ部１ｃ、２ａがそれぞれ設けられて
いる。
１２はＸ線７の照射野を決めるためのコリメータ（Ｘ線
シールド）で、このコリメータ１２は前記ターゲット取
付はフランジ２の下側に空間１３をおいて設置されてい
る。なお、図中ＡはＸ線７の照射範囲を示す。
シールド）で、このコリメータ１２は前記ターゲット取
付はフランジ２の下側に空間１３をおいて設置されてい
る。なお、図中ＡはＸ線７の照射範囲を示す。
第６図において１４は前記空間１３の温度（大気温度）
より低温の冷却水を前記冷却水通路８に流した際にター
ゲット座５の表面に結露する水滴を示す。１５は前記空
間１３内の空気分子、１６はこの空気分子１５に電子線
１ａやＸ線７が衝突した際に発生するオゾン分子、１７
は前記水滴１４とオゾン分子１６とが結合して生成され
る過酸化水素水である。
より低温の冷却水を前記冷却水通路８に流した際にター
ゲット座５の表面に結露する水滴を示す。１５は前記空
間１３内の空気分子、１６はこの空気分子１５に電子線
１ａやＸ線７が衝突した際に発生するオゾン分子、１７
は前記水滴１４とオゾン分子１６とが結合して生成され
る過酸化水素水である。
次に、このように構成された従来のＸ線発生装置用ター
ゲットの動作について説明する。
ゲットの動作について説明する。
このターゲットによってＸ線を発生させるには、電子線
１ａを加速管１によって加速し、ターゲット４に衝突さ
せる。ターゲット４に衝突する大部分の電子線２は、タ
ーゲット４およびターゲット座５を通過中に吸収され、
同時にＸ線７を発生させる。発生したＸ線７は、空間１
３を通りコリメータ１２によって放射角を整えられ、外
部に導かれてＸ線源として利用される。なお、Ｘ線７は
空間１３を通過する時に空気分子１５と衝突し、オゾン
分子１６を発生させる。このオゾン分子１６はこの空間
１３内に充満される。一方、電子線ｌａの衝突によって
発生した熱は、ターゲット取付はフランジ２内を流され
る冷却水にターゲット座５を介して伝導されて放熱され
る。冷却水の温度が空間１３の気温より低い時には、タ
ーゲット座５およびターゲット取付はフランジ２の下面
、言い換えれば空間１３側の大気と接する面に、空間１
３中の水分が結露して水滴１４が付着する。そして、こ
の水滴１４に上述したオゾン分子１６が取り込まれ、過
酸化水素水１７が生成される。特に、ターゲット座５と
ターゲット取付はフランジ２とのろう接部分の溝中には
、第６図に示すように、毛細管現象により水滴１４およ
び過酸化水素水１７が多（蓄えられる。
１ａを加速管１によって加速し、ターゲット４に衝突さ
せる。ターゲット４に衝突する大部分の電子線２は、タ
ーゲット４およびターゲット座５を通過中に吸収され、
同時にＸ線７を発生させる。発生したＸ線７は、空間１
３を通りコリメータ１２によって放射角を整えられ、外
部に導かれてＸ線源として利用される。なお、Ｘ線７は
空間１３を通過する時に空気分子１５と衝突し、オゾン
分子１６を発生させる。このオゾン分子１６はこの空間
１３内に充満される。一方、電子線ｌａの衝突によって
発生した熱は、ターゲット取付はフランジ２内を流され
る冷却水にターゲット座５を介して伝導されて放熱され
る。冷却水の温度が空間１３の気温より低い時には、タ
ーゲット座５およびターゲット取付はフランジ２の下面
、言い換えれば空間１３側の大気と接する面に、空間１
３中の水分が結露して水滴１４が付着する。そして、こ
の水滴１４に上述したオゾン分子１６が取り込まれ、過
酸化水素水１７が生成される。特に、ターゲット座５と
ターゲット取付はフランジ２とのろう接部分の溝中には
、第６図に示すように、毛細管現象により水滴１４およ
び過酸化水素水１７が多（蓄えられる。
しかるに、上述したように過酸化水素水１７が生成され
ると、これによってターゲット座５およびろう材６が浸
食されてしまう。長期にわたって浸食され続けると、最
終的にはターゲット座５とターゲット取付はフランジ２
との隙間がら水洩れを起こすという問題があった。
ると、これによってターゲット座５およびろう材６が浸
食されてしまう。長期にわたって浸食され続けると、最
終的にはターゲット座５とターゲット取付はフランジ２
との隙間がら水洩れを起こすという問題があった。
本発明に係る第１の発明は、ターゲット支持部材にター
ゲット台用加温部材を取付けたものである。また、第２
