JPH0778482A - Semiconductor storage circuit - Google Patents
Semiconductor storage circuitInfo
- Publication number
- JPH0778482A JPH0778482A JP5248826A JP24882693A JPH0778482A JP H0778482 A JPH0778482 A JP H0778482A JP 5248826 A JP5248826 A JP 5248826A JP 24882693 A JP24882693 A JP 24882693A JP H0778482 A JPH0778482 A JP H0778482A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- write
- signal
- current
- circuit
- pulse
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶回路に関し、
特にPNP負荷型バイポーラ構成の半導体記憶回路に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory circuit,
In particular, it relates to a semiconductor memory circuit having a PNP load type bipolar structure.
【0002】[0002]
【従来の技術】PNP負荷型のメモリセルは例えばSB
D負荷型のメモリセルに比べて面積が小さく、ソフトエ
ラーに強く、消費電力が少ない等の利点があるため、比
較的高集積を必要とするRAMに採用されている。しか
しながら、PNP負荷型のメモリセルではPNPトラン
ジスタを飽和状態で使用するので、書込み速度が遅いと
いう短所がある。2. Description of the Related Art A PNP load type memory cell is, for example, an SB.
Compared with the D-load type memory cell, it has an advantage that it has a smaller area, is resistant to soft errors, and consumes less power. Therefore, it is used for a RAM that requires relatively high integration. However, since the PNP load type memory cell uses the PNP transistor in a saturated state, it has a disadvantage that the writing speed is slow.
【0003】PNP負荷型のメモリセルにおいては、図
4に示すように、PNPトランジスタQ1 ,Q2 と出力
トランジスタQ3 〜Q6 とによってフリップフロップ構
成のメモリセルが構成されている。ここで、C1 〜C4
はこのメモリセルの持つ寄生容量であり、Q7 ,Q8 は
書込みトランジスタである。In the PNP load type memory cell, as shown in FIG. 4, the PNP transistors Q1 and Q2 and the output transistors Q3 to Q6 form a flip-flop type memory cell. Where C1 to C4
Is a parasitic capacitance of this memory cell, and Q7 and Q8 are write transistors.
【0004】また、PNP負荷型のメモリセルではPN
PトランジスタQ1 及び出力トランジスタQ3 、PNP
トランジスタQ2 及び出力トランジスタQ4 によって夫
々PNPN構成の半セルを構成し、互いのベースとコレ
クタとを交差接続することでデータ保持を可能としてい
る。In the PNP load type memory cell, PN is used.
P transistor Q1 and output transistor Q3, PNP
The transistor Q2 and the output transistor Q4 each form a half cell having a PNPN structure, and data can be held by cross-connecting the base and collector of each other.
【0005】出力トランジスタQ3 及び書込みトランジ
スタQ7 、出力トランジスタQ4 及び書込みトランジス
タQ8 は夫々電流源IRW1 ,IRW2 とカレントスイッチ
回路を構成している。これら書込みトランジスタQ7 ,
Q8 のベース信号WCA,WCBを変化させることで、
メモリセルへの書込みが行われる。The output transistor Q3 and write transistor Q7, the output transistor Q4 and write transistor Q8 form a current switch circuit together with the current sources IRW1 and IRW2, respectively. These write transistors Q7,
By changing the base signals WCA and WCB of Q8,
Writing to the memory cell is performed.
【0006】PNP負荷型メモリセルへの書込みは寄生
容量C1 〜C4 の電荷の充電及び放電によって説明する
ことができる。ここでは書込み条件が最も厳しい読出し
直後の反転データの書込みについて以下説明する。Writing to the PNP load type memory cell can be explained by charging and discharging the charges of the parasitic capacitances C1 to C4. Here, the writing of inverted data immediately after the read under the severest write condition will be described below.
【0007】メモリセルへの書込みの初期状態におい
て、メモリセルが読出し状態にあるとすると、左側のP
NPN構成の半セルに読出し電流が流れており、PNP
トランジスタQ1 が深い飽和領域のオン状態にある。ま
た、右側のビット線DBには書込みトランジスタQ8 か
ら読出し電流が流れている。When the memory cell is in the read state in the initial state of writing to the memory cell, P on the left side
A read current is flowing in the half cell of the NPN structure,
Transistor Q1 is in the deep saturation region ON state. A read current is flowing from the write transistor Q8 to the right bit line DB.
【0008】この状態ではセルベース電位CAがロウレ
ベルを保持し、セルベース電位CBがハイレベルを保持
し、ベース信号WCA,WCBはそれらの中間電位に位
置している。In this state, the cell base potential CA holds the low level, the cell base potential CB holds the high level, and the base signals WCA and WCB are located at the intermediate potential between them.
