JPH0782666B2 - 光メモリ素子製造用保護フィルム付基板 - Google Patents

光メモリ素子製造用保護フィルム付基板

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JPH0782666B2
JPH0782666B2 JP19238688A JP19238688A JPH0782666B2 JP H0782666 B2 JPH0782666 B2 JP H0782666B2 JP 19238688 A JP19238688 A JP 19238688A JP 19238688 A JP19238688 A JP 19238688A JP H0782666 B2 JPH0782666 B2 JP H0782666B2
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純一郎 中山
賢司 太田
博之 片山
明 高橋
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    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
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Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は光カード、光ディスクに代表される光メモリ素
子の製造に用いられる保護フィルム付基板に関する。
〈従来の技術〉 従来の光メモリ素子製造用保護フィルム付基板（以下、
単に『基板10』とする）を第３図〜第５図を参照しつつ
説明する。
光メモリ素子は、再生専用のROM形がCD、CD-ROM、VDと
して商品化されている。また、情報の書込、消去可能な
光メモリ素子の開発も急速に進んでいる。
光カード等の光メモリ素子は、基板10に記録領域として
の記録層111が形成されたものである。この記録層111に
対してレーザ光等を照射して再生或いは記録を行うので
ある。
記録層111が形成されて光メモリ素子となる基板10は、
その表裏面11、12が保護フィルム21、22によってカバー
されている。保護フィルム21、22は、記録層111の形成
以前に基板10の表裏面11、12に傷が付かないように保護
するものである。
この基板10は、保護フィルム21、22が剥がされて光メモ
リ素子の製造装置に送り込まれる（第３図（ａ）参
照）。基板10は製造装置内で、基板10に形成されるべき
記録層111に対応した部分のみが開口したマスク30によ
って覆われて、記録層形成プロセス部50に送られる。こ
の記録層形成プロセス部50によって、基板10の表面11に
は記録層111が形成される（第３図（ｂ）参照）。その
後、当該基板10は、ガイドトラックを形成するガイドト
ラック形成プロセス部51、カッタによる切断プロセス部
53（第３図（ｃ）参照）、透明な合成樹脂による保護層
13を形成する保護層形成プロセス部（図示省略）等の複
数のプロセスを経て光メモリ素子となる。
また、マスク30によって基板10の表面11を覆わないで記
録層111を形成すると、第５図に示すように記録層111が
基板10の全面にわたって形成されるので、保護層13を記
録層111の上に形成したとしても記録層111が基板10の端
部において直接外気に露出するため、耐環境性において
劣った光メモリ素子となる。
〈発明が解決しようとする課題〉 上述した従来のマスクは板状に構成されているので、例
えばフレキシブル基板等の長尺シート状の基板から連続
的に光メモリ素子を製造することが不可能である。ま
た、マスクを用いないと上述したように耐環境性に劣っ
た光メモリ素子となる。すなわち、従来の光メモリ素子
製造用保護フィルム付基板ではマスクは必要不可欠な要
素であった。そのため、従来の光メモリ素子製造用保護
フィルム付基板を用いて製造される光メモリ素子は、生
産効率が低く、コストを下げることが難しかった。
本発明は上記事情に鑑みて創案されたもので、シート状
の基板から連続的に光メモリ素子を製造することができ
る光メモリ素子製造用保護フィルム付基板を提供するこ
とを目的としている。
〈課題を解決するための手段〉 本発明に係る光メモリ素子製造用保護フィルム付基板
は、その表面が保護フィルムでカバーされている。そし
て、前記保護フィルムは基板に形成しようとする記録層
に対応した部分のみに開口が開設されており、かつ記録
層形成プロセスでは記録層を形成するマスクとして機能
する。
〈作用〉 保護フィルムが記録層形成プロセスにおいてマクスとし
て機能するので、基板には保護フィルムに開設された開
口に対応した部分のみに記録層が形成される。
〈実施例〉 以下、図面を参照して本発明に係る一実施例を説明す
る。
第１図は本発明に係る光メモリ素子製造用保護フィルム
付基板の一実施例を示す斜視図、第２図は本発明に係る
光メモリ素子製造用保護フィルム付基板を用いて光メモ
リ素子を製造する製造装置の概略的構成図である。な
お、説明の都合上第１図では保護フィルムの厚さを誇張
して示している。
基板10は、柔軟性を有するとともに、透明な樹脂、例え
ばポリカーボネイト樹脂等から構成されており、その表
裏面11、12は保護フィルム21、22でそれぞれカバーされ
ている。基板10の表面11をカバーする保護フィルム21に
は、開口211が開設されている。この開口211の位置は、
基板10に形成される記録層111が形成されるべき位置に
対応して設定されており、基板10の端部は保護フィルム
21によって必ずカバーされるようになっている。一方、
基板10の裏面12をカバーする保護フィルム22は、裏面12
