JPH07153275A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH07153275A
JPH07153275A JP5325924A JP32592493A JPH07153275A JP H07153275 A JPH07153275 A JP H07153275A JP 5325924 A JP5325924 A JP 5325924A JP 32592493 A JP32592493 A JP 32592493A JP H07153275 A JPH07153275 A JP H07153275A
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JP
Japan
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memory cell
circuit
write
delay
memory
Prior art date
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Pending
Application number
JP5325924A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Etsuko Iwamoto
恵津子 岩本
Keiichi Higeta
恵一 日下田
Kunihiko Yamaguchi
邦彦 山口
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To shorten a writing time by generating a writing pulse in which a device characteristic of a memory cell is corrected. CONSTITUTION:A memory cell characteristic correction delay circuit 51 comprises a delay stage DEL1 which delays an output signal of a delay circuit 50, a delay stage DEL2 which delays an output signal of the DEL1, and a buffer stage DEL3 which delays an output signal of the DEL2. The DEL1 has circuit constitution equivalent delay to a writing amplifier, and an input clock is delayed by passing through the DEL1 during an equal time in which writing data is amplified by a writing amplifier. The DEL2 has circuit constitution DMS which imitates to the one memory cell of a memory cell array, and correction of a writing pulse in which a device characteristic of the memory cell is considered can be performed by arranging the DEL2. In the DEL2, a signal from the DMS can be read out through transfer MOSs 39, 41, this read-out signal is transmitted to the DEL 3, and transmitted to an AND circuit 52 as an output signal of the circuit 51.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置、さら
にはそれにおける書込みアンプの動作制御用の書込みパ
ルスの生成技術に関し、例えばスタティック・ランダム
・アクセス・メモリ(SRAMと略記する)に適用して
有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and further to a write pulse generation technique for controlling the operation of a write amplifier in the semiconductor memory device, which is applied to, for example, a static random access memory (abbreviated as SRAM). And effective technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば複数個のスタティック型メモリセ
ルをマトリクス配置して成るSRAMにおいては、メモ
リセルの選択端子がロウ方向毎にワード線に結合され、
メモリセルのデータ入出力端子がカラム方向毎に相補デ
ータ線(相補ビット線とも称される)に結合される。そ
れぞれの相補データ線は、相補データ線に1対1で結合
された複数個のカラム選択スイッチを含むY選択スイッ
チ回路を介して相補コモンデータ線に共通接続されてい
る。そのようなSRAMにおいて、メモリセルへの書込
みデータを外部から取込むための書込みアンプが設けら
れている。この書込みアンプの動作は、クロックを所定
時間遅延して得た書込みパルスによって制御されるよう
になっている。そのような書込みパルスを生成するため
の書込みパルス生成回路は、バイポーラECL(エミッ
タ結合論理)のスイッチングノードにキャパシタを付け
て成る遅延回路を多段結合し、その遅延出力と、当該遅
延段への入力クロックとの論理積を得るアンド回路を結
合して成る。
2. Description of the Related Art For example, in an SRAM having a plurality of static memory cells arranged in a matrix, the select terminals of the memory cells are connected to word lines in each row direction.
Data input / output terminals of memory cells are coupled to complementary data lines (also referred to as complementary bit lines) in each column direction. Each complementary data line is commonly connected to the complementary common data line via a Y selection switch circuit including a plurality of column selection switches which are coupled to the complementary data line in a one-to-one relationship. In such an SRAM, a write amplifier for taking in write data to the memory cell from the outside is provided. The operation of this write amplifier is controlled by a write pulse obtained by delaying the clock by a predetermined time. A write pulse generation circuit for generating such a write pulse has a delay circuit in which a switching node of a bipolar ECL (emitter coupling logic) is provided with a capacitor, is connected in multiple stages, and its delay output and an input to the delay stage are connected. It is configured by combining an AND circuit that obtains a logical product with a clock.

【0003】尚、SRAMについて記載された文献の例
としては、昭和59年11月30日にオーム社より発行
された「LSIハンドブック(第500頁〜)」があ
る。
An example of a document describing SRAM is "LSI Handbook (starting from page 500)" issued by Ohmsha on November 30, 1984.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように、バイポーラECLのスイッチングノードにキャ
パシタを付けて成る遅延回路を多段結合し、その遅延出
力と、当該遅延段への入力クロックとの論理積を得るア
ンド回路を結合して成る書込みパルス発生回路では、メ
モリセルに、CMOSトランジスタによって形成された
ものが適用された場合には、当該MOSトランジスタの
デバイス特性を補償した書込みパルスの生成が困難にな
る。そのため、MOSトランジスタによりメモリセルが
構成される場合には、書込み時の動作マージンを比較的
大きくする必要があり、そのことが、書込み時間の短縮
を阻害する主たる要因とされるのが、本発明者によって
見いだされた。
However, as described above, the delay circuits each having a capacitor attached to the switching node of the bipolar ECL are coupled in multiple stages, and the logical product of the delay output and the input clock to the delay stage is obtained. In the write pulse generating circuit formed by combining the AND circuits for obtaining the above, when the memory cell formed by the CMOS transistor is applied, it is difficult to generate the write pulse that compensates for the device characteristic of the MOS transistor. Become. Therefore, when a memory cell is composed of MOS transistors, it is necessary to make the operation margin at the time of writing relatively large, which is the main factor that hinders the shortening of the writing time. Have been found by others.

