JPH0778861A - Transfer device - Google Patents

Transfer device

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Publication number
JPH0778861A
JPH0778861A JP5247499A JP24749993A JPH0778861A JP H0778861 A JPH0778861 A JP H0778861A JP 5247499 A JP5247499 A JP 5247499A JP 24749993 A JP24749993 A JP 24749993A JP H0778861 A JPH0778861 A JP H0778861A
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JP
Japan
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transfer
semiconductor substrate
suction
vacuum
transport
Prior art date
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Application number
JP5247499A
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Japanese (ja)
Inventor
Norihiko Hara
典彦 原
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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Publication of JPH0778861A publication Critical patent/JPH0778861A/en
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Abstract

PURPOSE:To further cut down the time required for transfer action in a transfer device carrying an objective element to a specific position by a method wherein, after delivering the objective element held by the first transfer means to the second transfer means, the second transfer means is to be shifted. CONSTITUTION:In order to deliver an objective element 10 held by the first transfer means 11 at the second transfer means 3, the second transfer means 3 can start shifting immediately after finishing the suction at the objective element 10 detecting the suction finished state of the objective element 10 according to the suction pressure of the suction means 4A, 4B of the second transfer means 3 thereby enabling the time required for the transfer action to be further cut down.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は搬送装置に関し、例えば
半導体基板又は液晶表示板等の搬送対象を真空吸着して
搬送する搬送装置に適用して好適なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transfer device, which is suitable for application to a transfer device for transferring a transfer target such as a semiconductor substrate or a liquid crystal display plate by vacuum suction.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体基板等を製造する工程にお
いては、当該半導体基板を搬送する搬送装置として図4
に示すようなものがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a process of manufacturing a semiconductor substrate or the like, as a transfer device for transferring the semiconductor substrate, FIG.
There is something like.

【0003】すなわち図4において1は全体として搬送
装置を示し、矢印aで示す方向又はこれとは逆方向に移
動し得る搬送アーム3が設けられており、当該搬送アー
ム3は図5に示すように平面コ字状に形成されている。
That is, in FIG. 4, reference numeral 1 denotes a carrier as a whole, and a carrier arm 3 which can move in a direction indicated by an arrow a or in a direction opposite thereto is provided, and the carrier arm 3 is as shown in FIG. It is formed in a plane U shape.

【0004】この搬送アーム3によつて囲まれた部分に
搬送テーブル11(図4)が矢印bで示す下方向又はこ
れとは逆の上方向に移動し得るように設けられている。
搬送テーブル11の載置面には吸着ノズル14A及び1
4Bが設けられており、当該吸着ノズル14A及び14
Bは搬送テーブル11の内部に形成された通路11A及
び継手16を介して配管17に接続されている。
A transport table 11 (FIG. 4) is provided in a portion surrounded by the transport arm 3 so as to be movable in the downward direction indicated by the arrow b or in the upward direction opposite thereto.
Adsorption nozzles 14A and 1 are mounted on the mounting surface of the transport table 11.
4B is provided and the suction nozzles 14A and 14 are provided.
B is connected to a pipe 17 through a passage 11A formed inside the transport table 11 and a joint 16.

【0005】この配管17は真空ポンプ(図示せず)に
接続されており、当該真空ポンプによる真空圧が配管1
7及び通路11Aを介して吸着ノズル14A、14Bに
与えられる。従つてこの状態において当該吸着ノズル1
4A及び14B上に搬送対象としての半導体基板10を
載置することにより、当該半導体基板10を搬送テーブ
ル11上に吸着保持することができる。
The pipe 17 is connected to a vacuum pump (not shown), and the vacuum pressure of the vacuum pump is applied to the pipe 1.
7 and the passage 11A to the suction nozzles 14A and 14B. Therefore, in this state, the suction nozzle 1 concerned
By mounting the semiconductor substrate 10 to be transported on the 4A and 14B, the semiconductor substrate 10 can be suction-held on the transport table 11.

【0006】これに対して搬送アーム3の載置面には吸
着ノズル4A、4B、4C及び4D(図5)が設けられ
ており、当該吸着ノズル4A、4B、4C及び4Dは搬
送アーム3の内部に形成された通路3A及び継手6を介
して配管7に接続されている。
On the other hand, suction nozzles 4A, 4B, 4C and 4D (FIG. 5) are provided on the mounting surface of the transfer arm 3, and the suction nozzles 4A, 4B, 4C and 4D are attached to the transfer arm 3. It is connected to the pipe 7 through the passage 3A and the joint 6 formed inside.

【0007】この配管7は真空ポンプ(図示せず)に接
続されており、当該真空ポンプによる真空圧が配管7及
び通路3Aを介して吸着ノズル4A、4B、4C及び4
Dに与えられる。従つてこの状態において当該吸着ノズ
ル4A、4B、4C及び4D上に搬送対象としての半導
体基板10を載置することにより、当該半導体基板10
を搬送アーム3上に吸着保持することができる。
The pipe 7 is connected to a vacuum pump (not shown), and the vacuum pressure by the vacuum pump is applied to the suction nozzles 4A, 4B, 4C and 4 via the pipe 7 and the passage 3A.
Given to D. Therefore, in this state, by mounting the semiconductor substrate 10 to be transported on the suction nozzles 4A, 4B, 4C and 4D, the semiconductor substrate 10
Can be adsorbed and held on the transfer arm 3.