【0009】このとき、寄生容量C1 にはPNPトラン
ジスタQ1 の順バイアスに対応した拡散容量に大量の電
荷が蓄積され、寄生容量C2 にはPNPトランジスタQ
2 の順バイアスに対応した拡散容量に僅かな電荷が蓄積
されている。At this time, a large amount of charge is accumulated in the diffusion capacitance corresponding to the forward bias of the PNP transistor Q1 in the parasitic capacitance C1, and the parasitic capacitance C2 is in the PNP transistor Q.
A small amount of electric charge is stored in the diffusion capacitance corresponding to the forward bias of 2.
【0010】また、寄生容量C3 にはセルベース電位C
A,CB間の電位差に対応した拡散容量に大量の電荷が
蓄積され、寄生容量C4 にはセルベース電位CA,CB
間の電位差に対応した拡散容量に僅かな電荷が蓄積され
ている。Further, the parasitic capacitance C3 has a cell base potential C.
A large amount of charge is accumulated in the diffusion capacitance corresponding to the potential difference between A and CB, and the parasitic capacitance C4 is stored in the cell base potentials CA and CB.
A small amount of charge is accumulated in the diffusion capacitance corresponding to the potential difference between the two.
【0011】メモリセルの書込み動作の前半領域t1 で
は、反転データを書込むためにベース信号WCAをセル
ベース電位CBよりもハイレベルにし、ベース信号WC
Bをセルベース電位CAよりもロウレベルにする。In the first half region t1 of the write operation of the memory cell, the base signal WCA is set to a level higher than the cell base potential CB in order to write the inverted data, and the base signal WC is set.
B is set to a lower level than the cell base potential CA.
【0012】右側のPNPN構成の半セルではベース信
号WCBがロウレベルになるために出力トランジスタQ
4 がオンとなるが、この書込み電流はまず寄生容量C3
,C4 の放電電流からなる。寄生容量C2 の充電が進
むにつれてPNPトランジスタQ2 のベース電流が支配
的になる。これによって、セルベース電位CBがロウレ
ベルに下がっていく。In the half cell of the PNPN structure on the right side, since the base signal WCB becomes low level, the output transistor Q
4 turns on, but this write current is the parasitic capacitance C3
, C4 discharge current. As the charging of the parasitic capacitance C2 progresses, the base current of the PNP transistor Q2 becomes dominant. As a result, the cell base potential CB drops to low level.
【0013】左側のビット線DAでは書込みトランジス
タQ7 が一気にオン状態になって書込み電流が切替わる
が、飽和時の寄生容量C1 の蓄積電荷が保持されたまま
なので、セルベース電位CBはロウレベルを継続したま
まである。In the bit line DA on the left side, the write transistor Q7 is turned on at once and the write current is switched, but since the accumulated charge of the parasitic capacitance C1 at the time of saturation is still held, the cell base potential CB continues to be low level. It is still done.
【0014】上記の如く、PNPトランジスタQ1 ,Q
2 がオン状態となり、セルベース電位CA,CBがとも
にロウレベルとなるまでの期間がメモリセルの書込み動
作の前半領域t1 である。As described above, the PNP transistors Q1 and Q
The period until 2 is turned on and the cell base potentials CA and CB are both at the low level is the first half region t1 of the write operation of the memory cell.
【0015】メモリセルの書込み動作の後半領域t2 で
は、書込みを完了させるのにPNPトランジスタQ1 を
オフにしなければならず、そのためには寄生容量C3 ,
C4の充電及び寄生容量C1 の放電が必要である。これ
らの充電及び放電電流はPNPトランジスタQ2 のコレ
クタから供給される。In the second half region t2 of the write operation of the memory cell, the PNP transistor Q1 must be turned off in order to complete the write, and therefore the parasitic capacitance C3,
It is necessary to charge C4 and discharge the parasitic capacitance C1. These charge and discharge currents are supplied from the collector of PNP transistor Q2.
【0016】これらの充電及び放電によってセルベース
電位CAの電位がロウレベルからハイレベルに遷移す
る。このメモリセルの書込み動作の前半領域t1 からセ
ルベース電位CAの電位がハイレベルに遷移するまでの
期間がメモリセルの書込み動作の後半領域t2 である。Due to these charging and discharging, the potential of the cell base potential CA changes from low level to high level. The period from the first half region t1 of the write operation of the memory cell to the transition of the cell base potential CA to the high level is the second half region t2 of the write operation of the memory cell.
【0017】上述した寄生容量C1 〜C4 の充電及び放
電が終了すると、メモリセルへの反転データの書込みが
終了する。When the above-mentioned charging and discharging of the parasitic capacitances C1 to C4 are completed, the writing of the inverted data to the memory cells is completed.
