JPH0782208A - 光学活性２−（２−置換アシル）メントピラゾール誘導体、鏡像体、その中間体、及びそれらの製造法、並びに光学活性２−（２−置換アシル）メントピラゾール誘導体を用いる光学活性２−置換カルボン酸誘導体の製造法 - Google Patents
光学活性２−（２−置換アシル）メントピラゾール誘導体、鏡像体、その中間体、及びそれらの製造法、並びに光学活性２−（２−置換アシル）メントピラゾール誘導体を用いる光学活性２−置換カルボン酸誘導体の製造法Info
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- JPH0782208A JPH0782208A JP22767793A JP22767793A JPH0782208A JP H0782208 A JPH0782208 A JP H0782208A JP 22767793 A JP22767793 A JP 22767793A JP 22767793 A JP22767793 A JP 22767793A JP H0782208 A JPH0782208 A JP H0782208A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】光学活性２−置換カルボン酸誘導体の安価な製
造法、その製造原料となる回収容易なメントピラゾール
誘導体等を提供する。 【構成】光学活性メントン誘導体（II）をアシル化して
光学活性アシルメントン誘導体（I）とし、ヒドラジン
で処理して光学活性メントピラゾール誘導体（III）と
し、カルボン酸誘導体（Ｖ）と縮合させて光学活性２-
アシルメントピラゾール誘導体（IＶ）とし、ハロゲン
化アルキルと反応させて光学活性２−（２−置換アシ
ル）メントピラゾール誘導体（ＶI）とし、ＨＯ−Ｒ3と
(交換）反応させて、光学活性２−置換カルボン酸誘導
体（VIII）とする。 【化１】
造法、その製造原料となる回収容易なメントピラゾール
誘導体等を提供する。 【構成】光学活性メントン誘導体（II）をアシル化して
光学活性アシルメントン誘導体（I）とし、ヒドラジン
で処理して光学活性メントピラゾール誘導体（III）と
し、カルボン酸誘導体（Ｖ）と縮合させて光学活性２-
アシルメントピラゾール誘導体（IＶ）とし、ハロゲン
化アルキルと反応させて光学活性２−（２−置換アシ
ル）メントピラゾール誘導体（ＶI）とし、ＨＯ−Ｒ3と
(交換）反応させて、光学活性２−置換カルボン酸誘導
体（VIII）とする。 【化１】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学活性２−（２−置
換アシル）メントピラゾール誘導体、鏡像体、その中間
体、及びそれらの製造法、並びに光学活性２−（２−置
換アシル）メントピラゾール誘導体を用いる光学活性２
−置換カルボン酸誘導体の製造法に関する。
換アシル）メントピラゾール誘導体、鏡像体、その中間
体、及びそれらの製造法、並びに光学活性２−（２−置
換アシル）メントピラゾール誘導体を用いる光学活性２
−置換カルボン酸誘導体の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学活性アミドを利用した不斉アルキル
化による２−置換カルボン酸誘導体の製造法としては、
ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ
ーズ（J.Am.Chem.Soc.）１０４巻，１７３２頁（１９８
２年）に、化９［式（ａ）］
化による２−置換カルボン酸誘導体の製造法としては、
ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ
ーズ（J.Am.Chem.Soc.）１０４巻，１７３２頁（１９８
２年）に、化９［式（ａ）］
【化９】 に示す光学活性アミドを用いる例が報告されている。
【０００３】また、テトラヘドロン・レターズ（Tetrah
edron Lett.）第２５巻，８５７頁（１９８４年）に
は、化１０［式（ｂ）］で表される光学活性ピロリジン
を用いる例が報告されている。
edron Lett.）第２５巻，８５７頁（１９８４年）に
は、化１０［式（ｂ）］で表される光学活性ピロリジン
を用いる例が報告されている。
【化１０】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、光学活性２
−置換カルボン酸誘導体の安価な製造法、その製造原料
となる回収容易なメントピラゾール誘導体、その中間
体、並びにそれらの製造法を提供するものである。
−置換カルボン酸誘導体の安価な製造法、その製造原料
となる回収容易なメントピラゾール誘導体、その中間
体、並びにそれらの製造法を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の光学活性アシル
メントン誘導体又はその鏡像体は、化１１［一般式
（Ｉ）］
メントン誘導体又はその鏡像体は、化１１［一般式
（Ｉ）］
【化１１】 〔一般式（Ｉ）中、Ａｒは置換基を有していてもよい芳
香族基を示す。〕で表される化合物又はその鏡像体であ
る。
香族基を示す。〕で表される化合物又はその鏡像体であ
る。
【０００６】前記一般式（Ｉ）において、Ａｒとして
は、化１２［式（ｃ−１）］〜式（ｃ−３）］等があ
る。
は、化１２［式（ｃ−１）］〜式（ｃ−３）］等があ
る。
【化１２】 ただし、化１２中、Ｒは水素、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、
ｔ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、
ｔ−ブトキシ基、フェニル基等であり、互いに異なって
いてもよい。
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、
ｔ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、
ｔ−ブトキシ基、フェニル基等であり、互いに異なって
いてもよい。
【０００７】一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例と
しては、下記の式（ｄ−１）〜式（ｄ−１６）］等の化
合物又はそれらの鏡像体等がある。
しては、下記の式（ｄ−１）〜式（ｄ−１６）］等の化
合物又はそれらの鏡像体等がある。
【化１３】
【０００８】
【化１４】
【０００９】
【化１５】
【００１０】一般式（Ｉ）で表される化合物は、化１６
［式（II）］
［式（II）］
【化１６】 で表される光学活性メントン（ｌ−メントン）又はその
鏡像体（ｄ−メントン）を金属塩形成試剤で処理して金
属塩を形成し、これをアシル化試剤でアシル化させる方
法により製造することができる。
鏡像体（ｄ−メントン）を金属塩形成試剤で処理して金
属塩を形成し、これをアシル化試剤でアシル化させる方
法により製造することができる。
【００１１】金属塩形成試剤としては、水素化ナトリウ
ム、水素化リチウム、水素化カリウム等の金属水素化
物、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムイソプロ
ピルシクロヘキシルアミド、リチウムビス（トリメチル
シリル）アミド、ソディウムビス（トリメチルシリル）
アミド等の金属アミド等があり、好ましくは金属アミド
を使用する。これらは、一般式（II）で表される光学活
性メントンに対して１当量以上で使用するのが好まし
い。
ム、水素化リチウム、水素化カリウム等の金属水素化
物、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムイソプロ
ピルシクロヘキシルアミド、リチウムビス（トリメチル
シリル）アミド、ソディウムビス（トリメチルシリル）
アミド等の金属アミド等があり、好ましくは金属アミド
を使用する。これらは、一般式（II）で表される光学活
性メントンに対して１当量以上で使用するのが好まし
い。
【００１２】金属塩形成反応の溶媒としては、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶媒、ヘキサン、ペンタン等のアルカン系溶媒、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒などが使
用できるが、エーテル系溶媒、特にテトラヒドロフラン
が好ましい。金属塩形成反応の温度は、−７８℃から０
℃までが好ましく、特に−５０℃以下が好ましい。
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル系溶媒、ヘキサン、ペンタン等のアルカン系溶媒、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒などが使
用できるが、エーテル系溶媒、特にテトラヒドロフラン
が好ましい。金属塩形成反応の温度は、−７８℃から０
℃までが好ましく、特に−５０℃以下が好ましい。
【００１３】用いるアシル化試剤としては、塩化ベンゾ
イル、臭化ベンゾイル、ヨウ化ベンゾイル、塩化パラメ
チルベンゾイル、臭化パラメチルベンゾイル、ヨウ化パ
ラメチルベンゾイル、塩化パラターシャリーブチルベン
ゾイル、臭化パラターシャリーブチルベンゾイル、ヨウ
化パラターシャリーブチルベンゾイル、塩化（２，４−
ジメチル）ベンゾイル、臭化（２，４−ジメチル）ベン
ゾイル、ヨウ化（２，４−ジメチル）ベンゾイル、塩化
パラメトキシベンゾイル、臭化パラメトキシベンゾイ
ル、ヨウ化パラメトキシベンゾイル、塩化パラフェニル
ベンゾイル、臭化パラフェニルベンゾイル、ヨウ化パラ
フェニルベンゾイル、塩化（１−ナフトイル）、臭化
（１−ナフトイル）、ヨウ化（１−ナフトイル）、塩化
（２−ナフトイル）、臭化（２−ナフトイル）、ヨウ化
（２−ナフトイル）、塩化（１−アントラセンカルボニ
ル）、臭化（１−アントラセンカルボニル）、ヨウ化
（１−アントラセンカルボニル）等のアリールカルボン
酸ハロゲン化物、無水安息香酸、無水パラメチル安息香
酸、無水パラターシャリーブチル安息香酸、無水（２，
４−ジメチル）安息香酸、無水パラメトキシ安息香酸、
無水パラフェニル安息香酸、無水（１−ナフチルカルボ
ン酸）、無水（２−ナフチルカルボン酸）、無水（１−
アントラセンカルボン酸）、無水（２−アントラセンカ
ルボン酸）等の無水アリールカルボン酸等がある。これ
らは、一般式（II）で表される光学活性メントンに対し
て１当量以上で使用されるのが好ましい。
イル、臭化ベンゾイル、ヨウ化ベンゾイル、塩化パラメ
チルベンゾイル、臭化パラメチルベンゾイル、ヨウ化パ
ラメチルベンゾイル、塩化パラターシャリーブチルベン
ゾイル、臭化パラターシャリーブチルベンゾイル、ヨウ
化パラターシャリーブチルベンゾイル、塩化（２，４−
ジメチル）ベンゾイル、臭化（２，４−ジメチル）ベン
ゾイル、ヨウ化（２，４−ジメチル）ベンゾイル、塩化
パラメトキシベンゾイル、臭化パラメトキシベンゾイ
ル、ヨウ化パラメトキシベンゾイル、塩化パラフェニル
ベンゾイル、臭化パラフェニルベンゾイル、ヨウ化パラ
フェニルベンゾイル、塩化（１−ナフトイル）、臭化
（１−ナフトイル）、ヨウ化（１−ナフトイル）、塩化
（２−ナフトイル）、臭化（２−ナフトイル）、ヨウ化
（２−ナフトイル）、塩化（１−アントラセンカルボニ
ル）、臭化（１−アントラセンカルボニル）、ヨウ化
（１−アントラセンカルボニル）等のアリールカルボン
酸ハロゲン化物、無水安息香酸、無水パラメチル安息香
酸、無水パラターシャリーブチル安息香酸、無水（２，
４−ジメチル）安息香酸、無水パラメトキシ安息香酸、
無水パラフェニル安息香酸、無水（１−ナフチルカルボ
ン酸）、無水（２−ナフチルカルボン酸）、無水（１−
アントラセンカルボン酸）、無水（２−アントラセンカ
ルボン酸）等の無水アリールカルボン酸等がある。これ
らは、一般式（II）で表される光学活性メントンに対し
て１当量以上で使用されるのが好ましい。
【００１４】アシル化反応の溶媒は、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶
媒、ヘキサン、ペンタン等のアルカン系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒などが使用で
きるが、エーテル系溶媒、特にテトラヒドロフランが好
ましい。アシル化反応の温度は、−７８℃から０℃まで
が好ましい。
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶
媒、ヘキサン、ペンタン等のアルカン系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒などが使用で
きるが、エーテル系溶媒、特にテトラヒドロフランが好
ましい。アシル化反応の温度は、−７８℃から０℃まで
が好ましい。
【００１５】一般式（II）で表される化合物は、化１７
［式（ｅ）］で表される光学活性メントール（ｌ−メン
トール）又はその鏡像体（ｄ−メントール）を酸化試剤
で酸化することにより製造できる。
［式（ｅ）］で表される光学活性メントール（ｌ−メン
トール）又はその鏡像体（ｄ−メントール）を酸化試剤
で酸化することにより製造できる。
【化１７】
【００１６】この酸化反応においては、上記式（ｅ）で
表される化合物に対して、重クロム酸カリウム−硫酸、
重クロム酸ナトリウム−硫酸、無水クロム酸−硫酸、無
水クロム酸ピリジン錯体等の酸化剤を１当量以上添加し
て行う。酸化反応は０℃以上、室温以下で行うのが好ま
しい。
表される化合物に対して、重クロム酸カリウム−硫酸、
重クロム酸ナトリウム−硫酸、無水クロム酸−硫酸、無
水クロム酸ピリジン錯体等の酸化剤を１当量以上添加し
て行う。酸化反応は０℃以上、室温以下で行うのが好ま
しい。
【００１７】上記酸化反応は有機溶媒の存在下に行うの
が好ましく、有機溶媒としてはジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘキ
サン、ペンタン等のアルカン系溶媒、クロロホルム、ジ
クロロメタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族系溶媒、アセトン、メチルエチ
ルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル等のエステル
系溶媒等がある。
が好ましく、有機溶媒としてはジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘキ
サン、ペンタン等のアルカン系溶媒、クロロホルム、ジ
クロロメタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族系溶媒、アセトン、メチルエチ
ルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル等のエステル
系溶媒等がある。
【００１８】本発明における光学活性メントピラゾール
誘導体又はその鏡像体は、化１８［一般式（III）］
誘導体又はその鏡像体は、化１８［一般式（III）］
【化１８】 〔ただし、一般式（III）中、Ａｒは一般式（Ｉ）中に
おける意味と同じ。〕で表される化合物又はその鏡像体
である。
おける意味と同じ。〕で表される化合物又はその鏡像体
である。
【００１９】一般式（III）で表される化合物は、前記
の一般式（Ｉ）の光学活性アシルメントン又はその鏡像
体を、酸性条件下にヒドラジンで加熱処理しピラゾール
環を形成させて、製造することができる。
の一般式（Ｉ）の光学活性アシルメントン又はその鏡像
体を、酸性条件下にヒドラジンで加熱処理しピラゾール
環を形成させて、製造することができる。
【００２０】ピラゾール環形成反応において、ヒドラジ
ンは安全性を考慮して抱水ヒドラジンを使用することが
好ましく、一般式（Ｉ）の光学活性アシルメントンに対
して１当量以上使用するのが好ましい。
ンは安全性を考慮して抱水ヒドラジンを使用することが
好ましく、一般式（Ｉ）の光学活性アシルメントンに対
して１当量以上使用するのが好ましい。
【００２１】ピラゾール環形成反応の溶媒は、メタノー
ル、エタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶
媒、ヘキサン、ペンタン等のアルカン系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒などが使用で
きるが、アルコール系溶媒が好ましい。ピラゾール環形
成反応の温度は、通常、使用した溶媒の還流温度を使用
する。
ル、エタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶
媒、ヘキサン、ペンタン等のアルカン系溶媒、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒などが使用で
きるが、アルコール系溶媒が好ましい。ピラゾール環形
成反応の温度は、通常、使用した溶媒の還流温度を使用
する。
【００２２】一般式（III）で表される化合物の具体例
としては、下記の式（ｆ−１）〜式（ｆ−２）の化合物
又はそれらの鏡像体等がある。
としては、下記の式（ｆ−１）〜式（ｆ−２）の化合物
又はそれらの鏡像体等がある。
【化１９】
【００２３】
【化２０】
【００２４】
【化２１】
【００２５】
【化２２】
【００２６】本発明の光学活性２−アシルメントピラゾ
ール誘導体又はその鏡像体は、化２３［一般式（I
Ｖ）］
ール誘導体又はその鏡像体は、化２３［一般式（I
Ｖ）］
【化２３】 〔ただし、一般式（III）中、Ａｒは一般式（Ｉ）中に
おける意味と同じであり、Ｒ1は置換基を有していても
よいアルキル基、又は置換基を有していてもよい芳香族
基を示す。〕表される化合物又はその鏡像体である。
おける意味と同じであり、Ｒ1は置換基を有していても
よいアルキル基、又は置換基を有していてもよい芳香族
基を示す。〕表される化合物又はその鏡像体である。
【００２７】一般式（IＶ）で表される化合物は、前記
の一般式（III）又はその鏡像体で表される光学活性メ
ントピラゾール誘導体を、化２４［一般式（Ｖ）］
の一般式（III）又はその鏡像体で表される光学活性メ
ントピラゾール誘導体を、化２４［一般式（Ｖ）］
【化２４】 〔ただし、一般式（Ｖ）中、Ｒ1は一般式（IV）中にお
ける意味と同じであり、Ｘは脱離性官能基を示す〕で表
されるカルボン酸誘導体と縮合反応させ、製造すること
ができる。
ける意味と同じであり、Ｘは脱離性官能基を示す〕で表
されるカルボン酸誘導体と縮合反応させ、製造すること
ができる。
【００２８】ここで、脱離性官能基のＸとしては、フル
オロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等のハロゲン
基、水酸基等の官能基を示す。
オロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等のハロゲン
基、水酸基等の官能基を示す。
【００２９】一般式（IＶ）及び（Ｖ）中のＲ1の、置換
基を有していてもよいアルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、１
−メチルプロピル基、イソブチル基、ターシャリーブチ
ル基、ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブ
チル基、イソペンチル基、ヘキシル基、１−メチルペン
チル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル
基、イソヘキシル基、ヘプチル基、１−メチルヘキシル
基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４
−メチルヘキシル基、イソヘプチル基、オクチル基、１
−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３−メチ
ルヘプチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチルヘプ
チル基、イソオクチル基、フェニルメチル基、２−メト
キシフェニルメチル基、３−メトキシフェニルメチル
基、４−メトキシフェニルメチル基、２−ベンジルオキ
シフェニルメチル基、３−ベンジルオキシフェニルメチ
ル基、４−ベンジルオキシフェニルメチル基、２−メチ
ルフェニルメチル基、３−メチルフェニルメチル基、４
−メチルフェニルメチル基、２−ブロモフェニルメチル
基、３−ブロモフェニルメチル基、４−ブロモフェニル
メチル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル
基、１−（４−メトキシフェニル）エチル基、２−（４
−メトキシフェニル）エチル基、１−（４−ベンジルオ
キシフェニル）エチル基、２−（４−ベンジルオキシフ
ェニル）エチル基、１−（４−メチルフェニル）エチル
基、２−（４−メチルフェニル）エチル基、１−（４−
ブロモフェニル）エチル基、２−（４−ブロモフェニ
ル）エチル基、ビフェニルメチル基、４−（４−メトキ
シフェニル）フェニルメチル基、４−（４−ベンジルオ
キシフェニル）フェニルメチル基、４−（４−メトキシ
フェニル）フェニルメチル基、４−（４−ブロモフェニ
ル）フェニルメチル基、ビフェニルエチル基、４−（４
−メトキシフェニル）フェニルエチル基、４−（４−ベ
ンジルオキシフェニル）フェニルエチル基、４−（４−
メチルフェニル）フェニルエチル基、４−（４−ブロモ
フェニル）フェニルエチル基、１−ナフチルメチル基、
２−ナフチルメチル基、１−ナフチルエチル基、２−ナ
フチルエチル基等がある。
基を有していてもよいアルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、１
−メチルプロピル基、イソブチル基、ターシャリーブチ
ル基、ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブ
チル基、イソペンチル基、ヘキシル基、１−メチルペン
チル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル
基、イソヘキシル基、ヘプチル基、１−メチルヘキシル
基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４
−メチルヘキシル基、イソヘプチル基、オクチル基、１