【0008】ここで搬送テーブル11の一部には位置検
出用の遮光板11Bが形成されており当該遮光板11B
が光センサDET3の検出光を遮る位置に到来したと
き、当該光センサDET3から検出信号S3が制御部1
8に送出されることにより、制御部18は、遮蔽板11
Bが光センサDET3を遮る位置(すなわち搬送テーブ
ル11が矢印bで示す方向に対して逆方向に移動領域の
最上部まで上昇移動した状態)にあることを検出するこ
とができる。
A light-shielding plate 11B for position detection is formed on a part of the transport table 11 and the light-shielding plate 11B is provided.
Comes to a position where the detection light of the optical sensor DET3 is blocked, the detection signal S3 is output from the optical sensor DET3 to the control unit 1.
8 is sent to the control panel 18,
It is possible to detect that B is in a position that blocks the optical sensor DET3 (that is, the transport table 11 is moved up to the top of the moving region in the direction opposite to the direction indicated by the arrow b).

【0009】また搬送テーブル11が下降して遮光板1
1Bが光センサDET4を遮る位置まで移動したとき、
当該光センサDET4から検出信号S4が制御部18に
送出されることにより、制御部18は、遮蔽板11Bが
光センサDET4を遮る位置(すなわち搬送テーブル1
1が矢印bで示す方向に移動領域の最下部まで下降移動
した状態)にあることを検出することができる。
Further, the transport table 11 is lowered to lower the light shield plate 1.
When 1B moves to a position that blocks the optical sensor DET4,
The detection signal S4 is sent from the optical sensor DET4 to the control unit 18, so that the control unit 18 causes the shielding plate 11B to block the optical sensor DET4 (that is, the transport table 1).
It is possible to detect that 1 is in a state where it has moved down to the lowermost part of the moving area in the direction indicated by the arrow b).

【0010】ここで光センサDET4によつて検出され
る搬送テーブル11の位置(移動領域の最下部)は、当
該搬送テーブル11上に保持された半導体基板10が搬
送テーブル11の下降移動によつて搬送アーム3上に受
け渡される位置よりも所定量だけ下方向にオフセツトし
た位置に設けられている。従つて半導体基板10を保持
した搬送テーブル11を矢印b方向に下降移動した場
合、まず搬送テーブル11上の半導体基板10が搬送ア
ーム3上に受け渡された後、さらに搬送テーブル11は
所定量だけ下降移動した位置で光センサDET4によつ
て位置検出され、制御部18によつてその移動動作が停
止される。従つて半導体基板10が確実に搬送アーム3
上に受け渡された状態で搬送テーブル11の下降動作を
停止し得るようになされている。
Here, the position of the carrying table 11 detected by the optical sensor DET4 (the lowermost part of the moving area) is determined by the semiconductor substrate 10 held on the carrying table 11 being moved downward. It is provided at a position offset downward by a predetermined amount from the position transferred on the transfer arm 3. Therefore, when the carrier table 11 holding the semiconductor substrate 10 is moved downward in the direction of the arrow b, the semiconductor substrate 10 on the carrier table 11 is first transferred onto the carrier arm 3 and then the carrier table 11 is moved by a predetermined amount. The optical sensor DET4 detects the position at the lowered position, and the control unit 18 stops the moving operation. Therefore, the semiconductor substrate 10 is surely transferred to the transfer arm 3
The lowering operation of the transport table 11 can be stopped in the state of being handed over.

【0011】これに対して搬送アーム3の一部には位置
検出用の遮光板3Bが形成されており当該遮光板3Bが
光センサDET1の検出光を遮る位置に到来したとき、
当該光センサDET1から検出信号S1が制御部18に
送出されることにより、制御部18は、遮蔽板3Bが光
センサDET1を遮る位置(すなわち搬送アーム3が矢
印aで示す方向に対して逆方向に最大移動位置まで移動
した状態)にあることを検出することができる。
On the other hand, a light-shielding plate 3B for position detection is formed on a part of the transport arm 3, and when the light-shielding plate 3B reaches a position that blocks the light detected by the optical sensor DET1,
When the detection signal S1 is sent from the optical sensor DET1 to the control unit 18, the control unit 18 causes the shield plate 3B to block the optical sensor DET1 (that is, the transport arm 3 is in the opposite direction to the direction indicated by the arrow a). It is possible to detect that the robot has moved to the maximum movement position).