【0018】このように、書込み動作は寄生容量C1 〜
C4 の充電及び放電の動きとして等価的に表されるの
で、書込み動作を高速にする対策としては充電及び放電
を加速させることが考えられる。As described above, the write operation is performed with the parasitic capacitance C1.
Since it is equivalently expressed as the movement of charging and discharging of C4, acceleration of charging and discharging can be considered as a measure for speeding up the writing operation.
【0019】そこで、読出し時の電流よりも書込み時の
電流を増加させることで書込み時間を短縮する方法が考
えられている。この方法としては、特開昭58−704
83号公報に開示された技術等がある。Therefore, a method has been considered in which the write time is shortened by increasing the write current more than the read current. This method is disclosed in JP-A-58-704.
There is a technique disclosed in Japanese Patent Publication No. 83.
【0020】この書込み動作の高速化の方法としては、
図5に示すように、ビット線DA,DBに接続されたカ
レントスイッチ回路5,6によってメモリセル(MC)
7−1〜7−mから流れる電流を切替えることで、書込
み時にメモリセル7−1〜7−mから流れる電流を読出
し時の電流よりも大きくするようにする方法がある。As a method of speeding up this writing operation,
As shown in FIG. 5, the memory cells (MC) are formed by the current switch circuits 5 and 6 connected to the bit lines DA and DB.
There is a method in which the current flowing from the memory cells 7-1 to 7-m at the time of writing is made larger than the current at the time of reading by switching the current flowing from 7-1 to 7-m.
【0021】この場合、ビット線DA,DBはビット線
選択スイッチQSW1 ,QSW2 を経て定電流源IR1,IR2
に接続されるとともに、カレントスイッチ回路5,6を
経て書込み電流源IW1,IW2に接続されている。In this case, the bit lines DA and DB pass through the bit line selection switches QSW1 and QSW2 and the constant current sources IR1 and IR2.
And write current sources IW1 and IW2 via current switch circuits 5 and 6.
【0022】書込み制御部10はライトパルス信号WP
及びライトデータ信号WDが書込み制御回路(WC)3
で変換された書込み制御信号WCA,WCBによってメ
モリセル7−1〜7−mに書込みのタイミングと情報と
を伝達する。The write controller 10 uses the write pulse signal WP.
And the write data signal WD is the write control circuit (WC) 3
The write timing and information are transmitted to the memory cells 7-1 to 7-m by the write control signals WCA and WCB converted by.
【0023】また、書込み制御部10はライトパルス信
号WP及びライトデータ信号WDがカレントスイッチ制
御回路(WI)4で変換されたカレントスイッチ制御信
号WIA,WIBによってカレントスイッチ回路5,6
を制御する。Further, the write control section 10 uses the current switch control signals WIA and WIB obtained by converting the write pulse signal WP and the write data signal WD by the current switch control circuit (WI) 4 into the current switch circuits 5 and 6.
To control.
【0024】書込み制御回路3及びカレントスイッチ制
御回路4によるライトパルス信号WP及びライトデータ
信号WDの書込み制御信号WCA,WCB及びカレント
スイッチ制御信号WIA,WIBへの変換は振幅及びレ
ベル変換のみが目的で行われる。The conversion of the write pulse signal WP and the write data signal WD into the write control signals WCA and WCB and the current switch control signals WIA and WIB by the write control circuit 3 and the current switch control circuit 4 is intended only for amplitude and level conversion. Done.
【0025】これら書込み制御信号WCA,WCB及び
カレントスイッチ制御信号WIA,WIBは、図6に示
すように、夫々の前後縁のタイミングが同一であるの
で、この時間内においてはカレントスイッチ回路5,6
が切替わってメモリセル7−1〜7−mの書込み電流が
増加する。尚、8−1〜8−nは各々メモリセル7−1
〜7−mからなるメモリセル列である。As shown in FIG. 6, the write control signals WCA, WCB and the current switch control signals WIA, WIB have the same timing on the front and rear edges, so that the current switch circuits 5, 6 within this time period.
Are switched to increase the write current of the memory cells 7-1 to 7-m. Incidentally, 8-1 to 8-n are the memory cells 7-1, respectively.
7-m is a memory cell column.