−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３−メチ
ルヘプチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチルヘプ
チル基、イソオクチル基、フェニルメチル基、２−メト
キシフェニルメチル基、３−メトキシフェニルメチル
基、４−メトキシフェニルメチル基、２−ベンジルオキ
シフェニルメチル基、３−ベンジルオキシフェニルメチ
ル基、４−ベンジルオキシフェニルメチル基、２−メチ
ルフェニルメチル基、３−メチルフェニルメチル基、４
−メチルフェニルメチル基、２−ブロモフェニルメチル
基、３−ブロモフェニルメチル基、４−ブロモフェニル
メチル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル
基、１−（４−メトキシフェニル）エチル基、２−（４
−メトキシフェニル）エチル基、１−（４−ベンジルオ
キシフェニル）エチル基、２−（４−ベンジルオキシフ
ェニル）エチル基、１−（４−メチルフェニル）エチル
基、２−（４−メチルフェニル）エチル基、１−（４−
ブロモフェニル）エチル基、２−（４−ブロモフェニ
ル）エチル基、ビフェニルメチル基、４−（４−メトキ
シフェニル）フェニルメチル基、４−（４−ベンジルオ
キシフェニル）フェニルメチル基、４−（４−メトキシ
フェニル）フェニルメチル基、４−（４−ブロモフェニ
ル）フェニルメチル基、ビフェニルエチル基、４−（４
−メトキシフェニル）フェニルエチル基、４−（４−ベ
ンジルオキシフェニル）フェニルエチル基、４−（４−
メチルフェニル）フェニルエチル基、４−（４−ブロモ
フェニル）フェニルエチル基、１−ナフチルメチル基、
２−ナフチルメチル基、１−ナフチルエチル基、２−ナ
フチルエチル基等がある。
【００３０】一般式（IＶ）及び（Ｖ）中のＲ1の、置換
基を有していてもよい芳香族基としては、フェニル基、
２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４
−メトキシフェニル基、２−ベンジルオキシフェニル
基、３−ベンジルオキシフェニル基、４−ベンジルオキ
シフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェ
ニル基、４−メチルフェニル基、２−ブロモフェニル
基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、ビ
フェニル基、４−（４−メトキシフェニル）フェニル
基、４−（４−ベンジルオキシフェニル）フェニル基、
４−（４−メトキシフェニル）フェニル基、４−（４−
ブロモフェニル）フェニル基、１−ナフチル基、２−ナ
フチル基等がある。
基を有していてもよい芳香族基としては、フェニル基、
２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４
−メトキシフェニル基、２−ベンジルオキシフェニル
基、３−ベンジルオキシフェニル基、４−ベンジルオキ
シフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェ
ニル基、４−メチルフェニル基、２−ブロモフェニル
基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、ビ
フェニル基、４−（４−メトキシフェニル）フェニル
基、４−（４−ベンジルオキシフェニル）フェニル基、
４−（４−メトキシフェニル）フェニル基、４−（４−
ブロモフェニル）フェニル基、１−ナフチル基、２−ナ
フチル基等がある。
【００３１】一般式（Ｖ）のカルボン酸誘導体であっ
て、Ｘが水酸基であるカルボン酸の具体例としては、下
記の式（ｇ−１）〜式（ｇ−９）等の化合物がある。
て、Ｘが水酸基であるカルボン酸の具体例としては、下
記の式（ｇ−１）〜式（ｇ−９）等の化合物がある。
【化２５】
【００３２】一般式（Ｖ）のカルボン酸誘導体であっ
て、Ｘがハロゲン基であるカルボン酸ハライドの具体例
としては、下記の式（ｈ−１）〜式（ｈ−９）等の化合
物がある。
て、Ｘがハロゲン基であるカルボン酸ハライドの具体例
としては、下記の式（ｈ−１）〜式（ｈ−９）等の化合
物がある。
【００３３】
【化２６】
【００３４】上記縮合反応において、カルボン酸誘導体
としてカルボン酸を用いる場合は塩基性試剤と縮合試剤
を加える必要があり、カルボン酸誘導体としてカルボン
酸ハライドを用いる場合は塩基性試剤を加える必要があ
る。
としてカルボン酸を用いる場合は塩基性試剤と縮合試剤
を加える必要があり、カルボン酸誘導体としてカルボン
酸ハライドを用いる場合は塩基性試剤を加える必要があ
る。
【００３５】塩基性試剤としては、トリメチルアミン、
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の３
級アミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ン等の含窒素芳香族塩基類等がある。縮合試剤として
は、チオニルヨード、チオニルブロミド、チオニルクロ
リド、スルフリルヨード、スルフリルブロミド、スルフ
リルクロリド、オギザニルクロリド、ホスゲン、ホスゲ
ンダイマー、ホスゲントリマー、オキシ塩化燐等のハロ
ゲン化合物、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソ
プロピルカルボジイミド等のカルボジイミド類化合物等
がある。この縮合反応において、カルボン酸誘導体、塩
基性試剤、縮合試剤は、それぞれ一般式（ＩＩＩ）で表
される光学活性アシルメントンに対して１当量以上使用
するのが好ましい。
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の３
級アミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、
１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセ
ン等の含窒素芳香族塩基類等がある。縮合試剤として
は、チオニルヨード、チオニルブロミド、チオニルクロ
リド、スルフリルヨード、スルフリルブロミド、スルフ
リルクロリド、オギザニルクロリド、ホスゲン、ホスゲ
ンダイマー、ホスゲントリマー、オキシ塩化燐等のハロ
ゲン化合物、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソ
プロピルカルボジイミド等のカルボジイミド類化合物等
がある。この縮合反応において、カルボン酸誘導体、塩
基性試剤、縮合試剤は、それぞれ一般式（ＩＩＩ）で表
される光学活性アシルメントンに対して１当量以上使用
するのが好ましい。
【００３６】縮合反応の溶媒は、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘ
キサン、ペンタン等のアルカン系溶媒、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム等のハロゲン系溶媒がある。縮合反応の温度
は、０℃から溶媒の還流温度までが一般に使用される。
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘ
キサン、ペンタン等のアルカン系溶媒、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム等のハロゲン系溶媒がある。縮合反応の温度
は、０℃から溶媒の還流温度までが一般に使用される。
【００３７】一般式（IＶ）で表される化合物の具体例
としては、下記の式（ｉ−１）〜式（ｉ−９）等の化合
物又はそれらの鏡像体がある。
としては、下記の式（ｉ−１）〜式（ｉ−９）等の化合
物又はそれらの鏡像体がある。
【化２７】
【００３８】
【化２８】
【００３９】本発明の光学活性２−（２−置換アシル）
メントピラゾール誘導体又はその鏡像体は、化２９［一
般式（ＶI）］
メントピラゾール誘導体又はその鏡像体は、化２９［一
般式（ＶI）］
【化２９】 〔ただし、一般式（ＶI）中、Ａｒは置換基を有してい
てもよい芳香族基を示し、Ｒ1は置換基を有していても
よいアルキル基、又は置換基を有していてもよい芳香族
基を示し、Ｒ2は置換基を有していてもよいアルキル基
を示す。〕で表される化合物又はその鏡像体である。
てもよい芳香族基を示し、Ｒ1は置換基を有していても
よいアルキル基、又は置換基を有していてもよい芳香族
基を示し、Ｒ2は置換基を有していてもよいアルキル基
を示す。〕で表される化合物又はその鏡像体である。
【００４０】一般式（ＶI）中のＡｒ及びＲ1は、先に一
般式（IＶ）において述べたものと同じである。
般式（IＶ）において述べたものと同じである。
【００４１】一般式（ＶI）中のＲ2としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、１−メチルプロピル基、イソブチル基、ターシャリ
ーブチル基、ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メ
チルブチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、１−メチ
ルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペン
チル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、１−メチルヘキ
シル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル
基、４−メチルヘキシル基、イソヘプチル基、オクチル
基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３
−メチルヘプチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチ
ルヘプチル基、イソオクチル基、フェニルメチル基、２
−メトキシフェニルメチル基、３−メトキシフェニルメ
チル基、４−メトキシフェニルメチル基、２−ベンジル
オキシフェニルメチル基、３−ベンジルオキシフェニル
メチル基、４−ベンジルオキシフェニルメチル基、２−
メチルフェニルメチル基、３−メチルフェニルメチル
基、４−メチルフェニルメチル基、２−ブロモフェニル
メチル基、３−ブロモフェニルメチル基、４−ブロモフ
ェニルメチル基、１−フェニルエチル基、２−フェニル
エチル基、１−（４−メトキシフェニル）エチル基、２
−（４−メトキシフェニル）エチル基、１−（４−ベン
ジルオキシフェニル）エチル基、２−（４−ベンジルオ
キシフェニル）エチル基、１−（４−メチルフェニル）
エチル基、２−（４−メチルフェニル）エチル基、１−
（４−ブロモフェニル）エチル基、２−（４−ブロモフ
ェニル）エチル基、ビフェニルメチル基、４−（４−メ
トキシフェニル）フェニルメチル基、４−（４−ベンジ
ルオキシフェニル）フェニルメチル基、４−（４−メト
キシフェニル）フェニルメチル基、４−（４−ブロモフ
ェニル）フェニルメチル基、ビフェニルエチル基、４−
（４−メトキシフェニル）フェニルエチル基、４−（４
−ベンジルオキシフェニル）フェニルエチル基、４−
（４−メチルフェニル）フェニルエチル基、４−（４−
ブロモフェニル）フェニルエチル基、１−ナフチルメチ
ル基、２−ナフチルメチル基、１−ナフチルエチル基、
２−ナフチルエチル基等がある。
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、１−メチルプロピル基、イソブチル基、ターシャリ
ーブチル基、ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メ
チルブチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、１−メチ
ルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペン
チル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、１−メチルヘキ
シル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル
基、４−メチルヘキシル基、イソヘプチル基、オクチル
基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３
−メチルヘプチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチ
ルヘプチル基、イソオクチル基、フェニルメチル基、２
−メトキシフェニルメチル基、３−メトキシフェニルメ
チル基、４−メトキシフェニルメチル基、２−ベンジル
オキシフェニルメチル基、３−ベンジルオキシフェニル
メチル基、４−ベンジルオキシフェニルメチル基、２−
メチルフェニルメチル基、３−メチルフェニルメチル
基、４−メチルフェニルメチル基、２−ブロモフェニル
メチル基、３−ブロモフェニルメチル基、４−ブロモフ
ェニルメチル基、１−フェニルエチル基、２−フェニル
エチル基、１−（４−メトキシフェニル）エチル基、２
−（４−メトキシフェニル）エチル基、１−（４−ベン
ジルオキシフェニル）エチル基、２−（４−ベンジルオ
キシフェニル）エチル基、１−（４−メチルフェニル）
エチル基、２−（４−メチルフェニル）エチル基、１−
（４−ブロモフェニル）エチル基、２−（４−ブロモフ
ェニル）エチル基、ビフェニルメチル基、４−（４−メ
トキシフェニル）フェニルメチル基、４−（４−ベンジ
ルオキシフェニル）フェニルメチル基、４−（４−メト
キシフェニル）フェニルメチル基、４−（４−ブロモフ
ェニル）フェニルメチル基、ビフェニルエチル基、４−
（４−メトキシフェニル）フェニルエチル基、４−（４
−ベンジルオキシフェニル）フェニルエチル基、４−
（４−メチルフェニル）フェニルエチル基、４−（４−
ブロモフェニル）フェニルエチル基、１−ナフチルメチ
ル基、２−ナフチルメチル基、１−ナフチルエチル基、
２−ナフチルエチル基等がある。
【００４２】一般式（ＶI）で表される化合物は、前記
の一般式（IＶ）の光学活性２−アシルメントピラゾー
ル誘導体又はその鏡像体を、金属塩形成試剤とハロゲン
化アルキルで処理し、増炭する方法で製造できる。
の一般式（IＶ）の光学活性２−アシルメントピラゾー
ル誘導体又はその鏡像体を、金属塩形成試剤とハロゲン
化アルキルで処理し、増炭する方法で製造できる。
【００４３】金属塩形成試剤としては、水素化ナトリウ
ム、水素化リチウム、水素化カリウム等の金属水素化
物、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムイソプロ
ピルシクロヘキシルアミド、リチウムビス（トリメチル
シリル）アミド、ソディウムビス（トリメチルシリル）
アミド等の金属アミド等があり、金属アミドを使用する
ことが好ましい。これは、一般式（IＶ）の光学活性ア
シルメントンに対して１当量以上で使用されるのが好ま
しい。
ム、水素化リチウム、水素化カリウム等の金属水素化
物、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムイソプロ
ピルシクロヘキシルアミド、リチウムビス（トリメチル
シリル）アミド、ソディウムビス（トリメチルシリル）
アミド等の金属アミド等があり、金属アミドを使用する
ことが好ましい。これは、一般式（IＶ）の光学活性ア
シルメントンに対して１当量以上で使用されるのが好ま
しい。
【００４４】ハロゲン化アルキルとしては、ヨウ化アル
キル、臭化アルキル、塩化アルキル等がある。ここで、
アルキルとしては、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、１−メチルプロピル、イソブチル、タ
ーシャリーブチル、ペンチル、１−メチルブチル、２−
メチルブチル、イソペンチル、ヘキシル、１−メチルペ
ンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、イ
ソヘキシル、ヘプチル、１−メチルヘキシル、２−メチ
ルヘキシル、３−メチルヘキシル、４−メチルヘキシ
ル、イソヘプチル、オクチル、１−メチルヘプチル、２
−メチルヘプチル、３−メチルヘプチル、４−メチルヘ
プチル、５−メチルヘプチル、イソオクチル、フェニル
メチル基、２−メトキシフェニルメチル基、３−メトキ
シフェニルメチル基、４−メトキシフェニルメチル基、
２−ベンジルオキシフェニルメチル基、３−ベンジルオ
キシフェニルメチル基、４−ベンジルオキシフェニルメ
チル基、２−メチルフェニルメチル基、３−メチルフェ
ニルメチル基、４−メチルフェニルメチル基、２−ブロ
モフェニルメチル基、３−ブロモフェニルメチル基、４
−ブロモフェニルメチル基、１−フェニルエチル基、２
−フェニルエチル基、１−（４−メトキシフェニル）エ
チル基、２−（４−メトキシフェニル）エチル基、１−
（４−ベンジルオキシフェニル）エチル基、２−（４−
ベンジルオキシフェニル）エチル基、１−（４−メチル
フェニル）エチル基、２−（４−メチルフェニル）エチ
ル基、１−（４−ブロモフェニル）エチル基、２−（４
−ブロモフェニル）エチル基、ビフェニルメチル基、４
−（４−メトキシフェニル）フェニルメチル基、４−
（４−ベンジルオキシフェニル）フェニルメチル基、４
−（４−メトキシフェニル）フェニルメチル基、４−
（４−ブロモフェニル）フェニルメチル基、ビフェニル
エチル基、４−（４−メトキシフェニル）フェニルエチ
ル基、４−（４−ベンジルオキシフェニル）フェニルエ
チル基、４−（４−メチルフェニル）フェニルエチル
基、４−（４−ブロモフェニル）フェニルエチル基、１
−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、１−ナフ
チルエチル基、２−ナフチルエチル基等がある。これ
は、一般式（ＩＶ）で表される光学活性メントンに対し
て１当量以上で使用されるのが好ましい。
キル、臭化アルキル、塩化アルキル等がある。ここで、
アルキルとしては、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、１−メチルプロピル、イソブチル、タ
ーシャリーブチル、ペンチル、１−メチルブチル、２−
メチルブチル、イソペンチル、ヘキシル、１−メチルペ
ンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、イ
ソヘキシル、ヘプチル、１−メチルヘキシル、２−メチ
ルヘキシル、３−メチルヘキシル、４−メチルヘキシ
ル、イソヘプチル、オクチル、１−メチルヘプチル、２
−メチルヘプチル、３−メチルヘプチル、４−メチルヘ
プチル、５−メチルヘプチル、イソオクチル、フェニル
メチル基、２−メトキシフェニルメチル基、３−メトキ
シフェニルメチル基、４−メトキシフェニルメチル基、
２−ベンジルオキシフェニルメチル基、３−ベンジルオ
キシフェニルメチル基、４−ベンジルオキシフェニルメ
チル基、２−メチルフェニルメチル基、３−メチルフェ
ニルメチル基、４−メチルフェニルメチル基、２−ブロ
モフェニルメチル基、３−ブロモフェニルメチル基、４
−ブロモフェニルメチル基、１−フェニルエチル基、２
−フェニルエチル基、１−（４−メトキシフェニル）エ
チル基、２−（４−メトキシフェニル）エチル基、１−
（４−ベンジルオキシフェニル）エチル基、２−（４−
ベンジルオキシフェニル）エチル基、１−（４−メチル
フェニル）エチル基、２−（４−メチルフェニル）エチ
ル基、１−（４−ブロモフェニル）エチル基、２−（４
−ブロモフェニル）エチル基、ビフェニルメチル基、４
−（４−メトキシフェニル）フェニルメチル基、４−
（４−ベンジルオキシフェニル）フェニルメチル基、４
−（４−メトキシフェニル）フェニルメチル基、４−
（４−ブロモフェニル）フェニルメチル基、ビフェニル
エチル基、４−（４−メトキシフェニル）フェニルエチ
ル基、４−（４−ベンジルオキシフェニル）フェニルエ
チル基、４−（４−メチルフェニル）フェニルエチル
基、４−（４−ブロモフェニル）フェニルエチル基、１
−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、１−ナフ
チルエチル基、２−ナフチルエチル基等がある。これ
は、一般式（ＩＶ）で表される光学活性メントンに対し
て１当量以上で使用されるのが好ましい。
【００４５】増炭処理の溶媒としては、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶
媒、ヘキサン、ペンタン等のアルカン系溶媒、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
等のアミド系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族系溶媒などが使用できるが、エーテル系溶媒、特
にテトラヒドロフランが好ましい。
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶
媒、ヘキサン、ペンタン等のアルカン系溶媒、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
等のアミド系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族系溶媒などが使用できるが、エーテル系溶媒、特
にテトラヒドロフランが好ましい。
【００４６】増炭処理の温度としては特に制限はない
が、−７８℃から５０℃までが好ましい。増炭処理にお
いては、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ヘキサ
メチルホスホラストリアミド等の金属配位試剤を、一般
式（IＶ）で表される光学活性メントンに対して１当量
以上添加することが好ましい。
が、−７８℃から５０℃までが好ましい。増炭処理にお
いては、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ヘキサ
メチルホスホラストリアミド等の金属配位試剤を、一般
式（IＶ）で表される光学活性メントンに対して１当量
以上添加することが好ましい。
【００４７】上記増炭処理において、一般式（IＶ）の
化合物のＲ1基の代わりに、一般式（ＶI）の化合物のＲ
2基を導入した化３０［一般式（ＩＶ’）］の光学活性
２−アシルメントピラゾール誘導体へ、