【0012】また搬送アーム3が矢印a方向に移動して
遮光板3Bが光センサDET2を遮る位置まで移動した
とき、当該光センサDET2から検出信号S2が制御部
18に送出されることにより、制御部18は、遮蔽板3
Bが光センサDET2を遮る位置(すなわち搬送アーム
3が矢印aで示す方向に最大移動位置まで移動した状
態)にあることを検出することができる。
Further, when the transfer arm 3 moves in the direction of arrow a and the light blocking plate 3B moves to a position where it blocks the optical sensor DET2, the detection signal S2 is sent from the optical sensor DET2 to the control section 18, thereby controlling The portion 18 is the shield plate 3.
It is possible to detect that B is in a position that blocks the optical sensor DET2 (that is, the state in which the transport arm 3 has moved to the maximum movement position in the direction indicated by the arrow a).

【0013】ここで光センサDET1によつて検出され
る搬送アーム3の位置(矢印aに対する移動領域の最大
移動位置)は、当該搬送テーブル11上に保持された半
導体基板10が搬送テーブル11の下降移動によつて搬
送アーム3上に受け渡される位置に設けられている。従
つて光センサDET1によつて位置検出された搬送アー
ム3は当該位置において制御部18によつて停止され、
この状態において半導体基板10を載置した搬送テーブ
ル11を下降動作することにより、当該搬送テーブル1
1上に載置された半導体基板10を搬送アーム3上に受
け渡すことができる。
Here, at the position of the transfer arm 3 detected by the optical sensor DET1 (the maximum movement position of the movement area with respect to the arrow a), the semiconductor substrate 10 held on the transfer table 11 is lowered. It is provided at a position where it is transferred onto the transfer arm 3 by movement. Therefore, the transfer arm 3 whose position is detected by the optical sensor DET1 is stopped by the control unit 18 at the position,
In this state, the transport table 11 on which the semiconductor substrate 10 is placed is lowered to move the transport table 1 concerned.
The semiconductor substrate 10 placed on the carrier 1 can be transferred onto the transfer arm 3.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】ところでかかる構成の
搬送装置1においては、搬送テーブル11上に保持され
た半導体基板10を搬送アーム3に受け渡す際、当該受
け渡しが完了した後遮光板11Bが光センサDET4に
よつて検出されることによつて搬送アーム3の移動が開
始されるようになされている。
In the transfer apparatus 1 having such a structure, when the semiconductor substrate 10 held on the transfer table 11 is transferred to the transfer arm 3, after the transfer is completed, the light shielding plate 11B is lighted. The movement of the transfer arm 3 is started by being detected by the sensor DET4.

【0015】ところが半導体基板10が搬送テーブル1
1から搬送アーム3に受け渡された後、搬送テーブル1
1の遮光板11Bが光センサDET4によつて検出され
るまでに所定の時間がかかることにより、当該受け渡し
動作から搬送アーム3の移動開始動作までに所定の時間
を要し、搬送動作を十分に短時間化し得ない問題があつ
た。
However, the semiconductor substrate 10 is the transport table 1
1 is transferred to the transfer arm 3 and then transferred to the transfer table 1
Since it takes a predetermined time until the light shielding plate 11B of No. 1 is detected by the optical sensor DET4, it takes a predetermined time from the transfer operation to the movement start operation of the transfer arm 3 to sufficiently perform the transfer operation. There was a problem that could not be shortened.

【0016】また搬送アーム3上に吸着保持された半導
体基板10を搬送ステージ11に受け渡す場合、当該受
け渡しが完了した後遮光板11Bが光センサDET3に
よつて検出されることによつて搬送アーム3の矢印a方
向への退避移動が開始されるようになされている。
When the semiconductor substrate 10 sucked and held on the transfer arm 3 is delivered to the transfer stage 11, the light shielding plate 11B is detected by the optical sensor DET3 after the transfer is completed, whereby the transfer arm is detected. The retreat movement of 3 in the direction of arrow a is started.

【0017】ところが半導体基板10が搬送アーム3か
ら搬送テーブル11に受け渡された後、搬送テーブル1
1の遮光板11Bが光センサDET3によつて検出され
るまでに所定の時間がかかることにより、当該受け渡し
動作から搬送アーム3の退避移動が開始されるまでに所
定の時間を要し、搬送動作を十分に短時間化し得ない問
題があつた。
However, after the semiconductor substrate 10 is transferred from the transfer arm 3 to the transfer table 11, the transfer table 1 is transferred.
Since it takes a predetermined time until the light shielding plate 11B of No. 1 is detected by the optical sensor DET3, it takes a predetermined time from the transfer operation to the start of the retreat movement of the transfer arm 3 and the transfer operation. However, there was a problem that it could not be shortened sufficiently.