の発明は、冷却水を大気温度と略同温度に加温した温水
としたものである。さらに、第３の発明は、ターゲット
台の大気側を、耐蝕性の高い金属によって覆い密封した
ものである。
ゲット台用加温部材を取付けたものである。また、第２
の発明は、冷却水を大気温度と略同温度に加温した温水
としたものである。さらに、第３の発明は、ターゲット
台の大気側を、耐蝕性の高い金属によって覆い密封した
ものである。
本発明に係る第１および第２の発明においては、ターゲ
ット台およびターゲット支持部材が暖められるから、大
気に晒される部分に水分が結露するのを抑えることがで
きる。また、本発明に係る第３の発明においては、ター
ゲット台が大気に晒されなくなり、ターゲット台の大気
側を覆う金属の表面に、過酸化水素水となる水滴が付着
することになる。
ット台およびターゲット支持部材が暖められるから、大
気に晒される部分に水分が結露するのを抑えることがで
きる。また、本発明に係る第３の発明においては、ター
ゲット台が大気に晒されなくなり、ターゲット台の大気
側を覆う金属の表面に、過酸化水素水となる水滴が付着
することになる。
以下、本発明に係る第１の発明を第１図に示す実施例に
よって詳細に説明する。
よって詳細に説明する。
第１図は本発明に係る第１の発明のＸ線発生装置用ター
ゲットを示す断面図で、同図において前記第５図および
第６図で説明したものと同一もしくは同等部材について
は、同一符号を付し詳細な説明は省略する。第１図にお
いて、２１はターゲット台用加温部材としてのヒータで
、このヒータ２１は環状に形成されており、ターゲット
取付はフランジ２の下面（空間１３と対応する面）に取
付けられている。このヒータ２１を備えたＸ線発生装置
用ターゲットにおいては、冷却水をターゲット取付はフ
ランジ２の冷却水通路８に流す前に、ヒータ２１に予め
通電しておく。すなわち、冷却水通水前にターゲット取
付はフランジ２およびターゲット座５の表面温度を空間
１３の気温より充分に高い温度にまで上昇させておき、
その後冷却水を流す。そして、冷却水が空間１３と同等
の温度になるまでその状態を維持させる。
ゲットを示す断面図で、同図において前記第５図および
第６図で説明したものと同一もしくは同等部材について
は、同一符号を付し詳細な説明は省略する。第１図にお
いて、２１はターゲット台用加温部材としてのヒータで
、このヒータ２１は環状に形成されており、ターゲット
取付はフランジ２の下面（空間１３と対応する面）に取
付けられている。このヒータ２１を備えたＸ線発生装置
用ターゲットにおいては、冷却水をターゲット取付はフ
ランジ２の冷却水通路８に流す前に、ヒータ２１に予め
通電しておく。すなわち、冷却水通水前にターゲット取
付はフランジ２およびターゲット座５の表面温度を空間
１３の気温より充分に高い温度にまで上昇させておき、
その後冷却水を流す。そして、冷却水が空間１３と同等
の温度になるまでその状態を維持させる。
このようにヒータ２１によって加温することによって、
ターゲット座５およびターゲット取付はフランジ２にお
ける大気に晒される部分に水分が結露するのを抑えるこ
とができる。したがって、オゾン分子と水滴との反応に
よる過酸化水素水が生成されるのを防ぐことができる。
ターゲット座５およびターゲット取付はフランジ２にお
ける大気に晒される部分に水分が結露するのを抑えるこ
とができる。したがって、オゾン分子と水滴との反応に
よる過酸化水素水が生成されるのを防ぐことができる。
本発明に係る第２の発明を第２図に示す実施例によって
詳細に説明する。
詳細に説明する。
第２図は本発明に係る第２の発明のＸ線発生装置用ター
ゲットを示す断面図で、同図において前記第５図および
第６図で説明したものと同一もしくは同等部材について
は、同一符号を付し詳細な説明は省略する。第２図にお
いて、２２は冷却水を加温するための温水器で、この温
水器２２は、冷却水を空欄１３と略等しい温度に暖め温
水とするように構成されており、給水管８に接続されて
いる。このように温水器２２を備えたＸ線発生装置用タ
ーゲットにおいては、温水器２２人口の水温が空間１３
の温度と同等になるまで冷却水を流すことによって、タ
ーゲット座５およびターゲット取付はフランジ２が暖め
られ、ターゲット座５およびターゲット取付はフランジ