【0026】[0026]
【発明が解決しようとする課題】寄生容量の充電及び放
電で等価的に表されるメモリセルの書込み動作において
は、PNPトランジスタの電流増幅率βPNP が大きく影
響している。書込み動作の前半領域t1 ではセルベース
電位CBをハイレベルからロウレベルに遷移させるため
に寄生容量C3 を放電させなければならない。したがっ
て、オン状態のPNPトランジスタQ1 のコレクタから
の供給は少ないほうが、つまり電流増幅率βPNP が小さ
い方がよい。The current amplification factor β PNP of the PNP transistor greatly influences the write operation of the memory cell, which is equivalently represented by charging and discharging of the parasitic capacitance. In the first half region t1 of the write operation, the parasitic capacitance C3 must be discharged in order to change the cell base potential CB from the high level to the low level. Therefore, it is better that the supply from the collector of the PNP transistor Q1 in the ON state is smaller, that is, the current amplification factor β PNP is smaller.
【0027】一方、書込み動作の後半領域t2 ではセル
ベース電位CAをハイレベルに遷移させるために寄生容
量C1 の放電と寄生容量C3 の充電とを、すでにオン状
態にあるPNPトランジスタQ2 のコレクタから供給す
る必要がある。On the other hand, in the latter half region t2 of the write operation, the discharge of the parasitic capacitance C1 and the charge of the parasitic capacitance C3 are supplied from the collector of the PNP transistor Q2 which is already in the ON state in order to change the cell base potential CA to the high level. There is a need to.
【0028】したがって、書込み動作の後半領域t2 で
は電流増幅率βPNP が大きいのが望ましい。つまり、書
込み動作の高速化のためには大電流域の電流増幅率β
PNP に書込み動作の前半領域t1 と書込み動作の後半領
域t2 とで相反する特性が要求される。Therefore, it is desirable that the current amplification factor β PNP is large in the latter half region t2 of the write operation. That is, in order to speed up the write operation, the current amplification factor β in the large current region
The PNP is required to have contradictory characteristics in the first half area t1 of the write operation and the second half area t2 of the write operation.
【0029】しかしながら、メモリセルに採用されるP
NPトランジスタの特性は大電流域において電流が大き
くなるほど電流増幅率βPNP が小さくなるため、書込み
パルスと同じタイミングで書込み電流を増やす従来の方
法では書込み電流が増加することによって書込み期間
中、常に電流増幅率βPNP が小さくなっている。よっ
て、書込み動作の前半領域t1 では書込み動作が速くな
るが、書込み動作の後半領域t2 では書込み動作が遅く
なる。However, P used in the memory cell
The characteristic of the NP transistor is that the current amplification factor β PNP decreases as the current increases in the large current region. Therefore, in the conventional method of increasing the write current at the same timing as the write pulse, the write current increases, so that the current is always maintained during the write period. The amplification rate β PNP is small. Therefore, the write operation becomes faster in the first half area t1 of the write operation, but becomes slower in the second half area t2 of the write operation.
【0030】現在では書込み時間の内訳において、書込
み動作の後半領域t2 の方が支配的となってきているの
で、書込み時間をトータルで考えると、書込み時の電流
を大幅に増加させても更なる高速化が難しいという問題
がある。At present, the latter half region t2 of the write operation is more dominant in the breakdown of the write time. Therefore, considering the write time as a whole, even if the current at the time of write is greatly increased. There is a problem that speeding up is difficult.
【0031】また、従来の方法ではワードドライバ出力
トランジスタやメモリセル中のPNPトランジスタの順
方向電圧VBEが増大し、メモリセル電位がその分下降す
る。書込み動作の後半領域t2 においてはメモリセルの
充電及び放電が終了した後も、この電位降下によってメ
モリセル内の電位が正常なレベルに回復せず、下がった
ままの状態となる。Further, in the conventional method, the forward voltage VBE of the word driver output transistor and the PNP transistor in the memory cell is increased, and the memory cell potential is decreased accordingly. In the latter half region t2 of the write operation, even after the charge and discharge of the memory cell are completed, the potential drop does not restore the potential in the memory cell to the normal level, but remains in the lowered state.
【0032】この状態で書込み動作から読出し動作に戻
すと、下がっていたハイレベル側のメモリセルの電位が
回復して安定するまでの時間、いわゆるリカバリタイム
を充分に取らなければならなくなり、トータルの書込み
サイクルタイムが増加するという問題がある。さらに、
出力波形がリンギングを出す等の問題もある。When the write operation is returned to the read operation in this state, a so-called recovery time, which is the time until the lowered potential of the memory cell on the high level side is restored and becomes stable, has to be taken sufficiently, and the total amount is reduced. There is a problem that the write cycle time increases. further,
There is also a problem that the output waveform causes ringing.
【0033】そこで、本発明の目的は上記問題点を解消
し、書込み動作を高速化することができるとともに、ト
ータルの書込みサイクルタイムを短縮することができる
半導体記憶回路を提供することにある。Therefore, an object of the present invention is to solve the above problems, to provide a semiconductor memory circuit capable of speeding up a write operation and shortening a total write cycle time.