【0018】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、搬送動作を一段と短時間化し得る搬送装置を提案し
ようとするものである。
The present invention has been made in consideration of the above points, and an object thereof is to propose a transfer device which can further shorten the transfer operation.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、第1の搬送手段11(又は3)に
保持された搬送対象10を第2の搬送手段3(又は1
1)に受け渡した後、第2の搬送手段3(又は11)を
移動させることにより、搬送対象10を所定の位置に搬
送する搬送装置20において、第2の搬送手段3(又は
11)に設けられ、搬送対象10を真空吸着する吸着手
段4A、4B、4C、4D(又は14A、14B)と、
吸着手段4A、4B、4C、4D(又は14A、14
B)の吸着圧を検出する圧力検出手段21(又は22)
と、圧力検出手段21(又は22)の検出結果が所定圧
を越えたとき、第2の搬送手段3(又は11)を移動開
始する制御手段18とを備えるようにする。
In order to solve such a problem, in the present invention, the object to be conveyed 10 held by the first conveying means 11 (or 3) is transferred to the second conveying means 3 (or 1).
1) and then the second transfer means 3 (or 11) is moved to provide the second transfer means 3 (or 11) in the transfer device 20 that transfers the transfer target 10 to a predetermined position. And suction means 4A, 4B, 4C, 4D (or 14A, 14B) for vacuum-sucking the transfer target 10,
Adsorption means 4A, 4B, 4C, 4D (or 14A, 14
B) Pressure detection means 21 (or 22) for detecting the adsorption pressure
And a control means 18 for starting the movement of the second conveying means 3 (or 11) when the detection result of the pressure detecting means 21 (or 22) exceeds a predetermined pressure.

【0020】[0020]

【作用】搬送対象10を第2の搬送手段3(又は11)
に吸着する吸着手段4A、4B、4C、4D(又は14
A、14B)の吸着圧によつて搬送対象10の吸着完了
状態を直接検出することにより、第1の搬送手段11
(又は3)から第2の搬送手段3(又は11)への搬送
対象10の受け渡しが完了した直後に第2の搬送手段3
(又は11)を移動開始することができる。
The object 10 to be transferred is transferred to the second transfer means 3 (or 11).
Adsorption means 4A, 4B, 4C, 4D (or 14)
By directly detecting the suction completion state of the transfer target 10 by the suction pressure of A, 14B), the first transfer means 11
Immediately after the transfer of the transfer target 10 from (or 3) to the second transfer means 3 (or 11) is completed, the second transfer means 3
(Or 11) can start moving.

【0021】[0021]

【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0022】図4及び図5との対応部分に同一符号を付
して示す図1において搬送装置20は、搬送アーム3の
吸着ノズル4A、4B、4C及び4Dに対して真空圧を
与える配管7に当該配管7内の圧力を検出する圧力セン
サ(バキユームセンサ)21が介挿されている。
In FIG. 1, in which parts corresponding to those in FIGS. 4 and 5 are designated by the same reference numerals, the transfer device 20 includes a pipe 7 for applying a vacuum pressure to the suction nozzles 4A, 4B, 4C and 4D of the transfer arm 3. A pressure sensor (vacuum sensor) 21 that detects the pressure in the pipe 7 is inserted in the.

【0023】すなわち真空ポンプからの真空圧を吸着ノ
ズル4A、4B、4C及び4Dに与えた状態において当
該吸着ノズル4A、4B、4C及び4Dに半導体基板1
0を載置しない場合、バキユームセンサ21において検
出される圧力はほぼ大気開放状態となるのに対して、真
空ポンプからの真空圧を吸着ノズル4A、4B、4C及
び4Dに与えた状態において当該吸着ノズル4A、4
B、4C及び4Dに半導体基板10を載置した場合、吸
着ノズル4A、4B、4C及び4Dが半導体基板10に
よつて塞がれることにより、バキユームセンサ21にお
いて検出される圧力は真空圧となる。
That is, in a state where the vacuum pressure from the vacuum pump is applied to the suction nozzles 4A, 4B, 4C and 4D, the semiconductor substrate 1 is attached to the suction nozzles 4A, 4B, 4C and 4D.
When 0 is not placed, the pressure detected by the vacuum sensor 21 is substantially open to the atmosphere, while the suction nozzles 4A, 4B, 4C, and 4D receive the vacuum pressure from the vacuum pump. 4A, 4
When the semiconductor substrate 10 is placed on B, 4C, and 4D, the suction nozzles 4A, 4B, 4C, and 4D are closed by the semiconductor substrate 10, so that the pressure detected by the vacuum sensor 21 becomes a vacuum pressure.

【0024】従つて当該バキユームセンサ21において
検出される圧力を測定し、当該測定結果が所定の圧力値
を境として高圧力であるか否かを判断することにより、
搬送アーム3上に半導体基板10が吸着保持されたか否
かを判断することができる。
Therefore, the pressure detected by the vacuum sensor 21 is measured, and it is judged whether or not the measurement result is a high pressure with a predetermined pressure value as a boundary.
It can be determined whether or not the semiconductor substrate 10 is suction-held on the transfer arm 3.

【0025】また搬送テーブル11の吸着ノズル14A
及び14Bに対して真空圧を与える配管17に当該配管
17内の圧力を検出する圧力センサ(バキユームセン
サ)22が介挿されている。
Further, the suction nozzle 14A of the transport table 11
A pressure sensor (vacuum sensor) 22 for detecting the pressure in the pipe 17 is inserted in the pipe 17 for applying a vacuum pressure to the pipes 14 and 14B.