２における大気に晒される部分に水分が結露するのを抑
えることができる。したがって、オゾン分子と水滴との
反応による過酸化水素水が生成されるのを防ぐことがで
きる。
ゲットを示す断面図で、同図において前記第５図および
第６図で説明したものと同一もしくは同等部材について
は、同一符号を付し詳細な説明は省略する。第２図にお
いて、２２は冷却水を加温するための温水器で、この温
水器２２は、冷却水を空欄１３と略等しい温度に暖め温
水とするように構成されており、給水管８に接続されて
いる。このように温水器２２を備えたＸ線発生装置用タ
ーゲットにおいては、温水器２２人口の水温が空間１３
の温度と同等になるまで冷却水を流すことによって、タ
ーゲット座５およびターゲット取付はフランジ２が暖め
られ、ターゲット座５およびターゲット取付はフランジ
２における大気に晒される部分に水分が結露するのを抑
えることができる。したがって、オゾン分子と水滴との
反応による過酸化水素水が生成されるのを防ぐことがで
きる。
次に、本発明に係る第３の発明を第３図に示す実施例に
よって詳細に説明する。
よって詳細に説明する。
第３図は本発明に係る第３の発明のＸ線発生装置用ター
ゲットを示す断面図で、同図において前記第５図および
第６図で説明したものと同一もしくは同等部材について
は、同一符号を付し詳細な説明は省略する。第３図にお
いて、２３はターゲット座５およびろう付は部分におけ
る大気と晒される面を密封するための被覆層を示す。こ
の被覆層２３は、ターゲット取付はフランジ２およびタ
ーゲット座５の下面（空間１３と対応する面）にクロム
めっき等の耐蝕性の高い金属めっきを一連に施すことに
よって形成されている。
ゲットを示す断面図で、同図において前記第５図および
第６図で説明したものと同一もしくは同等部材について
は、同一符号を付し詳細な説明は省略する。第３図にお
いて、２３はターゲット座５およびろう付は部分におけ
る大気と晒される面を密封するための被覆層を示す。こ
の被覆層２３は、ターゲット取付はフランジ２およびタ
ーゲット座５の下面（空間１３と対応する面）にクロム
めっき等の耐蝕性の高い金属めっきを一連に施すことに
よって形成されている。
このように被覆層２３が設けられたＸ線発生装置用ター
ゲットにおいては、ターゲット座５およびろう付は部分
は大気に晒されなくなり、冷却水を流すことに起因する
温度差によって生じる水滴は、被覆層２３における大気
に晒される面心こ付着することになる。したがって、オ
ゾンと水滴とによって生成される過酸化水素水がターゲ
ット座５゜ろう材６等を浸食するのを阻止することがで
きる。
ゲットにおいては、ターゲット座５およびろう付は部分
は大気に晒されなくなり、冷却水を流すことに起因する
温度差によって生じる水滴は、被覆層２３における大気
に晒される面心こ付着することになる。したがって、オ
ゾンと水滴とによって生成される過酸化水素水がターゲ
ット座５゜ろう材６等を浸食するのを阻止することがで
きる。
なお、前記実施例ではターゲ・７ト座５およびろう材６
の空間１３側をクロムめっき層によって覆った例を示し
たが、第４図に示すように、ターゲ・７ト取付はフラン
ジで覆う構造とすることもできる。
の空間１３側をクロムめっき層によって覆った例を示し
たが、第４図に示すように、ターゲ・７ト取付はフラン
ジで覆う構造とすることもできる。
第４図は本発明に係る第３の発明の他の実施例を示す断
面図で、同図において前記第５図および第６図で説明し
たものと同一もしくは同等部材については、同一符号を
付し詳細な説明は省略する。
面図で、同図において前記第５図および第６図で説明し
たものと同一もしくは同等部材については、同一符号を
付し詳細な説明は省略する。
第４図において、２４は名−ゲソト座５における大気側
を覆うための被覆板で、この被覆板２４は、ステンレス
鋼等の耐蝕性の高い材料からなるターゲット取付はフラ
ンジ２に一体に設けられている。
を覆うための被覆板で、この被覆板２４は、ステンレス
鋼等の耐蝕性の高い材料からなるターゲット取付はフラ
ンジ２に一体に設けられている。
また、前記被覆板２４の厚み寸法は、Ｘ″ｆＩＩＡ７の
透過に影響のない寸法に設定されている。なお、このタ
ーゲット取付はフランジ２とターゲット座５との取付は