【0005】本発明の目的は、メモリセルのデバイス特
性を補償した書込みパルスを生成することによって、書
込み時間の短縮を図るための技術を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide a technique for reducing the write time by generating a write pulse that compensates for the device characteristics of the memory cell.

【0006】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The outline of the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0008】すなわち、メモリセルの構成に起因する信
号遅延特性を補償するためのメモリ特性補償手段を含ん
で、書込みアンプの動作制御用パルスを生成するための
書込みパルス生成回路を構成するものである。このと
き、メモリ特性補償手段は、メモリセルと等価な記憶ノ
ードによる遅延回路を含んで構成することができる。さ
らに、具体的な態様では、上記メモリ特性補償手段は、
メモリセルの記憶ノードと等しい構成の記憶ノードと、
この記憶ノードへ信号取込可能な第1ポートと、この第
1ポートを介して記憶ノードに取込まれた信号を読出し
可能な第2ポートとを含み、上記第1ポートから与えら
れた信号を遅延して上記第2ポートから出力可能に構成
することができる。
That is, a write pulse generation circuit for generating a pulse for operation control of a write amplifier is constituted by including a memory characteristic compensating means for compensating for a signal delay characteristic caused by the structure of a memory cell. . At this time, the memory characteristic compensating means can be configured to include a delay circuit having a storage node equivalent to the memory cell. Furthermore, in a specific aspect, the memory characteristic compensation means is
A storage node having the same structure as the storage node of the memory cell,
A first port capable of taking in a signal to the storage node; and a second port capable of reading out a signal taken into the storage node via the first port, and a signal given from the first port The output can be delayed and output from the second port.

【0009】[0009]

【作用】上記した手段によれば、上記メモリセル特性補
償手段は、書込みアンプの動作制御用のパルス信号を生
成する際に、メモリセルの構成に起因する信号遅延特性
を補償する。このことが、メモリセルのデバイス特性を
補償した書込みパルスの生成を可能とし、必要以上のマ
ージン確保を不要とすることによって、書込み時間の短
縮化を達成する。
According to the above means, the memory cell characteristic compensating means compensates the signal delay characteristic caused by the configuration of the memory cell when generating the pulse signal for controlling the operation of the write amplifier. This makes it possible to generate a write pulse in which the device characteristics of the memory cell are compensated, and it is possible to shorten the write time by eliminating the need to secure a margin more than necessary.

【0010】[0010]

【実施例】図3には本発明の一実施例であるスタティッ
クRAMが示される。同図に示されるSRAMは、特に
制限されないが、公知の半導体集積回路製造技術によっ
て単結晶シリコン基板などの一つの半導体基板に形成さ
れる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 3 shows a static RAM which is an embodiment of the present invention. Although not particularly limited, the SRAM shown in the figure is formed on one semiconductor substrate such as a single crystal silicon substrate by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique.

【0011】図3において6は、複数個のスタティック
型メモリセルをマトリクス配置したメモリセルアレイで
あり、メモリセルの選択端子はロウ方向毎にワード線に
結合され、メモリセルのデータ入出力端子はカラム方向
毎に相補データ線に結合される。それぞれの相補データ
線は、相補データ線に1対1で結合された複数個のカラ
ム選択スイッチを含むY選択スイッチ回路9を介して相
補コモンデータ線に共通接続されている。
In FIG. 3, reference numeral 6 denotes a memory cell array in which a plurality of static memory cells are arranged in a matrix. Select terminals of the memory cells are connected to word lines in each row direction, and data input / output terminals of the memory cells are column columns. Each direction is coupled to a complementary data line. Each complementary data line is commonly connected to the complementary common data line via a Y selection switch circuit 9 including a plurality of column selection switches coupled to the complementary data line in a one-to-one relationship.