【0026】すなわち真空ポンプからの真空圧を吸着ノ
ズル14A及び14Bに与えた状態において当該吸着ノ
ズル14A及び14Bに半導体基板10を載置しない場
合、バキユームセンサ22において検出される圧力はほ
ぼ大気開放状態となるのに対して、真空ポンプからの真
空圧を吸着ノズル14A及び14Bに与えた状態におい
て当該吸着ノズル14A及び14Bに半導体基板10を
載置した場合、吸着ノズル14A及び14Bが半導体基
板10によつて塞がれることにより、バキユームセンサ
22において検出される圧力は真空圧となる。
That is, when the semiconductor substrate 10 is not placed on the suction nozzles 14A and 14B while the vacuum pressure from the vacuum pump is applied to the suction nozzles 14A and 14B, the pressure detected by the vacuum sensor 22 is almost open to the atmosphere. On the other hand, when the semiconductor substrate 10 is placed on the suction nozzles 14A and 14B in a state where the vacuum pressure from the vacuum pump is applied to the suction nozzles 14A and 14B, the suction nozzles 14A and 14B are not moved by the semiconductor substrate 10. As a result of being blocked, the pressure detected by the vacuum sensor 22 becomes a vacuum pressure.

【0027】従つて当該バキユームセンサ22において
検出される圧力を測定することにより、搬送テーブル1
1上に半導体基板10が吸着保持されたか否かを判断す
ることができる。
Accordingly, by measuring the pressure detected by the vacuum sensor 22, the transport table 1
It is possible to determine whether or not the semiconductor substrate 10 is suction-held on the substrate 1.

【0028】ここで図2は搬送テーブル11上に吸着保
持された半導体基板10を搬送アーム3に受け渡して搬
送する搬送処理手順を示し、制御部18はステツプSP
1から当該処理手順に入り、ステツプSP2において搬
送テーブル11に対して真空ポンプからの真空圧を供給
又は供給停止状態に制御する真空吸着用電磁弁(図示せ
ず)をオフ操作して搬送テーブル11上の半導体基板1
0を開放状態とした後、続くステツプSP3に移つて搬
送アーム3に対して真空ポンプからの真空圧を供給又は
供給停止状態に制御する真空吸着用電磁弁(図示せず)
をオン操作して真空ポンプによる真空圧を吸着ノズル4
A、4B、4C及び4Dに供給する状態に制御する。
FIG. 2 shows a transfer processing procedure in which the semiconductor substrate 10 sucked and held on the transfer table 11 is transferred to the transfer arm 3 and transferred, and the controller 18 controls the step SP.
In step SP2, the electromagnetic adsorption valve (not shown) for controlling the supply of the vacuum pressure from the vacuum pump to the transport table 11 or the stop of the supply is turned off in step SP2, and the transport table 11 is operated. Upper semiconductor substrate 1
After 0 is opened, the process proceeds to the next step SP3 to control the vacuum pressure from the vacuum pump to the transfer arm 3 so as to control or stop the vacuum pressure from the vacuum pump (not shown)
Is turned on to apply the vacuum pressure from the vacuum pump to the suction nozzle 4.
Control to supply to A, 4B, 4C and 4D.

【0029】この状態において制御部18はステツプS
P4に移つて、半導体基板10を載置した搬送テーブル
11を矢印b(図1)方向に下降開始させる。このとき
当該搬送テーブル11に載置された半導体基板10が搬
送アーム3の吸着ノズル4A、4B、4C及び4D上に
受け渡されると、大気開放状態にあるバキユームセンサ
21の圧力が真空状態を示す圧力に変化し、当該バキユ
ームセンサ21から制御部18に送出される検出信号S
21がオン状態に変化する。
In this state, the control unit 18 makes the step S
Moving to P4, the transport table 11 on which the semiconductor substrate 10 is placed is started to descend in the direction of arrow b (FIG. 1). At this time, when the semiconductor substrate 10 placed on the transfer table 11 is transferred onto the suction nozzles 4A, 4B, 4C and 4D of the transfer arm 3, the pressure of the vacuum sensor 21 in the atmosphere open state is a pressure indicating a vacuum state. The detection signal S sent from the vacuum sensor 21 to the control unit 18
21 changes to the ON state.

【0030】従つて続くステツプSP5において制御部
18が肯定結果を得たとき、このことは搬送アーム3の
吸着ノズル4A、4B、4C及び4Dに半導体基板10
が吸着されたことを表しており、このとき制御部18は
続くステツプSP6に移つて搬送アーム3を矢印aで示
す方向に移動開始する。
Therefore, when the control unit 18 obtains a positive result in the subsequent step SP5, this means that the semiconductor substrate 10 is attached to the suction nozzles 4A, 4B, 4C and 4D of the transfer arm 3.
Has been adsorbed, and at this time, the control unit 18 moves to the following step SP6 to start moving the transport arm 3 in the direction indicated by the arrow a.