【0034】[0034]
【課題を解決するための手段】本発明による半導体記憶
回路は、書込みパルス信号に応答してメモリ素子に流れ
る書込み電流によってデータの書込みが行われる半導体
記憶回路であって、前記書込み電流を前記メモリ素子に
対するデータの読出し時に流れる電流よりも増加させる
手段と、前記書込み電流の増加時間が前記書込みパルス
信号のパルス幅よりも短い時間となるように制御する制
御手段とを備えている。A semiconductor memory circuit according to the present invention is a semiconductor memory circuit in which data is written by a write current flowing through a memory element in response to a write pulse signal. It is provided with means for increasing the current flowing when reading data from the element and control means for controlling the increase time of the write current to be a time shorter than the pulse width of the write pulse signal.
【0035】本発明による他の半導体記憶回路は、各々
のベースとコレクタとが互いに交差接続された一対の駆
動トランジスタ素子と、この駆動トランジスタのコレク
タに負荷として接続されたPNPトランジスタ素子とか
らなりかつ各々がマトリクス状に配置された複数のメモ
リセルと、前記複数のメモリセルのうち同一列のメモリ
セルの前記駆動トランジスタ素子のエミッタが共通接続
された一対のビット線と、前記一対のビット線に夫々エ
ミッタを接続した一対の書込みトランジスタと、前記一
対のビット線に夫々電流を供給する電流源とを有し、前
記一対の書込みトランジスタのベースにパルス状の信号
を与えることで前記一対の書込みトランジスタをオンオ
フさせて前記メモリセルに対する書込み制御を行う半導
体記憶回路であって、前記書込み時に前記メモリセルか
ら電流を流す側のビット線の書込み電流を読出し時の電
流よりも増加させる手段と、前記書込み電流を増加させ
る時間が前記書込みトランジスタのベースに与えるパル
ス状の信号のパルス幅よりも短くなるよう制御する手段
とを備えている。Another semiconductor memory circuit according to the present invention comprises a pair of drive transistor elements each having its base and collector cross-connected to each other, and a PNP transistor element connected as a load to the collector of the drive transistor. A plurality of memory cells, each of which is arranged in a matrix; a pair of bit lines to which the emitters of the drive transistor elements of the memory cells of the same column among the plurality of memory cells are commonly connected; and the pair of bit lines. A pair of write transistors having emitters connected to each other, and a current source for supplying a current to the pair of bit lines, respectively. The pair of write transistors is provided by applying a pulsed signal to the bases of the pair of write transistors. Is a semiconductor memory circuit that turns on and off to control writing to the memory cell. A means for increasing the write current of the bit line on the side that allows a current to flow from the memory cell at the time of the write operation than the current at the read time, and a pulsed signal for giving the time for increasing the write current to the base of the write transistor. And a means for controlling the pulse width to be shorter than the pulse width.
【0036】[0036]
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings.
【0037】図1は本発明の一実施例の構成を示す回路
図である。図において、本発明の一実施例は書込み制御
部1内にパルス作成回路(PG)2を設けた以外は図5
に示す従来例と同様の構成となっており、同一構成要素
には同一符号を付してある。また、それら同一構成要素
の動作は従来例の動作と同様である。FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention. In FIG. 5, one embodiment of the present invention is shown in FIG. 5 except that a pulse generation circuit (PG) 2 is provided in the write control unit 1.
The configuration is the same as that of the conventional example shown in FIG. 3, and the same components are designated by the same reference numerals. The operation of those same constituent elements is similar to the operation of the conventional example.
【0038】パルス作成回路2のゲート回路20は入力
されたライトパルス信号WPから正転信号と反転信号と
を生成し、正転信号WP1 をアンド回路22に出力する
とともに、反転信号を遅延回路(Delay)21に出
力する。The gate circuit 20 of the pulse generating circuit 2 generates a normal signal and an inverted signal from the input write pulse signal WP, outputs the normal signal WP1 to the AND circuit 22, and delays the inverted signal by a delay circuit ( Delay) 21 is output.
【0039】遅延回路21はゲート回路20から入力し
た反転信号を所定時間遅延し、遅延した信号WP2 をア
ンド回路22に出力する。アンド回路22はゲート回路
20からの正転信号WP1 と遅延回路21で遅延された
信号WP2 とのアンドをとり、ライトパルス信号WPよ
りも短いパルス幅を持った信号WP3 を生成してカレン
トスイッチ制御回路4に出力する。図2のタイミングチ
ャートはこのアンド回路22による信号WP3 の生成動
作を示している。The delay circuit 21 delays the inverted signal input from the gate circuit 20 for a predetermined time, and outputs the delayed signal WP2 to the AND circuit 22. The AND circuit 22 ANDs the normal signal WP1 from the gate circuit 20 and the signal WP2 delayed by the delay circuit 21 to generate a signal WP3 having a pulse width shorter than the write pulse signal WP to control the current switch. Output to circuit 4. The timing chart of FIG. 2 shows the operation of generating the signal WP3 by the AND circuit 22.