【0012】外部より入力されるアドレス信号A0〜A
nのうちA0〜Amは、それに対応して配置されたアド
レスバッファ1−0〜1−mを介してXデコーダ4に伝
達される。アドレス信号Am+1〜Anは、それに対応
して配置されたアドレスバッファ1−m+1〜1−mを
介してYデコーダ8に伝達される。Xドライバ5はXデ
コーダ4のデコード出力に基づいて、入力アドレス信号
に対応するワード線を選択レベルに駆動する。所定のワ
ード線が駆動されると、このワード線に結合されたメモ
リセルが選択される。またYデコーダ8は、これに供給
されるアドレス信号に対応するY選択スイッチ回路9の
選択信号を生成する。この選択信号は、Yドライバ2を
介してY選択スイッチ回路9へ伝達される。すると、Y
選択スイッチ回路9の選択動作により、データ線が選択
的にコモンデータ線に導通される。このとき相補コモン
データ線の電位は、読出しアンプ11で増幅されて外部
に出力可能とされる。また、書込みアンプ10に外部か
ら書込みデータが与えられると、その書込みデータに従
って相補コモンデータ線が駆動され、それにより、アド
レス信号によって選択された相補データ線を介して所定
のメモリセルにそのデータに応ずる電荷情報が蓄積され
る。
Address signals A0-A input from the outside
Among n, A0 to Am are transmitted to the X decoder 4 via the address buffers 1-0 to 1-m arranged correspondingly. Address signals Am + 1 to An are transmitted to Y decoder 8 via address buffers 1-m + 1 to 1-m arranged corresponding to them. The X driver 5 drives the word line corresponding to the input address signal to the selection level based on the decoded output of the X decoder 4. When a predetermined word line is driven, the memory cell coupled to this word line is selected. The Y decoder 8 also generates a selection signal for the Y selection switch circuit 9 corresponding to the address signal supplied thereto. This selection signal is transmitted to the Y selection switch circuit 9 via the Y driver 2. Then Y
By the selection operation of the selection switch circuit 9, the data line is selectively conducted to the common data line. At this time, the potential of the complementary common data line is amplified by the read amplifier 11 and can be output to the outside. Further, when write data is externally applied to the write amplifier 10, the complementary common data line is driven according to the write data, whereby the data is written to a predetermined memory cell via the complementary data line selected by the address signal. The corresponding charge information is accumulated.

【0013】上記書込みアンプ10は、書込みパルス生
成回路12によって制御される。この書込みパルス発生
回路12は、特に制限されないが、システムクロックC
LKに基づいて、書込みアンプを活性化するための信号
(書込みパルス)を生成する。この書込みパルスや、外
部から書込み動作を指示するためのライトイネーブル信
号WE*はWEドライバ3に入力され、ここでそれらの
論理積が得られるようになっている。特に制限されない
が、書込みパルスがハイレベルにアサートされ、しか
も、ライトイネーブル信号WE*がローレベルにアサー
トされた場合に、データ取込みが可能とされる。つま
り、データ外部端子に与えられたデータが、当該書込み
アンプ10で増幅されて上記相補コモンデータ線に伝達
される。メモリセルへの書込み時間は、この書込みパル
スの幅で規制される。そして、もし、この書込みパルス
幅が狭すぎると、書込み時間不足により、書込み不十分
とされるので、メモリセルの特性を考慮して最適化する
必要がある。本実施例において、上記書込みアンプ10
を活性化するための書込みパルス生成回路12は、メモ
リセルアレイ6に含まれるメモリセルのデバイス特性を
補償した書込みパルスを生成するためのメモリ特性補償
手段を含む。この手段は、具体的には、以下に述べるよ
うに、実際のメモリセルと等価な遅延回路、換言すれば
上記メモリセルを模擬した回路によって形成され、それ
によって書込み時間の適正化を図っている。
The write amplifier 10 is controlled by a write pulse generation circuit 12. The write pulse generating circuit 12 is not particularly limited, but the system clock C
A signal (write pulse) for activating the write amplifier is generated based on LK. The write pulse and the write enable signal WE * for instructing the write operation from the outside are input to the WE driver 3, and the logical product of them is obtained here. Although not particularly limited, when the write pulse is asserted to the high level and the write enable signal WE * is asserted to the low level, data can be taken in. That is, the data applied to the data external terminal is amplified by the write amplifier 10 and transmitted to the complementary common data line. The writing time to the memory cell is restricted by the width of this writing pulse. If the write pulse width is too narrow, the write time will be insufficient and the write will be insufficient. Therefore, it is necessary to optimize the write pulse width in consideration of the characteristics of the memory cell. In the present embodiment, the write amplifier 10
The write pulse generation circuit 12 for activating the memory cell includes a memory characteristic compensating means for generating a write pulse in which the device characteristic of the memory cell included in the memory cell array 6 is compensated. Specifically, as will be described below, this means is formed by a delay circuit equivalent to an actual memory cell, in other words, a circuit simulating the memory cell, thereby optimizing the write time. .

【0014】次に、各部の詳細な構成について説明す
る。
Next, a detailed configuration of each part will be described.

【0015】図4には、上記メモリセルアレイ6の詳細
な構成例が示される。
FIG. 4 shows a detailed configuration example of the memory cell array 6.