【0031】またこれに続いて制御部18はステツプS
P7において搬送テーブル11の下降動作が予め設定さ
れた搬送量分だけ終了したか否かを判断し、肯定結果が
得られると続くステツプSP8に移つて光センサDET
4において遮光板11Bが到来していることを確認す
る。
Following this, the control unit 18 proceeds to step S.
In P7, it is determined whether or not the descending operation of the transport table 11 has been completed by the preset transport amount, and if a positive result is obtained, the process proceeds to the subsequent step SP8 and the optical sensor DET is set.
At 4, it is confirmed that the light shielding plate 11B has arrived.

【0032】またこれに続いて制御部18はステツプS
P9において搬送アーム3の矢印a方向への駆動が予め
設定されている移動量分だけ終了させると共に、当該終
了位置として光センサDET2が遮光板3Bを検出した
ことを確認し、当該処理手順を終了する。
Following this, the control unit 18 proceeds to step S.
At P9, the driving of the transfer arm 3 in the direction of the arrow a is ended by a preset movement amount, and it is confirmed that the optical sensor DET2 has detected the light shielding plate 3B as the end position, and the processing procedure is ended. To do.

【0033】かくして搬送ステージ11上に保持されて
いた半導体基板10は搬送アーム3上に受け渡された
後、搬送アーム3が光センサDET2によつて検出され
る位置まで搬送される。
Thus, the semiconductor substrate 10 held on the transfer stage 11 is transferred onto the transfer arm 3 and then transferred to a position where the transfer arm 3 is detected by the optical sensor DET2.

【0034】これに対して図3は、光センサDET1に
よつて検出される位置にある搬送アーム3上に半導体基
板10が保持された状態において、当該半導体基板10
を搬送ステージ11に受け渡す搬送処理手順を示し、制
御部18はステツプSP21から当該処理手順に入り、
ステツプSP22において搬送テーブル11に対して真
空ポンプからの真空圧を供給又は供給停止状態に制御す
る真空吸着用電磁弁(図示せず)をオン操作して真空ポ
ンプによる真空圧を吸着ノズル14A及び14Bに供給
する状態に制御する。
On the other hand, FIG. 3 shows that the semiconductor substrate 10 is held on the carrier arm 3 at the position detected by the optical sensor DET1.
Shows the transfer processing procedure for transferring the sheet to the transfer stage 11, and the control unit 18 enters the processing procedure from step SP21.
In step SP22, a vacuum suction solenoid valve (not shown) for controlling the vacuum pressure from the vacuum pump to the transport table 11 is controlled to be turned on or off to turn on the vacuum pressure by the vacuum pump to the suction nozzles 14A and 14B. Control to supply to.

【0035】さらに制御部18は続くステツプSP23
に移つて搬送アーム3に対して真空ポンプからの真空圧
を供給又は供給停止状態に制御する真空吸着用電磁弁
(図示せず)をオフ操作して搬送アーム3の半導体基板
10を開放状態に制御する。
Further, the control unit 18 continues the step SP23.
Then, the vacuum suction electromagnetic valve (not shown) for controlling the supply of the vacuum pressure from the vacuum pump to the transfer arm 3 or the stop of the supply of the vacuum pressure is turned off to open the semiconductor substrate 10 of the transfer arm 3. Control.

【0036】この状態において制御部18はステツプS
P24に移つて、搬送テーブル11を矢印b(図1)に
対して逆方向に上昇開始させる。このとき当該搬送アー
ム3に載置された半導体基板10が搬送テーブル11の
吸着ノズル14A及び14B上に受け渡されると、大気
開放状態にあるバキユームセンサ22の圧力が真空状態
を示す圧力に変化し、当該バキユームセンサ22から制
御部18に送出される検出信号S22がオン状態に変化
する。
In this state, the control unit 18 makes the step S
Moving to P24, the transport table 11 is started to rise in the direction opposite to the arrow b (FIG. 1). At this time, when the semiconductor substrate 10 placed on the transfer arm 3 is transferred onto the suction nozzles 14A and 14B of the transfer table 11, the pressure of the vacuum sensor 22 in the atmosphere open state changes to a pressure indicating a vacuum state, The detection signal S22 sent from the vacuum sensor 22 to the control unit 18 changes to the ON state.

【0037】従つて続くステツプSP25において制御
部18が肯定結果を得ると、このことは搬送テーブル1
1の吸着ノズル14A及び14Bに半導体基板10が吸
着されたことを表しており、このとき制御部18は続く
ステツプSP26に移つて搬送アーム3を矢印aで示す
方向に退避動作を開始する。
When the control unit 18 obtains a positive result in the following step SP25, this means that the transport table 1
This indicates that the semiconductor substrate 10 has been sucked by one of the suction nozzles 14A and 14B. At this time, the control unit 18 moves to the following step SP26 and starts the retracting operation of the transfer arm 3 in the direction indicated by the arrow a.