構造は、ターゲット取付はフランジ２に形成された凹部
２５内にターゲット座５を臨ませ、ターゲット座５をタ
ーゲット取付はフランジ２にろう付けする構造であり、
ろう付は部分は加速管１側のみとされている。そして、
このターゲット座５の下面と前記被覆板２４との間には
冷却水が流されるように構成されている。
透過に影響のない寸法に設定されている。なお、このタ
ーゲット取付はフランジ２とターゲット座５との取付は
構造は、ターゲット取付はフランジ２に形成された凹部
２５内にターゲット座５を臨ませ、ターゲット座５をタ
ーゲット取付はフランジ２にろう付けする構造であり、
ろう付は部分は加速管１側のみとされている。そして、
このターゲット座５の下面と前記被覆板２４との間には
冷却水が流されるように構成されている。
このように被覆板２４によってターゲット座５の下面を
覆う構造としても、水滴は被覆板２４における大気に晒
される面に付着するから、前記実施例と同等の効果が得
られる。
覆う構造としても、水滴は被覆板２４における大気に晒
される面に付着するから、前記実施例と同等の効果が得
られる。
なお、上述した第１図ないし第４図に示す各実施例では
線形加速器に使用するＸ線発生装置用ターゲットについ
て説明したが、他の放射線機器等で、オゾン発生部分、
また、一般のオゾンと接触する箇所で過酸化水素状態と
なり浸食される部分がある機器にも適用することができ
るということはいうまでもない。
線形加速器に使用するＸ線発生装置用ターゲットについ
て説明したが、他の放射線機器等で、オゾン発生部分、
また、一般のオゾンと接触する箇所で過酸化水素状態と
なり浸食される部分がある機器にも適用することができ
るということはいうまでもない。
以上説明したように本発明に係る第１の発明は、ターゲ
ット支持部材にターゲット台用加温部材を取付け、また
、第２の発明は、冷却水を大気温度と略同温度に加温し
た温水としたため、ターゲット台およびターゲット支持
部材が暖められるから、大気に晒される部分に水分が結
露するのを抑えることができる。したがって、過酸化水
素水が生成されるのを抑え、ターゲ・７ト台、ろう材等
が過酸化水素水によって浸食されるのを防ぐことができ
るから、長寿命のＸ線発生装置用ターゲットを得ること
ができる。
ット支持部材にターゲット台用加温部材を取付け、また
、第２の発明は、冷却水を大気温度と略同温度に加温し
た温水としたため、ターゲット台およびターゲット支持
部材が暖められるから、大気に晒される部分に水分が結
露するのを抑えることができる。したがって、過酸化水
素水が生成されるのを抑え、ターゲ・７ト台、ろう材等
が過酸化水素水によって浸食されるのを防ぐことができ
るから、長寿命のＸ線発生装置用ターゲットを得ること
ができる。
また、本発明に係る第３の発明は、ターゲット台の大気
側を、耐蝕性の高い金属によって覆い密封したため、タ
ーゲット台が大気に晒されなくなり、ターゲット台の大
気側を覆う金属の表面に、過酸化水素水となる水滴が付
着することになる。
側を、耐蝕性の高い金属によって覆い密封したため、タ
ーゲット台が大気に晒されなくなり、ターゲット台の大
気側を覆う金属の表面に、過酸化水素水となる水滴が付
着することになる。
したがって、オゾンと水滴とによって生成される過酸化
水素水がターゲット台、ろう材等を浸食するのを阻止す
ることができる。このため、長寿命のＸ線発生装置用タ
ーゲットを得ることができる。
水素水がターゲット台、ろう材等を浸食するのを阻止す
ることができる。このため、長寿命のＸ線発生装置用タ
ーゲットを得ることができる。
特に、このようにターゲット台を金属によって被覆する
構成とすると、新たな装置を追加したりせずに実施する
ことができるから、安価に実施することができ、メンテ
ナンス費用を低く抑えることができる。
構成とすると、新たな装置を追加したりせずに実施する
ことができるから、安価に実施することができ、メンテ
ナンス費用を低く抑えることができる。
第１図は本発明に係る第１の発明のＸ線発生装置用ター
ゲットを示す断面図、第２図は本発明に係る第２の発明
のＸ線発生装置用ターゲットを示す断面図、第３図は本
発明に係る第３の発明のＸ線発生装置用ターゲットを示
す断面図、第４図は本発明に係る第３の発明の他の実施
例を示す断面図である。第５図は従来のＸ線発生装置用