【0016】図4において、メモリセルアレイ6を構成
する複数のスタティック型メモリセルは、全て同一構成
とされる。すなわち、同図において代表的に示されるよ
うに、当該メモリセルMSは、pチャンネル型MOSト
ランジスタQ10とnチャンネル型MOSトランジスタ
Q14から成るインバータと、pチャンネル型MOSト
ランジスタQ20とnチャンネル型MOSトランジスタ
Q16から成るインバータとがループ状に結合されて成
り、相補データ線D1A,D1B*には、それぞれnチ
ャンネルMOSトランジスタQ13,Q15を介して結
合される。MOSトランジスタQ13,Q15の制御端
子はそれに対応するワード線(W1,W2,…)に結合
され、ワード線が選択レベルに駆動された場合に、これ
に結合されるMOSトランジスタQ13,Q15がオン
されるようになっている。メモリルMSの動作電源とし
ては、グランドGNDを基準とする負電位VEEが供給
される。このように本実施例SRAMのメモリセルは、
MOSトランジスタによって構成されるが、その他の回
路部は、後述する疑似メモリセルDMSを除いて、バイ
ポーラトランジスタによって形成される。
In FIG. 4, a plurality of static memory cells forming the memory cell array 6 have the same structure. That is, as shown representatively in the same figure, the memory cell MS includes an inverter formed of a p-channel type MOS transistor Q10 and an n-channel type MOS transistor Q14, a p-channel type MOS transistor Q20 and an n-channel type MOS transistor Q16. Is connected in a loop shape and is connected to complementary data lines D1A and D1B * via n-channel MOS transistors Q13 and Q15, respectively. The control terminals of the MOS transistors Q13 and Q15 are coupled to the corresponding word lines (W1, W2, ...), and when the word line is driven to the selection level, the MOS transistors Q13 and Q15 coupled thereto are turned on. It has become so. A negative potential VEE with respect to the ground GND is supplied as an operation power source of the memrist MS. As described above, the memory cell of the SRAM of this embodiment is
Although it is composed of MOS transistors, other circuit parts are formed of bipolar transistors except for a pseudo memory cell DMS described later.

【0017】図1には、上記書込みアンプ10の動作を
制御するための書込みパルスを生成する書込みパルス生
成回路12の構成例が示される。
FIG. 1 shows a configuration example of a write pulse generation circuit 12 which generates a write pulse for controlling the operation of the write amplifier 10.

【0018】この書込みパルス生成回路12は、クロッ
クCLKを遅延するための遅延回路50と、その遅延出
力を補償するためのメモリセル特性補償遅延回路51
と、このメモリセル特性補償遅延回路51の出力信号と
上記入力クロックとの論理積を得るためのアンド回路5
2とを含む。上記遅延回路50に入力されるクロックC
LKは、特に制限されないが、上記入力クロックCLK
は相補レベルのクロックとされる。そしてそのような入
力クロックCLKが遅延回路50で遅延され、更に後段
のメモリセル特性補償遅延回路51においてメモリセル
特性補償、及び信号遅延された後に、アンド回路52で
論理積がとられることによって、所定パルス幅の書込み
パルスが生成される。この出力パルスが、図3に示され
る書込みアンプ10に伝達される。
The write pulse generation circuit 12 has a delay circuit 50 for delaying the clock CLK and a memory cell characteristic compensation delay circuit 51 for compensating the delay output.
And an AND circuit 5 for obtaining a logical product of the output signal of the memory cell characteristic compensation delay circuit 51 and the input clock.
Including 2 and. Clock C input to the delay circuit 50
LK is not particularly limited, but the input clock CLK
Are clocks of complementary levels. Then, after such an input clock CLK is delayed by the delay circuit 50, further compensated for the memory cell characteristic by the memory cell characteristic compensation delay circuit 51 in the subsequent stage, and signal-delayed, the AND circuit 52 takes the logical product, A write pulse having a predetermined pulse width is generated. This output pulse is transmitted to the write amplifier 10 shown in FIG.

【0019】ここで従来技術に従えば、書込みパルス
は、バイポーラECLのスイッチングノードにキャパシ
タを付けて成る遅延回路を多段結合し、その遅延出力
と、当該遅延段への入力クロックとの論理積を得ること
によって生成されるが、メモリセルに、CMOSトラン
ジスタによって形成されたものが適用された場合には、
MOSトランジスタとバイポーラトランジスタとの特性
上の違いから、当該MOSトランジスタのデバイス特性
を補償した書込みパルスの生成が困難になる。そこで、
本実施例においては、上記メモリセル特性補償遅延回路
51を設けることによって、メモリ特性を補償した書込
みパルス生成を可能としている。
According to the conventional technique, the write pulse is obtained by connecting delay circuits each having a capacitor attached to the switching node of the bipolar ECL in multiple stages, and the logical product of the delay output and the input clock to the delay stage. It is generated by obtaining, but when the one formed by the CMOS transistor is applied to the memory cell,
Due to the difference in characteristics between the MOS transistor and the bipolar transistor, it becomes difficult to generate a write pulse that compensates for the device characteristics of the MOS transistor. Therefore,
In this embodiment, by providing the memory cell characteristic compensation delay circuit 51, it is possible to generate a write pulse in which the memory characteristic is compensated.

【0020】図2にはメモリセル特性補償遅延回路51
の詳細な回路構成が示される。
FIG. 2 shows a memory cell characteristic compensation delay circuit 51.
The detailed circuit configuration of is shown.