化合物のＲ1基の代わりに、一般式（ＶI）の化合物のＲ
2基を導入した化３０［一般式（ＩＶ’）］の光学活性
２−アシルメントピラゾール誘導体へ、
【化３０】 Ｒ1基を導入する増炭反応により、下記の化３１［一般
式（ＶＩ’）］
式（ＶＩ’）］
【化３１】 で表される光学活性２−（２−置換アシル）メントピラ
ゾール誘導体又はその鏡像体を得ることができる。
ゾール誘導体又はその鏡像体を得ることができる。
【００４８】前記一般式（ＶＩ）及び（ＶＩ’）で表さ
れる化合物の具体例としては、下記の式（ｊ−１）〜式
（ｊ−１１）等の化合物又はそれらの鏡像体がある。
れる化合物の具体例としては、下記の式（ｊ−１）〜式
（ｊ−１１）等の化合物又はそれらの鏡像体がある。
【化３２】
【００４９】
【化３３】 本発明の光学活性カルボン酸誘導体は、化３４［一般式
（ＶIII）］
（ＶIII）］
【化３４】 〔ただし、一般式（ＶIII）中、Ａｒは置換基を有して
いてもよい芳香族基を示し、Ｒ1は置換基を有していて
もよいアルキル基又は置換基を有していてもよい芳香族
基を示し、Ｒ2は置換基を有していてもよいアルキル基
を示し、Ｒ3は水素、置換基を有していてもよいアルキ
ル又は芳香族基を示す。〕で表される化合物又はその鏡
像体である。
いてもよい芳香族基を示し、Ｒ1は置換基を有していて
もよいアルキル基又は置換基を有していてもよい芳香族
基を示し、Ｒ2は置換基を有していてもよいアルキル基
を示し、Ｒ3は水素、置換基を有していてもよいアルキ
ル又は芳香族基を示す。〕で表される化合物又はその鏡
像体である。
【００５０】一般式（ＶIII）の光学活性カルボン酸誘
導体は、酸性試剤の存在下で、一般式（ＶI）の光学活
性２−（２−置換）アシルメントピラゾール誘導体と、
一般式（ＶII）
導体は、酸性試剤の存在下で、一般式（ＶI）の光学活
性２−（２−置換）アシルメントピラゾール誘導体と、
一般式（ＶII）
【化３５】ＨＯ−Ｒ3 （ＶII） （ただし、式中、Ｒ3は水素、置換基を有していてもよ
いアルキルまたは置換基を有していてもよい芳香族基を
示す。）で表される化合物を反応させ、交換処理するこ
とにより製造できる。
いアルキルまたは置換基を有していてもよい芳香族基を
示す。）で表される化合物を反応させ、交換処理するこ
とにより製造できる。
【００５１】上記一般式（ＶII）で表される化合物の具
体例としては、水、アルキルアルコール類、マンデル酸
アルキル、乳酸アルキル等のアルコール類、フェノー
ル、アルキルフェノール、アルキルオキシフェノール、
４−（４−アルキルフェニル）フェノール、４−（４−
アルキルオキシフェニル）フェノール等のフェノール類
等がある。
体例としては、水、アルキルアルコール類、マンデル酸
アルキル、乳酸アルキル等のアルコール類、フェノー
ル、アルキルフェノール、アルキルオキシフェノール、
４−（４−アルキルフェニル）フェノール、４−（４−
アルキルオキシフェニル）フェノール等のフェノール類
等がある。
【００５２】ここで、アルキルとしては、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、１−
メチルプロピル基、イソブチル基、ターシャリーブチル
基、ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチ
ル基、イソペンチル基、ヘキシル基、１−メチルペンチ
ル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、
イソヘキシル基、ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、
２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メ
チルヘキシル基、イソヘプチル基、オクチル基、１−メ
チルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３−メチルヘ
プチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチルヘプチル
基、イソオクチル基、フェニルメチル基、２−メトキシ
フェニルメチル基、３−メトキシフェニルメチル基、４
−メトキシフェニルメチル基、２−ベンジルオキシフェ
ニルメチル基、３−ベンジルオキシフェニルメチル基、
４−ベンジルオキシフェニルメチル基、２−メチルフェ
ニルメチル基、３−メチルフェニルメチル基、４−メチ
ルフェニルメチル基、２−ブロモフェニルメチル基、３
−ブロモフェニルメチル基、４−ブロモフェニルメチル
基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、１
−（４−メトキシフェニル）エチル基、２−（４−メト
キシフェニル）エチル基、１−（４−ベンジルオキシフ
ェニル）エチル基、２−（４−ベンジルオキシフェニ
ル）エチル基、１−（４−メチルフェニル）エチル基、
２−（４−メチルフェニル）エチル基、１−（４−ブロ
モフェニル）エチル基、２−（４−ブロモフェニル）エ
チル基、ビフェニルメチル基、４−（４−メトキシフェ
ニル）フェニルメチル基、４−（４−ベンジルオキシフ
ェニル）フェニルメチル基、４−（４−メトキシフェニ
ル）フェニルメチル基、４−（４−ブロモフェニル）フ
ェニルメチル基、ビフェニルエチル基、４−（４−メト
キシフェニル）フェニルエチル基、４−（４−ベンジル
オキシフェニル）フェニルエチル基、４−（４−メチル
フェニル）フェニルエチル基、４−（４−ブロモフェニ
ル）フェニルエチル基、１−ナフチルメチル基、２−ナ
フチルメチル基、１−ナフチルエチル基、２−ナフチル
エチル基等がある。
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、１−
メチルプロピル基、イソブチル基、ターシャリーブチル
基、ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチ
ル基、イソペンチル基、ヘキシル基、１−メチルペンチ
ル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、
イソヘキシル基、ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、
２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メ
チルヘキシル基、イソヘプチル基、オクチル基、１−メ
チルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３−メチルヘ
プチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチルヘプチル
基、イソオクチル基、フェニルメチル基、２−メトキシ
フェニルメチル基、３−メトキシフェニルメチル基、４
−メトキシフェニルメチル基、２−ベンジルオキシフェ
ニルメチル基、３−ベンジルオキシフェニルメチル基、
４−ベンジルオキシフェニルメチル基、２−メチルフェ
ニルメチル基、３−メチルフェニルメチル基、４−メチ
ルフェニルメチル基、２−ブロモフェニルメチル基、３
−ブロモフェニルメチル基、４−ブロモフェニルメチル
基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、１
−（４−メトキシフェニル）エチル基、２−（４−メト
キシフェニル）エチル基、１−（４−ベンジルオキシフ
ェニル）エチル基、２−（４−ベンジルオキシフェニ
ル）エチル基、１−（４−メチルフェニル）エチル基、
２−（４−メチルフェニル）エチル基、１−（４−ブロ
モフェニル）エチル基、２−（４−ブロモフェニル）エ
チル基、ビフェニルメチル基、４−（４−メトキシフェ
ニル）フェニルメチル基、４−（４−ベンジルオキシフ
ェニル）フェニルメチル基、４−（４−メトキシフェニ
ル）フェニルメチル基、４−（４−ブロモフェニル）フ
ェニルメチル基、ビフェニルエチル基、４−（４−メト
キシフェニル）フェニルエチル基、４−（４−ベンジル
オキシフェニル）フェニルエチル基、４−（４−メチル
フェニル）フェニルエチル基、４−（４−ブロモフェニ
ル）フェニルエチル基、１−ナフチルメチル基、２−ナ
フチルメチル基、１−ナフチルエチル基、２−ナフチル
エチル基等がある。
【００５３】上記交換反応で用いる酸性試剤としては、
三ヨウ化ホウ素、三臭化ホウ素、三塩化ホウ素、三フッ
化ホウ素、三ヨウ化アルミニウム、三臭化アルミニウ
ム、三塩化アルミニウム、三フッ化アルミニウム、三ヨ
ウ化鉄、三臭化鉄、三塩化鉄、三フッ化鉄、二ヨウ化
鉄、二臭化鉄、二塩化鉄、二フッ化鉄、二ヨウ化錫、二
臭化錫、二塩化錫、二フッ化錫等のルイス酸性を有する
ハロゲン化金属、ヨウ化水素、臭化水素、塩化水素、フ
ッ化水素等のハロゲン化水素、ヨウ化水素酸、臭化水素
酸、塩化水素酸、フッ化水素酸、燐酸、ホウ酸、硫酸、
硝酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、シ
ュウ酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、クエン酸等の無機
酸または有機酸、ピリジニウムパラトルエンスルホネー
ト、ピリジニウムメタンスルホネート等のアンモニウム
スルホネート等がある。これら酸性試剤の使用量は特に
制限するものではないが、通常は触媒量を使用する。
三ヨウ化ホウ素、三臭化ホウ素、三塩化ホウ素、三フッ
化ホウ素、三ヨウ化アルミニウム、三臭化アルミニウ
ム、三塩化アルミニウム、三フッ化アルミニウム、三ヨ
ウ化鉄、三臭化鉄、三塩化鉄、三フッ化鉄、二ヨウ化
鉄、二臭化鉄、二塩化鉄、二フッ化鉄、二ヨウ化錫、二
臭化錫、二塩化錫、二フッ化錫等のルイス酸性を有する
ハロゲン化金属、ヨウ化水素、臭化水素、塩化水素、フ
ッ化水素等のハロゲン化水素、ヨウ化水素酸、臭化水素
酸、塩化水素酸、フッ化水素酸、燐酸、ホウ酸、硫酸、
硝酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、シ
ュウ酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、クエン酸等の無機
酸または有機酸、ピリジニウムパラトルエンスルホネー
ト、ピリジニウムメタンスルホネート等のアンモニウム
スルホネート等がある。これら酸性試剤の使用量は特に
制限するものではないが、通常は触媒量を使用する。
【００５４】交換反応の溶媒は、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘ
キサン、ペンタン等のアルカン系溶媒、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム等のハロゲン系溶媒等がある。また、一般式
（ＶII）で表される化合物として水あるいはアルキルア
ルコール類を用いる場合は、これらを溶媒として用いる
こともできる。反応温度は特に制限するものではない
が、通常は、溶媒の還流温度で行う。
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘ
キサン、ペンタン等のアルカン系溶媒、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム等のハロゲン系溶媒等がある。また、一般式
（ＶII）で表される化合物として水あるいはアルキルア
ルコール類を用いる場合は、これらを溶媒として用いる
こともできる。反応温度は特に制限するものではない
が、通常は、溶媒の還流温度で行う。
【００５５】前記一般式（ＶIII）で表される化合物の
具体例としては、式（ｋ−１）〜式（ｋ−１１）等の化
合物及びそれらの鏡像体がある。
具体例としては、式（ｋ−１）〜式（ｋ−１１）等の化
合物及びそれらの鏡像体がある。
【化３６】
【００５６】
【化３７】
【００５７】
【実施例】以下、参考例及び実施例により、本発明を更
に詳細に説明する。 〈参考例１〉ｌ−メントン ｌ−メントール７．８１ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）をジエ
チルエーテル４０．０ｍｌに溶解し、重クロム酸ナトリ
ウム二水和物６．０ｇ（２０．１ｍｍｏｌ）の濃硫酸３
０．０ｍｌ溶液を滴下して室温で２時間攪拌した。反応
液に蒸留水１００ｍｌを加えてジエチルエーテル計１０
０ｍｌで抽出した。有機層を飽和重炭酸ナトリウム水溶
液で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し
て得たオイル状残渣を減圧蒸留してｌ−メントン７．０
９ｇ（９２％）を得た。 沸点 ６７℃／４Ｔｏｒｒ 旋光度 ［α］D 20 −３１．１°（ｃ１、ＣＨＣｌ3）
に詳細に説明する。 〈参考例１〉ｌ−メントン ｌ−メントール７．８１ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）をジエ
チルエーテル４０．０ｍｌに溶解し、重クロム酸ナトリ
ウム二水和物６．０ｇ（２０．１ｍｍｏｌ）の濃硫酸３
０．０ｍｌ溶液を滴下して室温で２時間攪拌した。反応
液に蒸留水１００ｍｌを加えてジエチルエーテル計１０
０ｍｌで抽出した。有機層を飽和重炭酸ナトリウム水溶
液で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し
て得たオイル状残渣を減圧蒸留してｌ−メントン７．０
９ｇ（９２％）を得た。 沸点 ６７℃／４Ｔｏｒｒ 旋光度 ［α］D 20 −３１．１°（ｃ１、ＣＨＣｌ3）
【００５８】〈参考例２〉ｄ−メントン ｄ−メントール７．８１ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）をジエ
チルエーテル２０．０ｍｌに溶解し、重クロム酸ナトリ
ウム５．０ｇ（１６．８ｍｍｏｌ）の濃硫酸２５．０ｍ
ｌ溶液を滴下して室温で２時間攪拌した。反応液に蒸留
水１００ｍｌを加えてジエチルエーテル計１００ｍｌで
抽出した。有機層を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄
後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得たオ
イル状残渣を減圧蒸留してｌ−メントン７．４８ｇ（９
７％）を得た。 沸点 ６７℃／４Ｔｏｒｒ 旋光度 ［α］D 20 ３１．１°（ｃ１、ＣＨＣｌ3）
チルエーテル２０．０ｍｌに溶解し、重クロム酸ナトリ
ウム５．０ｇ（１６．８ｍｍｏｌ）の濃硫酸２５．０ｍ
ｌ溶液を滴下して室温で２時間攪拌した。反応液に蒸留
水１００ｍｌを加えてジエチルエーテル計１００ｍｌで
抽出した。有機層を飽和重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄
後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得たオ
イル状残渣を減圧蒸留してｌ−メントン７．４８ｇ（９
７％）を得た。 沸点 ６７℃／４Ｔｏｒｒ 旋光度 ［α］D 20 ３１．１°（ｃ１、ＣＨＣｌ3）
【００５９】光学活性アシルメントン誘導体［一般式
（Ｉ）］ 〈実施例１〉６−ベンゾイル−ｌ−メントン〔式（ｄ−
１）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２００ｍｌにジイソプロピルア
ミン８．００ｇ（７９ｍｍｏｌ）、塩化ブチル９．２６
ｇ（１００ｍｍｏｌ）及びリチウム１．１９ｇ（１７１
ｍｍｏｌ）を加え、超音波処理してリチウムジイソプロ
ピルアミド溶液を調製した。この溶液を−７８℃に冷却
後、ｌ−メントン６．１２ｇ（３９．７ｍｍｏｌ）の無
水テトラヒドロフラン１０ｍｌ溶液を滴下して３０分攪
拌した。得られた混合液にベンゾイルクロリド７．０３
ｇを滴下して室温で１時間攪拌した。反応液に蒸留水２
００ｍｌを加えてジエチルエーテル計２００ｍｌで抽出
した。有機層を１規定水酸化ナトリウム水溶液、飽和食
塩水、蒸留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮して得た残渣をヘキサンから再結晶して６
−ベンゾイル−ｌ−メントン６．４６ｇ（６３％）を得
た。
（Ｉ）］ 〈実施例１〉６−ベンゾイル−ｌ−メントン〔式（ｄ−
１）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２００ｍｌにジイソプロピルア
ミン８．００ｇ（７９ｍｍｏｌ）、塩化ブチル９．２６
ｇ（１００ｍｍｏｌ）及びリチウム１．１９ｇ（１７１
ｍｍｏｌ）を加え、超音波処理してリチウムジイソプロ
ピルアミド溶液を調製した。この溶液を−７８℃に冷却
後、ｌ−メントン６．１２ｇ（３９．７ｍｍｏｌ）の無
水テトラヒドロフラン１０ｍｌ溶液を滴下して３０分攪
拌した。得られた混合液にベンゾイルクロリド７．０３
ｇを滴下して室温で１時間攪拌した。反応液に蒸留水２
００ｍｌを加えてジエチルエーテル計２００ｍｌで抽出
した。有機層を１規定水酸化ナトリウム水溶液、飽和食
塩水、蒸留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮して得た残渣をヘキサンから再結晶して６
−ベンゾイル−ｌ−メントン６．４６ｇ（６３％）を得
た。
【００６０】融点 １３６−１３８℃ 旋光度 ［α］D 20 １６．４°（ｃ１、ＣＨＣｌ3）1 Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐｍ，ＣＤＣｌ
3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．８５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９１（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．４０〜１．６０（ｍ，２Ｈ），１．９８〜
２．１４（ｍ，３Ｈ），２．２５〜２．３４（ｍ，１
Ｈ），２．５１〜２．５５（ｍ，１Ｈ），４．０８
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１２Ｈｚ），７．３４〜７．５３
（ｍ，３Ｈ），７．８２〜７．８５（ｍ，２Ｈ）13 Ｃ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐｍ，ＣＤＣ
ｌ3，内部標準テトラメチルシラン） １８．５，２１．１，２１．１，２６．０，２８．０，
３３．４，３７．６，５６．８，６６．０，１２８．
０，１２８．６，１３２．９，１３８．１，１９８．
１，２０９．０ 元素分析 理論値：Ｃ；７９．０３％，Ｈ；８．５８％ 実験値：Ｃ；７８．９８％，Ｈ；８．６１％
3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．８５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９１（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．４０〜１．６０（ｍ，２Ｈ），１．９８〜
２．１４（ｍ，３Ｈ），２．２５〜２．３４（ｍ，１
Ｈ），２．５１〜２．５５（ｍ，１Ｈ），４．０８
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１２Ｈｚ），７．３４〜７．５３
（ｍ，３Ｈ），７．８２〜７．８５（ｍ，２Ｈ）13 Ｃ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐｍ，ＣＤＣ
ｌ3，内部標準テトラメチルシラン） １８．５，２１．１，２１．１，２６．０，２８．０，
３３．４，３７．６，５６．８，６６．０，１２８．
０，１２８．６，１３２．９，１３８．１，１９８．
１，２０９．０ 元素分析 理論値：Ｃ；７９．０３％，Ｈ；８．５８％ 実験値：Ｃ；７８．９８％，Ｈ；８．６１％
【００６１】〈実施例２〉６−ベンゾイル−ｄ−メント
ン 無水テトラヒドロフラン２００ｍｌにジイソプロピルア
ミン１０．１２ｇ（１００ｍｍｏｌ）、塩化ブチル１
８．５９ｇ（２００ｍｍｏｌ）及びリチウム１．２５ｇ
（１８０ｍｍｏｌ）を加え、超音波処理してリチウムジ
イソプロピルアミド溶液を調製した。この溶液を−７８
℃に冷却後、ｄ−メントン６．７７ｇ（４３．９ｍｍｏ
ｌ）の無水テトラヒドロフラン１０ｍｌ溶液を滴下して
３０分攪拌した。得られた混合液にベンゾイルクロリド
１４．０６ｇを滴下して室温で１時間攪拌した。反応液
に蒸留水２００ｍｌを加えてジエチルエーテル計２００
ｍｌで抽出した。有機層を１規定水酸化ナトリウム水溶
液、飽和食塩水、蒸留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をヘキサンから再
結晶して６−ベンゾイル−ｄ−メントン７．３７ｇ（６
５％）を得た。
ン 無水テトラヒドロフラン２００ｍｌにジイソプロピルア
ミン１０．１２ｇ（１００ｍｍｏｌ）、塩化ブチル１
８．５９ｇ（２００ｍｍｏｌ）及びリチウム１．２５ｇ
（１８０ｍｍｏｌ）を加え、超音波処理してリチウムジ
イソプロピルアミド溶液を調製した。この溶液を−７８
℃に冷却後、ｄ−メントン６．７７ｇ（４３．９ｍｍｏ
ｌ）の無水テトラヒドロフラン１０ｍｌ溶液を滴下して
３０分攪拌した。得られた混合液にベンゾイルクロリド
１４．０６ｇを滴下して室温で１時間攪拌した。反応液
に蒸留水２００ｍｌを加えてジエチルエーテル計２００
ｍｌで抽出した。有機層を１規定水酸化ナトリウム水溶
液、飽和食塩水、蒸留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をヘキサンから再
結晶して６−ベンゾイル−ｄ−メントン７．３７ｇ（６
５％）を得た。
【００６２】融点 １３６−１３８℃ 旋光度 ［α］D 20 −１６．４°（ｃ１、ＣＨＣｌ3）
【００６３】光学活性メントピラゾール誘導体［一般式
（III）］ 〈実施例３〉３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式
（ｆ−１）の化合物〕 メタノール５０ｍｌに６−ベンゾイル−ｌ−メントン
４．００ｇ（１５．５ｍｍｏｌ）及びヒドラジン一水和
物１．４１ｇ（２８．２ｍｍｏｌ）を溶解し、濃塩酸８
３μｌ（１ｍｍｏｌ）を加えて４時間還流した。反応液
を減圧濃縮して得た残渣をジエチルエーテル５０ｍｌに
溶解し、蒸留水で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧濃縮して得た残渣をヘキサンから再結晶して３