ターゲットを示す断面図、第６図は従来のＸ線発生装置
用ターゲットにおけるターゲット座とターゲット取付は
フランジとのろう付は部分を拡大して示す断面図である
。 ｌ・・・・加速管、１ａ・・・・電子線、１ｂ・・・・
フランジ、２・・・・ターゲット取付はフランジ、４８
０．。 ターゲット、５・・・・ターゲット座、６・・・・ろう
材、７・・・・Ｘ線、 ８・・・・冷却水通路、 １・・・・ヒータ、 ２・・・・温水器、 ３・・・・被覆層、 ４・・・・被覆 板。 代 理 人 大 石 増 雄 第 図 Ｎ才 α）
ゲットを示す断面図、第２図は本発明に係る第２の発明
のＸ線発生装置用ターゲットを示す断面図、第３図は本
発明に係る第３の発明のＸ線発生装置用ターゲットを示
す断面図、第４図は本発明に係る第３の発明の他の実施
例を示す断面図である。第５図は従来のＸ線発生装置用
ターゲットを示す断面図、第６図は従来のＸ線発生装置
用ターゲットにおけるターゲット座とターゲット取付は
フランジとのろう付は部分を拡大して示す断面図である
。 ｌ・・・・加速管、１ａ・・・・電子線、１ｂ・・・・
フランジ、２・・・・ターゲット取付はフランジ、４８
０．。 ターゲット、５・・・・ターゲット座、６・・・・ろう
材、７・・・・Ｘ線、 ８・・・・冷却水通路、 １・・・・ヒータ、 ２・・・・温水器、 ３・・・・被覆層、 ４・・・・被覆 板。 代 理 人 大 石 増 雄 第 図 Ｎ才 α）
Claims (3)
- （１）電子線が照射されてＸ線を発生するターゲット本
体を有し、熱良導体によって形成されたターゲット台と
、このターゲット台を支持しかつ冷却水を介して冷却す
ると共に、電子線発生室を密閉するターゲット支持部材
とを備えたＸ線発生装置用ターゲットにおいて、前記タ
ーゲット支持部材にターゲット台用加温部材を取付けた
ことを特徴とするＸ線発生装置用ターゲット。 - （２）電子線が照射されてＸ線を発生するターゲット本
体を有し、熱良導体によって形成されたターゲット台と
、このターゲット台を支持しかつ冷却水を介して冷却す
ると共に、電子線発生室を密閉するターゲット支持部材
とを備えたＸ線発生装置用ターゲットにおいて、前記冷
却水を大気温度と略同温度に加温した温水としたことを
特徴とするＸ線発生装置用ターゲット。 - （３）電子線が照射されてＸ線を発生するターゲット本
体を有し、熱良導体によって形成されたターゲット台と
、このターゲット台を支持しかつ冷却水を介して冷却す
ると共に、電子線発生室を密閉するターゲット支持部材
とを備えたＸ線発生装置用ターゲットにおいて、前記タ
ーゲット台の大気側を、耐蝕性の高い金属によって覆い
密封したことを特徴とするＸ線発生装置用ターゲット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024603A JPH0782824B2 (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | Ｘ線発生装置用ターゲット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024603A JPH0782824B2 (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | Ｘ線発生装置用ターゲット |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03230460A true JPH03230460A (ja) | 1991-10-14 |
| JPH0782824B2 JPH0782824B2 (ja) | 1995-09-06 |
Family
ID=12142727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024603A Expired - Fee Related JPH0782824B2 (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | Ｘ線発生装置用ターゲット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0782824B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013524474A (ja) * | 2010-04-12 | 2013-06-17 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 回転陽極ｘ線管及び検査装置 |