【0021】図2に示されるように、このメモリセル特
性補償遅延回路51は、図1の遅延回路50の出力を遅
延するための第1の遅延段DEL1と、この第1の遅延
段DEL1の後段に配置され、当該第1遅延段DEL1
の出力信号を遅延するための第2の遅延段DEL2と、
さらにこの第2の遅延段DEL2の後段に配置され、当
該第2遅延段DEL2の出力信号を遅延するためのバッ
ファ段DEL3とを含む。
As shown in FIG. 2, the memory cell characteristic compensation delay circuit 51 includes a first delay stage DEL1 for delaying the output of the delay circuit 50 of FIG. 1 and the first delay stage DEL1. The first delay stage DEL1 is arranged in the latter stage.
A second delay stage DEL2 for delaying the output signal of
Further, it includes a buffer stage DEL3 which is arranged after the second delay stage DEL2 and delays the output signal of the second delay stage DEL2.

【0022】上記第1の遅延段DEL1は、図1に示さ
れる書込みアンプ10の回路構成と等価な回路、つまり
当該書込みアンプ10を模擬した回路構成とされる。つ
まり、書込みアンプ10を模擬した第1の遅延回路DE
L1を介することにより、書込みデータが書込みアンプ
10で受けるに等しい時間だけ、入力クロックCLKが
遅延される。
The first delay stage DEL1 has a circuit equivalent to the circuit configuration of the write amplifier 10 shown in FIG. 1, that is, a circuit configuration simulating the write amplifier 10. That is, the first delay circuit DE simulating the write amplifier 10
By passing through L1, the input clock CLK is delayed by a time equal to the time when write data is received by the write amplifier 10.

【0023】この第1の遅延段DEL1は、次のように
構成される。
The first delay stage DEL1 is constructed as follows.

【0024】npn形バイポーラトランジスタ21、2
2が設けられ、それのエミッタ電極には定電流源35,
36が結合される。また、npn形バイポーラトランジ
スタ21,22のエミッタ電極は、後段のnpn形バイ
ポーラトランジスタ23,24、及び出力段のnpn形
バイポーラトランジスタ31,32のベース電極にそれ
ぞれ結合されている。上記npn形バイポーラトランジ
スタ23,24、及びnpn形バイポーラトランジスタ
31,32は、それぞれ差動結合され、それのエミッタ
電極が、定電流源34,33に結合されている。また、
npn形バイポーラトランジスタ23,24のコレクタ
電極は、それぞれ負荷抵抗25,26、キャパシタ2
7,28を介してグランドGNDに結合されるととも
に、後段のnpn形バイポーラトランジスタ29,30
のベース電極に結合されている。このnpn形バイポー
ラトランジスタ29,30のエミッタ電極が、上記np
n形バイポーラトランジスタ31,32のコレクタ電極
に結合されることによって、上記第2の遅延段DEL2
への信号出力が可能とされる。
Npn type bipolar transistors 21, 2
2 is provided, and its emitter electrode has a constant current source 35,
36 are joined. The emitter electrodes of the npn-type bipolar transistors 21 and 22 are respectively coupled to the base electrodes of the npn-type bipolar transistors 23 and 24 in the subsequent stage and the npn-type bipolar transistors 31 and 32 in the output stage. The npn-type bipolar transistors 23 and 24 and the npn-type bipolar transistors 31 and 32 are differentially coupled, and their emitter electrodes are coupled to the constant current sources 34 and 33. Also,
The collector electrodes of the npn-type bipolar transistors 23 and 24 are load resistors 25 and 26 and the capacitor 2 respectively.
7 and 28 are coupled to the ground GND, and npn-type bipolar transistors 29 and 30 in the subsequent stage are connected.
Is coupled to the base electrode of the. The emitter electrodes of the npn bipolar transistors 29 and 30 are
The second delay stage DEL2 is coupled to the collector electrodes of the n-type bipolar transistors 31 and 32.
Signal output to.

【0025】上記第2の遅延段DEL2は、上記メモリ
セルアレイ6における一つのメモリセルMSを模擬した
回路構成とされる。そのような第2の遅延段DEL2を
配置することによって、上記メモリセルMSのデバイス
特性を考慮した書込みパルスの補償が可能とされる。
The second delay stage DEL2 has a circuit configuration simulating one memory cell MS in the memory cell array 6. By disposing such a second delay stage DEL2, it is possible to compensate the write pulse in consideration of the device characteristics of the memory cell MS.

【0026】この第2の遅延段DEL2は、MOSトラ
ンジスタによって、次のように構成される。
The second delay stage DEL2 is composed of MOS transistors as follows.