−フェニル−ｌ−メントピラゾール３．７０ｇ（９４
％）を得た。
（III）］ 〈実施例３〉３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式
（ｆ−１）の化合物〕 メタノール５０ｍｌに６−ベンゾイル−ｌ−メントン
４．００ｇ（１５．５ｍｍｏｌ）及びヒドラジン一水和
物１．４１ｇ（２８．２ｍｍｏｌ）を溶解し、濃塩酸８
３μｌ（１ｍｍｏｌ）を加えて４時間還流した。反応液
を減圧濃縮して得た残渣をジエチルエーテル５０ｍｌに
溶解し、蒸留水で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧濃縮して得た残渣をヘキサンから再結晶して３
−フェニル−ｌ−メントピラゾール３．７０ｇ（９４
％）を得た。
【００６４】融点 １２２．５−１２４℃ 旋光度 ［α］D 20 −１５８．５°（ｃ４．６、ＣＨ
Ｃｌ3）1 Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐｍ，ＣＤＣｌ
3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９７（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．１８〜１．３７（ｍ，２Ｈ），１．５０〜
１．６３（ｍ，１Ｈ），１．７７〜１．８８（ｍ，１
Ｈ），１．９９〜２．２２（ｍ，１Ｈ），２．５５〜
２．６５（ｍ，１Ｈ），２．９８〜３．１４（ｍ，１
Ｈ），７．２７〜７．３９（ｍ，３Ｈ），７．５７〜
７．６５（ｍ，２Ｈ），１１．２５（ｂｒｏａｄ ｄ，
１Ｈ）13 Ｃ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐｍ，ＣＤＣｌ
３，内部標準テトラメチルシラン） １８．３，２０．７，２０．８，２１．９，２７．１，
３０．３，３１．６，３９．７，１１８．７，１２７．
６，１２７．７，１２８．４，１３３．２，１４５．
４，１４６．７ 元素分析 理論値：Ｃ；８０．２７％，Ｈ；８．７２％，Ｎ；１
１．０１％ 実験値：Ｃ；８０．１８％，Ｈ；８．５６％，Ｎ；１
０．９５％
Ｃｌ3）1 Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐｍ，ＣＤＣｌ
3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．８１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９７（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．１８〜１．３７（ｍ，２Ｈ），１．５０〜
１．６３（ｍ，１Ｈ），１．７７〜１．８８（ｍ，１
Ｈ），１．９９〜２．２２（ｍ，１Ｈ），２．５５〜
２．６５（ｍ，１Ｈ），２．９８〜３．１４（ｍ，１
Ｈ），７．２７〜７．３９（ｍ，３Ｈ），７．５７〜
７．６５（ｍ，２Ｈ），１１．２５（ｂｒｏａｄ ｄ，
１Ｈ）13 Ｃ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐｍ，ＣＤＣｌ
３，内部標準テトラメチルシラン） １８．３，２０．７，２０．８，２１．９，２７．１，
３０．３，３１．６，３９．７，１１８．７，１２７．
６，１２７．７，１２８．４，１３３．２，１４５．
４，１４６．７ 元素分析 理論値：Ｃ；８０．２７％，Ｈ；８．７２％，Ｎ；１
１．０１％ 実験値：Ｃ；８０．１８％，Ｈ；８．５６％，Ｎ；１
０．９５％
【００６５】〈実施例４〉３−フェニル−ｄ−メントピ
ラゾール メタノール１５０ｍｌに６−ベンゾイル−ｄ−メントン
４．３１ｇ（１６。７ｍｍｏｌ）及びヒドラジン一水和
物２．５１ｇ（５０．１ｍｍｏｌ）を溶解し、濃塩酸２
５０μｌ（３ｍｍｏｌ）を加えて４時間還流した。反応
液を減圧濃縮して得た残渣をジエチルエーテル５０ｍｌ
に溶解し、蒸留水で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧濃縮して得た残渣をヘキサンから再結晶して
３−フェニル−ｄ−メントピラゾール４．０８ｇ（９６
％）を得た。
ラゾール メタノール１５０ｍｌに６−ベンゾイル−ｄ−メントン
４．３１ｇ（１６。７ｍｍｏｌ）及びヒドラジン一水和
物２．５１ｇ（５０．１ｍｍｏｌ）を溶解し、濃塩酸２
５０μｌ（３ｍｍｏｌ）を加えて４時間還流した。反応
液を減圧濃縮して得た残渣をジエチルエーテル５０ｍｌ
に溶解し、蒸留水で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧濃縮して得た残渣をヘキサンから再結晶して
３−フェニル−ｄ−メントピラゾール４．０８ｇ（９６
％）を得た。
【００６６】融点 １２２．５−１２４℃ 旋光度 ［α］D 20 １５８．５°（ｃ１、ＣＨＣｌ3）
【００６７】光学活性２−アシルメントピラゾール誘導
体［一般式（IＶ）］ 〈実施例５〉２−プロピオニル−３−フェニル−ｌ−メ
ントピラゾール〔式（ｉ−１）の化合物〕 無水ベンゼン１５０ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピ
ラゾール３．６１ｇ（１４．２ｍｍｏｌ）、トリエチル
アミン４．３１ｇ（４２．６ｍｍｏｌ）、プロピオン酸
１．４４ｇ（１９．４ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化チオニ
ル２．５３ｇ（２１．３ｍｍｏｌ）を０℃で加えて、室
温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水２００ｍｌを加え
て１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸留水
で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出
系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−プロ
ピオニル−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール１．１
５ｇ（２６％）を得た。
体［一般式（IＶ）］ 〈実施例５〉２−プロピオニル−３−フェニル−ｌ−メ
ントピラゾール〔式（ｉ−１）の化合物〕 無水ベンゼン１５０ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピ
ラゾール３．６１ｇ（１４．２ｍｍｏｌ）、トリエチル
アミン４．３１ｇ（４２．６ｍｍｏｌ）、プロピオン酸
１．４４ｇ（１９．４ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化チオニ
ル２．５３ｇ（２１．３ｍｍｏｌ）を０℃で加えて、室
温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水２００ｍｌを加え
て１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸留水
で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出
系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−プロ
ピオニル−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール１．１
５ｇ（２６％）を得た。
【００６８】1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐ
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９４（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．０８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．１６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．２０〜
１．３１（ｍ，１Ｈ），１．３６〜１．６５（ｍ，１
Ｈ），１．７６〜２．０６（ｍ，２Ｈ），２．２０〜
２．４８（ｍ，１Ｈ），２．５４〜２．６８（ｍ，１
Ｈ），２．７０〜２．８３（ｍ，１Ｈ），３．０４〜
３．２４（ｍ，２Ｈ），７．２５〜７．４６（ｍ，５
Ｈ） 元素分析 理論値：Ｃ；７７．３８％，Ｈ；８．４４％，Ｎ；９．
０２％ 実験値：Ｃ；７７．４３％，Ｈ；８．４０％，Ｎ；９．
１０％
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９４（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．０８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．１６（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．２０〜
１．３１（ｍ，１Ｈ），１．３６〜１．６５（ｍ，１
Ｈ），１．７６〜２．０６（ｍ，２Ｈ），２．２０〜
２．４８（ｍ，１Ｈ），２．５４〜２．６８（ｍ，１
Ｈ），２．７０〜２．８３（ｍ，１Ｈ），３．０４〜
３．２４（ｍ，２Ｈ），７．２５〜７．４６（ｍ，５
Ｈ） 元素分析 理論値：Ｃ；７７．３８％，Ｈ；８．４４％，Ｎ；９．
０２％ 実験値：Ｃ；７７．４３％，Ｈ；８．４０％，Ｎ；９．
１０％
【００６９】〈実施例６〉２−プロピオニル−３−フェ
ニル−ｌ−メントピラゾール 無水ベンゼン１５０ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピ
ラゾール４．００ｇ（１５．７ｍｍｏｌ）、トリエチル
アミン４．７７ｇ（４７．１ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化
プロピオニル２．９１ｇ（３１．４ｍｍｏｌ）を０℃で
加えて、室温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水２００
ｍｌを加えて１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩
酸、蒸留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製
して２−プロピオニル−３−フェニル−ｌ−メントピラ
ゾール４．２０ｇ（８６％）を得た。
ニル−ｌ−メントピラゾール 無水ベンゼン１５０ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピ
ラゾール４．００ｇ（１５．７ｍｍｏｌ）、トリエチル
アミン４．７７ｇ（４７．１ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化
プロピオニル２．９１ｇ（３１．４ｍｍｏｌ）を０℃で
加えて、室温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水２００
ｍｌを加えて１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩
酸、蒸留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製
して２−プロピオニル−３−フェニル−ｌ−メントピラ
ゾール４．２０ｇ（８６％）を得た。
【００７０】〈実施例７〉２−プロピオニル−３−フェ
ニル−ｄ−メントピラゾール 無水ベンゼン１００ｍｌに３−フェニル−ｄ−メントピ
ラゾール２．０４ｇ（８．０ｍｍｏｌ）、トリエチルア
ミン２．４３ｇ（２４．０ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化プ
ロピオニル１．４８ｇ（１６．０ｍｍｏｌ）を０℃で加
えて、室温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水１００ｍ
ｌを加えて１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩
酸、蒸留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製
して２−プロピオニル−３−フェニル−ｄ−メントピラ
ゾール２．１４ｇ（８６％）を得た。
ニル−ｄ−メントピラゾール 無水ベンゼン１００ｍｌに３−フェニル−ｄ−メントピ
ラゾール２．０４ｇ（８．０ｍｍｏｌ）、トリエチルア
ミン２．４３ｇ（２４．０ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化プ
ロピオニル１．４８ｇ（１６．０ｍｍｏｌ）を０℃で加
えて、室温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水１００ｍ
ｌを加えて１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩
酸、蒸留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製
して２−プロピオニル−３−フェニル−ｄ−メントピラ
ゾール２．１４ｇ（８６％）を得た。
【００７１】〈実施例８〉２−ブチリル−３−フェニル
−ｌ−メントピラゾール〔式（ｉ−２）の化合物〕 無水ベンゼン１００ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピ
ラゾール２．３７ｇ（９．３ｍｍｏｌ）、トリエチルア
ミン２．８３ｇ（２８ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化ブチリ
ル１．６３ｇ（１４．０ｍｍｏｌ）を０℃で加えて、室
温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水１００ｍｌを加え
て１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸留水
で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出
系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−ブチ
リル−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール２．６０ｇ
（８６％）を得た。
−ｌ−メントピラゾール〔式（ｉ−２）の化合物〕 無水ベンゼン１００ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピ
ラゾール２．３７ｇ（９．３ｍｍｏｌ）、トリエチルア
ミン２．８３ｇ（２８ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化ブチリ
ル１．６３ｇ（１４．０ｍｍｏｌ）を０℃で加えて、室
温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水１００ｍｌを加え
て１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸留水
で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出
系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−ブチ
リル−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール２．６０ｇ
（８６％）を得た。
【００７２】1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐ
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９１〜１．０
（ｍ，６Ｈ），１．０８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），
１．１８〜１．３１（ｍ，１Ｈ），１．４６〜１．６０
（ｍ，１Ｈ），１．６３〜１．７９（ｓｅｘｔ，２Ｈ，
Ｊ＝７Ｈｚ），１．８３〜１．９９（ｍ，２Ｈ），２．
３６〜２．４４（ｍ，１Ｈ），２．５８〜２．６６
（ｍ，１Ｈ），２．６８〜２．７９（ｍ，１Ｈ）２．９
６〜３．１９（ＡＢＸ２，２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ，Ｊ＝１５
Ｈｚ），７．２５〜７．４０（ｍ，５Ｈ）
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９１〜１．０
（ｍ，６Ｈ），１．０８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），
１．１８〜１．３１（ｍ，１Ｈ），１．４６〜１．６０
（ｍ，１Ｈ），１．６３〜１．７９（ｓｅｘｔ，２Ｈ，
Ｊ＝７Ｈｚ），１．８３〜１．９９（ｍ，２Ｈ），２．
３６〜２．４４（ｍ，１Ｈ），２．５８〜２．６６
（ｍ，１Ｈ），２．６８〜２．７９（ｍ，１Ｈ）２．９
６〜３．１９（ＡＢＸ２，２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ，Ｊ＝１５
Ｈｚ），７．２５〜７．４０（ｍ，５Ｈ）
【００７３】〈実施例９〉２−ブチリル−３−フェニル
−ｄ−メントピラゾール 無水ベンゼン１００ｍｌに３−フェニル−ｄ−メントピ
ラゾール２５４ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、トリエチルア
ミン３０４ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化ブチリ
ル２３３ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を０℃で加えて、室温で
２時間攪拌した。反応液に蒸留水１００ｍｌを加えて１
規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸留水で順
次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して
得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：
ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−ブチリル
−３−フェニル−ｄ−メントピラゾール２７２ｍｇ（８
４％）を得た。
−ｄ−メントピラゾール 無水ベンゼン１００ｍｌに３−フェニル−ｄ−メントピ
ラゾール２５４ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、トリエチルア
ミン３０４ｇ（３．０ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化ブチリ
ル２３３ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を０℃で加えて、室温で
２時間攪拌した。反応液に蒸留水１００ｍｌを加えて１
規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸留水で順
次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して
得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：
ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−ブチリル
−３−フェニル−ｄ−メントピラゾール２７２ｍｇ（８
４％）を得た。
【００７４】〈実施例１０〉２−バレリル−３−フェニ
ル−ｌ−メントピラゾール 無水ベンゼン５０ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピラ
ゾール２．００ｇ（７．９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミ
ン２．４１ｇ（２３．８ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化バレ
リル２．０６ｇ（１５．８ｍｍｏｌ）を０℃で加えて、
室温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水５０ｍｌを加え
て１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸留水
で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出
系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−バレ
リル−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール２．２９ｇ
（８６％）を得た。
ル−ｌ−メントピラゾール 無水ベンゼン５０ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピラ
ゾール２．００ｇ（７．９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミ
ン２．４１ｇ（２３．８ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化バレ
リル２．０６ｇ（１５．８ｍｍｏｌ）を０℃で加えて、
室温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水５０ｍｌを加え
て１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸留水
で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出
系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−バレ
リル−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール２．２９ｇ