【0040】カレントスイッチ制御回路4はパルス作成
回路2からの信号WP3 とライトデータ信号WDとをカ
レントスイッチ制御信号WIA,WIBに変換し、カレ
ントスイッチ回路5,6に出力する。The current switch control circuit 4 converts the signal WP3 from the pulse generation circuit 2 and the write data signal WD into current switch control signals WIA, WIB and outputs them to the current switch circuits 5, 6.
【0041】カレントスイッチ回路5,6はカレントス
イッチ制御信号WIA,WIBによって制御され、メモ
リセル7−1〜7−mに対する書込み動作時にビット線
DA,DBの一方の電流を増加させる。このとき、電流
の増加時間はパルス作成回路2からの信号WP3 のパル
ス幅がライトパルス信号WPよりも短いため、書込み時
間よりも短くなる。The current switch circuits 5 and 6 are controlled by the current switch control signals WIA and WIB, and increase one of the currents of the bit lines DA and DB at the time of write operation to the memory cells 7-1 to 7-m. At this time, the increase time of the current is shorter than the writing time because the pulse width of the signal WP3 from the pulse generating circuit 2 is shorter than the write pulse signal WP.
【0042】すなわち、電流が増加することで高速化さ
れるのは書込み動作の前半領域t1であるので、書込み
動作の前半領域t1 が終了するまではパルス作成回路2
からの信号WP3 のパルスが必要である。この信号WP
3 のパルスは書込み動作の後半領域t2 では不要なの
で、書込み動作の前半領域t1 が終了した直後に終了す
るようにしてある。That is, since it is the first half region t1 of the write operation that is speeded up by the increase of the current, the pulse generation circuit 2 continues until the first half region t1 of the write operation is completed.
A pulse of signal WP3 from is required. This signal WP
Since the pulse of 3 is unnecessary in the second half area t2 of the write operation, the pulse is finished immediately after the first half area t1 of the write operation is finished.
【0043】図3は本発明の他の実施例の構成を示す回
路図である。図において、本発明の他の実施例は1つの
カレントスイッチ回路9にした以外は図1に示す本発明
の一実施例と同様の構成となっており、同一構成要素に
は同一符号を付してある。また、それら同一構成要素の
動作は従来例の動作と同様である。FIG. 3 is a circuit diagram showing the configuration of another embodiment of the present invention. In the figure, the other embodiment of the present invention has the same configuration as that of the embodiment of the present invention shown in FIG. 1 except that one current switch circuit 9 is used, and the same components are designated by the same reference numerals. There is. The operation of those same constituent elements is similar to the operation of the conventional example.
【0044】カレントスイッチ制御回路4はメモリセル
7−1〜7−mに対する読出し時に、カレントスイッチ
制御信号WIA,WIBを同じレベルとなるように作成
し、ビット線DA,DBに流れる電流が同じになるよう
にする。The current switch control circuit 4 creates the current switch control signals WIA and WIB to be at the same level when reading from the memory cells 7-1 to 7-m so that the currents flowing through the bit lines DA and DB are the same. To be
【0045】また、カレントスイッチ制御回路4はメモ
リセル7−1〜7−mに対する書込み時に、カレントス
イッチ制御信号WIA,WIBの一方をパルス作成回路
2からの信号WP3 のパルスを基に作成し、カレントス
イッチ回路9のトランジスタQ9 ,Q10の一方を書込み
時間よりも短い時間オンとする。これによって、ビット
線DA,DBの一方に流れる電流が書込み時間よりも短
い時間増加される。Further, the current switch control circuit 4 creates one of the current switch control signals WIA and WIB on the basis of the pulse of the signal WP3 from the pulse creation circuit 2 when writing to the memory cells 7-1 to 7-m, One of the transistors Q9 and Q10 of the current switch circuit 9 is turned on for a time shorter than the writing time. As a result, the current flowing through one of the bit lines DA and DB is increased for a time shorter than the write time.
【0046】このように、パルス作成回路2及びカレン
トスイッチ制御回路4によって、メモリセル7−1〜7
−mに対する書込み動作の前半領域t1 のみ書込み電流
が増加するように制御することによって、書込み動作の
前半領域t1 の書込み動作を速くすることができるとと
もに、書込み動作の後半領域t2 の書込み動作も速くす
ることができる。As described above, the pulse generation circuit 2 and the current switch control circuit 4 allow the memory cells 7-1 to 7-7.