【0038】またこれに続いて制御部18はステツプS
P27において搬送テーブル11の上昇動作が予め設定
された搬送量分だけ終了したか否かを判断し、肯定結果
が得られると続くステツプSP28に移つて光センサD
ET3において遮光板11Bが到来していることを確認
する。
Following this, the control unit 18 proceeds to step S.
In P27, it is determined whether or not the lifting operation of the transport table 11 has been completed by the preset transport amount, and if a positive result is obtained, the process proceeds to the subsequent step SP28 and the optical sensor D
Confirm that the light shield 11B has arrived at ET3.

【0039】またこれに続いて制御部18はステツプS
P29において搬送アーム3の矢印a方向への退避動作
を予め設定されている移動量分だけ終了させると共に、
当該終了位置として光センサDET2が遮光板3Bを検
出したことを確認し、当該処理手順を終了する。
Following this, the control unit 18 proceeds to step S.
At P29, the retracting operation of the transfer arm 3 in the direction of the arrow a is completed by a preset movement amount, and
After confirming that the optical sensor DET2 has detected the light shielding plate 3B as the end position, the processing procedure is ended.

【0040】かくして搬送アーム3上に保持されていた
半導体基板10は搬送ステージ11上に受け渡された
後、搬送ステージ11が光センサDET3によつて検出
される位置まで搬送される。
Thus, the semiconductor substrate 10 held on the transfer arm 3 is transferred onto the transfer stage 11 and then transferred to a position where the transfer stage 11 is detected by the optical sensor DET3.

【0041】以上の構成において、搬送テーブル11上
に吸着保持された半導体基板10を搬送アーム3に受け
渡す場合、半導体基板10が搬送アーム3の吸着ノズル
4A、4B、4C及び4Dに吸着保持されたことをバキ
ユームセンサ21によつて検出し、当該検出結果に基づ
いて搬送アーム3の移動が開始される。
In the above structure, when the semiconductor substrate 10 suction-held on the transport table 11 is transferred to the transport arm 3, the semiconductor substrate 10 is suction-held by the suction nozzles 4A, 4B, 4C and 4D of the transport arm 3. This is detected by the vacuum sensor 21, and the movement of the transfer arm 3 is started based on the detection result.

【0042】従つて半導体基板10が搬送アーム3に受
け渡された後、搬送ステージ11が光センサDET4に
よつて検出される位置まで下降し、当該光センサDET
4の検出出力に基づいて搬送アーム3の移動を開始する
従来の場合(図4)に比して、半導体基板10が搬送ア
ーム3に吸着保持された直後に当該搬送アーム3を移動
開始し得る分、搬送動作全体として要する時間を一段と
短時間化することができる。
Accordingly, after the semiconductor substrate 10 is transferred to the transfer arm 3, the transfer stage 11 is lowered to a position where it is detected by the optical sensor DET4, and the optical sensor DET.
As compared with the conventional case where the transfer arm 3 starts to move based on the detection output of FIG. 4 (FIG. 4), the transfer arm 3 can start moving immediately after the semiconductor substrate 10 is suction-held by the transfer arm 3. Therefore, the time required for the entire transport operation can be further shortened.

【0043】また搬送アーム3上に吸着保持された半導
体基板10を搬送ステージ11に受け渡す場合、半導体
基板10が搬送ステージ11の吸着ノズル14A及び1
4Bに吸着保持されたことをバキユームセンサ22によ
つて検出し、当該検出結果に基づいて搬送ステージ11
の上昇移動が開始される。
When the semiconductor substrate 10 sucked and held on the transfer arm 3 is transferred to the transfer stage 11, the semiconductor substrate 10 is sucked by the suction nozzles 14A and 1A of the transfer stage 11.
It is detected by the vacuum sensor 22 that it is adsorbed and held by the 4B, and the transport stage 11 is detected based on the detection result.
The ascending movement of is started.

【0044】従つて半導体基板10が搬送ステージ11
に受け渡された後、搬送ステージ11が光センサDET
3によつて検出される位置まで上昇し、当該光センサD
ET3の検出出力に基づいて搬送アーム3の退避移動を
開始する従来の場合(図4)に比して、半導体基板10
が搬送ステージ11に吸着保持された直後に当該搬送ス
テージ11を移動開始し得る分、搬送動作全体として要
する時間を一段と短時間化することができる。
Accordingly, the semiconductor substrate 10 is transferred to the transfer stage 11
After being transferred to the optical sensor DET
3 to the position detected by the optical sensor D
Compared with the conventional case (FIG. 4) in which the retreat movement of the transfer arm 3 is started based on the detection output of the ET 3, the semiconductor substrate 10
Since the transfer stage 11 can start moving immediately after being absorbed and held by the transfer stage 11, the time required for the entire transfer operation can be further shortened.