（８６％）を得た。
【００７５】1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐ
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．８８〜０．９
５（ｍ，８Ｈ），１．０８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），
１．１０〜１．４５（ｍ，１Ｈ），１．４９（ｍ，１
Ｈ），１．６２〜１．７１（ｍ，２Ｈ），１．８５〜
１．９５（ｍ，２Ｈ），２．３９〜２．４２（ｍ，１
Ｈ），２．６０〜２．６４（ｍ，１Ｈ），２．７０〜
２．７５（ｍ，１Ｈ），２．９７〜３．２２（ＡＢＸ
２，２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ，Ｊ＝１５Ｈｚ），７．１９〜
７．３８（ｍ，５Ｈ）
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．８８〜０．９
５（ｍ，８Ｈ），１．０８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），
１．１０〜１．４５（ｍ，１Ｈ），１．４９（ｍ，１
Ｈ），１．６２〜１．７１（ｍ，２Ｈ），１．８５〜
１．９５（ｍ，２Ｈ），２．３９〜２．４２（ｍ，１
Ｈ），２．６０〜２．６４（ｍ，１Ｈ），２．７０〜
２．７５（ｍ，１Ｈ），２．９７〜３．２２（ＡＢＸ
２，２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ，Ｊ＝１５Ｈｚ），７．１９〜
７．３８（ｍ，５Ｈ）
【００７６】〈実施例１１〉２−イソバレリル−３−フ
ェニル−ｌ−メントピラゾール 無水ベンゼン５０ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピラ
ゾール１．９９ｇ（７．８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミ
ン２．４１ｇ（２３．８ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化イソ
バレリル２．０６ｇ（１５．８ｍｍｏｌ）を０℃で加え
て、室温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水５０ｍｌを
加えて１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸
留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２
−イソバレリル−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール
２．０４ｇ（７７％）を得た。
ェニル−ｌ−メントピラゾール 無水ベンゼン５０ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピラ
ゾール１．９９ｇ（７．８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミ
ン２．４１ｇ（２３．８ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化イソ
バレリル２．０６ｇ（１５．８ｍｍｏｌ）を０℃で加え
て、室温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水５０ｍｌを
加えて１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸
留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２
−イソバレリル−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール
２．０４ｇ（７７％）を得た。
【００７７】1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐ
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９３〜１．０
２（ｍ，１０Ｈ），１．０８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．１０〜１．３１（ｍ，１Ｈ），１．４５〜
１．６０（ｍ，１Ｈ），１．８３〜２．００（ｍ，１
Ｈ），２．１６〜２．２８（ｍ，１Ｈ），２．３６〜
２．４６（ｍ，１Ｈ），２．５８〜２．６６（ｍ，１
Ｈ），２．６８〜２．７９（ｍ，１Ｈ），２．９７（Ａ
ＢＸ２，２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ，Ｊ＝１５Ｈｚ），７．２５
〜７．４０（ｍ，５Ｈ）
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９３〜１．０
２（ｍ，１０Ｈ），１．０８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．１０〜１．３１（ｍ，１Ｈ），１．４５〜
１．６０（ｍ，１Ｈ），１．８３〜２．００（ｍ，１
Ｈ），２．１６〜２．２８（ｍ，１Ｈ），２．３６〜
２．４６（ｍ，１Ｈ），２．５８〜２．６６（ｍ，１
Ｈ），２．６８〜２．７９（ｍ，１Ｈ），２．９７（Ａ
ＢＸ２，２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ，Ｊ＝１５Ｈｚ），７．２５
〜７．４０（ｍ，５Ｈ）
【００７８】〈実施例１２〉２−（２−フェニルアセチ
ル）−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式（ｉ−
３）の化合物〕 無水ベンゼン２０ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピラ
ゾール２５４ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン
３０４ｍｇ（３．０ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化フェニル
アセチル３０９ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を０℃で加え
て、室温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水２０ｍｌを
加えて１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸
留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２
−（２−フェニルアセチル）−３−フェニル−ｌ−メン
トピラゾール１３４ｍｇ（３６％）を得た。
ル）−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式（ｉ−
３）の化合物〕 無水ベンゼン２０ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピラ
ゾール２５４ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン
３０４ｍｇ（３．０ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化フェニル
アセチル３０９ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を０℃で加え
て、室温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水２０ｍｌを
加えて１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸
留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２
−（２−フェニルアセチル）−３−フェニル−ｌ−メン
トピラゾール１３４ｍｇ（３６％）を得た。
【００７９】1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐ
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９４（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．１１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．１８〜１．３０（ｍ，１Ｈ），１．４４〜
１．５９（ｍ，１Ｈ），１．８６〜１．９８（ｍ，２
Ｈ），２．４５〜２．５１（ｍ，１Ｈ），２．６２〜
２．７４（ｍ，２Ｈ），４．４１(ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝
１５Ｈｚ)，７．１４〜７．６４（ｍ，１０Ｈ）
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９４（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．１１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．１８〜１．３０（ｍ，１Ｈ），１．４４〜
１．５９（ｍ，１Ｈ），１．８６〜１．９８（ｍ，２
Ｈ），２．４５〜２．５１（ｍ，１Ｈ），２．６２〜
２．７４（ｍ，２Ｈ），４．４１(ＡＢｑ，２Ｈ，Ｊ＝
１５Ｈｚ)，７．１４〜７．６４（ｍ，１０Ｈ）
【００８０】〈実施例１３〉２−（３−フェニルプロピ
オニル）−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式
（ｉ−８）の化合物〕 無水ベンゼン１５０ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピ
ラゾール２．８８ｇ（１１．３ｍｍｏｌ）、トリエチル
アミン３．４３ｇ（３３．９ｍｍｏｌ）、プロピオン酸
３．３９ｇ（２２．６ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化チオニ
ル４．０３ｇ（３３．９ｍｍｏｌ）を０℃で加えて、室
温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水２００ｍｌを加え
て１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸留水
で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出
系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−（３
−フェニルプロピオニル）−３−フェニル−ｌ−メント
ピラゾール３．７６ｇ（８６％）を得た。
オニル）−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式
（ｉ−８）の化合物〕 無水ベンゼン１５０ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピ
ラゾール２．８８ｇ（１１．３ｍｍｏｌ）、トリエチル
アミン３．４３ｇ（３３．９ｍｍｏｌ）、プロピオン酸
３．３９ｇ（２２．６ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化チオニ
ル４．０３ｇ（３３．９ｍｍｏｌ）を０℃で加えて、室
温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水２００ｍｌを加え
て１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸留水
で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出
系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−（３
−フェニルプロピオニル）−３−フェニル−ｌ−メント
ピラゾール３．７６ｇ（８６％）を得た。
【００８１】1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐ
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９２（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．０７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．２４（ｍ，１Ｈ），１．５２（ｍ，１Ｈ），
１．９１（ｍ，２Ｈ），２．４０（ｍ，１Ｈ），２．６
１(ｍ，１Ｈ)２．７４（ｍ，１Ｈ），３．００（ｔ，２
Ｈ），３．４３（ｍ，２Ｈ），７．３６（ｍ，１０Ｈ）
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９２（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．０７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．２４（ｍ，１Ｈ），１．５２（ｍ，１Ｈ），
１．９１（ｍ，２Ｈ），２．４０（ｍ，１Ｈ），２．６
１(ｍ，１Ｈ)２．７４（ｍ，１Ｈ），３．００（ｔ，２
Ｈ），３．４３（ｍ，２Ｈ），７．３６（ｍ，１０Ｈ）
【００８２】〈実施例１４〉２−［２−（１−ナフチ
ル）アセチル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール
〔式（ｉ−６）の化合物〕 無水ベンゼン２０ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピラ
ゾール２５４ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン
３０４ｍｇ（３．０ｍｍｏｌ）、１−ナフチル酢酸３７
２ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化チオニル３５
７ｍｇ（３．０ｍｍｏｌ）を０℃で加えて、室温で２時
間攪拌した。反応液に蒸留水２０ｍｌを加えて１規定水
酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸留水で順次洗浄
後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサ
ン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−［２−（１−ナ
フチル）アセチル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾ
ール１３９ｍｇ（３３％）を得た。
ル）アセチル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール
〔式（ｉ−６）の化合物〕 無水ベンゼン２０ｍｌに３−フェニル−ｌ−メントピラ
ゾール２５４ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン
３０４ｍｇ（３．０ｍｍｏｌ）、１−ナフチル酢酸３７
２ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化チオニル３５
７ｍｇ（３．０ｍｍｏｌ）を０℃で加えて、室温で２時
間攪拌した。反応液に蒸留水２０ｍｌを加えて１規定水
酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸留水で順次洗浄
後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサ
ン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−［２−（１−ナ
フチル）アセチル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾ
ール１３９ｍｇ（３３％）を得た。
【００８３】1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐ
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９７（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．１３（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．２５（ｍ，１Ｈ），１．５３（ｍ，１Ｈ），
１．９３（ｍ，２Ｈ），２．５３（ｍ，１Ｈ），２．７
１(ｍ，２Ｈ)４．７４（ｄ，１Ｈ），５．０４（ｄ，１
Ｈ），７．３７（ｍ，９Ｈ），７．７８（ｍ，２Ｈ），
８．１５（ｍ，１Ｈ）
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９７（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．１３（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．２５（ｍ，１Ｈ），１．５３（ｍ，１Ｈ），
１．９３（ｍ，２Ｈ），２．５３（ｍ，１Ｈ），２．７
１(ｍ，２Ｈ)４．７４（ｄ，１Ｈ），５．０４（ｄ，１
Ｈ），７．３７（ｍ，９Ｈ），７．７８（ｍ，２Ｈ），
８．１５（ｍ，１Ｈ）
【００８４】〈実施例１５〉２−ブチリル−３−（１−
ナフチル）−ｌ−メントピラゾール 無水ベンゼン３０ｍｌに３−（１−ナフチル）−ｌ−メ
ントピラゾール４５７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）、トリエチ
ルアミン４５５ｍｇ（４．５ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化
ブチリル２５７ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を０℃で加え
て、室温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水３０ｍｌを
加えて１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸
留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２
−ブチリル−３−（１−ナフチル）−ｌ−メントピラゾ
ール３４９ｍｇ（６２％）を得た。
ナフチル）−ｌ−メントピラゾール 無水ベンゼン３０ｍｌに３−（１−ナフチル）−ｌ−メ
ントピラゾール４５７ｇ（１．５ｍｍｏｌ）、トリエチ
ルアミン４５５ｍｇ（４．５ｍｍｏｌ）を溶解し、塩化
ブチリル２５７ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を０℃で加え
て、室温で２時間攪拌した。反応液に蒸留水３０ｍｌを
加えて１規定水酸化ナトリウム水溶液、１規定塩酸、蒸
留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２
−ブチリル−３−（１−ナフチル）−ｌ−メントピラゾ
ール３４９ｍｇ（６２％）を得た。
【００８５】光学活性２−（２−置換アシル）メントピ
ラゾール誘導体〔一般式（ＶI）〕 〈実施例１６〉２−［（Ｓ）−２−メチルブチリル］−
３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式（ｊ−２）の
化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４０５ｍｇ（４．０ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−プロピオニル−３−フェニルメント−ｌ−ピ
ラゾール６２１ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え０℃で攪
拌した。１時間後反応液にヨウ化エチル１．２５ｇ
（８．０ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反
応液に酢酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼ
ン＝２／１）で精製して２−［（Ｓ）−２−メチルブチ
リル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール４６７ｍ
ｇ（６９％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペ
クトルで測定したところ６１.３％ｅｅであった。
ラゾール誘導体〔一般式（ＶI）〕 〈実施例１６〉２−［（Ｓ）−２−メチルブチリル］−
３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式（ｊ−２）の
化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４０５ｍｇ（４．０ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−プロピオニル−３−フェニルメント−ｌ−ピ
ラゾール６２１ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え０℃で攪
拌した。１時間後反応液にヨウ化エチル１．２５ｇ
（８．０ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反
応液に酢酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼ
ン＝２／１）で精製して２−［（Ｓ）−２−メチルブチ
リル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール４６７ｍ
ｇ（６９％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペ
クトルで測定したところ６１.３％ｅｅであった。
【００８６】1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐ
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．７０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．８８（ｔ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．０９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．２０
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．１５（ｍ，１Ｈ），
１．５１（ｍ，１Ｈ），１．７２（ｍ，１Ｈ），１．９
２（ｍ，２Ｈ），２．４２(ｍ，１Ｈ)２．６３（ｍ，１
Ｈ），２．７４（ｍ，１Ｈ），３．８６（ｍ，１Ｈ），
７．３４（ｍ，５Ｈ）
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．７０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．８８（ｔ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．０９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．２０
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．１５（ｍ，１Ｈ），
１．５１（ｍ，１Ｈ），１．７２（ｍ，１Ｈ），１．９
２（ｍ，２Ｈ），２．４２(ｍ，１Ｈ)２．６３（ｍ，１
Ｈ），２．７４（ｍ，１Ｈ），３．８６（ｍ，１Ｈ），
７．３４（ｍ，５Ｈ）
【００８７】〈実施例１７〉２−［（Ｒ）−２−メチル
ブチリル］−３−フェニル−ｄ−メントピラゾール 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４０５ｍｇ（４．０ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−プロピオニル−３−フェニル−ｄ−メントピ
ラゾール６２１ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え０℃で攪
拌した。１時間後反応液にヨウ化エチル１．２９ｇ
（８．３ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反
応液に酢酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼ
ン＝２／１）で精製して２−［（Ｒ）−２−メチルブチ
リル］−３−フェニル−ｄ−メントピラゾール３８６ｍ
ｇ（５７％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペ
クトルで測定したところ６３．２％ｅｅであった。
ブチリル］−３−フェニル−ｄ−メントピラゾール 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４０５ｍｇ（４．０ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−プロピオニル−３−フェニル−ｄ−メントピ
ラゾール６２１ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え０℃で攪
拌した。１時間後反応液にヨウ化エチル１．２９ｇ
（８．３ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反
応液に酢酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼ
ン＝２／１）で精製して２−［（Ｒ）−２−メチルブチ
リル］−３−フェニル−ｄ−メントピラゾール３８６ｍ
ｇ（５７％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペ
クトルで測定したところ６３．２％ｅｅであった。
【００８８】〈実施例１８〉２−［（Ｒ）−２−メチル
ブチリル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式
（ｊ−１）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４１５ｍｇ（４．１ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−ブチリル−３−フェニル−ｌ−メントピラゾ
ール６４９ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え０℃で攪拌し
た。１時間後反応液にヨウ化メチル１．１４ｇ（８．０
ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反応液に酢
酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／
１）で精製して２−［（Ｒ）−２−メチルブチリル］−
３−フェニル−ｌ−メントピラゾール４５４ｍｇ（６７
％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで
測定したところ５９．６％ｅｅであった。
ブチリル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式
（ｊ−１）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４１５ｍｇ（４．１ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−ブチリル−３−フェニル−ｌ−メントピラゾ
ール６４９ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え０℃で攪拌し
た。１時間後反応液にヨウ化メチル１．１４ｇ（８．０
ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反応液に酢
酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／
１）で精製して２−［（Ｒ）−２−メチルブチリル］−
３−フェニル−ｌ−メントピラゾール４５４ｍｇ（６７
％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで
測定したところ５９．６％ｅｅであった。
【００８９】〈実施例１９〉２−［（Ｒ）−２−メチル
ブチリル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式
（ｊ−１）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌに２−ブチリル−３−
フェニル−ｌ−メントピラゾール６４９ｇ（２．０ｍｍ
ｏｌ）とヘキサメチルホスホリックトリアミド２ｍｌ
（１１．５ｍｍｏｌ）を溶解し、リチウムビス（トリメ
チルシリル）アミド３．０ｍｍｏｌを−７８℃で加え攪
拌した。反応液にヨウ化メチル１．１４ｇ（８．０ｍｍ
ｏｌ）を加えて、室温で１時間攪拌した。反応液に０℃
で酢酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝
２／１）で精製して２−［（Ｒ）−２−メチルブチリ
ル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール５９６ｍｇ
（８８％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペク
トルで測定したところ７０．０％ｅｅであった。
ブチリル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式
（ｊ−１）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌに２−ブチリル−３−
フェニル−ｌ−メントピラゾール６４９ｇ（２．０ｍｍ
ｏｌ）とヘキサメチルホスホリックトリアミド２ｍｌ
（１１．５ｍｍｏｌ）を溶解し、リチウムビス（トリメ
チルシリル）アミド３．０ｍｍｏｌを−７８℃で加え攪
拌した。反応液にヨウ化メチル１．１４ｇ（８．０ｍｍ
ｏｌ）を加えて、室温で１時間攪拌した。反応液に０℃
で酢酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝
２／１）で精製して２−［（Ｒ）−２−メチルブチリ
ル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール５９６ｍｇ
（８８％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペク
トルで測定したところ７０．０％ｅｅであった。
【００９０】〈実施例２０〉２−［（Ｒ）−２−メチル
ブチリル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式
（ｊ−１）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４１５ｍｇ（４．１ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−ブチリル−３−フェニル−ｌ−メントピラゾ
ール６１７ｇ（１．９ｍｍｏｌ）を加え０℃で攪拌し
た。１時間後反応液にヨウ化メチル１．１８ｇ（８．３
ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反応液に酢
酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／
１）で精製して２−［（Ｒ）−２−メチルブチリル］−
３−フェニル−ｌ−メントピラゾール４６３ｍｇ（７２
％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで
測定したところ８０．８％ｅｅであった。
ブチリル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式
（ｊ−１）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４１５ｍｇ（４．１ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−ブチリル−３−フェニル−ｌ−メントピラゾ
ール６１７ｇ（１．９ｍｍｏｌ）を加え０℃で攪拌し
た。１時間後反応液にヨウ化メチル１．１８ｇ（８．３
ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反応液に酢
酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／
１）で精製して２−［（Ｒ）−２−メチルブチリル］−
３−フェニル−ｌ−メントピラゾール４６３ｍｇ（７２
％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで
測定したところ８０．８％ｅｅであった。
【００９１】〈実施例２１〉２−［（Ｓ）−２−メチル
ブチリル］−３−フェニル−ｄ−メントピラゾール 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４１５ｍｇ（４．１ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−ブチリル−３−フェニル−ｄ−メントピラゾ
ール６４９ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え０℃で攪拌し
た。１時間後反応液にヨウ化メチル１．１４ｇ（８．０
ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反応液に酢
酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／
１）で精製して２−［（Ｓ）−２−メチルブチリル］−
３−フェニル−ｄ−メントピラゾール４０６ｍｇ（６０
％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで
測定したところ６６．５％ｅｅであった。
ブチリル］−３−フェニル−ｄ−メントピラゾール 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４１５ｍｇ（４．１ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−ブチリル−３−フェニル−ｄ−メントピラゾ
ール６４９ｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え０℃で攪拌し
た。１時間後反応液にヨウ化メチル１．１４ｇ（８．０
ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反応液に酢
酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／
１）で精製して２−［（Ｓ）−２−メチルブチリル］−
３−フェニル−ｄ−メントピラゾール４０６ｍｇ（６０
％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで
測定したところ６６．５％ｅｅであった。
【００９２】〈実施例２２〉２−［（Ｒ）−２−メチル
バレリル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式
（ｊ−４）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４２５ｍｇ（４．２ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−バレリル−３−フェニル−ｌ−メントピラゾ
ール６７７ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え０℃で攪拌し
た。１時間後反応液にヨウ化メチル１．２５ｇ（８．０
ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反応液に酢
酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／
１）で精製して２−［（Ｒ）−２−メチルバレリル］−
３−フェニル−ｌ−メントピラゾール５０８ｍｇ（７２
％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで
測定したところ７０．０％ｅｅであった。
バレリル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール〔式
（ｊ−４）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４２５ｍｇ（４．２ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−バレリル−３−フェニル−ｌ−メントピラゾ
ール６７７ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を加え０℃で攪拌し
た。１時間後反応液にヨウ化メチル１．２５ｇ（８．０
ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反応液に酢
酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／
１）で精製して２−［（Ｒ）−２−メチルバレリル］−
３−フェニル−ｌ−メントピラゾール５０８ｍｇ（７２
％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで
測定したところ７０．０％ｅｅであった。
【００９３】〈実施例２３〉２−［（Ｒ）−２−メチル
イソバレリル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール
〔式（ｊ−３）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４１５ｍｇ（４．１ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−イソバレリル−３−フェニル−ｌ−メントピ
ラゾール６０９ｍｇ（１．９ｍｍｏｌ）を加え０℃で攪
拌した。１時間後反応液にヨウ化メチル１．３９ｇ
（９．８ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反
応液に酢酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼ
ン＝２／１）で精製して２−［（Ｒ）−２−メチルイソ
バレリル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール２６
６ｍｇ（４２％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴
スペクトルで測定したところ１００．０％ｅｅであっ
た。
イソバレリル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール
〔式（ｊ−３）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４１５ｍｇ（４．１ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−イソバレリル−３−フェニル−ｌ−メントピ
ラゾール６０９ｍｇ（１．９ｍｍｏｌ）を加え０℃で攪
拌した。１時間後反応液にヨウ化メチル１．３９ｇ
（９．８ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪拌した。反
応液に酢酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄後無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼ
ン＝２／１）で精製して２−［（Ｒ）−２−メチルイソ
バレリル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール２６
６ｍｇ（４２％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴
スペクトルで測定したところ１００．０％ｅｅであっ
た。
【００９４】〈実施例２４〉２−［（Ｒ）−２−フェニ
ルプロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾー
ル〔式（ｊ−５）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４２５ｍｇ（４．２ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−（２−フェニルアセチル）−３−フェニル−
ｌ−メントピラゾール７４５ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を
加え０℃で攪拌した。１時間後反応液にヨウ化エチル
１．３５ｇ（９．５ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪
拌した。反応液に酢酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄
後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサ
ン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−［（Ｒ）−２−
フェニルプロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メントピ
ラゾール３６３ｍｇ（４７％）を得た。光学純度を1Ｈ
−核磁気共鳴スペクトルで測定したところ１００．０％
ｅｅであった。
ルプロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾー
ル〔式（ｊ−５）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４２５ｍｇ（４．２ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−（２−フェニルアセチル）−３−フェニル−
ｌ−メントピラゾール７４５ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を
加え０℃で攪拌した。１時間後反応液にヨウ化エチル
１．３５ｇ（９．５ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間攪
拌した。反応液に酢酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗浄
後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得た残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘキサ
ン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−［（Ｒ）−２−
フェニルプロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メントピ
ラゾール３６３ｍｇ（４７％）を得た。光学純度を1Ｈ
−核磁気共鳴スペクトルで測定したところ１００．０％
ｅｅであった。
【００９５】1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐ
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．７５（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．０１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．２１（ｍ，１Ｈ），１．４１（ｍ，１Ｈ），