を全面にわたってカバーしている。なお、基板10の厚さ
は0.2〜1.0mm程度に設定するのが好ましいが、これには
限定されない。
保護フィルム21、22は耐熱温度が記録層111を基板10に
形成する時の温度以上であり、熱膨張率が基板10と略同
等であるものがよい。例えば、ビニール、ポリエチレ
ン、ナイロン、ジュラコン、ポリプロピレン、アセテー
ト、ポリエステル或いはABS等の合成樹脂のうちから、
上述した条件に適合するものを適宜選択して用いる。な
お、この保護フィルム21、22の厚さは0.01〜0.3mm程度
がよい。
このように表裏面11、12がそれぞれ保護フィルム21、22
でカバーされた基板10は、第２図に示すように基板供給
軸41に巻回状態で収納される。そして、基板10は、ロー
ラ45、46、47等の送り出し手段によって、表面11に記録
層111を形成する記録層形成プロセス部42、基板10にガ
イドトラックを形成するガイドトラック形成プロセス部
43、カッタ441によって基板10を切断する切断プロセス
部44、透明な合成樹脂による保護層形成プロセス（図示
省略）等の複数のプロセスを経て光メモリ素子となる。
記録層形成プロセス部42では、保護フィルム21がマスク
として機能するので、例えばスパッタリング、蒸着等の
適宜な手段によって、基板10には開口211に対応した部
分のみに記録層111が形成される。すなわち、開口211以
外の部分は保護フィルム21によってカバーされているの
で、記録層111が形成されることはない。
なお、上述した実施例では、保護フィルム21に開口211
が予め開口されているものとしたが、開口211に対応し
た切れ目を保護フィルム21に設けておき、製造装置に基
板10を挿入する直前に切れ目を切り取って開口とするこ
とも可能である。この場合には、基板10が汚染されるお
それはより少なくなる。
また、上述した４つのプロセス、すなわち記録層形成プ
ロセス、ガイドトラック形成プロセス、切断プロセス及
び保護層形成プロセスは、この順序に限定されるもので
はなく、任意に入れ換えることができるものである。
この光メモリ素子製造用保護フィルム付基板を用いて製
造される光メモリ素子としては、光カード、光ディスク
等があるが、大量生産、低コストが要求される光カード
に特に適している。
〈発明の効果〉 本発明に係る光メモリ素子製造用保護フィルム付基板で
は、予めマスクとして機能する保護フィルムによって基
板の表面がカバーされているので、光メモリ素子の製造
時にマスクを必要としない。従って、この基板をフレキ
シブル基板とすれば、連続的に光メモリ素子を製造する
ことが可能となり、それに伴って生産効率を高め、コス
トを低くすることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係る光メモリ素子製造用保護フィルム
付基板の一実施例を示す斜視図、第２図は本発明に係る
光メモリ素子製造用保護フィルム付基板を用いて光メモ
リ素子を製造する製造装置の概略的構成図、第３図は従
来の光メモリ素子製造用保護フィルム付基板を用いた場
合における光メモリ素子の製造工程の概略的説明図、第
４図は従来の光メモリ素子製造用保護フィルム付基板で
マスクを用いた場合の場合の光メモリ素子の断面図、第
５図はマスクを用いない場合の光メモリ素子の断面図で
ある。 10……基板、11……表面、111……記録層、21……保護
フィルム、211……開口。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 明 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 村上 善照 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】表面が保護フィルムでカバーされた光メモ
    リ素子製造用保護フィルム付基板において、前記保護フ
    ィルムは基板に形成しようとする記録層に対応した部分
    のみに開口が開設されており、かつ記録層形成プロセス
    では記録層を形成するマスクとして機能することを特徴
    とする光メモリ素子製造用保護フィルム付基板。
JP19238688A 1988-08-01 1988-08-01 光メモリ素子製造用保護フィルム付基板 Expired - Lifetime JPH0782666B2 (ja)

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US07/384,254 US5002813A (en) 1988-08-01 1989-07-21 Substrate with protective film and method of manufacturing optical memory device using the same
KR1019890010765A KR0129760B1 (ko) 1988-08-01 1989-07-28 보호막을 가진 기판과 그것을 사용한 광메모리 장치 제조방법

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JPH0242658A JPH0242658A (ja) 1990-02-13
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US5002813A (en) 1991-03-26
KR900003828A (ko) 1990-03-27
JPH0242658A (ja) 1990-02-13

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