| CN107546090A (zh) * | 2017-09-19 | 2018-01-05 | 同方威视技术股份有限公司 | X射线转换靶 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7831021B1 (en) | 2009-08-31 | 2010-11-09 | Varian Medical Systems, Inc. | Target assembly with electron and photon windows |
| JP5711007B2 (ja) * | 2011-03-02 | 2015-04-30 | 浜松ホトニクス株式会社 | 開放型ｘ線源用冷却構造及び開放型ｘ線源 |
Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPS561450A (en) * | 1979-05-03 | 1981-01-09 | Western Electric Co | High power xxray source |
| JPS6273540A (ja) * | 1985-09-26 | 1987-04-04 | Japan Atom Energy Res Inst | Ｘ線発生装置のタ−ゲツト |
| JPS63101459U (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-01 |
-
1990
- 1990-02-02 JP JP2024603A patent/JPH0782824B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US9014337B2 (en) | 2010-04-12 | 2015-04-21 | Koninklijke Philips N.V. | Rotary-anode X-ray tube with reduced radial sealing |
| CN107546090A (zh) * | 2017-09-19 | 2018-01-05 | 同方威视技术股份有限公司 | X射线转换靶 |
| EP3457425A1 (en) * | 2017-09-19 | 2019-03-20 | Nuctech Company Limited | X-ray conversion target |
| US20190090336A1 (en) * | 2017-09-19 | 2019-03-21 | Nuctech Company Limited | X-ray conversion target and x-ray generator |
| KR20190032186A (ko) * | 2017-09-19 | 2019-03-27 | 눅테크 컴퍼니 리미티드 | X선 변환 타겟 |
| AU2018222941B2 (en) * | 2017-09-19 | 2020-02-27 | Nuctech Company Limited | X-ray conversion target |
| US10701787B2 (en) | 2017-09-19 | 2020-06-30 | Nuctech Company Limited | X-Ray conversion target and X-ray generator |
| CN107546090B (zh) * | 2017-09-19 | 2024-04-05 | 同方威视技术股份有限公司 | X射线转换靶 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0782824B2 (ja) | 1995-09-06 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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