１．５０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．８６（ｍ，２
Ｈ），２．４２（ｍ，１Ｈ），２．６２（ｍ，１Ｈ），
５．２２（ｑ，１Ｈ， Ｊ＝７Ｈｚ），７．３４（ｍ，
５Ｈ）
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．６７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．７５（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．０１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．２１（ｍ，１Ｈ），１．４１（ｍ，１Ｈ），
１．５０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．８６（ｍ，２
Ｈ），２．４２（ｍ，１Ｈ），２．６２（ｍ，１Ｈ），
５．２２（ｑ，１Ｈ， Ｊ＝７Ｈｚ），７．３４（ｍ，
５Ｈ）
【００９６】〈実施例２５〉２−［（Ｒ）−２−フェニ
ルプロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾー
ル〔式（ｊ−５）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌに２−（２−フェニル
アセチル）−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール７４
５ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）とヘキサメチルホスホリック
トリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏｌ）を溶解し、リチ
ウムビス（トリメチルシリル）アミド３．０ｍｍｏｌを
−７８℃で加え攪拌した。反応液にヨウ化メチル１．１
４ｇ（８．０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１時間攪拌し
た。反応液に０℃で酢酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗
浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得た
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘキ
サン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−［（Ｒ）−２
−フェニルプロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メント
ピラゾール３８６ｍｇ（５０％）を得た。光学純度を1
Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで測定したところ１００．０
％ｅｅであった。
ルプロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾー
ル〔式（ｊ−５）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌに２−（２−フェニル
アセチル）−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール７４
５ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）とヘキサメチルホスホリック
トリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏｌ）を溶解し、リチ
ウムビス（トリメチルシリル）アミド３．０ｍｍｏｌを
−７８℃で加え攪拌した。反応液にヨウ化メチル１．１
４ｇ（８．０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１時間攪拌し
た。反応液に０℃で酢酸を加えて酸性にし、蒸留水で洗
浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得た
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘキ
サン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−［（Ｒ）−２
−フェニルプロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メント
ピラゾール３８６ｍｇ（５０％）を得た。光学純度を1
Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで測定したところ１００．０
％ｅｅであった。
【００９７】〈実施例２６〉２−［（Ｒ）−２−フェニ
ルプロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾー
ル〔式（ｊ−５）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン１０ｍｌに水素化ナトリウム１
５．３ｍｇ（０．３８ｍｍｏｌ）を懸濁し、０℃で２−
（２−フェニルアセチル）−３−フェニル−ｌ−メント
ピラゾール９５ｍｇ（０．２６ｍｍｏｌ）を加えて５分
撹拌した。混合液にヘキサメチルホスホリックトリアミ
ド０．２ｍｌ（１．１５ｍｍｏｌ）を加え５分攪拌後、
反応液にヨウ化メチル４８μｌ（０．７７ｍｍｏｌ）を
加えて２０分攪拌した。反応液に飽和燐酸緩衝液を加
え、酢酸エチル２０ｍｌで抽出した。有機層を０．２Ｎ
塩酸と蒸留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製
して２−［（Ｒ）−２−フェニルプロピオニル］−３−
フェニル−ｌ−メントピラゾール８１ｍｇ（８２％）を
得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで測定し
たところ３８．０％ｅｅであった。
ルプロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾー
ル〔式（ｊ−５）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン１０ｍｌに水素化ナトリウム１
５．３ｍｇ（０．３８ｍｍｏｌ）を懸濁し、０℃で２−
（２−フェニルアセチル）−３−フェニル−ｌ−メント
ピラゾール９５ｍｇ（０．２６ｍｍｏｌ）を加えて５分
撹拌した。混合液にヘキサメチルホスホリックトリアミ
ド０．２ｍｌ（１．１５ｍｍｏｌ）を加え５分攪拌後、
反応液にヨウ化メチル４８μｌ（０．７７ｍｍｏｌ）を
加えて２０分攪拌した。反応液に飽和燐酸緩衝液を加
え、酢酸エチル２０ｍｌで抽出した。有機層を０．２Ｎ
塩酸と蒸留水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフ（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製
して２−［（Ｒ）−２−フェニルプロピオニル］−３−
フェニル−ｌ−メントピラゾール８１ｍｇ（８２％）を
得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで測定し
たところ３８．０％ｅｅであった。
【００９８】〈実施例２７〉２−［（Ｒ）−３−フェニ
ル−２−メチルプロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メ
ントピラゾール〔式（ｊ−９）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４０５ｍｇ（４．０ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ(４．２ｍｍｏｌ)を滴下
して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサメ
チルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−（３−フェニルプロピオニル）−３−フェニ
ル−ｌ−メントピラゾール６５７ｍｇ（１．７ｍｍｏ
ｌ）を加え０℃で攪拌した。１時間後反応液にヨウ化エ
チル１．２１ｇ（８．５ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時
間攪拌した。反応液に酢酸を加えて酸性にし、蒸留水で
洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘ
キサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−［（Ｒ）−
３−フェニル−２−メチルプロピオニル］−３−フェニ
ル−ｌ−メントピラゾール３６８ｍｇ（５４％）を得
た。光学純度を１Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで測定した
ところ１００．０％ｅｅであった。
ル−２−メチルプロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メ
ントピラゾール〔式（ｊ−９）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４０５ｍｇ（４．０ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ(４．２ｍｍｏｌ)を滴下
して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサメ
チルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−（３−フェニルプロピオニル）−３−フェニ
ル−ｌ−メントピラゾール６５７ｍｇ（１．７ｍｍｏ
ｌ）を加え０℃で攪拌した。１時間後反応液にヨウ化エ
チル１．２１ｇ（８．５ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時
間攪拌した。反応液に酢酸を加えて酸性にし、蒸留水で
洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘ
キサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−［（Ｒ）−
３−フェニル−２−メチルプロピオニル］−３−フェニ
ル−ｌ−メントピラゾール３６８ｍｇ（５４％）を得
た。光学純度を１Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで測定した
ところ１００．０％ｅｅであった。
【００９９】1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐ
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．７１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９５（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．１０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．１８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．２５
（ｍ，１Ｈ），１．５０（ｍ，１Ｈ），１．９２（ｍ，
２Ｈ），２．４７（ｍ，１Ｈ），２．６３（ｍ，２
Ｈ），２．７１（ｍ，１Ｈ），３．１４（ｍ，１Ｈ），
４．２１（ｍ，１Ｈ），７．３４（ｍ，１０Ｈ）
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．７１（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９５（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．１０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．１８（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．２５
（ｍ，１Ｈ），１．５０（ｍ，１Ｈ），１．９２（ｍ，
２Ｈ），２．４７（ｍ，１Ｈ），２．６３（ｍ，２
Ｈ），２．７１（ｍ，１Ｈ），３．１４（ｍ，１Ｈ），
４．２１（ｍ，１Ｈ），７．３４（ｍ，１０Ｈ）
【０１００】〈実施例２８〉２−［（Ｒ）−３−フェニ
ル−２−メチルプロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メ
ントピラゾール〔式（ｊ−９）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌに２−（３−フェニル
プロピオニル）−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール
７７３ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）とヘキサメチルホスホリ
ックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏｌ）を溶解し、
リチウムビス（トリメチルシリル）アミド３．０ｍｍｏ
ｌを−７８℃で加え攪拌した。反応液にヨウ化メチル
１．１４ｇ（８．０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１時間
攪拌した。反応液に０℃で酢酸を加えて酸性にし、蒸留
水で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し
て得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出
系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−
［（Ｒ）−３−フェニル−２−メチルプロピオニル］−
３−フェニル−ｌ−メントピラゾール５７７ｍｇ（７２
％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで
測定したところ１００．０％ｅｅであった。
ル−２−メチルプロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メ
ントピラゾール〔式（ｊ−９）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌに２−（３−フェニル
プロピオニル）−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール
７７３ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）とヘキサメチルホスホリ
ックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏｌ）を溶解し、
リチウムビス（トリメチルシリル）アミド３．０ｍｍｏ
ｌを−７８℃で加え攪拌した。反応液にヨウ化メチル
１．１４ｇ（８．０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１時間
攪拌した。反応液に０℃で酢酸を加えて酸性にし、蒸留
水で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し
て得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出
系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−
［（Ｒ）−３−フェニル−２−メチルプロピオニル］−
３−フェニル−ｌ−メントピラゾール５７７ｍｇ（７２
％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで
測定したところ１００．０％ｅｅであった。
【０１０１】〈実施例２９〉２−［（Ｒ）−２−（１−
ナフチル）プロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メント
ピラゾール〔式（ｊ−７）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４２５ｍｇ（４．２ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−［２−（１−ナフチル）アセチル］−３−フ
ェニル−ｌ−メントピラゾール８８８ｍｇ（２．１ｍｍ
ｏｌ）を加え０℃で攪拌した。１時間後反応液にヨウ化
エチル１．１５ｇ（８．１ｍｍｏｌ）を加えて室温で１
時間攪拌した。反応液に酢酸を加えて酸性にし、蒸留水
で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して
得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：
ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−［（Ｒ）
−２−（１−ナフチル）プロピオニル］−３−フェニル
−ｌ−メントピラゾール４０４ｍｇ（４４％）を得た。
光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで測定したとこ
ろ１００．０％ｅｅであった。
ナフチル）プロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メント
ピラゾール〔式（ｊ−７）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌにジイソプロピルアミ
ン４２５ｍｇ（４．２ｍｍｏｌ）を溶解し、−７８℃で
０．６Ｍブチルリチウム７ｍｌ（４．２ｍｍｏｌ）を滴
下して、室温で３０分攪拌後−７８℃に冷却し、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏ
ｌ）と２−［２−（１−ナフチル）アセチル］−３−フ
ェニル−ｌ−メントピラゾール８８８ｍｇ（２．１ｍｍ
ｏｌ）を加え０℃で攪拌した。１時間後反応液にヨウ化
エチル１．１５ｇ（８．１ｍｍｏｌ）を加えて室温で１
時間攪拌した。反応液に酢酸を加えて酸性にし、蒸留水
で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して
得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：
ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−［（Ｒ）
−２−（１−ナフチル）プロピオニル］−３−フェニル
−ｌ−メントピラゾール４０４ｍｇ（４４％）を得た。
光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで測定したとこ
ろ１００．０％ｅｅであった。
【０１０２】1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐ
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．１７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．６９（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．２３（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．６２（Ｍ，４Ｈ），１．７１（ｍ，１Ｈ），
１．８５（ｍ，１Ｈ），２．０１（ｍ，１Ｈ），２．４
８(ｍ，２Ｈ)2.61(m,1H),5.98(q,1H,J=7Hz),7.43(m,9
H),7.66(m,1H),7.80(m,1H),8.34(ｍ，１Ｈ)
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．１７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．６９（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．２３（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），１．６２（Ｍ，４Ｈ），１．７１（ｍ，１Ｈ），
１．８５（ｍ，１Ｈ），２．０１（ｍ，１Ｈ），２．４
８(ｍ，２Ｈ)2.61(m,1H),5.98(q,1H,J=7Hz),7.43(m,9
H),7.66(m,1H),7.80(m,1H),8.34(ｍ，１Ｈ)
【０１０３】〈実施例３０〉２−［（Ｒ）−２−（１−
ナフチル）プロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メント
ピラゾール〔式（ｊ−７）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌに２−［２−（１−ナ
フチル）アセチル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾ
ール８４５ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）とヘキサメチルホス
ホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏｌ）を溶解
し、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド３．０ｍ
ｍｏｌを−７８℃で加え攪拌した。反応液にヨウ化メチ
ル１．１４ｇ（８．０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１時
間攪拌した。反応液に０℃で酢酸を加えて酸性にし、蒸
留水で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出
系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−