【0027】pチャンネル型MOSトランジスタ43と
nチャンネル型MOSトランジスタ44から成るインバ
ータと、pチャンネル型MOSトランジスタ45とnチ
ャンネル型MOSトランジスタ46から成るインバータ
とがループ状に結合されることによって、上記メモリセ
ルアレイ6におけるメモリセルMSに対応する擬似メモ
リセルDMSが形成される。また、上記メモリセルアレ
イ6における相補データ線D1A,D1B*や、D2
A,D2B*などに対応する擬似データ線対DA,DB
*が設けられ、それが、それぞれトランスファMOS4
0,42を介して擬似メモリセルDMSの記憶ノードに
結合される。そして、擬似相補データ線DA,DA*に
は、それぞれ定電流源71,72が結合されるととも
に、npn形バイポーラトランジスタ38,47が結合
され、このnpn形バイポーラトランジスタ38,47
のベース電極が、上記第1の遅延段DEL1の出力端子
に結合されることによって、上記第1の遅延段DEL1
の出力に基づく擬似擬似相補データ線DA,DA*の駆
動が可能とされる。
The inverter composed of the p-channel type MOS transistor 43 and the n-channel type MOS transistor 44 and the inverter composed of the p-channel type MOS transistor 45 and the n-channel type MOS transistor 46 are connected in a loop to form the memory. Pseudo memory cells DMS corresponding to the memory cells MS in the cell array 6 are formed. In addition, complementary data lines D1A, D1B * and D2 in the memory cell array 6 are also provided.
Pseudo data line pair DA, DB corresponding to A, D2B *, etc.
* Is provided, which is the transfer MOS4
0 and 42 are coupled to the storage node of the pseudo memory cell DMS. Then, constant current sources 71 and 72 are coupled to the pseudo complementary data lines DA and DA *, respectively, and npn bipolar transistors 38 and 47 are coupled to the npn bipolar transistors 38 and 47.
The base electrode of the first delay stage DEL1 is coupled to the output terminal of the first delay stage DEL1.
The pseudo pseudo complementary data lines DA and DA * can be driven based on the output of.

【0028】さらに、この第2の遅延段DEL2では、
第2ポートとして、トランスファMOS39,41が設
けられ、このトランスファMOS39,41を介して上
記擬似メモリセルDMSからの信号読出しが可能とされ
る。トライステートMOS39,40,41,42のド
レイン電極は、メモリセルアレイ6のワード線W1やW
2を模擬した擬似ワード線DWLに結合される。この擬
似ワード線DWLは、特に制限されないが、常時ハイレ
ベルとされている。そのため、トライステートMOS4
0,42を介して擬似メモリセルDMSへ信号を書込ん
だ直後に、トライステートMOS39,41を介して当
該擬似メモリセルDMSからの読出し動作が可能とされ
る。すなわち、上記第1の遅延段DEL1の出力信号に
応じて、疑似メモリセルDMSの記憶ノードの論理状態
が反転された直後に、その論理反転状態を、トランスフ
ァMOS39,41を介して読出すことができる。その
ため、実際のメモリセルMSの特性に応じた書込みパル
ス遅延が可能となる。こので読出し信号は、バッファ段
DEL3に伝達される。
Further, in this second delay stage DEL2,
Transfer MOSs 39 and 41 are provided as a second port, and signals can be read from the pseudo memory cell DMS via the transfer MOSs 39 and 41. The drain electrodes of the tri-state MOS 39, 40, 41, 42 are the word lines W1 and W of the memory cell array 6.
2 is connected to the pseudo word line DWL simulating 2. This pseudo word line DWL is not particularly limited, but is always at high level. Therefore, tri-state MOS4
Immediately after writing a signal to the pseudo memory cell DMS via 0, 42, the read operation from the pseudo memory cell DMS is enabled via the tri-state MOS 39, 41. That is, immediately after the logic state of the storage node of the pseudo memory cell DMS is inverted in accordance with the output signal of the first delay stage DEL1, the logic inversion state can be read via the transfer MOSs 39 and 41. it can. Therefore, it is possible to delay the write pulse according to the characteristics of the actual memory cell MS. The read signal is then transmitted to the buffer stage DEL3.

【0029】バッファ段DEL3は、次のように構成さ
れる。差動結合されたnpn形バイポーラトランジスタ
61,63が設けられ、それの負荷として抵抗64,6
5が設けられている。npn形バイポーラトランジスタ
61,63のコレクタ電極は、後段のnpn形バイポー
ラトランジスタ66,67のベース電極に結合され、差
動信号伝達が可能とされる。npn形バイポーラトラン
ジスタ66,67のエミッタ電極は、抵抗68,69を
介して負極側電源VTTに結合されることによって、こ
のエミッタ電極から、信号出力が可能とされる。このバ
ッファ段DEL3の出力outが、メモリセル特性補償
遅延回路51の出力信号として、図1に示されるアンド
回路52へ伝達される。
The buffer stage DEL3 is constructed as follows. Differentially coupled npn-type bipolar transistors 61 and 63 are provided, and resistors 64 and 6 are provided as loads thereof.
5 are provided. The collector electrodes of the npn-type bipolar transistors 61 and 63 are coupled to the base electrodes of the npn-type bipolar transistors 66 and 67 in the subsequent stage to enable differential signal transmission. The emitter electrodes of the npn bipolar transistors 66 and 67 are coupled to the negative-side power supply VTT via the resistors 68 and 69, so that signals can be output from the emitter electrodes. The output out of the buffer stage DEL3 is transmitted to the AND circuit 52 shown in FIG. 1 as an output signal of the memory cell characteristic compensation delay circuit 51.

【0030】上記実施例によれば以下の作用効果が得ら
れる。
According to the above embodiment, the following operational effects can be obtained.