【0045】以上の構成によれば、搬送対象としての半
導体基板10を搬送ステージ11及び搬送アーム3間に
おいて受け渡す際、半導体基板10を搬送アーム3又は
搬送ステージ11に真空吸着するための圧力変化によつ
て、当該半導体基板10が受け渡されたことを直接検出
するようにしたことにより、搬送ステージ11の位置に
よつて当該受け渡しを間接的に検出した従来の場合に比
して、受け渡しを含む搬送動作に要する時間を全体とし
て一段と短時間化することができる。
According to the above configuration, when the semiconductor substrate 10 to be transferred is transferred between the transfer stage 11 and the transfer arm 3, the pressure change for vacuum-sucking the semiconductor substrate 10 to the transfer arm 3 or the transfer stage 11. Thus, by directly detecting that the semiconductor substrate 10 has been delivered, the delivery can be performed as compared with the conventional case in which the delivery is indirectly detected by the position of the transfer stage 11. It is possible to further shorten the time required for the carrying operation including the whole.

【0046】なお上述の実施例においては、半導体基板
10を搬送対象とした場合について述べたが、本発明は
これに限らず、他の種々の部品を搬送する搬送装置に広
く適用することができる。
In the above embodiments, the case where the semiconductor substrate 10 is targeted for transportation has been described, but the present invention is not limited to this, and can be widely applied to a transportation device for transporting various other parts. .

【0047】また上述の実施例においては、搬送アーム
3及び搬送ステージ11間において搬送対象を受け渡す
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば
2つの搬送ステージ間において搬送対象を受け渡す場合
等、用は2つの搬送手段間において搬送対象を受け渡す
搬送装置に広く適用することができる。
Further, in the above-mentioned embodiment, the case where the transfer target is transferred between the transfer arm 3 and the transfer stage 11 has been described, but the present invention is not limited to this, and the transfer target is transferred between the two transfer stages, for example. In the case of handing over, etc., it can be widely applied to a carrying device for delivering a carrying object between two carrying means.

【0048】[0048]

【発明の効果】上述のように本発明によれば、第1の搬
送手段に保持された搬送対象を第2の搬送手段に受け渡
し真空吸着する際に、第2の搬送手段の吸着手段の吸着
圧に基づいて搬送対象の吸着完了状態を検出することに
より、搬送対象を吸着完了した第2の搬送手段を吸着完
了後直ちに移動開始することができ、この分搬送動作に
要する時間を一段と短時間化することができる搬送装置
を実現し得る。
As described above, according to the present invention, when the object held by the first carrier means is transferred to the second carrier means and vacuum-adsorbed, the suction means of the second carrier means attracts the object. By detecting the suction completion state of the transfer target based on the pressure, it is possible to start moving the second transfer means that has completely sucked the transfer target immediately after the suction is completed, and the time required for the transfer operation can be further shortened by this amount. A transport device that can be realized can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による搬送装置の一実施例を示す側面図
である。
FIG. 1 is a side view showing an embodiment of a carrying device according to the present invention.

【図2】本発明による搬送処理手順を示すフローチヤー
トである。
FIG. 2 is a flow chart showing a carrying processing procedure according to the present invention.

【図3】本発明による搬送処理手順を示すフローチヤー
トである。
FIG. 3 is a flow chart showing a carrying processing procedure according to the present invention.

【図4】従来の搬送装置を示す側面図である。FIG. 4 is a side view showing a conventional transfer device.

【図5】搬送装置の平面図である。FIG. 5 is a plan view of the transfer device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、20……搬送装置、3……搬送アーム、4A、4
B、4C、4D、14A、14B……吸着ノズル、10
……半導体基板、11……搬送ステージ、18……制御
部、21、22……バキユームセンサ、DET1、DE
T2、DET3、DET4……光センサ。
1, 20 ... Transport device, 3 ... Transport arm, 4A, 4
B, 4C, 4D, 14A, 14B ... Suction nozzle, 10
...... Semiconductor substrate, 11 …… Transfer stage, 18 …… Control section, 21, 22 …… Bakium sensor, DET1, DE
T2, DET3, DET4 ... Optical sensor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1の搬送手段に保持された搬送対象を第
2の搬送手段に受け渡した後、上記第2の搬送手段を移
動させることにより、上記搬送対象を所定の位置に搬送
する搬送装置において、 上記第2の搬送手段に設けられ、上記搬送対象を真空吸
着する吸着手段と、 上記吸着手段の吸着圧を検出する圧力検出手段と、 上記圧力検出手段の検出結果が所定圧を越えたとき、上
記第2の搬送手段を移動開始する制御手段とを具えるこ
とを特徴とする搬送装置。
1. A transport for transporting the transport target held at a first transport means to a predetermined position by transferring the transport target to a second transport means and then moving the second transport means. In the apparatus, a suction means provided in the second transfer means for vacuum-sucking the transfer target, a pressure detection means for detecting the suction pressure of the suction means, and a detection result of the pressure detection means exceeding a predetermined pressure. And a control means for starting the movement of the second transport means.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014130899A (en) * 2012-12-28 2014-07-10 Olympus Corp Substrate conveyance device, substrate inspection apparatus, and substrate conveyance method
JP2014135390A (en) * 2013-01-10 2014-07-24 Olympus Corp Substrate transport device, substrate inspection device, and substrate transport method

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