［（Ｒ）−２−（１−ナフチル）プロピオニル］−３−
フェニル−ｌ−メントピラゾール４１９ｍｇ（４８％）
を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで測定
したところ１００．０％ｅｅであった。
ナフチル）プロピオニル］−３−フェニル−ｌ−メント
ピラゾール〔式（ｊ−７）の化合物〕 無水テトラヒドロフラン２０ｍｌに２−［２−（１−ナ
フチル）アセチル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾ
ール８４５ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）とヘキサメチルホス
ホリックトリアミド２ｍｌ（１１．５ｍｍｏｌ）を溶解
し、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド３．０ｍ
ｍｏｌを−７８℃で加え攪拌した。反応液にヨウ化メチ
ル１．１４ｇ（８．０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１時
間攪拌した。反応液に０℃で酢酸を加えて酸性にし、蒸
留水で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出
系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して２−
［（Ｒ）−２−（１−ナフチル）プロピオニル］−３−
フェニル−ｌ−メントピラゾール４１９ｍｇ（４８％）
を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで測定
したところ１００．０％ｅｅであった。
【０１０４】交換反応 〈実施例３１〉（Ｓ）−２−Ｏ−［（Ｒ）−２−メチル
ブチリル］マンデル酸メチル〔式（ｋ−２）の化合物〕 ２−［（Ｒ）−２−メチルブチリル］−３−フェニル−
ｌ−メントピラゾール３０５ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ、６
４．７％ｅｅ）と（Ｓ）−メチルマンデレート１６６ｍ
ｇ（１．０ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン２ｍｌ
に溶解し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテレート６９１
μｌ（５．５ｍｍｏｌ）を加え６時間還流した。反応液
に蒸留水１０ｍｌを加えてジエチルエーテル２０ｍｌで
抽出後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘ
キサン／ベンゼン＝２／１）で精製して（Ｒ）−２−Ｏ
−［（Ｒ）−２−メチルブチリル］マンデル酸メチル１
４４ｍｇ（６４％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共
鳴スペクトルで測定したところ６３．７％ｅｅであっ
た。
ブチリル］マンデル酸メチル〔式（ｋ−２）の化合物〕 ２−［（Ｒ）−２−メチルブチリル］−３−フェニル−
ｌ−メントピラゾール３０５ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ、６
４．７％ｅｅ）と（Ｓ）−メチルマンデレート１６６ｍ
ｇ（１．０ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン２ｍｌ
に溶解し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテレート６９１
μｌ（５．５ｍｍｏｌ）を加え６時間還流した。反応液
に蒸留水１０ｍｌを加えてジエチルエーテル２０ｍｌで
抽出後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘ
キサン／ベンゼン＝２／１）で精製して（Ｒ）−２−Ｏ
−［（Ｒ）−２−メチルブチリル］マンデル酸メチル１
４４ｍｇ（６４％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共
鳴スペクトルで測定したところ６３．７％ｅｅであっ
た。
【０１０５】1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐ
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．１３（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．５７（ｍ，１Ｈ），１．８０
（ｍ，１Ｈ），２．５５（ｍ，１Ｈ），３．７７（ｓ，
３Ｈ），５．９２（ｓ，１Ｈ），７．４２（ｍ，５Ｈ）
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．１３（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．５７（ｍ，１Ｈ），１．８０
（ｍ，１Ｈ），２．５５（ｍ，１Ｈ），３．７７（ｓ，
３Ｈ），５．９２（ｓ，１Ｈ），７．４２（ｍ，５Ｈ）
【０１０６】〈実施例３２〉（Ｓ）−２−Ｏ−［（Ｓ）
−２−メチルブチリル］マンデル酸メチル〔式（ｋ−
３）の化合物〕 ２−［（Ｓ）−２−メチルブチリル］−３−フェニル−
ｌ−メントピラゾール１６９ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ、６
１．８％ｅｅ）と（Ｓ）−メチルマンデレート１００ｍ
ｇ（０．６ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン２ｍｌ
に溶解し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテレート４７７
μｌ（３．８ｍｍｏｌ）を加え６時間還流した。反応液
に蒸留水１０ｍｌを加えてジエチルエーテル２０ｍｌで
抽出後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘ
キサン／ベンゼン＝２／１）で精製して（Ｓ）−２−Ｏ
−［（Ｓ）−２−メチルブチリル］マンデル酸メチル６
５ｍｇ（５２％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴
スペクトルで測定したところ６６．９％ｅｅであった。
−２−メチルブチリル］マンデル酸メチル〔式（ｋ−
３）の化合物〕 ２−［（Ｓ）−２−メチルブチリル］−３−フェニル−
ｌ−メントピラゾール１６９ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ、６
１．８％ｅｅ）と（Ｓ）−メチルマンデレート１００ｍ
ｇ（０．６ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン２ｍｌ
に溶解し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテレート４７７
μｌ（３．８ｍｍｏｌ）を加え６時間還流した。反応液
に蒸留水１０ｍｌを加えてジエチルエーテル２０ｍｌで
抽出後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出系：ヘ
キサン／ベンゼン＝２／１）で精製して（Ｓ）−２−Ｏ
−［（Ｓ）−２−メチルブチリル］マンデル酸メチル６
５ｍｇ（５２％）を得た。光学純度を1Ｈ−核磁気共鳴
スペクトルで測定したところ６６．９％ｅｅであった。
【０１０７】〈実施例３３〉（Ｓ）−２−Ｏ−［（Ｒ）
−２−メチルイソバレリル］マンデル酸メチル〔式（ｋ
−４）の化合物〕 ２−［（Ｒ）−２−メチルイソバレリル］−３−フェニ
ル−ｌ−メントピラゾール２４７ｍｇ（０．７ｍｍｏ
ｌ、１００．０％ｅｅ）と（Ｓ）−メチルマンデレート
１６６ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラ
ン２ｍｌに溶解し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテレー
ト６４１μｌ（５．１ｍｍｏｌ）を加え６時間還流し
た。反応液に蒸留水１０ｍｌを加えてジエチルエーテル
２０ｍｌで抽出後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して
（Ｓ）−２−Ｏ−［（Ｒ）−２−メチルイソバレリル］
マンデル酸メチル８８ｍｇ（７１％）を得た。光学純度
を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで測定したところ１０
０．０％ｅｅであった。
−２−メチルイソバレリル］マンデル酸メチル〔式（ｋ
−４）の化合物〕 ２−［（Ｒ）−２−メチルイソバレリル］−３−フェニ
ル−ｌ−メントピラゾール２４７ｍｇ（０．７ｍｍｏ
ｌ、１００．０％ｅｅ）と（Ｓ）−メチルマンデレート
１６６ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラ
ン２ｍｌに溶解し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテレー
ト６４１μｌ（５．１ｍｍｏｌ）を加え６時間還流し
た。反応液に蒸留水１０ｍｌを加えてジエチルエーテル
２０ｍｌで抽出後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮して得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
（溶出系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して
（Ｓ）−２−Ｏ−［（Ｒ）−２−メチルイソバレリル］
マンデル酸メチル８８ｍｇ（７１％）を得た。光学純度
を1Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで測定したところ１０
０．０％ｅｅであった。
【０１０８】1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐ
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．９０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９５（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．１９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），２．００（ｍ，１Ｈ），２．４１（ｍ，１Ｈ），
３．７１（ｓ，３Ｈ），５．９３（ｓ，１Ｈ），７．４
２(ｍ，５Ｈ)
ｍ，ＣＤＣｌ3 ，内部標準テトラメチルシラン） ０．９０（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），０．９５（ｄ，３
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．１９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ），２．００（ｍ，１Ｈ），２．４１（ｍ，１Ｈ），
３．７１（ｓ，３Ｈ），５．９３（ｓ，１Ｈ），７．４
２(ｍ，５Ｈ)
【０１０９】〈実施例３４〉（Ｓ）−２−Ｏ−［（Ｒ）
−３−フェニル−２−メチルプロピオニル］マンデル酸
メチル〔式（ｋ−９）の化合物〕 ２−［（Ｒ）−３−フェニル−２−メチルプロピオニ
ル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール３６１ｍｇ
（０．９ｍｍｏｌ）と（Ｓ）−メチルマンデレート１６
６ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン２
ｍｌに溶解し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテレート７
１６μｌ（５．７ｍｍｏｌ）を加え６時間還流した。反
応液に蒸留水１０ｍｌを加えてジエチルエーテル２０ｍ
ｌで抽出後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し
て得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出
系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して（Ｓ）−
２−Ｏ−［（Ｒ）−３−フェニル−２−メチルプロピオ
ニル］マンデル酸メチル１０８ｍｇ（４０％）を得た。
光学純度を１Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで測定したとこ
ろ１００．０％ｅｅであった。
−３−フェニル−２−メチルプロピオニル］マンデル酸
メチル〔式（ｋ−９）の化合物〕 ２−［（Ｒ）−３−フェニル−２−メチルプロピオニ
ル］−３−フェニル−ｌ−メントピラゾール３６１ｍｇ
（０．９ｍｍｏｌ）と（Ｓ）−メチルマンデレート１６
６ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン２
ｍｌに溶解し、三フッ化ホウ素ジエチルエーテレート７
１６μｌ（５．７ｍｍｏｌ）を加え６時間還流した。反
応液に蒸留水１０ｍｌを加えてジエチルエーテル２０ｍ
ｌで抽出後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し
て得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（溶出
系：ヘキサン／ベンゼン＝２／１）で精製して（Ｓ）−
２−Ｏ−［（Ｒ）−３−フェニル−２−メチルプロピオ
ニル］マンデル酸メチル１０８ｍｇ（４０％）を得た。
光学純度を１Ｈ−核磁気共鳴スペクトルで測定したとこ
ろ１００．０％ｅｅであった。
【０１１０】1Ｈ−核磁気共鳴スペクトル：δ（ｐｐ
ｍ，ＣＤＣｌ3，内部標準テトラメチルシラン） １．２７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．７２（ｍ，１
Ｈ），２．９５（ｍ，１Ｈ），３．１０（ｍ，１Ｈ），
３．７４（ｓ，３Ｈ），５．８９(ｓ，１Ｈ)７．３２
（ｍ，１０Ｈ）
ｍ，ＣＤＣｌ3，内部標準テトラメチルシラン） １．２７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．７２（ｍ，１
Ｈ），２．９５（ｍ，１Ｈ），３．１０（ｍ，１Ｈ），
３．７４（ｓ，３Ｈ），５．８９(ｓ，１Ｈ)７．３２
（ｍ，１０Ｈ）
【０１１１】
【発明の効果】請求項１の光学活性アシルメントン誘導
体又はその鏡像体、請求項３の光学活性メントピラゾー
ル誘導体又はその鏡像体、請求項５の光学活性２−アシ
ルメントピラゾール誘導体又はその鏡像体、並びに請求
項７の光学活性２−（２−置換アシル）メントピラゾー
ル誘導体又はその鏡像体は、いずれも新規な化合物であ
る。請求項１の化合物は請求項３の化合物の原料とな
り、請求項３の化合物は請求項５の化合物の原料とな
り、請求項５の化合物は請求項７の化合物の原料とな
る。請求項２、請求項４、請求項６又は請求項８の製造
法により、それぞれ、請求項１の化合物、請求項３の化
合物、請求項５の化合物又は請求項７の化合物を製造で
きる。請求項９の製造法により、請求項７の化合物から
光学活性２−置換カルボン酸誘導体が製造できる。
体又はその鏡像体、請求項３の光学活性メントピラゾー
ル誘導体又はその鏡像体、請求項５の光学活性２−アシ
ルメントピラゾール誘導体又はその鏡像体、並びに請求
項７の光学活性２−（２−置換アシル）メントピラゾー
ル誘導体又はその鏡像体は、いずれも新規な化合物であ
る。請求項１の化合物は請求項３の化合物の原料とな
り、請求項３の化合物は請求項５の化合物の原料とな
り、請求項５の化合物は請求項７の化合物の原料とな
る。請求項２、請求項４、請求項６又は請求項８の製造
法により、それぞれ、請求項１の化合物、請求項３の化
合物、請求項５の化合物又は請求項７の化合物を製造で
きる。請求項９の製造法により、請求項７の化合物から
光学活性２−置換カルボン酸誘導体が製造できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (54)【発明の名称】 光学活性２−（２−置換アシル）メントピラゾール誘導体、鏡像体、その中間体、及びそれらの 製造法、並びに光学活性２−（２−置換アシル）メントピラゾール誘導体を用いる光学活性２− 置換カルボン酸誘導体の製造法
Claims (9)
- 【請求項１】化１［一般式（Ｉ）］ 【化１】 ［ただし、一般式（Ｉ）中、Ａｒは置換基を有していて
もよい芳香族基を示す］で表される光学活性アシルメン
トン誘導体又はその鏡像体。 - 【請求項２】化２［式（II）］ 【化２】 で表される光学活性メントン又はその鏡像体を、アシル
化することを特徴とする、請求項１の光学活性アシルメ
ントン誘導体又はその鏡像体の製造法。 - 【請求項３】化３［一般式（III）］ 【化３】 ［ただし、一般式（III）中、Ａｒは一般式（Ｉ）中に
おける意味と同じ］で表される光学活性メントピラゾー
ル誘導体又はその鏡像体。 - 【請求項４】請求項１の光学活性アシルメントン誘導体
又はその鏡像体を、ヒドラジンで処理することを特徴と
する、請求項３の光学活性メントピラゾール誘導体又は
その鏡像体の製造法。 - 【請求項５】化４［一般式（IV）］ 【化４】 ［ただし、一般式（IV）中、一般式（Ｉ）中における意
味と同じであり、Ｒ1は置換基を有していてもよいアル
キル基、又は置換基を有していてもよい芳香族基を示
す］で表される光学活性２−アシルメントピラゾール誘
導体又はその鏡像体。 - 【請求項６】請求項３の光学活性メントピラゾール誘導
体又はその鏡像体を化５［一般式（Ｖ）］ 【化５】 ［ただし、一般式（Ｖ）中、Ｒ1は一般式（IV）中にお
ける意味と同じであり、Ｘは脱離性官能基を示す］で表
されるカルボン酸誘導体と縮合させることを特徴とす
る、請求項５の光学活性２−（２−置換アシル）メント
ピラゾール誘導体又はその鏡像体の製造法 - 【請求項７】化６［一般式（VI）］ 【化６】 ［ただし、一般式（VI）中、Ａｒは一般式（Ｉ）中にお
ける意味と同じであり、Ｒ1は一般式（IV）中における
意味と同じであり、Ｒ2は置換基を有していてもよいア
ルキル基を示す］で表される光学活性２−（２−置換ア
シル）メントピラゾール誘導体又はその鏡像体。 - 【請求項８】請求項５の光学活性２−アシルメントピラ
ゾール誘導体又はその鏡像体を、金属塩形成試剤とハロ
ゲン化アルキルで処理することを特徴とする、請求項７
の光学活性２−(２−置換アシル)メントピラゾール誘導
体又はその鏡像体の製造法。 - 【請求項９】酸性試剤の存在下で、請求項７の光学活性
２−（２−置換アシル）メントピラゾール誘導体又はそ
の鏡像体と、化７［一般式（VII）］ 【化７】ＨＯ−Ｒ3 （VII） ［ただし、一般式（VII）中、Ｒ3は水素、置換基を有し
ていてもよいアルキル、又は置換基を有していてもよい
芳香族基を示す］で表される化合物を反応させることを
特徴とする、化８［一般式（VIII）］ 【化８】 ［ただし、一般式（VIII）中、Ｒ1は置換基を有してい
てもよいアルキル基又は置換基を有していてもよい芳香
族基、Ｒ2は置換基を有していてもよいアルキル基、Ｒ3
は水素、置換基を有していてもよいアルキル又は置換基
を有していてもよい芳香族基を示す］で表される光学活
性２−置換カルボン酸誘導体の製造法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22767793A JPH0782208A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | 光学活性２−（２−置換アシル）メントピラゾール誘導体、鏡像体、その中間体、及びそれらの製造法、並びに光学活性２−（２−置換アシル）メントピラゾール誘導体を用いる光学活性２−置換カルボン酸誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22767793A JPH0782208A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | 光学活性２−（２−置換アシル）メントピラゾール誘導体、鏡像体、その中間体、及びそれらの製造法、並びに光学活性２−（２−置換アシル）メントピラゾール誘導体を用いる光学活性２−置換カルボン酸誘導体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0782208A true JPH0782208A (ja) | 1995-03-28 |
Family
ID=16864605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22767793A Pending JPH0782208A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | 光学活性２−（２−置換アシル）メントピラゾール誘導体、鏡像体、その中間体、及びそれらの製造法、並びに光学活性２−（２−置換アシル）メントピラゾール誘導体を用いる光学活性２−置換カルボン酸誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0782208A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001294546A (ja) * | 2000-02-28 | 2001-10-23 | Takasago Internatl Corp | （１’Ｒ，２’Ｓ，５’Ｒ）３−ｌ−メントキシアルカン−１−オール冷感剤 |
-
1993
- 1993-09-14 JP JP22767793A patent/JPH0782208A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001294546A (ja) * | 2000-02-28 | 2001-10-23 | Takasago Internatl Corp | （１’Ｒ，２’Ｓ，５’Ｒ）３−ｌ−メントキシアルカン−１−オール冷感剤 |
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