【0031】(1)メモリセルMSの構成に起因する信
号遅延特性を補償するためのメモリ特性補償手段として
のメモリセル特性補償遅延回路51を含んで、書込みア
ンプの動作制御用パルスを生成するための書込みパルス
生成回路12を構成することにより、書込みパルス生成
において、メモリセルMSの構成に起因する信号遅延特
性が補償される。そのように信号遅延特性が補償される
ことにより、メモリセルMSへの書込み時間の適正化が
可能とされるので、必要以上のマージン確保が不要とさ
れることから、書込み時間の短縮化を図ることができ
る。例えば、書込みパルス幅の最大値を、サイクル時間
の10パーセント程度、短縮することができ、その場合
には、書込みサイクル時間を300ps(ピコ・秒)短
縮することができる。そのような効果は、特に高速性が
要求されるSRAMにおいて有益である。
(1) In order to generate the operation control pulse of the write amplifier by including the memory cell characteristic compensation delay circuit 51 as the memory characteristic compensation means for compensating the signal delay characteristic caused by the configuration of the memory cell MS. By configuring the write pulse generation circuit 12 of, the signal delay characteristic due to the configuration of the memory cell MS is compensated in the generation of the write pulse. By thus compensating for the signal delay characteristic, the write time to the memory cell MS can be optimized, and it is not necessary to secure a margin more than necessary, so that the write time is shortened. be able to. For example, the maximum value of the write pulse width can be shortened by about 10% of the cycle time, and in that case, the write cycle time can be shortened by 300 ps (picosecond). Such an effect is particularly useful in SRAMs that require high speed.

【0032】(2)メモリセルMSと等価な遅延回路を
適用し、当該遅延回路で、書込みアンプ10の動作制御
のための書込みパルスを遅延させることによって、上記
(1)の作用効果を有するメモリ特性補償手段を形成す
ることができる。
(2) A memory having the action and effect of the above (1) by applying a delay circuit equivalent to the memory cell MS and delaying the write pulse for controlling the operation of the write amplifier 10 by the delay circuit. Characteristic compensation means can be formed.

【0033】(3)メモリセルMSの記憶ノードと等し
い構成の記憶ノードを含む擬似メモリセルDMSが設け
られ、この疑似メモリセルDMSの記憶ノードへの信号
取込可能な第1ポートを形成するためのトランスファM
OS40,42が設けられ、この第1ポートを介して記
憶ノードに取込まれた信号を読出し可能な第2ポートと
を形成するためのトランスファMOS39,41が設け
られることによって、信号の書込み直後の読出し動作が
可能とされるので、本来のメモリセルMSの構成に起因
する書込みパルスの遅延特性を的確に補償することがで
きる。特に、疑似メモリセルDMSは、実際のメモリセ
ルMSと同一の工程において形成されるため、実際のメ
モリセルMSと同等の特性を有し、そのため、メモリセ
ル特性補償手段として極めて有効である。
(3) A pseudo memory cell DMS including a storage node having the same structure as the storage node of the memory cell MS is provided to form a first port capable of taking in a signal to the storage node of the pseudo memory cell DMS. Transfer M
The OSs 40 and 42 are provided, and the transfer MOSs 39 and 41 for forming the second port capable of reading the signal taken into the storage node via the first port are provided. Since the read operation is enabled, the delay characteristic of the write pulse due to the original configuration of the memory cell MS can be accurately compensated. In particular, since the pseudo memory cell DMS is formed in the same step as the actual memory cell MS, it has the same characteristics as the actual memory cell MS, and is therefore extremely effective as a memory cell characteristic compensation means.

【0034】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲におい
て種々変更可能であることは言うまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited thereto, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Yes.

【0035】例えば、疑似メモリセルDMSの構成は、
実際のメモリセルMSの構成に応じて適宜に変更するこ
とができる。
For example, the structure of the pseudo memory cell DMS is as follows.
It can be appropriately changed according to the actual configuration of the memory cell MS.

【0036】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるSRA
Mに適用した場合について説明したが、本発明はそれに
限定されるものではなく、各種半導体記憶装置に適用す
ることができる。
In the above description, SRA, which is the field of application behind the invention made mainly by the present inventor, is the background.
Although the case of application to M has been described, the present invention is not limited to this and can be applied to various semiconductor memory devices.

【0037】本発明は、少なくともメモリセルへのデー
タ書込みのための書込みアンプを含むことを条件に適用
することができる。
The present invention can be applied on the condition that at least a write amplifier for writing data in a memory cell is included.