By controlling the write current to increase only in the first half region t1 of the write operation for -m, the write operation in the first half region t1 of the write operation can be speeded up, and the write operation in the second half region t2 of the write operation is also speeded up. can do.
【0047】また、メモリセル7−1〜7−mの電位の
正常なレベルへの遷移をDC的に加速できるので、リカ
バリタイムを短縮することができ、トータルの書込みサ
イクルタイムを大幅に短縮することができる。Further, since the transition of the potentials of the memory cells 7-1 to 7-m to the normal level can be accelerated in a DC manner, the recovery time can be shortened and the total write cycle time can be greatly shortened. be able to.
【0048】[0048]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、書
込みパルス信号に応答してメモリ素子に流れる書込み電
流を、書込みパルス信号のパルス幅よりも短い時間だけ
メモリ素子に対するデータの読出し時に流れる電流より
も増加させることによって、書込み動作を高速化するこ
とができるとともに、トータルの書込みサイクルタイム
を短縮することができるという効果がある。As described above, according to the present invention, the write current flowing in the memory element in response to the write pulse signal flows when the data is read from the memory element for a time shorter than the pulse width of the write pulse signal. By increasing the current more than the current, the write operation can be speeded up and the total write cycle time can be shortened.
【図1】本発明の一実施例の構成を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of an exemplary embodiment of the present invention.
【図2】図1のアンド回路によるパルス信号の生成動作
を示すタイミングチャートである。FIG. 2 is a timing chart showing a pulse signal generation operation by the AND circuit of FIG.
【図3】本発明の他の実施例の構成を示す回路図であ
る。FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of another embodiment of the present invention.
【図4】PNP負荷型メモリセルの書込み動作を説明す
るための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining a write operation of a PNP load type memory cell.
【図5】従来例の構成を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional example.
【図6】図5の書込み制御信号及びカレントスイッチ制
御信号を示すタイミングチャートである。6 is a timing chart showing a write control signal and a current switch control signal of FIG.
1 書込み制御部 2 パルス作成回路 3 書込み制御回路 4 カレントスイッチ制御回路 5,6,9 カレントスイッチ回路 7−1〜7−m メモリセル 8−1〜8−n メモリセル列 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 write control unit 2 pulse creation circuit 3 write control circuit 4 current switch control circuit 5, 6, 9 current switch circuit 7-1 to 7-m memory cell 8-1 to 8-n memory cell column
Claims (4)
に流れる書込み電流によってデータの書込みが行われる
半導体記憶回路であって、前記書込み電流を前記メモリ
素子に対するデータの読出し時に流れる電流よりも増加
させる手段と、前記書込み電流の増加時間が前記書込み
パルス信号のパルス幅よりも短い時間となるように制御
する制御手段とを有することを特徴とする半導体記憶回
路。1. A semiconductor memory circuit in which data is written by a write current flowing through a memory element in response to a write pulse signal, wherein the write current is made larger than a current flowing when data is read from the memory element. 2. A semiconductor memory circuit comprising: means for controlling an increase time of the write current to be a time shorter than a pulse width of the write pulse signal.
と当該書込みパルス信号を反転遅延した信号とを論理演
算し、その演算結果から前記書込み電流の増加時間を制
御するための信号を生成する手段を含むことを特徴とす
る請求項1記載の半導体記憶回路。2. The means for logically operating the write pulse signal and a signal obtained by inverting and delaying the write pulse signal, and generating a signal for controlling the increase time of the write current from the operation result. The semiconductor memory circuit according to claim 1, further comprising:
接続された一対の駆動トランジスタ素子と、この駆動ト
ランジスタのコレクタに負荷として接続されたPNPト
ランジスタ素子とからなりかつ各々がマトリクス状に配
置された複数のメモリセルと、前記複数のメモリセルの
うち同一列のメモリセルの前記駆動トランジスタ素子の
エミッタが共通接続された一対のビット線と、前記一対
のビット線に夫々エミッタを接続した一対の書込みトラ
ンジスタと、前記一対のビット線に夫々電流を供給する
電流源とを有し、前記一対の書込みトランジスタのベー
スにパルス状の信号を与えることで前記一対の書込みト
ランジスタをオンオフさせて前記メモリセルに対する書
込み制御を行う半導体記憶回路であって、前記書込み時
に前記メモリセルから電流を流す側のビット線の書込み
電流を読出し時の電流よりも増加させる手段と、前記書
込み電流を増加させる時間が前記書込みトランジスタの
ベースに与えるパルス状の信号のパルス幅よりも短くな
るよう制御する手段とを含むことを特徴とする半導体記
憶回路。3. A pair of drive transistor elements each having a base and a collector cross-connected to each other, and a PNP transistor element connected as a load to the collector of the drive transistor, each arranged in a matrix. A plurality of memory cells, a pair of bit lines to which the emitters of the drive transistor elements of the memory cells of the same column among the plurality of memory cells are connected in common, and a pair of writing in which the emitters are connected to the pair of bit lines, respectively. A transistor and a current source for supplying a current to each of the pair of bit lines, and by applying a pulsed signal to the bases of the pair of write transistors, the pair of write transistors is turned on / off to turn on / off the memory cell. A semiconductor memory circuit for performing write control, comprising: Means for increasing the write current of the bit line on the side where the current flows from the read current, and the time for increasing the write current is shorter than the pulse width of the pulsed signal given to the base of the write transistor. A semiconductor memory circuit including means for controlling.