【0038】[0038]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0039】すなわち、メモリセル特性補償手段によ
り、メモリセルの構成に起因する信号遅延特性が補償さ
れるので、メモリセルのデバイス特性を補償した書込み
パルスの生成が可能とされる。そのようにメモリセルの
デバイス特性を補償した書込みパルスの生成が可能とさ
れるので、必要以上のマージン確保する必要がないか
ら、その分、書込み時間の短縮化が可能とされる。
That is, since the memory cell characteristic compensating means compensates the signal delay characteristic due to the configuration of the memory cell, it is possible to generate the write pulse in which the device characteristic of the memory cell is compensated. As described above, since it is possible to generate a write pulse that compensates for the device characteristics of the memory cell, it is not necessary to secure a margin more than necessary, and the write time can be shortened accordingly.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例であるSRAMに含まれる書
込みパルス発生回路の主要論理構成図である。
FIG. 1 is a main logical configuration diagram of a write pulse generation circuit included in an SRAM which is an embodiment of the present invention.

【図2】上記書込みパルス発生回路に含まれるメモリセ
ル特性補償遅延回路の詳細な構成回路図である。
FIG. 2 is a detailed configuration circuit diagram of a memory cell characteristic compensation delay circuit included in the write pulse generation circuit.

【図3】上記SRAMの全体的な構成ブロック図であ
る。
FIG. 3 is an overall configuration block diagram of the SRAM.

【図4】上記SRAMに含まれるメモリセルの詳細な構
成回路図である。
FIG. 4 is a detailed configuration circuit diagram of a memory cell included in the SRAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1−0〜1−m アドレスバッファ 2 Yドライバ 3 WEドライバ 4 Xデコーダ 5 Xドライバ 6 メモリセルアレイ 8 Yデコーダ 9 Y選択スイッチ回路 10 書込みアンプ 11 読出しアンプ 50 遅延回路 51 メモリセル特性補償遅延回路 DEL1 第1の遅延段 DEL2 第2の遅延段 DEL3 バッファ段 1-0 to 1-m address buffer 2 Y driver 3 WE driver 4 X decoder 5 X driver 6 memory cell array 8 Y decoder 9 Y selection switch circuit 10 write amplifier 11 read amplifier 50 delay circuit 51 memory cell characteristic compensation delay circuit DEL1 1 delay stage DEL2 2nd delay stage DEL3 buffer stage

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリセルへのデータ書込みのための書
込みアンプと、この書込みアンプの動作制御用の書込み
パルスを生成するための書込みパルス生成回路とを含む
半導体記憶装置において、上記書込みパルス生成回路
は、上記メモリセルの構成に起因する信号遅延特性を補
償するためのメモリ特性補償手段を含んで成ることを特
徴とする半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device including a write amplifier for writing data to a memory cell, and a write pulse generation circuit for generating a write pulse for controlling the operation of the write amplifier. Is a semiconductor memory device including a memory characteristic compensating means for compensating a signal delay characteristic caused by the configuration of the memory cell.
【請求項2】 メモリセルへのデータ書込みのための書
込みアンプと、この書込みアンプの動作制御用の書込み
パルスを生成するための書込みパルス生成回路とを含む
半導体記憶装置において、上記書込みパルス生成回路
は、上記メモリセルの構成に起因する信号遅延特性を補
償するためのメモリ特性補償手段を含み、このメモリ特
性補償手段は、上記メモリセルと等価な記憶ノードによ
る遅延回路を含んで成ることを特徴とする半導体記憶装
置。
2. A semiconductor memory device comprising a write amplifier for writing data to a memory cell, and a write pulse generation circuit for generating a write pulse for controlling the operation of the write amplifier. Includes a memory characteristic compensating means for compensating for a signal delay characteristic caused by the configuration of the memory cell, and the memory characteristic compensating means includes a delay circuit having a storage node equivalent to the memory cell. And semiconductor memory device.
【請求項3】 メモリセルへのデータ書込みのための書
込みアンプと、この書込みアンプの動作制御用の書込み
パルスを生成するための書込みパルス生成回路とを含む
半導体記憶装置において、上記書込みパルス生成回路
は、上記メモリセルの構成に起因する信号遅延特性を補
償するためのメモリ特性補償手段を含み、このメモリ特
性補償手段は、上記メモリセルの記憶ノードと等しい構
成の記憶ノードと、この記憶ノードへ信号取込可能な第
1ポートと、この第1ポートを介して記憶ノードに取込
まれた信号を読出し可能な第2ポートとを含み、上記第
1ポートから与えられた信号を遅延して上記第2ポート
から出力可能に構成されたことを特徴とする半導体記憶
装置。
3. A semiconductor memory device comprising a write amplifier for writing data to a memory cell, and a write pulse generation circuit for generating a write pulse for controlling the operation of the write amplifier. Includes memory characteristic compensating means for compensating a signal delay characteristic due to the configuration of the memory cell, the memory characteristic compensating means including a memory node having a configuration equal to the memory node of the memory cell, and A first port capable of receiving a signal; and a second port capable of reading a signal captured by the storage node via the first port, and delaying the signal supplied from the first port A semiconductor memory device characterized in that it can be output from a second port.
JP5325924A 1993-11-30 1993-11-30 Semiconductor memory Pending JPH07153275A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100280419B1 (en) * 1997-12-29 2001-03-02 김영환 Output driver circuit
US6246636B1 (en) 1999-06-28 2001-06-12 Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. Load signal generating circuit of a packet command driving type memory device

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Effective date: 20030311