号と当該パルス状の信号を反転遅延した信号とを論理演
算し、その演算結果を基に前記書込み電流を増加させる
時間を制御する手段を含むことを特徴とする請求項3記
載の半導体記憶回路。4. The control means logically operates the pulse-shaped signal and a signal obtained by inverting and delaying the pulse-shaped signal, and controls the time for increasing the write current based on the operation result. 4. The semiconductor memory circuit according to claim 3, comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5248826A JP2595876B2 (en) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | Semiconductor memory circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5248826A JP2595876B2 (en) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | Semiconductor memory circuit |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0778482A true JPH0778482A (en) | 1995-03-20 |
JP2595876B2 JP2595876B2 (en) | 1997-04-02 |
Family
ID=17184002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5248826A Expired - Lifetime JP2595876B2 (en) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | Semiconductor memory circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2595876B2 (en) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57164489A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-09 | Fujitsu Ltd | Semicondutor memory |
JPS5870483A (en) * | 1981-10-23 | 1983-04-26 | Hitachi Ltd | Semiconductor storage device |
JPS58115681A (en) * | 1981-12-28 | 1983-07-09 | Fujitsu Ltd | Bit line driving circuit for semiconductor memory |
JPS5911592A (en) * | 1982-07-12 | 1984-01-21 | Hitachi Ltd | Bipolar type ram |
JPS60237699A (en) * | 1985-04-23 | 1985-11-26 | Hitachi Ltd | Semiconductor memory |
JPH02239496A (en) * | 1989-03-13 | 1990-09-21 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory |
JPH03237691A (en) * | 1990-02-14 | 1991-10-23 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory |
-
1993
- 1993-09-08 JP JP5248826A patent/JP2595876B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57164489A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-09 | Fujitsu Ltd | Semicondutor memory |
JPS5870483A (en) * | 1981-10-23 | 1983-04-26 | Hitachi Ltd | Semiconductor storage device |
JPS58115681A (en) * | 1981-12-28 | 1983-07-09 | Fujitsu Ltd | Bit line driving circuit for semiconductor memory |
JPS5911592A (en) * | 1982-07-12 | 1984-01-21 | Hitachi Ltd | Bipolar type ram |
JPS60237699A (en) * | 1985-04-23 | 1985-11-26 | Hitachi Ltd | Semiconductor memory |
JPH02239496A (en) * | 1989-03-13 | 1990-09-21 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory |
JPH03237691A (en) * | 1990-02-14 | 1991-10-23 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2595876B2 (en) | 1997-04-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4337523A (en) | Bipolar memory circuit | |
KR910000966B1 (en) | Semiconductor memory having a dynamic discharge circuit | |
US5199000A (en) | Semiconductor memory circuit having switched voltage supply for data bus lines | |
JPS5838870B2 (en) | decoder circuit | |
JP2595876B2 (en) | Semiconductor memory circuit | |
JPS5877092A (en) | Reading of memory | |
JPH034998B2 (en) | ||
JPS62262295A (en) | Random access memory | |
US4922411A (en) | Memory cell circuit with supplemental current | |
JP2545502B2 (en) | Storage device | |
JPH09180457A (en) | Semiconductor storage | |
JPS6025830B2 (en) | semiconductor memory circuit | |
JPH0152834B2 (en) | ||
JP2527106B2 (en) | Semiconductor memory circuit | |
JP2878036B2 (en) | Semiconductor storage device | |
JP2701696B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
JPH0381239B2 (en) | ||
JP2533539B2 (en) | Semiconductor circuit | |
JPH0517640B2 (en) | ||
JPH04245097A (en) | Semiconductor storage device | |
JPH01171192A (en) | Semiconductor memory device | |
JPH0973785A (en) | Semiconductor device | |
JPH07153275A (en) | Semiconductor memory | |
JPH0773675A (en) | Memory selector circuit | |
JPH034999B2 (en) |